KR20160029654A - 데이터 생성 장치, 에너지빔 묘화 장치, 및 에너지빔 묘화 방법 - Google Patents

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Abstract

일 실시 형태에 따른 데이터 생성 장치는, 대상물 상에 에너지빔을 조사하여 패턴을 묘화하는 에너지빔 묘화 장치용으로, 상기 대상물 상의 각 픽셀에 있어서의 빔의 조사량을 포함하는 데이터를 생성한다. 이 데이터 생성 장치는, 묘화 데이터에 기초하여 각 픽셀의 제1 조사량을 산출하는 목표 조사량 산출부와, 각 픽셀에 대하여, 소정의 조사량 제어 단위에 기초하여 상기 제1 조사량을 라운딩하여 제2 조사량을 산출하는 조사량 라운딩부와, 각 픽셀에 대하여, 상기 제1 조사량과 상기 제2 조사량과의 차분인 제1 차분을 산출하는 차분 산출부와, 인접하는 복수의 픽셀을 그룹화한 제1 그룹 내에 있어서의 상기 제1 차분의 합계를 산출하는 차분 합계값 산출부와, 상기 조사량 제어 단위 및 상기 제1 차분의 합계에 기초하는 조사량을 상기 제1 그룹 내의 픽셀에 할당하여, 각 픽셀의 제3 조사량을 산출하는 할당부를 구비한다.

Description

데이터 생성 장치, 에너지빔 묘화 장치, 및 에너지빔 묘화 방법 {DATA GENERATING APPARATUS, ENERGY BEAM WRITING APPARATUS, AND ENERGY BEAM WRITING METHOD}
본 발명은, 데이터 생성 장치, 에너지빔 묘화 장치, 및 에너지빔 묘화 방법에 관한 것이다.
LSI의 고집적화에 수반하여, 반도체 디바이스에 요구되는 회로 선폭은 해마다 미세화되고 있다. 이들의 반도체 디바이스에 원하는 회로 패턴을 형성하기 위해서는, 고정밀도의 원화(原畵) 패턴(레티클 혹은 마스크라고도 함.)이 필요하다. 고정밀도의 원화 패턴의 생산에는, 전자빔 묘화 장치에 의한 전자빔 리소그래피 기술이 이용되고 있다.
전자빔 묘화 장치로서, 예를 들면 멀티빔을 이용하여 한번에 많은 빔을 조사하여, 스루풋을 향상시킨 멀티빔 묘화 장치가 알려져 있다. 이 멀티빔 묘화 장치에서는, 예를 들면 전자총으로부터 방출된 전자빔이, 복수의 홀을 가지는 애퍼처 부재를 통과함으로써 멀티빔이 형성되고, 각 빔이 블랭킹 제어된다. 차폐되지 않았던 빔이, 광학계에서 축소되고, 묘화 대상의 마스크 상의 원하는 위치에 조사된다. 1 개의 빔이 조사되는 화소 영역(픽셀)마다 빔의 조사 시간이 제어된다.
전자빔 묘화 장치에 있어서, 전자빔의 확산을 고려한 그레이 스케일 제어에 의한 패턴 묘화 또는, 근접 효과 등에 수반하는 선폭 변동의 보정을 행하는 경우, 조사량 분포를 고정밀도로 제어하기 위하여, 각 화소 영역에 할당되는 조사 시간이, 묘화 장치로 제어 가능한 최소 제어 단위 시간보다 짧은 끝수를 가진다. 묘화 장치에 있어서의 조사 시간의 최소 제어 단위를 짧게 하는 것은 기술적으로 곤란하기 때문에, 각 화소 영역에 전자빔을 원하는 조사 시간만큼 조사할 수 없어, 묘화 정밀도를 향상시키는 것이 곤란했다.
본 발명의 실시 형태는, 조사 시간의 최소 제어 단위를 짧게 하지 않고 묘화 정밀도의 향상이 가능한 데이터 생성 장치, 에너지빔 묘화 장치, 및 에너지빔 묘화 방법을 제공한다.
일 실시 형태에 따른 데이터 생성 장치는, 대상물 상에 에너지빔을 조사하여 패턴을 묘화하는 에너지빔 묘화 장치용으로, 상기 대상물 상의 각 픽셀에 있어서의 빔의 조사량을 포함하는 데이터를 생성한다. 이 데이터 생성 장치는, 묘화 데이터에 기초하여 각 픽셀의 제1 조사량을 산출하는 목표 조사량 산출부와, 각 픽셀에 대하여, 소정의 조사량 제어 단위에 기초하여 상기 제1 조사량을 라운딩하여 제2 조사량을 산출하는 조사량 라운딩부와, 각 픽셀에 대하여, 상기 제1 조사량과 상기 제2 조사량과의 차분인 제1 차분을 산출하는 차분 산출부와, 인접하는 복수의 픽셀을 그룹화한 제1 그룹 내에 있어서의 상기 제1 차분의 합계를 산출하는 차분 합계값 산출부와, 상기 조사량 제어 단위 및 상기 제1 차분의 합계에 기초하는 조사량을 상기 제1 그룹 내의 픽셀에 할당하여, 각 픽셀의 제3 조사량을 산출하는 할당부를 구비한다.
도 1은, 본 발명의 실시 형태에 따른 에너지빔 묘화 장치의 개략도이다.
도 2는, 애퍼처 부재의 개략 구성도이다.
도 3은, 블랭킹 플레이트의 개략 구성도이다.
도 4(a) ~ 도 4(c)는, 묘화 동작의 설명도이다.
도 5는, 각 샷 빔의 조사량의 산출 방법을 설명하는 순서도이다.
도 6은, 픽셀의 그룹화의 일례를 나타내는 도이다.
도 7(a) ~ 도 7(e)는, 조사량의 산출예를 나타내는 도이다.
도 8(a) ~ 도 8(e)는, 조사량의 산출예를 나타내는 도이다.
도 9(a) ~ 도 9(c)는, 조사량의 산출예를 나타내는 도이다.
도 10(a) ~ 도 10(d)는, 조사량의 산출예를 나타내는 도이다.
도 11은, 픽셀의 그룹화의 일례를 나타내는 도이다.
이하, 본 발명의 실시 형태를 도면에 기초하여 설명한다.
도 1은 본 실시 형태에 따른 에너지빔 묘화 장치의 개략도이다. 본 실시 형태에서는, 에너지빔의 일례로서, 전자빔을 이용한 구성에 대하여 설명한다. 단, 에너지빔은 전자빔에 한정되는 것이 아니고, 이온빔 등의 하전 입자빔이어도 되고, 레이저여도 된다.
도 1에 나타내는 묘화 장치(100)는, 마스크 또는 웨이퍼 등의 대상물에 전자빔을 조사하여 원하는 패턴을 묘화하는 묘화부(150)와, 묘화부(150)에 의한 묘화 동작을 제어하는 제어부(160)를 구비한다. 묘화부(150)는 전자빔 경통(102) 및 묘화실(103)을 가지고 있다.
전자빔 경통(102) 내에는, 전자총(201), 조명 렌즈(202), 애퍼처 부재(203), 블랭킹 플레이트(204), 축소 렌즈(205), 제한 애퍼처 부재(206), 대물 렌즈(207), 및 편향기(208)가 배치되어 있다. 묘화실(103) 내에는 XY 스테이지(105)가 배치된다. XY 스테이지(105) 상에는, 묘화 대상 기판이 되는 마스크(101)가 재치(載置)되어 있다. 대상물로서, 예를 들면 웨이퍼 또는, 웨이퍼에 패턴을 전사하는 노광용의 마스크가 포함된다. 또한 이 마스크는, 예를 들면 아직 아무것도 패턴이 형성되어 있지 않은 마스크 블랭크스가 포함된다. XY 스테이지(105) 상에는, 또한 XY 스테이지(105)의 위치 측정용의 미러(210)가 배치된다.
제어부(160)는, 제어 계산기(110), 메모리(112), 편향 제어 회로(130, 132), 스테이지 위치 검출기(139), 및 자기 디스크 장치 등의 기억 장치(140)를 가지고 있다. 제어 계산기(110), 메모리(112), 편향 제어 회로(130, 132), 스테이지 위치 검출기(139), 및 기억 장치(140)는, 버스를 개재하여 서로 접속되어 있다. 기억 장치(140)(기억부)에는 묘화 데이터가 저장되어 있다.
제어 계산기(110)는 데이터 생성부(50) 및 묘화 제어부(60)를 가진다. 데이터 생성부(50)는, 목표 조사량 산출부(51), 조사량 라운딩부(52), 차분 산출부(53), 차분 합계값 산출부(54), 및 할당부(55)를 포함한다. 데이터 생성부(50) 및 묘화 제어부(60)에 입출력되는 정보 및 연산 중인 정보는, 메모리(112)에 그때마다 저장된다.
도 2는, 애퍼처 부재(203)의 구성을 나타내는 개념도이다. 애퍼처 부재(203)에는, 세로(y 방향) m 열 × 가로(x 방향) n 열(m, n ≥ 2)의 홀(개구부)(22)이 소정의 배열 피치로 매트릭스 형상으로 형성되어 있다. 예를 들면, 512 × 8 열의 홀(22)이 형성된다. 각 홀(22)은, 모두 동일한 치수 형상의 직사각형으로 형성된다. 각 홀(22)은, 동일한 외경의 원형이어도 상관없다. 여기서는, y 방향의 각 열에 대하여, x 방향으로 A부터 H까지의 8 개의 직사각형의 홀(22)이 형성되는 예가 나타내져 있다. 이들 복수의 홀(22)을 전자빔(200)의 일부가 각각 통과함으로써, 멀티빔이 형성되게 된다. 여기서는, 종횡(x, y 방향)이 모두 2 열 이상의 홀(22)이 배치된 예를 나타냈지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 종횡(x, y 방향) 어느 일방이 복수 열이고 타방은 1 열뿐이어도 상관없다. 또한, 홀(22)의 배열의 방법은, 도 2에 나타내는 바와 같이, 종횡이 격자 형상으로 배치되는 경우에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 종방향으로 인접하는 홀끼리, 지그재그 형상으로 서로 엇갈리게 배치되어도 된다.
도 3은, 블랭킹 플레이트(204)의 구성을 나타내는 개념도이다. 블랭킹 플레이트(204)에는, 애퍼처 부재(203)의 각 홀(22)의 배치 위치에 맞추어 통과홀이 형성되고, 각 통과홀에는, 쌍이 되는 2 개의 전극(24a ~ 24c, 26a ~ 26c)의 조(블랭커)가, 각각 배치된다. 각 통과홀을 통과하는 전자빔(20a ~ 20c)은, 각각 독립적으로 전극(24a ~ 24c, 26a ~ 26c)에 인가되는 전압에 의해 편향된다. 이러한 편향에 의해 블랭킹 제어된다. 이와 같이 복수의 블랭커가, 애퍼처 부재(203)의 복수의 홀(22)(개구부)을 통과한 멀티빔 중, 각각 대응하는 빔의 블랭킹 편향을 행한다.
전자총(201)(방출부)으로부터 방출된 전자빔(200)은, 조명 렌즈(202)에 의해 거의 수직으로 애퍼처 부재(203) 전체를 조명한다. 애퍼처 부재(203)에는 복수의 홀(개구부)(22)이 형성되고, 전자빔(200)은 모든 복수의 홀(22)이 포함되는 영역을 조명한다. 복수의 홀(22)의 위치에 조사된 전자빔(200)의 각 일부가, 이러한 애퍼처 부재(203)의 복수의 홀(22)을 각각 통과함으로써, 예를 들면 직사각형 형상의 복수의 전자빔(멀티빔)(20a ~ 20e)이 형성된다.
이러한 멀티빔(20a ~ 20e)은, 블랭킹 플레이트(204)의 각각 대응하는 블랭커 내를 통과한다. 이러한 블랭커는, 각각 개별로 통과하는 전자빔을 편향한다(블랭킹 편향을 행한다). 그리고 블랭킹 플레이트(204)를 통과한 멀티빔(20a ~ 20e)은, 축소 렌즈(205)에 의해 축소되고, 제한 애퍼처 부재(206)에 형성된 중심의 홀을 향해 나아간다. 여기서, 블랭킹 플레이트(204)의 블랭커에 의해 편향된 전자빔은, 제한 애퍼처 부재(206)(블랭킹 애퍼처 부재)의 중심의 홀로부터 위치가 이탈되고, 제한 애퍼처 부재(206)에 의해 차폐된다. 한편, 블랭킹 플레이트(204)의 블랭커에 의해 편향되지 않았던 전자빔은, 제한 애퍼처 부재(206)의 중심의 홀을 통과한다.
이러한 블랭커의 ON / OFF에 의해 블랭킹 제어가 행해지고, 빔의 ON / OFF가 제어된다. 이와 같이 제한 애퍼처 부재(206)는, 복수의 블랭커에 의해 빔 OFF의 상태가 되도록 편향된 각 빔을 차폐한다. 그리고 빔 ON이 되고 나서 빔 OFF가 될 때까지 제한 애퍼처 부재(206)를 통과한 빔에 의해, 1 회분의 샷의 빔이 형성된다. 제한 애퍼처 부재(206)를 통과한 멀티빔(20a ~ 20e)은, 대물 렌즈(207)에 의해 초점이 맞춰져, 원하는 축소율의 패턴상(像)이 된다. 제한 애퍼처 부재(206)를 통과한 각 빔(멀티빔 전체)은, 편향기(208)에 의해 동일 방향으로 한꺼번에 편향되어, 각 빔의 마스크(101) 상의 각각의 조사 위치에 조사된다.
XY 스테이지(105)가 연속 이동하고 있을 때, 빔의 조사 위치가 XY 스테이지(105)의 이동에 추종하도록 편향기(208)에 의해 제어된다. XY 스테이지(105)의 이동은 도시하지 않은 스테이지 제어부에 의해 행해지고, XY 스테이지(105)의 위치는 스테이지 위치 검출기(139)에 의해 검출된다.
한번에 조사되는 멀티빔은, 이상적으로는 애퍼처 부재(203)의 복수의 홀의 배열 피치에 상술한 원하는 축소율을 곱한 피치로 배열되게 된다. 묘화 장치(100)는, 샷 빔을 연속하여 순서대로 조사하는 래스터 스캔 방식으로 묘화 동작을 행하여, 원하는 패턴을 묘화할 때, 패턴에 따라 필요한 빔이 블랭킹 제어에 의해 빔 ON으로 제어된다.
도 4(a) ~ 도 4(c)는, 본 실시 형태에 있어서의 묘화 동작을 설명하기 위한 개념도이다. 도 4(a)에 나타내는 바와 같이, 마스크(101)의 묘화 영역(30)은, 예를 들면 y 방향을 향해 소정의 폭으로 직사각형 형상의 복수의 스트라이프 영역(32)으로 가상 분할된다. 각 스트라이프 영역(32)은 묘화 단위 영역이 된다.
먼저, XY 스테이지(105)를 이동시켜, 첫번째의 스트라이프 영역(32)의 좌단, 혹은 더 좌측의 위치에 1 회의 멀티빔(20)의 조사로 조사 가능한 조사 영역(34)이 위치하도록 조정하여, 묘화가 개시된다. 첫번째의 스트라이프 영역(32)을 묘화할 때에는, XY 스테이지(105)를 예를 들면 -x 방향으로 이동시킴으로써, 상대적으로 x 방향으로 묘화를 진행시킨다. XY 스테이지(105)는 소정의 속도로 예를 들면 연속 이동시킨다.
첫번째의 스트라이프 영역(32)의 묘화 종료 후, 스테이지 위치를 -y 방향으로 이동시켜, 두번째의 스트라이프 영역(32)의 우단, 혹은 더 우측의 위치에 조사 영역(34)이 상대적으로 y 방향에 위치하도록 조정하여, 묘화가 개시된다. 도 4(b)에 나타내는 바와 같이, XY 스테이지(105)를 예를 들면 x 방향으로 이동시킴으로써, -x 방향을 향해 묘화를 행한다.
세번째의 스트라이프 영역(32)에서는 x 방향을 향해 묘화하고, 네번째의 스트라이프 영역(32)에서는 -x 방향을 향해 묘화하는 것과 같이, 교호로 방향을 바꾸면서 묘화함으로써 묘화 시간을 단축할 수 있다. 단, 이러한 교호로 방향을 바꾸면서 묘화하는 경우에 한정되지 않고, 각 스트라이프 영역(32)을 묘화할 때, 동일한 방향을 향해 묘화를 진행시키도록 해도 상관없다.
1 회의 샷에서는, 도 4(c)에 나타내는 바와 같이, 애퍼처 부재(203)의 각 홀(22)을 통과함으로써 형성된 멀티빔에 의해, 각 홀(22)과 동수의 복수의 샷 패턴(36)이 한 번에 형성된다. 예를 들면, 애퍼처 부재(203)의 하나의 홀 A를 통과한 빔은, 도 4(c)에서 나타내는 'A'의 위치에 조사되어, 그 위치에 샷 패턴(36a)을 형성한다. 동일하게, 예를 들면 애퍼처 부재(203)의 하나의 홀 B를 통과한 빔은, 도 4(c)에서 나타내는 'B'의 위치에 조사되어, 그 위치에 샷 패턴(36b)을 형성한다. 이하, C ~ H에 대해서도 동일하다.
각 스트라이프 영역(32)을 묘화할 때, x 방향을 향해 XY 스테이지(105)가 이동하는 중, 편향기(208)에 의해 y 방향 혹은 x, y 방향으로 각 샷이 순서대로 이동(스캔)하도록 편향하고, 샷 빔을 연속하여 순서대로 조사하는 래스터 스캔 방식으로 묘화한다.
본 실시 형태에 따른 묘화 장치(100)에서는, 데이터 생성부(50)가 기억 장치(140)로부터 묘화 데이터를 읽어내, 복수 단의 데이터 변환 처리를 행하여, 장치 고유의 샷 데이터를 생성한다. 샷 데이터는, 각 샷의 조사량 및 조사 위치 좌표 등이 정의된다.
묘화 제어부(60)는, 샷 데이터에 기초하여 각 샷의 조사량을 편향 제어 회로(130)에 출력한다. 편향 제어 회로(130)는, 입력된 조사량을 전류 밀도로 나누어 조사 시간(t)을 구한다. 그리고 편향 제어 회로(130)는, 대응하는 샷을 행할 때, 조사 시간(t)만 블랭커가 빔 ON 하도록, 블랭킹 플레이트(204)의 대응하는 블랭커에 편향 전압을 인가한다.
또한 묘화 제어부(60)는, 샷 데이터가 나타내는 위치(좌표)에 각 빔이 편향되도록, 편향 위치 데이터를 편향 제어 회로(132)에 출력한다. 편향 제어 회로(132)는 편향량을 연산하고, 편향기(208)에 편향 전압을 인가한다. 이에 의해, 그 회에 샷되는 멀티빔이 한꺼번에 편향된다.
이어서, 데이터 생성부(50)에 의한 각 샷 빔의 조사량의 산출 방법을, 도 5에 나타내는 순서도를 이용하여 설명한다. 또한 이하의 설명에서는, 애퍼처 부재(203)의 하나의 홀(22)을 통과한 1 개의 빔이 조사되는 마스크(101) 상의 영역을 픽셀이라 칭한다.
[단계(S101)] 목표 조사량 산출부(51)(제1 산출부)가, 기억 장치(140)에 저장되어 있는 묘화 데이터에 기초하여, 패턴 형성에 필요한 조사량 분포를 구한다. 목표 조사량 산출부(51)는, 패턴 형성에 필요한 조사량 분포와, 근접 효과 또는 포깅 효과 등에 의한 선폭 변동을 보정하기 위한 조사량 분포에 기초하여, 각 픽셀의 목표 조사량(D1)을 산출한다.
[단계(S102)] 단계(S101)에서 산출한 목표 조사량(D1)은, 묘화 장치(100)에 있어서의 조사량의 최소 제어 단위보다 작은 끝수를 가진 상세한 값으로 되어 있다. 따라서 조사량 라운딩부(52)(제2 산출부)가, 조사량 제어 단위에 기초하여 각 픽셀의 목표 조사량(D1)을 라운딩하여 조사량(D2)(제2 조사량)을 산출한다. 예를 들면 조사량 라운딩부(52)는 조사량 제어 단위 미만인 끝수분을 잘라 버린다.
[단계(S103)] 차분 산출부(53)(제3 산출부)가, 각 픽셀에 대하여, 목표 조사량(D1)과 조사량(D2)과의 차분(dif1)(제1 차분)을 산출한다.
[단계(S104)] 차분 합계값 산출부(54)(제4 산출부)가, 인접하는 복수의 픽셀을 그룹화한다. 예를 들면 빔 블러(빔 분해능)에 기초하는 크기의 원 내에 포함되는 복수의 픽셀이 그룹화된다. 차분 합계값 산출부(54)는, 각 그룹에 대하여, 그룹 내의 픽셀의 차분(dif1)의 합계값(sum1)을 산출한다.
[단계(S105)] 할당부(55)(제5 산출부)가, 각 그룹에 있어서, 1 개 이상의 픽셀에 대하여, 조사량 제어 단위 및 합계값(sum1)에 기초하는 조사량을 (추가로) 할당하여, 각 픽셀의 조사량(D3)(제3 조사량)을 산출한다. 각 그룹에 있어서, 조사량(D3)의 합계가, 조사량(D2)의 합계보다, 목표 조사량(D1)의 합계에 가까워지도록 한다.
예를 들면, 조사량 제어 단위를 U로 하고, 어느 그룹에 있어서의 합계값(sum1)이 0.5 U 미만의 경우는, 어느 픽셀에도 조사량의 할당(가산)은 행하지 않는다. 따라서 이 경우, 그룹 내의 각 픽셀의 조사량(D3)은 조사량(D2)과 동일하게 된다.
합계값(sum1)이 0.5 U 이상, 1.5 U 미만의 경우는, 동일 그룹의 어느 1 개의 픽셀에 조사량(U)을 할당한다(가산한다). 따라서, 조사량(U)을 할당 받은 픽셀은 조사량((D3 = D2 + U))이 되고, 그 외의 픽셀은 조사량(D3 = D2)이 된다.
합계값(sum1)이 1.5 U 이상, 2.5 U 미만의 경우는, 조사량의 추가 할당량은 2 U가 된다. 동일 그룹의 1 개의 픽셀에 조사량 2 U를 가산해도 되고, 2 개의 픽셀에 각각 조사량 U를 가산해도 된다. 합계값(sum1)이 2.5 U 이상의 경우도 동일하게 그룹 내의 1 개 이상의 픽셀에 조사량의 추가 할당을 행한다. 이와 같이, 그룹마다 목표 조사량(D1)이 가지는 끝수분을 합계하여, 1 개 이상의 픽셀에 배분한다.
도 6에 픽셀의 그룹화의 일례를 나타낸다. 도 6에 나타내는 바와 같이, 빔 블러의 크기에 기초하는 원(C1)에 포함되는 픽셀(p1 ~ p4)을 1 개의 그룹(G1)으로 그룹화한다. 동일하게, 픽셀(p5 ~ p8, p9 ~ p12, p13 ~ p16)을 그룹(G2, G3, G4)으로 그룹화한다. 그룹화하는 픽셀수는 이에 한정되지 않고, 빔 블러의 크기에 기초하여 적절히 설정할 수 있다.
빔 블러로서는, 수차에 의해 정해지는 시료면에서의 결상의 확산, 또는 레지스트를 도포한 시료에 빔을 조사할 때의 전방 산란에 따른 빔 확산의 크기를 이용할 수 있다. 통상, 리소그래피에서는 후자를 이용하는 것이 실용적이다.
빔 블러는, 시료면 상의 빔 조사 위치로부터의 거리(r), 정수(a), 비례 정수(a)를 이용하여, 가우스 분포(Aexp(-(r / a)2))로 근사할 수 있다. 이 경우, 상술의 원(C1)의 반경으로서 a를 이용할 수 있다. 그룹 내의 가장 먼 점 간의 거리, 예를 들면 그룹의 형상이 정사각형인 경우는 대각선의 길이가 a보다 작은 것이 바람직하다. a는 예를 들면 30 nm 정도이다. a는 시료면 내에서 동일한 값을 이용해도 되고, 프로세스 조건에 따라 분포를 부여해도 된다.
1 픽셀분의 조사를 행했을 때의 실제 조사량 분포는, 그 픽셀에 할당한 조사량 분포(애퍼처 부재(203)의 각 홀(22)을 통과하는 빔의 전류 분포)를 축소율만큼 축소한 것과, 상술의 빔 블러와의 콘벌루션 적분으로 부여되므로, 가우스 분포에 근사한다. 홀(22)은 작고, 전류 분포는 균일하다고 상정되지만, 분포를 고려할 필요가 있는 경우는, 예를 들면 전류 분포의 중심 위치를 구하고, 그 시료면 상의 위치를 대응하는 픽셀의 위치로 하면 된다.
도 7(a) ~ 도 7(e)는, 각 픽셀의 목표 조사량의 라운딩, 및 끝수분의 배분의 예를 나타낸다. 도 7(a) ~ 도 7(e)에 나타내는 예에서는, 9 개의 픽셀을 그룹화하고 있고, 각 픽셀의 목표 조사량(D1)은 도 7(a)에 나타내는 바와 같이 되어 있다. 도 7(a) ~ 도 7(e)에서는 조사량의 단위를 생략하고 있으나, 단위는 예를 들면 μC/cm2이다.
조사량 제어 단위를 1로 했을 경우, 조사량 제어 단위에 미만인 끝수분을 잘라 라운딩한 조사량(D2)은, 도 7(b)에 나타내는 바와 같은 값이 된다.
이 그룹 내의 9 개의 픽셀에 대하여, 목표 조사량(D1)과 조사량(D2)과의 차분(dif1)은 도 7(c)와 같이 되고, 합계값(sum1)은 1.9가 된다. 조사량 제어 단위는 1이므로, 그룹 내의 픽셀에 조사량 2를 할당한다. 1 개의 픽셀에 조사량 2를 할당해도 되고, 2 개의 픽셀에 조사량 1씩 할당해도 된다. 예를 들면, 도 7(d)에 나타내는 바와 같이, 9 개의 픽셀 중 중심의 픽셀에 조사량 2를 할당하여 조사량(D3)을 결정한다.
도 7(a), 도 7(b)에 나타내는 예에서는, 조사량(D2)의 합계와 목표 조사량(D1)의 합계와의 차(합계값(sum1))는 1.9이지만, 조사량(D3)의 합계와 목표 조사량(D1)의 합계와의 차는 0.1이 된다. 즉 조사량(D3)의 합계는, 조사량(D2)의 합계보다 목표 조사량(D1)의 합계에 가까운 값이 된다. 따라서 조사량(D3) 분포는, 목표 조사량(D1) 분포에 근사한 것이 된다.
데이터 생성부(50)는, 이와 같이 하여 산출한 조사량(D3)을 포함하는 샷 데이터를 생성한다. 묘화 제어부(60)는 샷 데이터에 기초하여 각 샷의 조사량을 제어한다. 조사량(D2)에 기초하여 빔을 조사하는 경우보다, 조사량(D3)에 기초하여 빔을 조사하는 경우가, 정밀도 좋게 패턴을 묘화할 수 있다.
본 실시 형태에서는, 복수의 픽셀을 그룹화하여, 목표 조사량(D1)이 가지는 최소 제어 단위에 미만인 끝수분을 그룹 내에서 합계하고, 그룹 내의 픽셀에 배분하여 조사량(D3)을 산출한다. 그룹 내에서의 조사량(D3)의 합계는, 목표 조사량(D1)의 합계와 매우 가까운 값이 되어, 이러한 조사량(D3)으로 빔을 조사함으로써, 패턴을 정밀도 좋게 묘화할 수 있다. 또한, 묘화 장치(100)의 조사 시간의 최소 제어 단위를 작게 할 필요가 없다. 이와 같이, 본 실시 형태에 따르면, 조사 시간의 최소 제어 단위를 짧게 하지 않고, 묘화 정밀도를 향상시킬 수 있다.
도 7(d)에 나타내는 바와 같이, 조사량 제어 단위 및 합계값(sum1)에 기초하는 끝수분 조사량을 그룹 내의 중심에 위치하는 픽셀에 할당하는 경우는, 끝수분 조사량 할당 픽셀(이하, '끝수 할당 픽셀'이라 함)을 결정하기 위한 처리에 수반하는 연산량이 적고, 끝수 할당 픽셀을 신속하게 결정할 수 있다. 또한, 끝수 할당 픽셀을 중심 픽셀로 하는 경우는, 홀수 × 홀수의 픽셀을 그룹화하는 것이 바람직하다.
끝수 할당 픽셀은 중심 픽셀에 한정되지 않고, 예를 들면 차분(dif1) 분포의 중심을 포함하는 픽셀로 해도 된다. 그룹 내의 픽셀의 번호를 i, 픽셀(i)의 X 좌표, Y 좌표를 각각 Xi, Yi, 픽셀(i)의 목표 조사량(D1)과 조사량(D2)과의 차를 D1_i로 했을 경우, 중심의 X 좌표(Xg), Y 좌표(Yg)는 각각 다음의 식으로부터 구해진다.
Xg = Σ(D1_i × Xi) / D1_i
Yg = Σ(D1_i × Yi) / D1_i
예를 들면, 도 7(e)에 나타내는 바와 같이 중단 우측의 픽셀이 차분(dif1) 분포의 중심을 포함하고, 이 픽셀에 조사량 2가 추가로 할당된다.
중심을 포함하는 픽셀에 조사량을 할당함으로써, 차분(dif1) 분포의 중심과, 조사량(D3)과 조사량(D2)과의 차분의 분포의 중심이 거의 일치하므로, 중심 픽셀에 할당하는 경우와 비교하여, 묘화 정밀도를 더 향상시킬 수 있다.
중심을 포함하는 픽셀에의 조사량의 할당에 대하여, 설명을 더한다. 대상으로 하는 그룹(이하, 영역 1로 함) 내의 위치(xi, yi)를 포함하는 폭(dxi), 높이(dyi)로 부여되는 무한 소영역에, 조사량 밀도(d(xi, yi))로 조사가 행해진 경우를 상정한다. d(xi, yi)가 목표 조사량(D1)과 조사량(D2)과의 차로 한다. 여기서, 빔 블러가 가우스 분포(Aexp(-(r / a)2))로 부여된다고 하면, 점(X, Y)에서의, 영역 1 전체로부터 부여되는 조사량 분포는 이하의 수학식 1로 나타내진다.
Figure pat00001
이하, 비례 정수 A = 1로 한다. 영역 1 내의 대표점을 (x1, y1)로 하면,
Figure pat00002
이므로,
Figure pat00003
로 나타내면, 수학식 1은 이하의 수학식 4와 같이 된다.
Figure pat00004
가 된다.
여기서,
Figure pat00005
과 근사하면, 수학식 4는
Figure pat00006
로 나타내진다.
여기서, 수학식 6에 있어서, 우변의 적분은 영역 1 내의 전조사량을 나타내기 때문에, 이 식은, 점(X, Y)에의 영역 1로부터의 조사량의 총량은, 영역 1 내의 점(x1, y1)에 영역 1의 전조사량이 있다고 해서 얻어지는 조사량으로 근사할 수 있는 것을 의미한다.
이어서,
Figure pat00007
과 같이 (xi - x1), (yi - y1)의 1차의 항까지 포함시키면,
Figure pat00008
과 근사된다.
여기서, (x1, y1)를
Figure pat00009
로 하면,
Figure pat00010
이므로,
Figure pat00011
는 좋은 근사가 된다.
전개를 더 진행시켜 (xi - x1), (yi - y1)의 2차의 항까지 구하면,
Figure pat00012
에 비례하는 항이 나타난다. a의 값으로서는, 영역 1을 모두 포함할 수 있는 원의 직경보다 크게 하는 것이 바람직하다. (X, Y)가 영역 1 내의 점인 경우, a는 영역 1 내의 임의의 2 점 간의 거리보다 크기 때문에, 상기의 지수 함수의 전개 정밀도를 높일 수 있다.
묘화부(150)에서는, 광학계의 왜곡 등에 의해, 빔의 조사 위치에 오차가 발생하는 경우가 있다. 예를 들면, 데이터 상은 도 8(a)에 나타내는 바와 같이 픽셀(조사 영역)이 서로 인접하지만, 실제로 묘화부(150)에 있어서 빔을 조사하면, 도 8(b)에 나타내는 바와 같이 그룹 내의 일부의 픽셀의 조사 위치에 오차가 발생할 수 있다. 목표 조사량(D1)이 도 8(c)와 같은 분포가 되는 경우, 차분(dif1) 분포의 중심 위치(도면 중 ×표의 위치)에 픽셀이 존재하지 않는 경우가 있다. 이와 같이 중심 위치에 픽셀이 존재하지 않는 경우는, 중심 위치에 최근접의 픽셀에 끝수분 조사량을 할당해도 되고, 중심 위치 근방의 복수의 픽셀에 끝수분 조사량을 분산하여 할당해도 된다.
도 8(d)는, 중심 위치에 최근접의 픽셀에 끝수분 조사량을 할당했을 경우의, 데이터상의 조사량(D3) 분포를 나타낸다. 도 8(e)는, 중심 위치 근방의 2 개의 픽셀에 끝수분 조사량을 할당했을 경우의, 데이터 상의 조사량(D3) 분포를 나타낸다.
이와 같이, 묘화부(150)의 광학계의 왜곡의 효과 등을 고려하여 차분(dif1) 분포의 중심 위치를 계산하고, 끝수분 조사량을 할당함으로써, 묘화 정밀도를 더 향상시킬 수 있다.
끝수 할당 픽셀은 모멘트를 고려하여 결정해도 된다. 예를 들면, 차분(dif1) 분포의 모멘트와, 조사량(D3)과 조사량(D2)과의 차의 분포의 모멘트가 동일 정도가 되도록 끝수분 조사량의 할당을 행한다.
예를 들면, 끝수분 조사량의 할당 후의 픽셀(i)의 조사량(D3)과 조사량(D2)과의 차를 D3_i로 했을 경우, Σ(D1_i × (Xi - Xg)2) / ΣD1_i와 Σ(D3_i × (Xi - Xg)2) / ΣD3_i, Σ(D1_i × (Yi - Yg)2) / ΣD1_i와 Σ(D3_i × (Yi - Yg)2) / ΣD3_i, Σ(D1_i × (Xi - Xg) × (Yi - Yg)) / ΣD1_i와 Σ(D3_i × (Xi - Xg) × (Yi -Yg)) / ΣD3_i의 차이가 작아지도록 끝수분 조사량의 할당을 행한다. 이러한 모멘트를 고려한 끝수분 조사량의 할당은, 조사량의 할당량이 조사량 제어 단위의 2 배 이상이며, 복수의 픽셀에 끝수분 조사량을 배분할 수 있는 경우에 행하는 것이 바람직하다.
모멘트로서는 또한 고차의 것을 고려할 수 있다. 배분하는 조사량, 픽셀수가 큰 경우는, 고차의 모멘트까지 고려함으로써, 더 묘화 정밀도를 향상시킬 수 있다.
도 9(a) ~ 도 9(c)에 모멘트를 고려한 끝수분 조사량의 할당의 일례를 나타낸다. 도 9(a)는 목표 조사량(D1)의 분포를 나타낸다. 도 9(b)는, 조사량 제어 단위에 미만인 끝수분을 잘라 라운딩한 조사량(D2)의 분포를 나타낸다. 도 9(c)는, 중심에 더하여 모멘트를 고려하여 끝수분 조사량을 할당했을 경우의 조사량(D3)의 분포를 나타낸다. 이 예에서는, 중단 오른쪽의 픽셀과 중단 왼쪽의 픽셀에 조사량 1씩 할당한다.
이와 같이 모멘트를 고려하여 끝수 할당 픽셀을 결정함으로써, 조사량(D3) 분포가 목표 조사량(D1) 분포에 보다 근사한 것이 되므로, 묘화 정밀도를 더 향상시킬 수 있다.
상술한 픽셀의 그룹화 및 끝수분 조사량의 할당은, 조사 위치를 이탈시키면서 다중 묘화를 행하는 묘화 방식에도 적용할 수 있다. 예를 들면, 다중도를 2로 하고, 도 10(a)에 나타내는 바와 같이, 1 층의 4 개의 픽셀(p1 ~ p4)과, x, y 방향으로 이탈시킨 2 층의 4 개의 픽셀(p1′ ~ p4′)을 그룹화한다. 도 10(b)는 목표 조사량(D1)의 분포를 나타낸다. 도 10(c)는, 조사량 제어 단위에 미만인 끝수분을 잘라 라운딩한 조사량(D2)의 분포를 나타낸다. 도 10(d)는, 끝수분 조사량을 할당한 조사량(D3)의 분포를 나타낸다.
이와 같이 다중 묘화를 행하는 경우는, 복수의 층의 픽셀을 그룹화하여, 끝수분 조사량을 할당해도 된다.
상기 실시 형태에 있어서 빔 분해능에 기초하는 크기의 원 내에 포함되는 복수의 픽셀을 그룹화한 것을 제1 그룹으로 하고, 복수의 제1 그룹을 그룹화하여 제2 그룹을 작성하고, 제2 그룹 내의 각 픽셀의 목표 조사량(D1)과 조사량(D3)과의 차분의 합계를, 1 개 이상의 픽셀에 대하여 추가로 할당하여, 각 픽셀의 조사량(D4)(제4 조사량)을 산출해도 된다. 데이터 생성부(50)는, 조사량(D4)을 포함하는 샷 데이터를 생성한다.
예를 들면 차분 산출부(53)가, 각 픽셀에 대하여, 목표 조사량(D1)과 조사량(D3)과의 차분(dif2)(제2 차분)을 산출한다.
이어서, 차분 합계값 산출부(54)가, 복수의 제1 그룹을 그룹화하여 제2 그룹을 작성한다. 제2 그룹은 제1 그룹보다 다수의 픽셀을 포함하는 것이 된다. 예를 들면 도 11에 나타내는 바와 같이, 후방 산란의 크기로 정해지는 원(C2) 내에 포함되는 복수의 제1 그룹이 그룹화되어, 제2 그룹이 작성된다. 차분 합계값 산출부(54)는, 제2 그룹 내의 픽셀의 차분(dif2)의 합계값(sum2)을 산출한다.
후방 산란의 분포는, 시료면 상의 빔 조사 위치로부터의 거리(r), 정수(b), 비례 정수(b)를 이용하여, 가우스 분포(Bexp(-(r / b)2))로 근사할 수 있다. 원(C2)의 반경은 b와 동일 정도로 한다. b는 예를 들면 10 μm 정도이므로, 원(C2)의 반경은, 원(C1)의 반경보다 훨씬 크다. b는 시료면 내에서 동일한 값을 이용해도 되고, 프로세스 조건에 따라 분포를 부여해도 된다.
이어서 할당부(55)가, 제2 그룹에 있어서, 1 개 이상의 픽셀에 대하여, 조사량 제어 단위 및 합계값(sum2)에 기초하는 조사량을 (추가로) 할당하여, 각 픽셀의 조사량(D4)을 산출한다. 제2 그룹에 있어서, 조사량(D4)의 합계가, 조사량(D3)의 합계보다, 목표 조사량(D1)의 합계에 가까워지도록 한다. 조사량을 할당하는 픽셀은, 제2 그룹의 중심에 위치하는 픽셀이어도 되고, 차분(dif2) 분포의 중심을 포함하는 픽셀이어도 된다. 또한, 차분(dif2) 분포의 모멘트를 고려하여 조사량을 할당하는 픽셀을 결정해도 된다.
이와 같이, 후방 산란의 크기로 정해지는 원 내에 포함되는 복수의 제1 그룹을 그룹화하여 제2 그룹을 작성하고, 제2 그룹 내에서 조사량 제어 단위 및 합계값(sum2)에 기초하는 조사량을 할당함으로써, 제2 그룹 내에서의 조사량(D4)의 합계는, 목표 조사량(D1)의 합계와 매우 가까운 값이 된다. 조사량(D4)을 포함하는 샷 데이터에 기초하여 빔을 조사함으로써, 근접 효과에 따른 선폭 변동을 효과적으로 억제하고, 패턴을 정밀도 좋게 묘화할 수 있다.
그룹의 계층은, 제1 그룹 및 제2 그룹의 2 계층에 한정되지 않고, 더 계층화해도 된다. 예를 들면, 차분 산출부(53)가, 각 픽셀에 대하여, 목표 조사량(D1)과 조사량(D4)과의 차분(dif3)(제3 차분)을 산출한다.
그리고 차분 합계값 산출부(54)가, 복수의 제2 그룹을 그룹화하여 제3 그룹을 작성한다. 예를 들면, 포깅 효과 또는 로딩 효과의 영향 범위의 크기로 정해지는 영역 내에 포함되는 복수의 제2 그룹을 그룹화하여, 제3 그룹이 작성된다. 차분 합계값 산출부(54)는, 제3 그룹 내의 픽셀의 차분(dif3)의 합계값(sum3)을 산출한다.
제3 그룹의 크기는, 시료면 내에서 동일하게 해도 되고, 분포를 갖게 해도 된다. 필요한 정밀도가 얻어지는 범위에서 제3 그룹을 크게 함으로써, 보정 계산의 횟수를 감소시킬 수 있다.
이어서 할당부(55)가, 제3 그룹에 있어서, 1 개 이상의 픽셀에 대하여, 조사량 제어 단위 및 합계값(sum3)에 기초하는 조사량을 (추가로) 할당하여, 각 픽셀의 조사량(D5)(제5 조사량)을 산출한다. 데이터 생성부(50)는, 조사량(D5)을 포함하는 샷 데이터를 생성한다. 조사량(D5)을 포함하는 샷 데이터에 기초하여 빔을 조사함으로써, 근접 효과 또는 포깅 효과, 로딩 효과 등에 따른 선폭 변동을 효과적으로 억제하여, 패턴을 정밀도 좋게 묘화할 수 있다.
상술한 실시 형태에서 설명한 래스터 스캔 동작은 일례로서, 멀티빔을 이용한 래스터 스캔 동작은 그 외의 동작 방법이어도 된다.
멀티빔의 발생 방식으로서, 상기 실시 형태에서는 블랭킹 애퍼처 어레이를 이용하는 방식을 나타냈지만, 멀티빔의 발생 방식으로서는, 전자원 자신이 멀티빔을 발생시키는 방식이어도 된다.
또한 에너지빔으로서 레이저를 이용하는 경우에는, 복수의 반사경을 1 차원 또는 2 차원으로 배치하고, 각각의 반사경의 반사각을 제어하는 반사경 어레이를 이용한 반사 광학계로 패턴화된 광학상을 발생시키는 방식 또는, 복수 개의 ON / OFF를 독립으로 제어할 수 있는 레이저빔을 스캔시키는 방식을 이용할 수 있다.
묘화 장치는, 멀티빔이 아닌 싱글빔을 이용하는 것이어도 된다.
상기 실시 형태에서는, 조사량 라운딩부(52)가, 조사량 제어 단위에 미만인 끝수분을 잘라 버리는 예에 대하여 설명했지만, 사사오입 등 다른 끝수 처리를 행해도 된다.
상술한 실시 형태에서 설명한 제어 계산기(110)의 적어도 일부는, 하드웨어로 구성해도 되고, 소프트웨어로 구성해도 된다. 소프트웨어로 구성하는 경우에는, 제어 계산기(110)의 적어도 일부의 기능을 실현하는 프로그램을 플렉시블 디스크 또는 CD-ROM 등의 기록 매체에 저장하고, 컴퓨터에 읽어내 실행시켜도 된다. 기록 매체는, 자기 디스크 또는 광디스크 등의 착탈 가능한 것에 한정되지 않고, 하드 디스크 장치 또는 메모리 등의 고정형의 기록 매체여도 된다.
데이터 생성부(50)를 가지는 데이터 생성 장치에 의해 미리 샷 데이터를 생성하고, 기억부에 보존하여 두고, 묘화 제어부(60)가 기억부로부터 샷 데이터를 읽어내 묘화부(150)에 의한 묘화 동작을 제어하도록 해도 된다.
또한 본 발명은 상기 실시 형태 그대로 한정되는 것이 아니고, 실시 단계에서는 그 요지를 일탈하지 않는 범위에서 구성 요소를 변형하여 구체화할 수 있다. 또한 상기 실시 형태에 개시되어 있는 복수의 구성 요소의 적절한 조합에 의해, 각종 발명을 형성할 수 있다. 예를 들면, 실시 형태에 나타내지는 전체 구성 요소로부터 몇 개의 구성 요소를 삭제해도 된다. 또한 상이한 실시 형태에 걸치는 구성 요소를 적절히 조합해도 된다.

Claims (5)

  1. 대상물 상에 에너지빔을 조사하여 패턴을 묘화하는 에너지빔 묘화 장치용으로, 상기 대상물 상의 각 픽셀에 있어서의 빔의 조사량을 포함하는 데이터를 생성하는 데이터 생성 장치로서,
    묘화 데이터에 기초하여 각 픽셀의 제1 조사량을 산출하는 목표 조사량 산출부와,
    각 픽셀에 대하여, 소정의 조사량 제어 단위에 기초하여 상기 제1 조사량을 라운딩하여 제2 조사량을 산출하는 조사량 라운딩부와,
    각 픽셀에 대하여, 상기 제1 조사량과 상기 제2 조사량과의 차분인 제1 차분을 산출하는 차분 산출부와,
    인접하는 복수의 픽셀을 그룹화한 제1 그룹 내에 있어서의 상기 제1 차분의 합계를 산출하는 차분 합계값 산출부와,
    상기 조사량 제어 단위 및 상기 제1 차분의 합계에 기초하는 조사량을 상기 제1 그룹 내의 픽셀에 할당하여, 각 픽셀의 제3 조사량을 산출하는 할당부
    를 구비하는 것을 특징으로 하는 데이터 생성 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 차분 산출부는, 각 픽셀에 대하여, 상기 제1 조사량과 상기 제3 조사량과의 차분인 제2 차분을 산출하고,
    상기 차분 합계값 산출부는, 상기 제1 그룹보다 다수의 픽셀을 포함하는 제2 그룹 내에 있어서의 상기 제2 차분의 합계를 산출하고,
    상기 할당부는, 상기 조사량 제어 단위 및 상기 제2 차분의 합계에 기초하는 조사량을 상기 제2 그룹 내의 픽셀에 할당하여, 각 픽셀의 제4 조사량을 산출하는 것을 특징으로 하는 데이터 생성 장치.
  3. 대상물 상에 에너지빔을 조사하여 패턴을 묘화하는 묘화부와,
    상기 묘화부의 제어를 행하는 제어 계산기
    를 구비하고,
    상기 제어 계산기는,
    묘화 데이터에 기초하여, 상기 대상물 상의 각 픽셀에 있어서의 빔의 제1 조사량을 산출하는 목표 조사량 산출부,
    각 픽셀에 대하여, 소정의 조사량 제어 단위에 기초하여 상기 제1 조사량을 라운딩하여 제2 조사량을 산출하는 조사량 라운딩부,
    각 픽셀에 대하여, 상기 제1 조사량과 상기 제2 조사량과의 차분인 제1 차분을 산출하는 차분 산출부,
    인접하는 복수의 픽셀을 그룹화한 제1 그룹 내에 있어서의 상기 제1 차분의 합계를 산출하는 차분 합계값 산출부, 및
    상기 조사량 제어 단위 및 상기 제1 차분의 합계에 기초하는 조사량을 상기 제1 그룹 내의 픽셀에 할당하여, 각 픽셀의 제3 조사량을 산출하는 할당부를 가지고, 상기 제3 조사량을 포함하는 샷 데이터를 생성하는 데이터 생성부와,
    상기 샷 데이터에 기초하여 상기 묘화부를 제어하는 묘화 제어부
    를 구비하는 것을 특징으로 하는 에너지빔 묘화 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    복수의 에너지빔으로 이루어지는 멀티빔을 형성하는 기구와,
    상기 멀티빔 중, 각각 대응하는 빔에 대하여 개별로 빔의 ON / OFF를 행하는 기구를 구비하고,
    각 픽셀에 있어서의 빔의 조사량에 기초하여 상기 멀티빔을 제어하는 것을 특징으로 하는 에너지빔 묘화 장치.
  5. 대상물 상에 에너지빔을 조사하여 패턴을 묘화하는 에너지빔 묘화 방법으로서,
    묘화 데이터에 기초하여, 상기 대상물 상의 각 픽셀에 있어서의 제1 조사량을 산출하는 공정과,
    각 픽셀에 대하여, 소정의 조사량 제어 단위에 기초하여 상기 제1 조사량을 라운딩하여 제2 조사량을 산출하는 공정과,
    각 픽셀에 대하여, 상기 제1 조사량과 상기 제2 조사량과의 차분인 제1 차분을 산출하는 공정과,
    인접하는 복수의 픽셀을 그룹화한 제1 그룹 내에 있어서의 상기 제1 차분의 합계를 산출하는 공정과,
    상기 조사량 제어 단위 및 상기 제1 차분의 합계에 기초하는 조사량을 상기 제1 그룹 내의 픽셀에 할당하여, 각 픽셀의 제3 조사량을 산출하는 공정과,
    각 픽셀의 조사량이 상기 제3 조사량이 되도록 제어하여, 대상물 상에 에너지빔을 조사하는 공정
    을 구비하는 것을 특징으로 하는 에너지빔 묘화 방법.
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