JP6420673B2 - シクロヘキサン−１，４−ジカルボン酸ビス［４−（６−アクリロイルオキシヘキシル）フェニル］の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、シクロヘキサン−１，４−ジカルボン酸ビス［４−（６−アクリロイルオキシヘキシル）フェニル］の製造方法に、ならびにその製造のための中間体におよびその誘導体に関する。
液晶化合物シクロヘキサン−１，４−ジカルボン酸ビス［４−（６−アクリロイルオキシヘキシル）フェニル］および２色性ホスト／ゲスト偏光板におけるその使用が開示されている（特許文献１）。開示される一般的合成戦略により、シクロヘキサン−１，４−ジカルボン酸ビス［４−（６−アクリロイルオキシヘキシル）フェニル］は、６−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）−１−ブロモヘキサンおよび臭化４−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）フェニルマグネシウムから出発する５段階合成において得ることができる。この合成戦略の欠点は、比較的高価な出発材料および収率の減少に関連する必要な合成ステップの数である。
本発明の目的の１つは、特に、大規模な工業的規模に好適な、シクロヘキサン−１，４−ジカルボン酸ビス［４−（６−アクリロイルオキシヘキシル）フェニル］の安価でかつ効率的な製造方法を提供すること、ならびに工業的に有用な特性を有するまたはさらなる誘導体の効率的な合成のための出発化合物として用いることができる中間体を提供することである。
それゆえ本発明は、トランス−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸のクロロプロピオン酸６−（４−ヒドロキシフェニル）ヘキシルとの縮合反応を含む工程段階を包含する、シクロヘキサン−１，４−ジカルボン酸ビス［４−（６−アクリロイルオキシヘキシル）フェニル］の製造方法に関する。
本発明はさらに、
・ ３−クロロプロピオン酸を用いる６−（４−ヒドロキシフェニル）−１−ヘキサノールのエステル化によりクロロプロピオン酸６−（４−ヒドロキシフェニル）ヘキシルを得ることを含むさらなる工程段階を包含する、シクロヘキサン−１，４−ジカルボン酸ビス［４−（６−アクリロイルオキシヘキシル）フェニル］の製造方法、
・ １−（４−ベンゾイルオキシフェニル）−６−ヒドロキシヘキサン−１−オンの水素化により６−（４−ヒドロキシフェニル）−１−ヘキサノールを得ることを含むさらなる工程段階を包含する、シクロヘキサン−１，４−ジカルボン酸ビス［４−（６−アクリロイルオキシヘキシル）フェニル］の製造方法、および
・ ε−カプロラクトンおよび塩酸Ｎ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミンの反応から得られたワインレブアミドと臭化４−ベンジルオキシフェニルマグネシウムのグリニャール反応により１−（４−ベンジルオキシフェニル）−６−ヒドロキシヘキサン−１−オンを得ることを含むさらなる工程段階を包含する、シクロヘキサン−１，４−ジカルボン酸ビス［４−（６−アクリロイルオキシヘキシル）フェニル］の製造方法
に関する。
・ ３−クロロプロピオン酸を用いる６−（４−ヒドロキシフェニル）−１−ヘキサノールのエステル化によりクロロプロピオン酸６−（４−ヒドロキシフェニル）ヘキシルを得ることを含むさらなる工程段階を包含する、シクロヘキサン−１，４−ジカルボン酸ビス［４−（６−アクリロイルオキシヘキシル）フェニル］の製造方法、
・ １−（４−ベンゾイルオキシフェニル）−６−ヒドロキシヘキサン−１−オンの水素化により６−（４−ヒドロキシフェニル）−１−ヘキサノールを得ることを含むさらなる工程段階を包含する、シクロヘキサン−１，４−ジカルボン酸ビス［４−（６−アクリロイルオキシヘキシル）フェニル］の製造方法、および
・ ε−カプロラクトンおよび塩酸Ｎ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミンの反応から得られたワインレブアミドと臭化４−ベンジルオキシフェニルマグネシウムのグリニャール反応により１−（４−ベンジルオキシフェニル）−６−ヒドロキシヘキサン−１−オンを得ることを含むさらなる工程段階を包含する、シクロヘキサン−１，４−ジカルボン酸ビス［４−（６−アクリロイルオキシヘキシル）フェニル］の製造方法
に関する。
そのメソゲン特性のため、本発明によるシクロヘキサン−１，４−ジカルボン酸ビス［４−（６−アクリロイルオキシヘキシル）フェニル］は、液晶媒体において用いられる。
全体の方法の概説が、以下のスキーム１において得られる。
第１の工程段階において、ε−カプロラクトンが塩酸Ｎ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミンを用いてワインレブアミドへと変換され、これをグリニャール試薬の４−ベンジルオキシ−１−ブロモベンゼンとin situで反応させ、１−（４−ベンジルオキシフェニル）−６−ヒドロキシヘキサン−１−オンを得る。
好ましくは、臭化４−ベンジルオキシフェニルマグネシウムに基づき、過剰のε−カプロラクトンの、特に好ましくは１モルの臭化４−ベンジルオキシフェニルマグネシウムあたり１．１〜１．５モルのε−カプロラクトンの、特には１モルの臭化４−ベンジルオキシフェニルマグネシウムあたり１．２〜１．３モルのε−カプロラクトンの使用がなされる。
該工程は、好ましくは、好適な無水、非プロトン性溶媒中で、または対応する溶媒混合物中で行われる。好適な溶媒は当業者に公知であり、好ましくは、環状および非環状エーテル、環状または非環状炭化水素またはハロゲン化溶媒を包含する。
環状および非環状エーテルは、好ましくは、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびジメトキシエタンから選択される。好適な炭化水素は、例えば、トルエン、シクロヘキサン、ヘキサンおよびヘプタンから選択される。この関連において好適なハロゲン化溶媒は、クロロホルムまたはジクロロメタンであり、好ましくはジクロロメタンである。
テトラヒドロフラン／ジクロロメタン混合物はまた、特に好ましく用いられ得る。
好ましくは、１００重量部のε−カプロラクトンあたり４０〜９００重量部、特に６０〜８００重量部の溶媒の使用がなされる。
工程は好ましくは、保護ガス雰囲気下で実行される。好適な保護ガスまたは不活性ガスは当業者に公知であり、例えば、アルゴンまたは窒素、好ましくは窒素を包含する。
好ましくは、有機マグネシウム化合物が反応物に添加される。ここで好適な有機マグネシウム化合物は、例えば、ＴＨＦ中のハロゲン化イソプロピルマグネシウム、好ましくはＴＨＦ中の塩化イソプロピルマグネシウムまたは臭化イソプロピルマグネシウムを包含する。好ましくは、１モルの臭化４−ベンジルオキシフェニルマグネシウムあたり１〜３モル、特に２〜３モルの有機マグネシウム化合物の使用がなされる。
好適な反応温度は、例えば、−３０〜＋１５℃、好ましくは−１０〜＋１０℃、さらに好ましくは−５〜＋５℃の範囲におけるものである。
当業者に公知であるように、反応時間は、とりわけ、混合およびバッチサイズに依存する。反応時間は典型的には、２〜１００時間、好ましくは３〜４０時間である。
製造される１−（４−ベンジルオキシフェニル）−６−ヒドロキシヘキサン−１−オンは、さまざまな様式で、好ましくは好適な溶媒、例えばトルエンなどからの抽出または結晶化により単離することができるが、当業者に公知の他の溶媒またはその混合物もまた本発明に従って使用することができる。好適なワークアップ条件は中間体の精製方法の選択に依存し、当業者により容易に対応させることができる。ここで好適な精製工程は、カラムクロマトグラフィによる精製、結晶化および抽出を包含する。
中間体１−（４−ベンジルオキシフェニル）−６−ヒドロキシヘキサン−１−オンは、ワンステップでの触媒性水素化により、実質定量的に６−（４−ヒドロキシフェニル）−１−ヘキサノールへと変換することができる。
好適な反応条件は、参考図書および関連する事典から当業者に公知である。
好適な態様において、１−（４−ベンジルオキシフェニル）−６−ヒドロキシヘキサン−１−オンの水素化のためには、好ましい不均一触媒作用に加えて、均一系触媒作用もまた好適である。均一系触媒作用において、水素化触媒は溶媒中に完全に溶解する。これは、金属上の好適なリガンドの使用により達成される。不均一触媒作用において、水素化される化合物とともに、水素化触媒および溶媒の不溶性混合物が存在する。工程は好ましくは、不均一系触媒作用を用いて実行される。
水素化触媒としての塩を利用する際に、かかる塩は一般的にはまず還元され、微細に分割された元素が活性な水素化触媒を形成する。
好適な水素化触媒は、水素の付加を促進する触媒である。白金族、例えばパラジウムおよび白金が、水素化において好ましく用いられる。しかし、さらに、ロジウム、ルテニウム、コバルト、鉄、ニッケル、亜クロム酸銅および亜クロム酸亜鉛もまた、水素化触媒として用いることができる。
触媒は一般的には、支持体へと適用される。好適な支持体は、例えば、活性炭、二酸化ケイ素、炭酸カルシウム、硫酸バリウムまたは酸化アルミニウムである。
水素化触媒は、特に好ましくは、白金黒、アダムス触媒（酸化白金（ＩＶ））、活性炭上のパラジウム、コロイド状パラジウム、酸化パラジウム（ＩＩ）、硫酸バリウム上のパラジウム、硫酸バリウム上の水酸化パラジウム（ＩＩ）、リンドラー触媒（炭酸カルシウム上の、酢酸鉛（ＩＩ）で被毒したパラジウム）、炭酸カルシウム上のパラジウム、またはパラジウム黒から選択され、特に好ましくは活性炭上のパラジウムである。
好ましい触媒は、支持体金属に加えて、全体の乾燥触媒に基づき、１〜２０重量％、好ましくは５〜１０重量％のパラジウムを含む。
本発明による方法のために、触媒は乾燥状態または湿潤状態（６０％までの水）で使用することができるが、乾燥触媒の使用が好ましい。
本発明による方法のために、１−（４−ベンジルオキシフェニル）−６−ヒドロキシヘキサン−１−オンに対する用いられる触媒の重量比は、０．０００１〜０．１：１、好ましくは０．００５〜０．０５：１である。
反応は好ましくは、好適な極性溶媒または溶媒混合物中で実行される。好適な極性溶媒は当業者に公知であり、例えば、アルコール、環状エーテルおよび／またはエステル、好ましくはジオキサン、氷酢酸、酢酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロパノール、特に好ましくは酢酸エチルを包含する。
好ましくは、１００重量部の１−（４−ベンジルオキシフェニル）−６−ヒドロキシヘキサン−１−オンあたり、４０〜９００重量部、特に６０〜８００重量部の溶媒の使用がなされる。
反応は好ましくは、過圧での水素雰囲気下で実行される。好適な圧力は当業者に公知であり、１〜２０バール、好ましくは２〜１０バール、特に好ましくは３〜７バールの範囲を包含する。
さらなる態様において、触媒水素化は、水素源としてヒドラジン、シクロヘキサジエン類またはギ酸を使用して実行される。
好適な反応温度は、例えば、＋１０〜＋８０℃、好ましくは＋２０〜＋６０℃、さらに好ましくは＋３０〜＋５０℃の範囲のものである。
反応時間は、２〜１００時間、好ましくは５〜４０時間である。
好ましい態様において、反応混合物は、触媒をろ別し、溶媒を蒸発させて乾燥させることにより、ワークアップする。しかし、代替的に、製造された１−（４−ベンジルオキシフェニル）−６−ヒドロキシヘキサン−１−オンはまた、反応溶液のろ過後に抽出または結晶化により単離することができる。好適なワークアップ条件は、中間体の精製方法の選択に依存し、当業者により容易に対応させることができる。ここで好適な精製工程は、好ましくは、カラムクロマトグラフィによる精製、結晶化および抽出を包含する。
次の合成ステップにおいて、６−（４−ヒドロキシフェニル）−１−ヘキサノールを３−クロロプロピオン酸と反応させ、対応するクロロプロピオン酸６−（４−ヒドロキシフェニル）ヘキシルを得る。
好ましくは、６−（４−ヒドロキシフェニル）−１−ヘキサノールに基づき、過剰の３−クロロプロピオン酸の、特に好ましくは１モルの６−（４−ヒドロキシフェニル）−１−ヘキサノールあたり１．１〜１．５モルの３−クロロプロピオン酸、特には１モルの６−（４−ヒドロキシフェニル）−１−ヘキサノールあたり１．１〜１．３モルの３−クロロプロピオン酸の使用がなされる。
該方法は好ましくは、好適な疎水性、非プロトン性溶媒または対応する溶媒混合物中で実行される。好適な溶媒は当業者に公知であり、例えば、環状および非環状エーテル、環状または非環状炭化水素またはハロゲン化炭化水素を包含する。
好適なエーテルは、例えば、２−メチルテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびジメトキシエタンであり、好適な炭化水素は、例えば、トルエン、シクロヘキサン、ヘキサンおよびヘプタンであり、およびこの関連で好適なハロゲン化炭化水素は、クロロホルムまたはジクロロメタン、好ましくはジクロロメタンである。
好ましくは、６−（４−ヒドロキシフェニル）−１−ヘキサノールの重量部あたり、１０〜１００重量部、特に１０〜５０重量部、特に好ましくは１０〜２５重量部の溶媒の使用がなされる。
酸性触媒、好ましくはｐ−トルエンスルホン酸またはスルホン酸、特に好ましくはｐ−トルエンスルホン酸が、好ましくは添加される。硫酸に対するここでのその利点は、それが酸化作用を有しないということである。好ましくは、１モルの６−（４−ヒドロキシフェニル）−１−ヘキサノールあたり、０．１〜０．５モル、特に０．１〜０．３モル、特に好ましくは０．１５〜０．２５モルのｐ−トルエンスルホン酸の使用がなされる。
反応は好ましくは、溶媒の沸点で行われる。ジクロロメタンの好ましい使用の場合、好適な反応温度は典型的には、＋１５℃〜＋４０℃、好ましくは＋２０℃〜＋４０℃、さらに好ましくは＋３５〜＋４０℃の範囲におけるものである。
当業者に公知であるように、反応時間は、とりわけ、混合およびバッチサイズに依存する。反応時間は典型的には１０〜２００時間、好ましくは２５〜１００時間である。
製造されたクロロプロピオン酸６−（４−ヒドロキシフェニル）ヘキシルは、当業者に公知のさまざまな方法で、好ましくは好適な溶媒からの抽出または結晶化により単離することができる。好適なワークアップ条件は中間体の精製方法の選択に依存し、当業者により容易に対応させることができる。ここで好適な精製方法は、好ましくは、カラムクロマトグラフィによる精製、結晶化および抽出を包含する。
本発明により、クロロプロピオン酸６−（４−ヒドロキシフェニル）ヘキシルは次いで、トランス−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸との縮合反応において、シクロヘキサン−１，４−ジカルボン酸ビス［４−（６−アクリロイルオキシヘキシル）フェニル］へと変換される。
工程は好ましくは、好適な無水、疎水性、非プロトン性溶媒または対応する溶媒混合物中で実行される。好適な溶媒は当業者に公知であり、例えば、環状または非環状エーテル、環状または非環状炭化水素またはハロゲン化炭化水素を包含する。
好適なエーテルは、例えば、２−メチルテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびジメトキシエタンであり、好ましい炭化水素は、例えば、トルエン、シクロヘキサン、ヘキサンおよびヘプタンであり、および好ましいハロゲン化炭化水素はクロロホルムまたはジクロロメタン、特に好ましくはジクロロメタンを包含する。
好ましくは、重量部のトランス−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸あたり５〜１０重量部、特に６〜８重量部の溶媒の使用がなされ、これは好ましくは対応する溶媒中にまず導入し、懸濁させる。
トリフルオロ酢酸無水物を、このようにして得られた懸濁物へと添加する。トランス−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸に基づき、過剰量のトリフルオロ酢酸無水物、特に好ましくは２．１〜２．５モル、特に２．１〜２．３モルのトリフルオロ酢酸無水物の使用がなされる。
本発明により、トランス−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸に基づき、過剰のクロロプロピオン酸６−（４−ヒドロキシフェニル）ヘキシル、好ましくは１モルのトランス−１，４−シクロヘキサンカルボン酸あたり２．１〜２．５モル、特に２．１〜２．３モルのクロロプロピオン酸６−（４−ヒドロキシフェニル）ヘキシルの使用がなされる。
工程は好ましくは、保護ガス雰囲気下で実行される。好適な保護ガスは当業者に公知であり、例えば、アルゴンまたは窒素、好ましくは窒素を包含する。
反応は好ましくは、溶媒の沸点で実行される。ジクロロメタンの使用の場合において、好適な反応温度は典型的には、＋１５℃〜＋４０℃、好ましくは＋２０℃〜＋４０℃、さらに好ましくは＋３５℃〜＋４０℃の範囲におけるものである。
当業者に公知であるように、反応時間は混合およびバッチサイズに依存する。反応時間は典型的には、１０〜２００時間、好ましくは２５〜１００時間である。
製造されるシクロヘキサン−１，４−ジカルボン酸ビス［４−（６−アクリロイルオキシヘキシル）フェニル］は当業者に公知のさまざまな様式により、例えば好適な溶媒からの抽出または結晶化により、好ましくは反応溶液からの抽出により単離することができる。好適なワークアップ条件は、当業者により容易に対応させることができる。ここで好適な精製方法は好ましくは、カラムクロマトグラフィにより精製、結晶化および抽出を包含する。
本明細書における百分率データは、重量％を示す。全ての温度は、摂氏度で示されている。
添付の実施例は本発明をさらに説明するものであり、いかようにもそれを制限しない。
説明的な合成において用いられる出発化合物、試薬および溶媒は、購入されるか、または文献から公知の方法により製造されるかのいずれかであった。説明的な合成は通常は、水分を排除した乾燥装置中で、および対象の反応により必要とされるなら、空気を排除した保護ガス雰囲気下で実行された。反応の経過は一般的には、薄層クロマトグラフィまたはガスクロマトグラフィの手段によりモニターされた。反応生成物はワークアップし、慣用の方法により、例えばカラムクロマトグラフィまたは結晶化の手段により精製することができる。これらの構造同一性は、質量分析および１Ｈ−ＮＭＲ分光法により確証した。収率は最適化しなかった。
１． １−（４−ベンジルオキシフェニル）−６−ヒドロキシヘキサン−１−オンの合成
ε−カプロラクトン（１３．７ｇ、１２０ｍｍｏｌ）および塩酸Ｎ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミン（１１．７ｇ、１２０ｍｍｏｌ）をまず窒素下で導入し、４５０ｍｌのジクロロメタンを添加する。ＴＨＦ中の２Ｍ溶液の塩化イソプロピルマグネシウム（１２３ｇ、２５０ｍｍｏｌ）の溶液を、約−５℃で該溶液へと滴下で添加する。添加が完了したとき、クリアな溶液を−５℃〜＋３．５℃でさらに３０分間攪拌する。ＴＨＦ中の１Ｍ溶液の臭化４−ベンジルオキシ−フェニルマグネシウム（１０５ｇ、１００ｍｍｏｌ）を次いで、−３℃〜＋１℃で滴下で添加する。反応混合物を０℃でさらに３時間攪拌し、そして２Ｎ塩酸の添加により加水分解する。相を分離し、有機相を水性炭酸水素ナトリウム溶液および水で洗浄する。有機相をトルエンの添加で蒸発させる。残渣をトルエンから結晶化する。生成物をろ別し、冷たいトルエンで洗浄し、真空で乾燥させ、ＭＳおよび１Ｈ−ＮＭＲの手段により特徴付ける。
収率：８１％
ε−カプロラクトン（１３．７ｇ、１２０ｍｍｏｌ）および塩酸Ｎ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミン（１１．７ｇ、１２０ｍｍｏｌ）をまず窒素下で導入し、４５０ｍｌのジクロロメタンを添加する。ＴＨＦ中の２Ｍ溶液の塩化イソプロピルマグネシウム（１２３ｇ、２５０ｍｍｏｌ）の溶液を、約−５℃で該溶液へと滴下で添加する。添加が完了したとき、クリアな溶液を−５℃〜＋３．５℃でさらに３０分間攪拌する。ＴＨＦ中の１Ｍ溶液の臭化４−ベンジルオキシ−フェニルマグネシウム（１０５ｇ、１００ｍｍｏｌ）を次いで、−３℃〜＋１℃で滴下で添加する。反応混合物を０℃でさらに３時間攪拌し、そして２Ｎ塩酸の添加により加水分解する。相を分離し、有機相を水性炭酸水素ナトリウム溶液および水で洗浄する。有機相をトルエンの添加で蒸発させる。残渣をトルエンから結晶化する。生成物をろ別し、冷たいトルエンで洗浄し、真空で乾燥させ、ＭＳおよび１Ｈ−ＮＭＲの手段により特徴付ける。
収率：８１％
２． ６−（４−ヒドロキシフェニル）−１−ヘキサノールの合成
１−（４−ベンジルオキシフェニル）−６−ヒドロキシヘキサン−１−オン（２４．５ｇ、８１．５ｍｍｏｌ）を、５バールの水素圧力および４０°で５％Ｐｄ／Ｃを用いて酢酸エチル中で水素化する。触媒をろ別したのちに、生成物溶液を蒸発させて乾燥させ、固体残渣を得る。生成物をＭＳおよび１Ｈ−ＮＭＲの手段により特徴付ける。
収率：９３％
１−（４−ベンジルオキシフェニル）−６−ヒドロキシヘキサン−１−オン（２４．５ｇ、８１．５ｍｍｏｌ）を、５バールの水素圧力および４０°で５％Ｐｄ／Ｃを用いて酢酸エチル中で水素化する。触媒をろ別したのちに、生成物溶液を蒸発させて乾燥させ、固体残渣を得る。生成物をＭＳおよび１Ｈ−ＮＭＲの手段により特徴付ける。
収率：９３％
３． クロロプロピオン酸６−（４−ヒドロキシフェニル）ヘキシルの合成
６−（４−ヒドロキシフェニル）−１−ヘキサノール（２７．０ｇ、１３９ｍｍｏｌ）をまず、Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ装置中の４００ｍｌのジクロロメタン中に導入し、ｐ−トルエンスルホン酸（５．３ｇ、２８ｍｍｏｌ）および３−クロロプロピオン酸（１６．１ｇ、１４９ｍｍｏｌ）を連続的に添加する。次いで混合物を沸点へと加熱し、さらに９６ｈ攪拌する。反応溶液を冷却し、水を添加する。相を分離し、有機相をｐＨ５に達するまで水で洗浄する。相分離後、有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥させ、溶媒を減圧下で除去する。得られた生成物にシリカゲルを通過させる分別ろ過を施し、次いで蒸発させ乾燥させる。生成物をＭＳおよび１Ｈ−ＮＭＲの手段により特徴付ける。
収率：６３％
６−（４−ヒドロキシフェニル）−１−ヘキサノール（２７．０ｇ、１３９ｍｍｏｌ）をまず、Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ装置中の４００ｍｌのジクロロメタン中に導入し、ｐ−トルエンスルホン酸（５．３ｇ、２８ｍｍｏｌ）および３−クロロプロピオン酸（１６．１ｇ、１４９ｍｍｏｌ）を連続的に添加する。次いで混合物を沸点へと加熱し、さらに９６ｈ攪拌する。反応溶液を冷却し、水を添加する。相を分離し、有機相をｐＨ５に達するまで水で洗浄する。相分離後、有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥させ、溶媒を減圧下で除去する。得られた生成物にシリカゲルを通過させる分別ろ過を施し、次いで蒸発させ乾燥させる。生成物をＭＳおよび１Ｈ−ＮＭＲの手段により特徴付ける。
収率：６３％
４． シクロヘキサン−１，４−ジカルボン酸ビス［４−（６−アクリロイルオキシヘキシル）フェニル］の合成
トランス−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸（８．７７ｇ、５１ｍｍｏｌ）を１００ｍｌの無水ジクロロメタン中に懸濁させる。次いでトリフルオロ酢酸無水物（１５．６ｍｌ、１１２ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を３０℃でさらに１ｈ攪拌する。そして５０ｍｌの無水ジクロロメタン中のクロロプロピオン酸６−（４−ヒドロキシフェニル）ヘキシル（３２ｇ、１１２ｍｍｏｌ）を添加し、混合物をさらに１２ｈ攪拌する。次いで１００ｍｌの水を反応混合物へと添加し、相を分離する。水相を２０ｍｌのジクロロメタンで２回抽出し、混ぜ合わせた有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥させる。次いで溶媒を減圧下で除去する。粗製生成物を再びジクロロメタン中に取り込み、４０ｍｌのトリエチルアミンを添加し、混合物を４０℃でさらに１２ｈ攪拌する。冷却および反応溶液への希塩酸およびさらなるジクロロエタンの添加後、相を分離し、水相をジクロロメタンで抽出する。混ぜ合わせた有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥させ、ＢＨＴの添加後に溶媒を減圧下で除去する。粗製生成物をシリカゲルを通した分別ろ過に施す（溶離剤：ジクロロメタン／酢酸エチル、９９：１）。有機生成物相を混ぜ合わせ、ＢＨＴの添加後に減圧下で溶媒を除去する。生成物をＭＳおよび１Ｈ−ＮＭＲの手段により特徴付ける。
収率：９５％
トランス−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸（８．７７ｇ、５１ｍｍｏｌ）を１００ｍｌの無水ジクロロメタン中に懸濁させる。次いでトリフルオロ酢酸無水物（１５．６ｍｌ、１１２ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を３０℃でさらに１ｈ攪拌する。そして５０ｍｌの無水ジクロロメタン中のクロロプロピオン酸６−（４−ヒドロキシフェニル）ヘキシル（３２ｇ、１１２ｍｍｏｌ）を添加し、混合物をさらに１２ｈ攪拌する。次いで１００ｍｌの水を反応混合物へと添加し、相を分離する。水相を２０ｍｌのジクロロメタンで２回抽出し、混ぜ合わせた有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥させる。次いで溶媒を減圧下で除去する。粗製生成物を再びジクロロメタン中に取り込み、４０ｍｌのトリエチルアミンを添加し、混合物を４０℃でさらに１２ｈ攪拌する。冷却および反応溶液への希塩酸およびさらなるジクロロエタンの添加後、相を分離し、水相をジクロロメタンで抽出する。混ぜ合わせた有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥させ、ＢＨＴの添加後に溶媒を減圧下で除去する。粗製生成物をシリカゲルを通した分別ろ過に施す（溶離剤：ジクロロメタン／酢酸エチル、９９：１）。有機生成物相を混ぜ合わせ、ＢＨＴの添加後に減圧下で溶媒を除去する。生成物をＭＳおよび１Ｈ−ＮＭＲの手段により特徴付ける。
収率：９５％
Claims (5)
- トランス−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸のクロロプロピオン酸６−（４−ヒドロキシフェニル）ヘキシルとの縮合反応を含む工程段階を含む、シクロヘキサン−１，４−ジカルボン酸ビス［４−（６−アクリロイルオキシヘキシル）フェニル］の製造方法。
- ３−クロロプロピオン酸を用いる６−（４−ヒドロキシフェニル）−１−ヘキサノールのエステル化によりクロロプロピオン酸６−（４−ヒドロキシフェニル）ヘキシルを得ることを含むさらなる工程段階を含む、請求項１に記載のシクロヘキサン−１，４−ジカルボン酸ビス［４−（６−アクリロイルオキシヘキシル）フェニル］の製造方法。
- １−（４−ベンジルオキシフェニル）−６−ヒドロキシヘキサン−１−オンの水素化により６−（４−ヒドロキシフェニル）−１−ヘキサノールを得ることを含むさらなる工程段階を含む、請求項１または２に記載のシクロヘキサン−１，４−ジカルボン酸ビス［４−（６−アクリロイルオキシヘキシル）フェニル］の製造方法。
- ε−カプロラクトンと塩酸Ｎ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミンとの反応から得られた、ワインレブアミドの、臭化４−ベンジルオキシフェニルニルマグネシウムとのグリニャール反応により、１−（４−ベンジルオキシフェニル）−６−ヒドロキシンヘキサン−１−オンを得ることを含むさらなる工程段階を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載のシクロヘキサン−１，４−ジカルボン酸ビス［４−（６−アクリロイルオキシヘキシル）フェニル］の製造方法。
- 請求項１により製造されたシクロヘキサン−１，４−ジカルボン酸ビス［４−（６−アクリロイルオキシヘキシル）フェニル］の液晶媒体の成分としての使用。
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