JP6428518B2 - データ生成装置、エネルギービーム描画装置、及びエネルギービーム描画方法 - Google Patents
データ生成装置、エネルギービーム描画装置、及びエネルギービーム描画方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6428518B2 JP6428518B2 JP2015138853A JP2015138853A JP6428518B2 JP 6428518 B2 JP6428518 B2 JP 6428518B2 JP 2015138853 A JP2015138853 A JP 2015138853A JP 2015138853 A JP2015138853 A JP 2015138853A JP 6428518 B2 JP6428518 B2 JP 6428518B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dose
- pixel
- difference
- group
- energy beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/302—Controlling tubes by external information, e.g. programme control
- H01J37/3023—Programme control
- H01J37/3026—Patterning strategy
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
- H01J37/3174—Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
- H01J37/3177—Multi-beam, e.g. fly's eye, comb probe
Description
Yg=Σ(D1_i×Yi)/ΣD1_i
101 マスク
102 電子ビーム鏡筒
103 描画室
105 XYステージ
110 制御計算機
140 記憶装置
150 描画部
160 制御部
201 電子銃
202 照明レンズ
203 アパーチャ部材
204 ブランキングプレート
205 縮小レンズ
206 制限アパーチャ部材
207 対物レンズ
208 偏向器
210 ミラー
Claims (5)
- 対象物上にエネルギービームを照射してパターンを描画するエネルギービーム描画装置用に、前記対象物上の各ピクセルにおけるビームの照射量を含むデータを生成するデータ生成装置であって、
描画データに基づいて各ピクセルの第1照射量を算出する目標照射量算出部と、
各ピクセルについて、所定の照射量制御単位に基づいて前記第1照射量を丸めて第2照射量を算出する照射量丸め部と、
各ピクセルについて、前記第1照射量と前記第2照射量との差分である第1差分を算出する差分算出部と、
隣接する複数のピクセルをグループ化した第1グループ内における前記第1差分の合計を算出する差分合計値算出部と、
前記照射量制御単位及び前記第1差分の合計に基づく照射量を前記第1グループ内のピクセルに割り当て、各ピクセルの第3照射量を算出する割当部と、
を備えることを特徴とするデータ生成装置。 - 前記差分算出部は、各ピクセルについて、前記第1照射量と前記第3照射量との差分である第2差分を算出し、
前記差分合計値算出部は、前記第1グループよりも多数のピクセルを含む第2グループ内における前記第2差分の合計を算出し、
前記割当部は、前記照射量制御単位及び前記第2差分の合計に基づく照射量を前記第2グループ内のピクセルに割り当て、各ピクセルの第4照射量を算出することを特徴とする請求項1に記載のデータ生成装置。 - 請求項1又は2に記載のデータ生成装置を備え、前記データ生成装置により算出された対象物上の各ピクセルにおけるビームの照射量に基づいて、対象物上にエネルギービームを照射してパターンを描画するエネルギービーム描画装置。
- 複数のエネルギービームからなるマルチビームを形成する機構と、
前記マルチビームのうち、それぞれ対応するビームに対して個別にビームのオン/オフを行う機構と、
を備え、
各ピクセルにおけるビームの照射量に基づいて前記マルチビームを制御することを特徴とする請求項3に記載のエネルギービーム描画装置。 - 対象物上にエネルギービームを照射してパターンを描画するエネルギービーム描画方法であって、
描画データに基づいて、前記対象物上の各ピクセルにおける第1照射量を算出する工程と、
各ピクセルについて、所定の照射量制御単位に基づいて前記第1照射量を丸めて第2照射量を算出する工程と、
各ピクセルについて、前記第1照射量と前記第2照射量との差分である第1差分を算出する工程と、
隣接する複数のピクセルをグループ化した第1グループ内における前記第1差分の合計を算出する工程と、
前記照射量制御単位及び前記第1差分の合計に基づく照射量を前記第1グループ内のピクセルに割り当て、各ピクセルの第3照射量を算出する工程と、
各ピクセルの照射量が前記第3照射量となるように制御して、対象物上にエネルギービームを照射する工程と、
を備えることを特徴とするエネルギービーム描画方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014181217 | 2014-09-05 | ||
JP2014181217 | 2014-09-05 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016058714A JP2016058714A (ja) | 2016-04-21 |
JP6428518B2 true JP6428518B2 (ja) | 2018-11-28 |
Family
ID=55438148
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015138853A Active JP6428518B2 (ja) | 2014-09-05 | 2015-07-10 | データ生成装置、エネルギービーム描画装置、及びエネルギービーム描画方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9748074B2 (ja) |
JP (1) | JP6428518B2 (ja) |
KR (1) | KR101698892B1 (ja) |
TW (1) | TWI591675B (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6589758B2 (ja) * | 2016-07-04 | 2019-10-16 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 |
JP6834817B2 (ja) * | 2016-08-08 | 2021-02-24 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチビーム検査用アパーチャ、マルチビーム用ビーム検査装置、及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 |
JP7002837B2 (ja) | 2016-10-26 | 2022-01-20 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 |
JP7073668B2 (ja) | 2017-10-25 | 2022-05-24 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ荷電粒子ビーム描画装置 |
JP7196792B2 (ja) | 2019-07-11 | 2022-12-27 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチビーム描画方法及びマルチビーム描画装置 |
KR20210099516A (ko) * | 2020-02-03 | 2021-08-12 | 아이엠에스 나노패브릭케이션 게엠베하 | 멀티―빔 라이터의 블러 변화 보정 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3431444B2 (ja) * | 1997-03-18 | 2003-07-28 | 株式会社東芝 | パターン描画方法及び描画装置 |
JP2000100688A (ja) * | 1998-09-18 | 2000-04-07 | Fujitsu Ltd | パターン形成方法 |
SE0104238D0 (sv) * | 2001-12-14 | 2001-12-14 | Micronic Laser Systems Ab | Method and apparatus for patterning a workpiece |
JP2008300569A (ja) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
JP5480496B2 (ja) | 2008-03-25 | 2014-04-23 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 |
JP5480555B2 (ja) | 2009-08-07 | 2014-04-23 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
JP5826566B2 (ja) * | 2011-09-01 | 2015-12-02 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 |
JP5795525B2 (ja) | 2011-12-13 | 2015-10-14 | 日本電信電話株式会社 | 画像符号化方法,画像復号方法,画像符号化装置,画像復号装置,画像符号化プログラムおよび画像復号プログラム |
US8584057B2 (en) * | 2012-03-01 | 2013-11-12 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Copmany, Ltd. | Non-directional dithering methods |
JP5956797B2 (ja) * | 2012-03-22 | 2016-07-27 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 |
JP6027798B2 (ja) * | 2012-07-10 | 2016-11-16 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置及び多重描画用の荷電粒子ビームの照射時間振り分け方法 |
JP6215586B2 (ja) * | 2012-11-02 | 2017-10-18 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 |
JP6076708B2 (ja) | 2012-11-21 | 2017-02-08 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビームの照射量チェック方法 |
US9147377B2 (en) * | 2013-07-31 | 2015-09-29 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method for image dithering for lithographic processes |
-
2015
- 2015-07-10 JP JP2015138853A patent/JP6428518B2/ja active Active
- 2015-07-13 US US14/797,714 patent/US9748074B2/en active Active
- 2015-07-16 TW TW104123089A patent/TWI591675B/zh active
- 2015-08-10 KR KR1020150112431A patent/KR101698892B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101698892B1 (ko) | 2017-01-23 |
TWI591675B (zh) | 2017-07-11 |
US9748074B2 (en) | 2017-08-29 |
JP2016058714A (ja) | 2016-04-21 |
US20160071692A1 (en) | 2016-03-10 |
TW201614707A (en) | 2016-04-16 |
KR20160029654A (ko) | 2016-03-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6428518B2 (ja) | データ生成装置、エネルギービーム描画装置、及びエネルギービーム描画方法 | |
JP6453072B2 (ja) | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | |
JP6545437B2 (ja) | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | |
JP6438280B2 (ja) | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | |
US9852876B2 (en) | Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method | |
JP2018133553A (ja) | 電子ビーム装置及び電子ビームの位置ずれ補正方法 | |
KR20190015129A (ko) | 멀티 하전 입자 빔 묘화 장치 및 멀티 하전 입자 빔 묘화 방법 | |
JP7239282B2 (ja) | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | |
JP2018133552A (ja) | 荷電粒子ビーム装置及び荷電粒子ビームの位置ずれ補正方法 | |
KR101942069B1 (ko) | 멀티 하전 입자빔 묘화 장치 및 멀티 하전 입자빔 묘화 방법 | |
JP5576332B2 (ja) | 電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光方法 | |
JP2016207815A (ja) | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | |
US20230095091A1 (en) | Multi-charged particle beam writing apparatus and multi-charged particle beam writing method | |
JP2018073916A (ja) | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | |
TWI798761B (zh) | 多帶電粒子束描繪裝置及多帶電粒子束描繪方法 | |
JP7196792B2 (ja) | マルチビーム描画方法及びマルチビーム描画装置 | |
US20230369015A1 (en) | Coverage calculating method, charged particle beam writing method, coverage calculating device, charged particle beam writing apparatus, and computer-readable storage medium | |
JP7238672B2 (ja) | マルチビーム描画方法及びマルチビーム描画装置 | |
JP7316127B2 (ja) | マルチビーム描画方法及びマルチビーム描画装置 | |
JP2018133494A (ja) | 荷電粒子ビーム描画装置の評価方法 | |
TW202410102A (zh) | 被覆率算出方法,帶電粒子束描繪方法,被覆率算出裝置,帶電粒子束描繪裝置及程式 | |
JP2023177932A (ja) | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20171130 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180926 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20181002 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20181015 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6428518 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |