JP6416766B2 - ターゲット供給装置 - Google Patents

Description

本開示は、フィルタ、および、ターゲット供給装置に関する。

近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、７０ｎｍ〜４５ｎｍの微細加工、さらには３２ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。このため、例えば３２ｎｍ以下の微細加工の要求に応えるべく、波長１３ｎｍ程度の極端紫外光（以下、ＥＵＶ光という場合がある。）を生成するための装置と縮小投影反射光学系とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。

ＥＵＶ光生成装置としては、ターゲット物質にレーザ光を照射することによって生成されるプラズマを用いたＬＰＰ（Ｌａｓｅｒ Ｐｒｏｄｕｃｅｄ Ｐｌａｓｍａ）方式の装置と、放電によって生成されるプラズマを用いたＤＰＰ（Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ Ｐｒｏｄｕｃｅｄ Ｐｌａｓｍａ）方式の装置と、軌道放射光を用いたＳＲ（Ｓｙｎｃｈｒｏｔｒｏｎ Ｒａｄｉａｔｉｏｎ）方式の装置との３種類の装置が知られている。

米国特許出願公開第２０１２／０２９２５２７号明細書 米国特許出願公開第２００６／０１９２１５５号明細書 米国特許出願公開第２０１１／０１３９７０７号明細書 米国特許第５８４３７６７号明細書

概要

本開示の一態様によるフィルタは、第１面に流路が形成された第１部材と、第２面が前記流路を覆うように配置された第２部材とを備え、前記第１部材は、前記第１面と、前記第１面と反対面側の第１空間との間を、前記流路の第１領域を介して、流体を流通させるための第１流通部を備え、前記第２部材は、前記第２面と、前記第２面と反対面側の第２空間との間を、前記流路の前記第１領域とは離間した第２領域を介して、流体を流通させるための第２流通部を備えてもよい。

本開示の一態様によるターゲット供給装置は、ターゲット物質が出力されるノズル孔が形成されたノズルを有し、内部にターゲット物質を収容するターゲット生成器と、前記ターゲット生成器内に配置され、前記ターゲット物質内の異物が前記ノズル孔を閉塞することを抑制するためのフィルタとを備え、前記フィルタは、第１面に流路が形成された第１部材と、第２面が前記流路を覆うように配置された第２部材とを備え、前記第１部材は、前記第１面と、前記第１面と反対面側の第１空間との間を、前記流路の第１領域を介して、前記ターゲット物質を流通させるための第１流通部を備え、前記第２部材は、前記第２面と、前記第２面と反対面側の第２空間との間を、前記流路の前記第１領域とは離間した第２領域を介して、前記ターゲット物質を流通させるための第２流通部を備えてもよい。

本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図１は、ＬＰＰ方式のＥＵＶ光生成装置の構成を概略的に示す。 図２は、第１実施形態に係るターゲット供給装置を含むＥＵＶ光生成装置の構成を概略的に示す。 図３は、ターゲット供給装置の構成を概略的に示す。 図４は、第２フィルタを概略的に示す斜視図である。 図５Ａは、第２実施形態に係る第２フィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。 図５Ｂは、図５ＡのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。 図５Ｃは、第２フィルタの流路を＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。 図６は、第１部材の製造方法を概略的に示す。 図７は、第２部材の製造方法を概略的に示す。 図８Ａは、第３実施形態に係る第２フィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。 図８Ｂは、図８ＡのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。 図８Ｃは、第２フィルタの流路を＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。 図９Ａは、第５実施形態に係る第２フィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。 図９Ｂは、図９ＡのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。 図１０Ａは、第５実施形態に係る第２フィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。 図１０Ｂは、図１０ＡのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。 図１１Ａは、第６実施形態に係る第２フィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。 図１１Ｂは、図１１ＡのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。 図１１Ｃは、第２フィルタの流路の変形例を概略的に示す。 図１２は、第２フィルタの製造方法を概略的に示す。 図１３Ａは、第７実施形態に係るターゲット供給装置の要部を概略的に示す。 図１３Ｂは、図１３ＡのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。 図１４は、第８実施形態に係るターゲット供給装置の要部を概略的に示す。 図１５Ａは、第９実施形態に係るターゲット供給装置の要部を概略的に示す。 図１５Ｂは、図１５ＡのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。 図１６は、第１０実施形態に係るターゲット供給装置の要部を概略的に示す。 図１７Ａは、第１変形例に係るフィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。 図１７Ｂは、図１７ＡのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。 図１８Ａは、第２変形例に係るフィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。 図１８Ｂは、図１８ＡのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。 図１９Ａは、第３変形例に係るフィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。 図１９Ｂは、図１９ＡのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。 図１９Ｃは、図１９ＡのＣ−Ｃ線に沿った断面図である。 図２０Ａは、第３変形例に係る他のフィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。 図２０Ｂは、図２０ＡのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。 図２１Ａは、第３変形例に係る他のフィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。 図２１Ｂは、第３変形例に係る他のフィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。 図２１Ｃは、第３変形例に係る他のフィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。 図２１Ｄは、第３変形例に係る他のフィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。 図２１Ｅは、第３変形例に係る他のフィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。 図２１Ｆは、第３変形例に係る他のフィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。 図２１Ｇは、第３変形例に係る他のフィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。 図２２Ａは、第４変形例に係るフィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。 図２２Ｂは、図２２ＡのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。 図２２Ｃは、図２２ＡのＣ−Ｃ線に沿った断面図である。 図２３Ａは、第５変形例に係るフィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。 図２３Ｂは、図２３ＡのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。 図２３Ｃは、図２３ＡのＣ−Ｃ線に沿った断面図である。 図２４Ａは、第６変形例に係るフィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。 図２４Ｂは、図２４ＡのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。 図２４Ｃは、図２４ＡのＣ−Ｃ線に沿った断面図である。 図２５は、第７変形例に係るフィルタの断面図である。 図２６は、第８変形例に係るフィルタの断面図である。

実施形態

内容
１．概要
２．ＥＵＶ光生成装置の全体説明
２．１ 構成
２．２ 動作
３．ターゲット供給装置を含むＥＵＶ光生成装置
３．１ 用語の説明
３．２ 第１実施形態
３．２．１ 概略
３．２．２ 構成
３．２．３ 動作
３．２．３．１ フィルタの組み込み
３．２．３．２ ターゲット供給装置の動作
３．３ 第２実施形態
３．３．１ 概略
３．３．２ 構成
３．３．３ 動作
３．３．３．１ フィルタの製造方法とフィルタの組み込み
３．３．３．２ ターゲット供給装置の動作
３．４ 第３実施形態
３．４．１ 構成
３．４．２ 動作
３．４．２．１ フィルタの製造方法とフィルタの組み込み
３．４．２．２ ターゲット供給装置の動作
３．５ 第４実施形態
３．５．１ 概略
３．５．２ 構成
３．５．３ 動作
３．５．３．１ フィルタの製造方法とフィルタの組み込み
３．５．３．２ ターゲット供給装置の動作
３．６ 第５実施形態
３．６．１ 概略
３．６．２ 構成
３．６．３ 動作
３．６．３．１ フィルタの製造方法とフィルタの組み込み
３．６．３．２ ターゲット供給装置の動作
３．７ 第６実施形態
３．７．１ 概略
３．７．２ 構成
３．７．３ 動作
３．７．３．１ フィルタの製造方法とフィルタの組み込み
３．７．３．２ ターゲット供給装置の動作
３．８ 第７実施形態
３．８．１ 概略
３．８．２ 構成
３．８．３ 動作
３．８．３．１ フィルタの組み込み
３．８．３．２ ターゲット供給装置の動作
３．９ 第８実施形態
３．９．１ 構成
３．９．２ 動作
３．９．２．１ フィルタの組み込み
３．９．２．２ ターゲット供給装置の動作
３．１０ 第９実施形態
３．１０．１ 構成
３．１０．２ 動作
３．１１ 第１０実施形態
３．１１．１ 概略
３．１１．２ 構成
３．１１．３ 動作
３．１２ 変形例
３．１２．１ 第１変形例
３．１２．２ 第２変形例
３．１２．３ 第３変形例
３．１２．４ 第４変形例
３．１２．５ 第５変形例
３．１２．６ 第６変形例
３．１２．７ 第７変形例
３．１２．８ 第８変形例
３．１２．９ その他の変形例

以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成および動作の全てが本開示の構成および動作として必須であるとは限らない。また、図１以外の図面を用いて説明する実施形態において、図１に示す構成要素のうち、本開示の説明に必須でない構成については、図示を省略する場合がある。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。

１．概要
本開示の実施形態においては、フィルタは、第１面に流路が形成された第１部材と、第２面が流路を覆うように配置された第２部材とを備え、第１部材は、第１面と、第１面と反対面側の第１空間との間を、流路の第１領域を介して、流体を流通させるための第１流通部を備え、第２部材は、第２面と、第２面と反対面側の第２空間との間を、流路の第１領域とは離間した第２領域を介して、流体を流通させるための第２流通部を備えてもよい。

本開示の実施形態においては、ターゲット供給装置は、ターゲット物質が出力されるノズル孔が形成されたノズルを有し、内部にターゲット物質を収容するターゲット生成器と、ターゲット生成器内に配置され、ターゲット物質内の異物がノズル孔を閉塞することを抑制するためのフィルタとを備え、フィルタは、第１面に流路が形成された第１部材と、第２面が流路を覆うように配置された第２部材とを備え、第１部材は、第１面と、第１面と反対面側の第１空間との間を、流路の第１領域を介して、ターゲット物質を流通させるための第１流通部を備え、第２部材は、第２面と、第２面と反対面側の第２空間との間を、流路の第１領域とは離間した第２領域を介して、ターゲット物質を流通させるための第２流通部を備えてもよい。

２．ＥＵＶ光生成装置の全体説明
２．１ 構成
図１に、例示的なＬＰＰ方式のＥＵＶ光生成システムの構成を概略的に示す。ＥＵＶ光生成装置１は、少なくとも１つのレーザ装置３と共に用いられてもよい。本願においては、ＥＵＶ光生成装置１及びレーザ装置３を含むシステムを、ＥＵＶ光生成システム１１と称する。図１に示し、かつ、以下に詳細に説明するように、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２、ターゲット供給装置７を含んでもよい。チャンバ２は、密閉可能であってもよい。ターゲット供給装置７は、例えば、チャンバ２の壁を貫通するように取り付けられてもよい。ターゲット供給装置７から供給されるターゲット物質の材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノン、又は、それらの内のいずれか２つ以上の組合せを含んでもよいが、これらに限定されない。

チャンバ２の壁には、少なくとも１つの貫通孔が設けられていてもよい。その貫通孔には、ウインドウ２１が設けられてもよく、ウインドウ２１をレーザ装置３から出力されるパルスレーザ光３２が透過してもよい。チャンバ２の内部には、例えば、回転楕円面形状の反射面を有するＥＵＶ集光ミラー２３が配置されてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３は、第１及び第２の焦点を有し得る。ＥＵＶ集光ミラー２３の表面には、例えば、モリブデンとシリコンとが交互に積層された多層反射膜が形成されていてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３は、例えば、その第１の焦点がプラズマ生成領域２５に位置し、その第２の焦点が中間集光点（ＩＦ）２９２に位置するように配置されるのが好ましい。ＥＵＶ集光ミラー２３の中央部には貫通孔２４が設けられていてもよく、貫通孔２４をパルスレーザ光３３が通過してもよい。

ＥＵＶ光生成装置１は、ＥＵＶ光生成制御部５、ターゲットセンサ４等を含んでもよい。ターゲットセンサ４は、撮像機能を有してもよく、ドロップレット（ターゲット）２７の存在、軌跡、位置、速度等を検出するよう構成されてもよい。

また、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２の内部と露光装置６の内部とを連通させる接続部２９を含んでもよい。接続部２９内部には、アパーチャ２９３が形成された壁２９１が設けられてもよい。壁２９１は、そのアパーチャ２９３がＥＵＶ集光ミラー２３の第２の焦点位置に位置するように配置されてもよい。

さらに、ＥＵＶ光生成装置１は、レーザ光進行方向制御部３４、レーザ光集光ミラー２２、ドロップレット２７を回収するためのターゲット回収部２８等を含んでもよい。レーザ光進行方向制御部３４は、レーザ光の進行方向を規定するための光学素子と、この光学素子の位置、姿勢等を調整するためのアクチュエータとを備えてもよい。

２．２ 動作
図１を参照に、レーザ装置３から出力されたパルスレーザ光３１は、レーザ光進行方向制御部３４を経て、パルスレーザ光３２としてウインドウ２１を透過してチャンバ２内に入射してもよい。パルスレーザ光３２は、少なくとも１つのレーザ光経路に沿ってチャンバ２内を進み、レーザ光集光ミラー２２で反射されて、パルスレーザ光３３として少なくとも１つのドロップレット２７に照射されてもよい。

ターゲット供給装置７は、ドロップレット２７をチャンバ２内部のプラズマ生成領域２５に向けて出力するよう構成されてもよい。ドロップレット２７には、パルスレーザ光３３に含まれる少なくとも１つのパルスが照射されてもよい。パルスレーザ光が照射されたドロップレット２７はプラズマ化し、そのプラズマから放射光２５１が放射され得る。放射光２５１に含まれるＥＵＶ光２５２は、ＥＵＶ集光ミラー２３によって選択的に反射されてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３によって反射されたＥＵＶ光２５２は、中間集光点２９２で集光され、露光装置６に出力されてもよい。なお、１つのドロップレット２７に、パルスレーザ光３３に含まれる複数のパルスが照射されてもよい。

ＥＵＶ光生成制御部５は、ＥＵＶ光生成システム１１全体の制御を統括するよう構成されてもよい。ＥＵＶ光生成制御部５は、ターゲットセンサ４によって撮像されたドロップレット２７のイメージデータ等を処理するよう構成されてもよい。また、ＥＵＶ光生成制御部５は、例えば、ドロップレット２７が出力されるタイミング、ドロップレット２７の出力方向等を制御するよう構成されてもよい。さらに、ＥＵＶ光生成制御部５は、例えば、レーザ装置３の発振タイミング、パルスレーザ光３２の進行方向、パルスレーザ光３３の集光位置等を制御するよう構成されてもよい。上述の様々な制御は単なる例示に過ぎず、必要に応じて他の制御が追加されてもよい。

３．ターゲット供給装置を含むＥＵＶ光生成装置
３．１ 用語の説明
以下、図１以外の図面を用いた説明において、各図に示したＸＹＺ軸を基準として方向を説明する場合がある。
なお、この表現は、重力方向１０Ｂとの関係を表すものではない。

３．２ 第１実施形態
３．２．１ 概略
本開示の第１実施形態のノズルにおいて、第１流通部は、第１部材を貫通する第１貫通孔により構成されてもよい。
本開示の第１実施形態のノズルにおいて、第１貫通孔は、第１部材の略中心を貫通するように形成されてもよい。
本開示の第１実施形態のノズルにおいて、第２流通部は、第２部材を貫通する第２貫通孔により構成されてもよい。
本開示の第１実施形態のノズルにおいて、流路は、第１面に形成された溝部で構成されてもよい。

３．２．２ 構成
図２は、第１実施形態に係るターゲット供給装置を含むＥＵＶ光生成装置の構成を概略的に示す。図３は、ターゲット供給装置の構成を概略的に示す。図４は、第２フィルタを概略的に示す斜視図である。

ＥＵＶ光生成装置１Ａは、図２に示すように、チャンバ２と、ターゲット供給装置７Ａとを備えてもよい。ターゲット供給装置７Ａは、ターゲット生成部７０Ａと、ターゲット制御装置７１Ａとを備えてもよい。ターゲット制御装置７１Ａには、レーザ装置３と、ＥＵＶ光生成制御部５Ａとが電気的に接続されてもよい。

ターゲット生成部７０Ａは、図２および図３に示すように、ターゲット生成器８Ａと、圧力制御部７３Ａと、温度制御部７４Ａと、第１フィルタ７５Ａと、第２フィルタ７６Ａとを備えてもよい。
ターゲット生成器８Ａは、タンク８１Ａと、ノズル基端部８２Ａと、ノズル先端部８３Ａとを備えてもよい。タンク８１Ａと、ノズル基端部８２Ａと、ノズル先端部８３Ａとは、例えばモリブデンなどのターゲット物質２７０との反応性が低い材料で構成されてもよい。
タンク８１Ａは、タンク本体８１１Ａと、蓋部８１２Ａとを備えてもよい。
タンク本体８１１Ａは、−Ｚ方向側の第２面に壁面を備える略円筒状に形成されてもよい。タンク本体８１１Ａの中空部は、収容空間８１０Ａであってもよい。タンク本体８１１Ａの第２面中央には、＋Ｚ方向に向かって略円形に凹む凹部８１３Ａが設けられてもよい。凹部８１３Ａの中央には、収容空間８１０Ａと連通する第１貫通孔８１４Ａが設けられてもよい。
蓋部８１２Ａは、タンク本体８１１Ａの＋Ｚ方向側の第１面を閉塞する略円板状に形成されてもよい。蓋部８１２Ａは、複数のボルト８１５Ａによってタンク本体８１１Ａの第１面に固定されてもよい。

ノズル基端部８２Ａは、略円柱状に形成されてもよい。ノズル基端部８２Ａの＋Ｚ方向側の第１面には、タンク本体８１１Ａの凹部８１３Ａの形状に相似する第１凸部８２１Ａが設けられてもよい。ノズル基端部８２Ａは、複数のボルト８２９Ａによってタンク本体８１１Ａの第２面に固定されてもよい。

ノズル基端部８２Ａの中央には、Ｚ軸方向に貫通する第２貫通孔８２２Ａが設けられてもよい。第２貫通孔８２２Ａは、第１貫通孔８１４Ａに連通してもよい。第２貫通孔８２２Ａにおける＋Ｚ方向側は、収容部８２３Ａであってもよい。収容部８２３Ａには、第１フィルタ７５Ａと、シム７５５Ａとが収容されてもよい。収容部８２３Ａは、第１当接部８２４Ａと、第２当接部８２５Ａとを備えてもよい。

ノズル基端部８２Ａの−Ｚ方向側の第２面には、第２凸部８２６Ａが設けられてもよい。第２凸部８２６Ａは、−Ｚ方向に向けて略円板状に突出してもよい。第２凸部８２６Ａの中央には、＋Ｚ方向に向けて略円形に凹む凹部８２７Ａが設けられてもよい。凹部８２７Ａ内には、第２貫通孔８２２Ａの開口が存在してもよい。凹部８２７Ａには、第２フィルタ７６Ａが挿入されてもよい。

ノズル先端部８３Ａは、略円板状に形成されてもよい。ノズル先端部８３Ａの第１面中央には、−Ｚ方向に向かって略円形に凹む凹部８３１Ａが設けられてもよい。凹部８３１Ａには、ノズル基端部８２Ａの第２凸部８２６Ａが嵌合してもよい。このとき、凹部８３１Ａは、第２フィルタ７６Ａと当接してもよい。ノズル先端部８３Ａは、当該ノズル先端部８３Ａを貫通する複数のボルト８３９Ａによって、ノズル基端部８２Ａの第２面に固定されてもよい。

ノズル先端部８３Ａの中央には、Ｚ軸方向に貫通する第３貫通孔８３２Ａが設けられてもよい。第３貫通孔８３２Ａは、第２貫通孔８２２Ａに連通してもよい。第３貫通孔８３２Ａは、−Ｚ方向に向かうにしたがって径寸法が小さくなる形状であってもよい。第３貫通孔８３２Ａの−Ｚ方向側の端部は、ノズル孔８３３Ａであってもよい。ノズル孔８３３Ａは円形の開口であってよく、その直径は、１μｍ〜３μｍであってもよい。ノズル先端部８３Ａは、ノズル孔８３３Ａの形成されたノズルであってよい。以降、ノズル孔の形成された部材を単にノズルと呼称することがある。
ノズル先端部８３Ａは、ノズル先端部８３Ａとターゲット物質２７０との接触角が９０°以上の材料で構成されるのが好ましい。あるいは、ノズル先端部８３Ａの少なくとも表面が、当該接触角が９０°以上の材料でコーティングされてもよい。例えばターゲット物質２７０がスズの場合、接触角が９０°以上の材料は、ＳｉＣ、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、モリブデン、タングステンであってもよい。

タンク８１Ａと、ノズル基端部８２Ａと、ノズル先端部８３Ａとは、電気絶縁材料で構成されてもよい。これらが、電気絶縁材料ではない材料、例えばモリブデンなどの金属材料で構成される場合には、チャンバ２とターゲット生成器８Ａとの間に不図示の電気絶縁材料が配置されてもよい。

チャンバ２の設置形態によっては、予め設定されるドロップレット２７の出力方向は、例えばノズル孔８３３Ａの中心軸方向であってよく、図３における−Ｚ方向であってよい。予め設定されるドロップレット２７の出力方向を、設定出力方向１０Ａと称する。設定出力方向１０Ａは、必ずしも重力方向１０Ｂと一致するとは限らない。重力方向１０Ｂに対して、斜め方向にドロップレット２７が出力されるよう構成されてもよい。なお、第１実施形態では、設定出力方向１０Ａが重力方向１０Ｂと一致するようにチャンバ２が設置されてもよい。

圧力制御部７３Ａは、圧力制御器７３２Ａと、圧力センサ７３３Ａとを備えてもよい。圧力制御器７３２Ａは、配管７３４Ａを介して、蓋部８１２Ａの＋Ｚ方向側の第１端部に連結されてもよい。圧力制御器７３２Ａには、配管７３５Ａを介して、不活性ガスボンベ７３１Ａが接続されてもよい。圧力制御器７３２Ａは、ターゲット制御装置７１Ａに電気的に接続されてもよい。圧力制御器７３２Ａは、ターゲット制御装置７１Ａから送信される信号に基づいて、不活性ガスボンベ７３１Ａから供給される不活性ガスの圧力を制御して、ターゲット生成器８Ａ内の圧力を調節するよう構成されてもよい。
圧力センサ７３３Ａは、配管７３４Ａに設けられてもよい。圧力センサ７３３Ａは、ターゲット制御装置７１Ａに電気的に接続されてもよい。圧力センサ７３３Ａは、配管７３４Ａ内に存在する不活性ガスの圧力を検出して、この検出した圧力に対応する信号をターゲット制御装置７１Ａに送信してもよい。

温度制御部７４Ａは、タンク８１Ａ内のターゲット物質２７０の温度を制御するよう構成されてもよい。温度制御部７４Ａは、ヒータ７４１Ａと、ヒータ電源７４２Ａと、温度センサ７４３Ａと、温度コントローラ７４４Ａとを備えてもよい。
ヒータ７４１Ａは、タンク８１Ａのタンク本体８１１Ａの外周面に設けられてもよい。
ヒータ電源７４２Ａは、温度コントローラ７４４Ａからの信号に基づいて、ヒータ７４１Ａに電力を供給してヒータ７４１Ａを発熱させてもよい。それにより、タンク８１Ａ内のターゲット物質２７０が、タンク８１Ａを介して加熱され得る。
温度センサ７４３Ａは、タンク８１Ａの外周面におけるノズル基端部８２Ａ側に設けられてもよいし、タンク８１Ａ内に設けられてもよい。温度センサ７４３Ａは、タンク８１Ａにおける主に温度センサ７４３Ａの設置位置およびその近傍の位置の温度を検出して、当該検出した温度に対応する信号を温度コントローラ７４４Ａに送信するよう構成されてもよい。温度センサ７４３Ａの設置位置およびその近傍の位置の温度は、タンク８１Ａ内のターゲット物質２７０の温度を反映した温度となり得る。
温度コントローラ７４４Ａは、温度センサ７４３Ａからの信号に基づいて、ターゲット物質２７０の温度を所定温度に制御するための信号をヒータ電源７４２Ａに出力するよう構成されてもよい。

ターゲット物質２７０には、異物としてのパーティクルが含まれることがあってよい。パーティクルは、ターゲット物質２７０と不純物または酸素とが反応することによって生成され得る、またはターゲット物質２７０の原材料に含まれ得る、またはターゲット物質２７０とタンク８１Ａとの物理的な摩耗によって生成され得る。

第１フィルタ７５Ａは、第１多孔質フィルタ７５１Ａと、第２多孔質フィルタ７５２Ａと、第３多孔質フィルタ７５３Ａとを備えてもよい。第１，第２，第３多孔質フィルタ７５１Ａ，７５２Ａ，７５３Ａは、ターゲット物質２７０に含まれるパーティクルを捕集するために、多孔質の材料で作られてもよい。第１多孔質フィルタ７５１Ａには、口径が例えば２０μｍ程度の無数の貫通細孔が設けられてもよい。第２多孔質フィルタ７５２Ａには、口径が例えば１０μｍ程度の無数の貫通細孔が設けられてもよい。第３多孔質フィルタ７５３Ａには、例えば口径が６μｍ程度の無数の貫通細孔が設けられてもよい。このように、第１多孔質フィルタ７５１Ａ、第２多孔質フィルタ７５２Ａ、第３多孔質フィルタ７５３Ａの貫通細孔のサイズは異なってよい。また、第１，第２，第３多孔質フィルタ７５１Ａ，７５２Ａ，７５３Ａの貫通細孔は、様々な方向に屈曲して各多孔質フィルタを貫通してもよい。
第１，第２，第３多孔質フィルタ７５１Ａ，７５２Ａ，７５３Ａは略円板状に形成されてもよく、その直径は、第２貫通孔８２２Ａの最大内径より大きくてもよい。第１，第２，第３多孔質フィルタ７５１Ａ，７５２Ａ，７５３Ａは、第２貫通孔８２２Ａ内において、当該第２貫通孔８２２Ａを閉じ、かつＺ軸方向に重なるように収容部８２３Ａに収容されてもよい。このとき、第１多孔質フィルタ７５１Ａが＋Ｚ方向側に位置し、第３多孔質フィルタ７５３Ａが−Ｚ方向側に位置してもよい。このように、ターゲット物質２７０の出力方向に沿って、貫通細孔の小さな多孔質フィルタが配置されるようにしてもよい。

第１，第２，第３多孔質フィルタ７５１Ａ，７５２Ａ，７５３Ａは、ターゲット物質２７０との反応性が低い材料で形成されてもよい。第１，第２，第３多孔質フィルタ７５１Ａ，７５２Ａ，７５３Ａを構成する材料の線熱膨張係数とターゲット生成器８Ａを構成する材料の線熱膨張係数との差は、ターゲット生成器８Ａを構成する材料の線熱膨張係数の２０％より小さくてもよい。
ターゲット物質２７０がスズの場合、ターゲット生成器８Ａは、スズとの反応性が低いモリブデンにより形成されてもよい。ターゲット生成器８Ａがモリブデンまたはタングステンにより形成されている場合、第１，第２，第３多孔質フィルタ７５１Ａ，７５２Ａ，７５３Ａは、以下の表１で示す材料のうち、いずれかの材料で形成されてもよい。モリブデンの線熱膨張係数は、５．２×１０^−６である。タングステンの線熱膨張係数は、４．６×１０^−６である。

第１，第２，第３多孔質フィルタ７５１Ａ，７５２Ａ，７５３Ａの材料は、例えば、ＳＰＧテクノ株式会社より提供されるシラス多孔質ガラス（ＳＰＧ）であってよい。ＳＰＧは火山灰シラスを原料とする多孔質ガラスであってもよい。ＳＰＧが材料として使用された場合、第１，第２，第３多孔質フィルタ７５１Ａ，７５２Ａ，７５３Ａは、略円板状に形成されてもよく、例えば、第１，第２，第３多孔質フィルタ７５１Ａ，７５２Ａ，７５３Ａの厚さ寸法であるＺ軸方向の寸法は、約３ｍｍであってもよく、第１，第２，第３多孔質フィルタ７５１Ａ，７５２Ａ，７５３Ａの直径は、約２０ｍｍであってもよい。
ＳＰＧの組成の比は、以下の表２で示す比であってもよい。

ＳＰＧが材料として使用された場合、第１，第２，第３多孔質フィルタ７５１Ａ，７５２Ａ，７５３Ａには、口径が６μｍ以上２０μｍ以下であり、かつ、様々な方向に屈曲する無数の貫通細孔が設けられ得る。

収容部８２３Ａの内部において、第１多孔質フィルタ７５１Ａの＋Ｚ方向側の第１面には、シム７５５Ａが重ねられてもよい。収容部８２３Ａの内部には、例えば、２枚のシム７５５Ａが重ねられてもよい。シム７５５Ａを複数用いる場合は、それらの厚さは同じでも異なっていてもよい。

シム７５５Ａは、ターゲット物質２７０との反応性が低い材料で形成されてもよい。第１，第２，第３多孔質フィルタ７５１Ａ，７５２Ａ，７５３Ａを構成する材料の線熱膨張係数とシム７５５Ａを構成する材料の線熱膨張係数との差は、シム７５５Ａを構成する材料の線熱膨張係数の２０％より小さくてもよい。例えば、第１，第２，第３多孔質フィルタ７５１Ａ，７５２Ａ，７５３ＡがＳＰＧによって形成されたフィルタであり、ターゲット物質２７０がスズの場合、シム７５５Ａは、モリブデンによって形成されてもよい。シム７５５Ａは、略円環板状に形成されてもよい。

第２フィルタ７６Ａは、本開示のフィルタであってもよい。第２フィルタ７６Ａは、第１フィルタ７５Ａより−Ｚ方向側において、第３貫通孔８３２Ａを閉じるように設けられてもよい。−Ｚ方向側は、ターゲット物質２７０の出力方向であってよい。第２フィルタ７６Ａは、第３多孔質フィルタ７５３Ａを通過したパーティクルおよび／または第３多孔質フィルタ７５３Ａよりターゲット物質２７０の出力方向下流で発生したパーティクルを捕集してもよい。第２フィルタ７６Ａは、図４に示すように、第１部材７７Ａと、第２部材７８Ａとを備えてもよい。

第１，第２部材７７Ａ，７８Ａは、ターゲット物質２７０との反応性が低い材料で略円板状に形成されてもよい。ターゲット物質２７０との反応性が低い材料は、ターゲット物質２７０がスズの場合、モリブデンまたはタングステンであってもよいし、表１で示す材料のうち、いずれかの材料であってもよい。例えば、第１，第２部材７７Ａ，７８Ａの厚さ寸法は、約３００μｍであってもよい。

第１部材７７Ａの中央には、Ｚ軸方向に貫通する略円形の第１貫通孔７７３Ａが設けられてもよい。例えば、第１貫通孔７７３Ａの直径は、６００μｍであってもよい。
第１部材７７Ａの＋Ｚ方向側の第１面７７１Ａには、流路７７４Ａが形成されてもよい。流路７７４Ａは、複数の溝によって構成されていてもよい。流路７７４Ａは、格子状に形成されてもよいし、放射状に形成されてもよい。図４においては、流路７７４Ａは、第１面７７１Ａに格子状に形成された溝部により構成されてもよい。流路７７４Ａは、第１部材７７Ａの第１面７７１Ａをエッチングすることにより形成されてもよい。流路７７４Ａの深さ寸法である第１面７７１Ａの直交方向の寸法は、第３多孔質フィルタ７５３Ａを通過したパーティクルの寸法より小さくてもよい。例えば、流路７７４Ａの深さ寸法は、３μｍ以下であってもよい。これにより、流路７７４Ａは、パーティクルを捕集し得る。流路７７４Ａは、第１貫通孔７７３Ａまで延びてもよい。流路７７４Ａにおける第１貫通孔７７３Ａ側の端部は、第１領域７７５Ａであってもよい。これにより、第１貫通孔７７３Ａは、第１面７７１Ａと、第１面７７１Ａと反対側の第３面７７２Ａ側の第１空間７７６Ａとの間を、流路７７４Ａの第１領域７７５Ａを介して、流体としてのターゲット物質２７０を流通させるための第１流通部を構成し得る。第１実施形態では、第１貫通孔７７３Ａは、流路７７４Ａの第１領域７７５Ａに流入するターゲット物質２７０を第１空間７７６Ａに流出させるための第１流通部を構成し得る。
第１部材７７Ａの第１面７７１Ａにおける流路７７４Ａの外側には、平面部７７７Ａが設けられてもよい。平面部７７７Ａは、流路７７４Ａを囲む円環状に設けられてもよい。平面部７７７Ａは、第１面７７１Ａにおけるエッチングされていない領域であってもよい。平面部７７７Ａおよび第３面７７２Ａは、研磨されてもよい。

第２部材７８Ａは、図４に二点鎖線で示すように、第１部材７７Ａの−Ｚ方向側から重なるように配置されてもよい。第２部材７８Ａは、第２面７８１Ａが第１部材７７Ａの流路７７４Ａの一部を覆うように配置されてもよい。
第２部材７８Ａには、Ｚ軸方向に貫通する４個の略円形の第２貫通孔７８３Ａが設けられてもよい。例えば、第２貫通孔７８３Ａの直径は、４００μｍであってもよい。第２貫通孔７８３Ａは、第２部材７８Ａの外周方向に沿って略等しい間隔で設けられてもよい。これにより、第２貫通孔７８３Ａは、第２部材７８Ａの中心に対して点対称に設けられ得る。第２貫通孔７８３Ａは、第２部材７８Ａが第１部材に重ねられて配置されたときに、第１貫通孔７７３Ａの開口内に位置しないように設けられてもよい。このとき、第２貫通孔７８３Ａの開口内に、流路７７４Ａの一部が位置してもよい。流路７７４Ａにおける第２貫通孔７８３Ａの開口内に位置する領域は、第１領域とは離間した第２領域７７８Ａであってもよい。これにより、第２貫通孔７８３Ａは、第２面７８１Ａと、第２面７８１Ａと反対側の第４面７８２Ａ側の第２空間７８４Ａとの間を、流路７７４Ａの第２領域７７８Ａを介してターゲット物質２７０を流通させるための第２流通部を構成し得る。第１実施形態では、第２貫通孔７８３Ａは、第２空間７８４Ａに存在するターゲット物質２７０を流路７７４Ａの第２領域７７８Ａに流入させるための第２流通部を構成し得る。第２面７８１Ａおよび第４面７８２Ａは、研磨されてもよい。

ターゲット制御装置７１Ａは、温度コントローラ７４４Ａに信号を送信して、ターゲット生成器８Ａ内のターゲット物質２７０の温度を制御してもよい。ターゲット制御装置７１Ａは、圧力制御部７３Ａの圧力制御器７３２Ａに信号を送信して、ターゲット生成器８Ａ内の圧力を制御してもよい。

３．２．３ 動作
３．２．３．１ フィルタの組み込み
以下において、第１フィルタ７５Ａと、第２フィルタ７６Ａとをターゲット生成器８Ａに組み込む動作について説明する。フィルタの組み込み動作は、ターゲット生成器８Ａの組み立て時や、ターゲット生成器８Ａのメンテナンス時において実行されてもよい。
まず、事前に第１貫通孔７７３Ａおよび流路７７４Ａが形成された第１部材７７Ａを製造しておいてもよい。第２貫通孔７８３Ａが形成された第２部材７８Ａを製造しておいてもよい。第１部材７７Ａおよび第２部材７８Ａは、後述する第２実施形態と同様の方法で製造されてもよい。第２部材７８Ａの第２面７８１Ａが第１部材７７Ａの流路７７４Ａを覆うように、第２部材７８Ａと、第１部材７７Ａとを配置してもよい。このとき、第１部材７７Ａと第２部材７８Ａとを拡散接合してもよい。これにより、深さ寸法が３μｍ以下の流路７７４Ａを有する第２フィルタ７６Ａが形成され得る。なお、第１実施形態においては、第１部材と第２部材との拡散接合は必須でなくともよい。

次に、ノズル基端部８２Ａの凹部８２７Ａに第２フィルタ７６Ａを挿入してもよい。この後、ノズル先端部８３Ａの凹部８３１Ａにノズル基端部８２Ａの第２凸部８２６Ａを挿入し、ボルト８３９Ａをノズル基端部８２Ａに螺合してもよい。
このようにボルト８３９Ａがノズル基端部８２Ａに螺合することによって、第２フィルタ７６Ａの第１部材７７Ａの第３面７７２Ａとノズル先端部８３Ａとの間、第２フィルタ７６Ａの第２部材７８Ａの第４面７８２Ａとノズル基端部８２Ａとの間がシールされるように、ノズル先端部８３Ａがノズル基端部８２Ａに固定され得る。第２部材７８Ａの４個の第２貫通孔７８３Ａが第２貫通孔８２２Ａの開口内に位置し、第２貫通孔８２２Ａの内部が第２空間７８４Ａとなり得る。第１部材７７Ａの第１貫通孔７７３Ａが第３貫通孔８３２Ａの＋Ｚ方向側の開口内に位置し、第３貫通孔８３２Ａの内部が第１空間７７６Ａとなり得る。

また、ノズル基端部８２Ａの収容部８２３Ａに、第１フィルタ７５Ａと、シム７５５Ａとを配置してもよい。次に、タンク本体８１１Ａの凹部８１３Ａにノズル基端部８２Ａの第１凸部８２１Ａを嵌合してもよい。その後、ボルト８２９Ａをタンク本体８１１Ａに螺合してもよい。
以上により、第１フィルタ７５Ａと、第２フィルタ７６Ａとのターゲット生成器８Ａへの組み込みが完了し得る。

３．２．３．２ ターゲット供給装置の動作
以下において、ターゲット供給装置７Ａの動作について説明する。
収容空間８１０Ａの内部に固体のターゲット物質２７０が収容されている状態において、ターゲット制御装置７１Ａは、ターゲット生成器８Ａをターゲット物質２７０の融点以上の温度に加熱してもよい。その後、ターゲット制御装置７１Ａは、ターゲット生成器８Ａ内の圧力を第１圧力に調節してもよい。
この圧力の調節によって、液体のターゲット物質２７０は、第１多孔質フィルタ７５１Ａを通過し得る。ターゲット物質２７０が第１多孔質フィルタ７５１Ａを通過するとき、当該第１多孔質フィルタ７５１Ａは、その貫通細孔の口径よりも大きいパーティクルを捕集し得る。
第１多孔質フィルタ７５１Ａを通過したターゲット物質２７０は、第２多孔質フィルタ７５２Ａを通過し得る。ターゲット物質２７０が第２多孔質フィルタ７５２Ａを通過するとき、当該第２多孔質フィルタ７５２Ａは、その貫通細孔の口径よりも大きいパーティクルを捕集し得る。
第２多孔質フィルタ７５２Ａを通過したターゲット物質２７０は、第３多孔質フィルタ７５３Ａを通過し得る。ターゲット物質２７０が第３多孔質フィルタ７５３Ａを通過するとき、当該第３多孔質フィルタ７５３Ａは、その貫通細孔の口径よりも大きいパーティクルを捕集し得る。

その後、ターゲット物質２７０は、第２フィルタ７６Ａを通過し得る。
ここで、第２フィルタ７６Ａに到達したターゲット物質２７０には、パーティクルが存在し得る。当該パーティクルは、第１，第２，第３多孔質フィルタ７５１Ａ，７５２Ａ，７５３Ａの形成時あるいはノズル基端部８２Ａへの取り付け時に、第１，第２，第３多孔質フィルタ７５１Ａ，７５２Ａ，７５３Ａに付着した、または第１，第２，第３多孔質フィルタ７５１Ａ，７５２Ａ，７５３Ａで捕集できなかったものであり得る。第２フィルタ７６Ａは、当該パーティクルを捕集し得る。

第２フィルタ７６Ａに到達したターゲット物質２７０は、第２部材７８Ａの第２貫通孔７８３Ａ内に−Ｚ方向側である矢印７１０Ａの方向から流入し得る。第２貫通孔７８３Ａ内に流入したターゲット物質２７０は、流路７７４Ａを通過し得る。このとき、流路７７４Ａは、当該流路７７４Ａの深さ寸法より大きいパーティクルを捕集し得る。その後、ターゲット物質２７０は、第１貫通孔７７３Ａを通過し、−Ｚ方向側である矢印７１０Ｂの方向へと第２フィルタ７６Ａを通過し、第３貫通孔８３２Ａ内に流入し得る。
その後、ターゲット制御装置は、ターゲット生成器８Ａ内の圧力を第２圧力に調節して、ターゲット物質２７０をドロップレット２７としてノズル孔８３３Ａから出力してもよい。

第１実施形態によれば、第２面７８１Ａが第１部材７７Ａの流路７７４Ａを覆うように第２部材７８Ａを配置するだけで、微細なパーティクルを捕集可能な第２フィルタ７６Ａを容易に製造し得る。流路７７４Ａを孔あけ加工して形成する場合と比べて、微細なパーティクルを捕集可能な流路７７４Ａを容易に形成し得る。流路７７４Ａを孔あけ加工して形成する場合と比べて、同じ形状の流路７７４Ａを安定して製造し得る。

流路７７４Ａの第１領域７７５Ａに流入するターゲット物質２７０を第１空間７７６Ａに流出させるための第１流通部を第１貫通孔７７３Ａで構成したため、第１部材７７Ａを孔あけ加工するだけの簡単な方法で第１流通部を形成し得る。

第２領域７７８Ａに存在するターゲット物質２７０を流路７７４Ａの第２領域７７８Ａに流入させるための第２流通部を第２貫通孔７８３Ａで構成したため、第２部材７８Ａを孔あけ加工するだけの簡単な方法で第２流通部を形成し得る。

流路７７４Ａを第１面７７１Ａに形成された溝部で構成しているため、エッチングなどの簡単な方法で流路７７４Ａを形成し得る。

３．３ 第２実施形態
３．３．１ 概略
本開示の第２実施形態のフィルタにおいて、第１部材は、圧延によって略板状に形成され、流路は、第１部材の圧延方向と交差する方向に延びるように形成されてもよい。

３．３．２ 構成
図５Ａは、第２実施形態に係る第２フィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。図５Ｂは、図５ＡのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。図５Ｃは、第２フィルタの流路を＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。
第２実施形態のターゲット供給装置は、第２フィルタ７６Ｂ以外の構成については、第１実施形態のターゲット供給装置７Ａと同様のものを適用してもよい。

第２フィルタ７６Ｂは、本開示のフィルタであってもよい。第２フィルタ７６Ｂは、図５Ａおよび図５Ｂに示すように、第１部材７７Ｂと、第２部材７８Ｂとを備えてもよい。

第１，第２部材７７Ｂ，７８Ｂは、ターゲット物質との反応性が低い材料で略円板状に形成されてもよい。ターゲット物質との反応性が低い材料は、ターゲット物質がスズの場合、モリブデンまたはタングステンであってもよいし、表１で示す材料のうち、いずれかの材料であってもよい。例えば、第１，第２部材７７Ｂ，７８Ｂの厚さ寸法は、約３００μｍであってもよい。また例えば、第１，第２部材７７Ｂ，７８Ｂの直径は、約５ｍｍであってもよい。

第１部材７７Ｂの中央には、Ｚ軸方向に貫通する略円形の第１貫通孔７７３Ｂが設けられてもよい。例えば、第１貫通孔７７３Ｂの直径は、９００μｍであってもよい。第１部材７７Ｂの＋Ｚ方向側の第１面７７１Ｂには、円形状に窪んだ溝部７７０Ｂが形成されてもよい。例えば、溝部７７０Ｂの直径は、２．１ｍｍであってもよい。また例えば、溝部７７０Ｂの深さ寸法は、３μｍ以下であってもよい。

溝部７７０Ｂの内部には、複数の第１スペーサ部７７４１Ｂと、複数の第２スペーサ部７７４２Ｂと、複数の第３スペーサ部７７４３Ｂとが設けられてもよい。溝部７７０Ｂと、第１，第２，第３スペーサ部７７４１Ｂ，７７４２Ｂ，７７４３Ｂとは、第１部材７７Ｂの第１面７７１Ｂをエッチングすることにより形成されてもよい。

第１スペーサ部７７４１Ｂは、第１貫通孔７７３Ｂを中心とした略円環状の領域に設けられてもよい。＋Ｚ方向から見たときの第１スペーサ部７７４１Ｂの形状は、略長方形であってもよい。＋Ｚ方向から見たときの第１スペーサ部７７４１Ｂの延びる方向は、第１部材７７Ｂの圧延方向７６０Ｂと略直交する方向であってもよい。第１スペーサ部７７４１Ｂは、圧延方向７６０Ｂに並ぶように設けられてもよい。第１スペーサ部７７４１Ｂは、第１貫通孔７７３Ｂまで延びてもよい。

第２スペーサ部７７４２Ｂは、第１スペーサ部７７４１Ｂの＋Ｘ方向側および−Ｘ方向側の領域に設けられてもよい。＋Ｚ方向から見たときの第２スペーサ部７７４２Ｂの形状は、略正方形であってもよい。第２スペーサ部７７４２Ｂは、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に点在してもよい。

第３スペーサ部７７４３Ｂは、第１スペーサ部７７４１Ｂの＋Ｙ方向側および−Ｙ方向側の領域に設けられてもよい。＋Ｚ方向から見たときの第３スペーサ部７７４３Ｂの形状は、第１貫通孔７７３Ｂ側がＸ軸方向に延びる略直線状であり、第１貫通孔７７３Ｂと反対側が略円弧状であってもよい。

溝部７７０Ｂにおける互いに隣接する第１スペーサ部７７４１Ｂの間の領域は、圧延方向７６０Ｂと略直交する方向に延びる第１流路７７４Ｂ１を構成し得る。溝部７７０Ｂにおける互いに隣接する第３スペーサ部７７４３Ｂと第１スペーサ部７７４１Ｂとの間の領域は、第１流路７７４Ｂ１を構成し得る。第１流路７７４Ｂ１は、第１貫通孔７７３Ｂの＋Ｘ方向側、−Ｘ方向側、＋Ｙ方向側および−Ｙ方向側に位置し得る。なお、第１流路７７４Ｂ１は、圧延方向７６０Ｂと略直交する方向ではなく、交差する方向に延びてもよい。第１流路７７４Ｂ１が延びる方向と、圧延方向７６０Ｂとのなす角度は、約９０°ではなく、約４５°や約６０°など約０°以外の角度であってもよい。

溝部７７０Ｂにおける互いに隣接する第２スペーサ部７７４２Ｂの間の領域は、格子状に形成された第２流路７７４Ｂ２を構成し得る。溝部７７０Ｂにおける互いに隣接する第３スペーサ部７７４３Ｂと第２スペーサ部７７４２Ｂの間の領域は、直線状に延びる第２流路７７４Ｂ２を構成し得る。

溝部７７０Ｂにおける第３スペーサ部７７４３Ｂおよび第２スペーサ部７７４２Ｂより外側の領域は、第３流路７７４Ｂ３を構成し得る。第３流路７７４Ｂ３は、第１貫通孔７７３Ｂと同心状の略円環状に形成され得る。

第１流路７７４Ｂ１と、第２流路７７４Ｂ２と、第３流路７７４Ｂ３とは、流路７７４Ｂを構成してもよい。
例えば、第１流路７７４Ｂ１および第２流路７７４Ｂ２の幅寸法は、３０μｍであってもよい。第１流路７７４Ｂ１および第２流路７７４Ｂ２の幅寸法は、異なっていてもよい。また例えば、第３流路７７４Ｂ３の幅寸法は、２００μｍであってもよい。
第１，第２，第３流路７７４Ｂ１，７７４Ｂ２，７７４Ｂ３の深さ寸法は、溝部７７０Ｂの深さ寸法と同じであってよい。第１，第２，第３流路７７４Ｂ１，７７４Ｂ２，７７４Ｂ３の深さ寸法は、第１面７７１Ｂに直交する方向の寸法であってよい。第１，第２，第３流路７７４Ｂ１，７７４Ｂ２，７７４Ｂ３の深さ寸法は、第３多孔質フィルタ７５３Ａを通過したパーティクルの寸法より小さくなり得る。これにより、流路７７４Ｂは、パーティクルを捕集し得る。

流路７７４Ｂにおける第１流路７７４Ｂ１の第１貫通孔７７３Ｂ側の端部は、第１領域７７５Ｂであってもよい。これにより、図５Ｂに示すように、第１貫通孔７７３Ｂは、第１面７７１Ｂと、第１面７７１Ｂと反対側の第３面７７２Ｂ側の第１空間７７６Ｂとの間を、流路７７４Ｂの第１領域７７５Ｂを介して流体としてのターゲット物質を流通させるための第１流通部を構成し得る。第２実施形態では、第１貫通孔７７３Ｂは、流路７７４Ｂの第１領域７７５Ｂに流入するターゲット物質を第１空間７７６Ｂに流出させるための第１流通部を構成し得る。
第１部材７７Ｂの第１面７７１Ｂにおける流路７７４Ｂの外側には、平面部７７７Ｂが設けられてもよい。平面部７７７Ｂは、流路７７４Ｂを囲む円環状に設けられてもよい。平面部７７７Ｂは、第１面７７１Ｂにおけるエッチングされていない領域であってもよい。平面部７７７Ｂおよび第３面７７２Ｂは、研磨されてもよい。

第２部材７８Ｂは、図５Ａおよび図５Ｂに示すように、第１部材７７Ｂに重なるように配置されてもよい。第２部材７８Ｂは、第２面７８１Ｂが第１部材７７Ｂの流路７７４Ｂを覆うように配置されてもよい。
第２部材７８Ｂには、Ｚ軸方向に貫通する８個の略円形の第２貫通孔７８３Ｂが設けられてもよい。例えば、第２貫通孔７８３Ｂの直径は、４０μｍであってもよい。第２貫通孔７８３Ｂは、第２部材７８Ｂの外周方向に沿って略等しい間隔で設けられてもよい。これにより、第２貫通孔７８３Ｂは、第２部材７８Ｂの中心に対して点対称に設けられ得る。第２貫通孔７８３Ｂは、第２部材７８Ｂが第１部材７７Ｂに重ねられて配置されたときに、第１貫通孔７７３Ｂの開口内に位置しないように設けられてもよい。このとき、第２貫通孔７８３Ｂの開口内に、流路７７４Ｂの一部が位置してもよい。第２貫通孔７８３Ｂの開口内に位置する流路７７４Ｂの一部は、第２領域７７８Ｂであってもよい。第２領域７７８Ｂは、第３流路７７４Ｂ３を含んでもよい。これにより、第２貫通孔７８３Ｂは、第２面７８１Ｂと、第２面７８１Ｂと反対側の第４面７８２Ｂ側の第２空間７８４Ｂとの間を、流路７７４Ｂの第２領域７７８Ｂを介して、ターゲット物質を流通させるための第２流通部を構成し得る。第２実施形態では、第２貫通孔７８３Ｂは、第２空間７８４Ｂに存在するターゲット物質を流路７７４Ｂの第２領域７７８Ｂに流入させるための第２流通部を構成し得る。第２面７８１Ｂおよび第４面７８２Ｂは、研磨されてもよい。

３．３．３ 動作
次に、フィルタの製造方法、フィルタの組み込み、およびターゲット供給装置の動作について説明する。
以下において、第１実施形態と同様の動作については、説明を省略する。

３．３．３．１ フィルタの製造方法とフィルタの組み込み
図６は、第１部材の製造方法を概略的に示す。図７は、第２部材の製造方法を概略的に示す。まず、第１部材７７Ｂの製造方法について説明する。
図６に示すように、モリブデンで形成されたプレート１００Ｂを準備してもよい。プレート１００Ｂは、バルク状のモリブデンが圧延されることにより形成されてもよい。図６における上下方向が、プレート１００Ｂの圧延方向７６０Ｂと略一致してもよい。例えば、プレート１００Ｂは、１００ｍｍ四方の正方形であってもよい。
プレート１００Ｂの第１面１０１Ｂに、流路７７４Ｂを形成するためのマスキングを設けてもよい。マスキングは、複数の第１部材７７Ｂの流路７７４Ｂを形成できるように構成されてもよい。ウェットエッチング法により、プレート１００Ｂの第１面１０１Ｂをエッチングしてもよい。これにより、第１面１０１Ｂには、図５Ｃにおける第１流路７７４Ｂ１が形成され、複数の流路７７４Ｂが形成され得る。流路７７４Ｂの略中央には、十字状のマーカ１０２Ｂが形成され得る。
プレート１００Ｂから複数の第１部材７７Ｂを切り出してもよい。第１部材７７Ｂの略中央に孔あけ加工を施すことで、第１貫通孔７７３Ｂを形成してもよい。このとき、マーカ１０２Ｂを目印にして孔あけ加工を施してもよい。
第１部材７７Ｂの両面を研磨し、洗浄してもよい。以上により、第１部材７７Ｂの製造が完了し得る。第１部材７７Ｂの両面研磨は、エッチングおよび孔あけ加工に先立って行ってもよい。また、孔あけ加工はエッチングに先立って行ってもよい。

ここで、流路７７４Ｂの第１流路７７４Ｂ１は、圧延方向７６０Ｂと略直交する方向に延び得る。プレート１００Ｂをウェットエッチング法でエッチングすると、プレート１００Ｂの圧延方向７６０Ｂに依存する組織によってエッチングされた面の面荒れを起こし得る。この面荒れにより、第１流路７７４Ｂ１の底面部には、圧延方向７６０Ｂに沿って延びる微細な溝が形成され得る。第１流路７７４Ｂ１における微細な溝が形成された部分の深さ寸法は、微細な溝が形成されていない部分の深さ寸法より大きくなり得る。
第１流路７７４Ｂ１が延びる方向が圧延方向７６０Ｂと平行な場合、第１流路７７４Ｂ１が延びる方向に沿って底面部の微細な溝が連続的に形成され得る。これにより、第１流路７７４Ｂ１における微細な溝が形成されていない部分で捕集し得るパーティクルが、微細な溝が形成された部分を通過し、第１貫通孔７７３Ａに流入し得る。
第１流路７７４Ｂ１が延びる方向が圧延方向７６０Ｂと略直交する場合、または、交差する場合、微細な溝が底面部の幅方向の一方側から他方側に延びるため、第１流路７７４Ｂ１が延びる方向に沿って、底面部の微細な溝が連続的に設けられることを抑制し得る。これにより、第１流路７７４Ｂ１における微細な溝が形成されていない部分で捕集し得るパーティクルが、第１貫通孔７７３Ａに流入することを抑制し得る。

第２部材７８Ｂの製造方法について説明する。
まず、図７に示すように、モリブデンで形成されたプレート１１０Ｂを準備してもよい。プレート１１０Ｂは、プレート１００Ｂと同様の方法により形成されてもよい。例えば、プレート１１０Ｂは、１００ｍｍ四方の正方形であってもよい。
プレート１１０Ｂから複数の第２部材７８Ｂを切り出してもよい。第２部材７８Ｂの複数箇所に、孔あけ加工を施すことで、第２貫通孔７８３Ｂを形成してもよい。
第２部材７８Ｂの両面を研磨し、洗浄してもよい。以上により、第２部材７８Ｂの製造が完了し得る。

第２フィルタ７６Ｂの製造方法について説明する。
第２部材７８Ｂの第２面７８１Ｂが第１部材７７Ｂの流路７７４Ｂを覆うように、第２部材７８Ｂを第１部材７７Ｂ上に配置してもよい。このとき、第１部材７７Ｂと第２部材７８Ｂとを拡散接合してもよい。これにより、深さ寸法が３μｍ以下の流路７７４Ｂを有する第２フィルタ７６Ｂが製造され得る。このとき、第２貫通孔７８３Ｂが第２部材７８Ｂの中心を中心に点対称に設けられているため、第１部材７７Ｂに対する第２部材７８Ｂの配置位置が回転方向にずれても、第２貫通孔７８３Ｂの開口内に第３流路７７４Ｂ３が位置し、ターゲット物質が第２フィルタ７６Ｂを流通し得る。第１，第２面７７１Ｂ，７８１Ｂを研磨しているため、第１面７７１Ｂと第２面７８１Ｂとの隙間が小さくなり得る。なお、第２実施形態においては、第１部材と第２部材との拡散接合は必須でなくともよい。

次に、第２フィルタ７６Ｂのターゲット生成器８Ａへの組み込みについて説明する。
ノズル基端部８２Ａとノズル先端部８３Ａとの間に第２フィルタ７６Ｂを取り付けてもよい。
これにより、第２部材７８Ｂの８個の第２貫通孔７８３Ｂが第２貫通孔８２２Ａの開口内に位置し、第２貫通孔８２２Ａの内部が第２空間７８４Ｂとなり得る。第１部材７７Ｂの第１貫通孔７７３Ｂが第３貫通孔８３２Ａの＋Ｚ方向側の開口内に位置し、第３貫通孔８３２Ａの内部が第１空間７７６Ｂとなり得る。

３．３．３．２ ターゲット供給装置の動作
ターゲット生成器８Ａがターゲット物質の融点以上の温度に加熱されている状態で、当該ターゲット生成器８Ａ内の圧力が調節されると、パーティクルが第１フィルタ７５Ａで捕集されたターゲット物質が、第２フィルタ７６Ｂを通過し得る。
第２フィルタ７６Ｂに到達したターゲット物質は、第２部材７８Ｂの第２貫通孔７８３Ｂ内に流入し得る。第２貫通孔７８３Ｂ内に流入したターゲット物質は、流路７７４Ｂを第３流路７７４Ｂ３、第２流路７７４Ｂ２、第１流路７７４Ｂ１の順序で通過し得る。このとき、流路７７４Ｂは、当該流路７７４Ｂの深さ寸法より大きいパーティクルを捕集し得る。第１，第２，第３スペーサ部７７４１Ｂ，７７４２Ｂ，７７４３Ｂの上端が第２面７８１Ｂに当接するため、第４面７８２Ｂに圧力がかかっても、流路７７４Ｂがつぶされることが抑制され得る。その後、ターゲット物質は、第１貫通孔７７３Ｂを通過し、第３貫通孔８３２Ａ内に流入し得る。

上述のように、第２実施形態によれば、第１流路７７４Ｂ１が延びる方向を圧延方向７６０Ｂと略直交する方向、または、交差する方向に設定しているため、圧延方向７６０Ｂと平行な方向に設定する場合と比べて、微細なパーティクルを捕集し得る。

３．４ 第３実施形態
３．４．１ 構成
図８Ａは、第３実施形態に係る第２フィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。図８Ｂは、図８ＡのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。図８Ｃは、第２フィルタの流路を＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。
第３実施形態のターゲット供給装置は、第２フィルタ７６Ｃ以外の構成については、第１実施形態のターゲット供給装置７Ａと同様のものを適用してもよい。

第２フィルタ７６Ｃは、本開示のフィルタであってもよい。第２フィルタ７６Ｃは、図８Ａおよび図８Ｂに示すように、第１部材７７Ｃと、第２部材７８Ｂとを備えてもよい。

第１部材７７Ｃは、第１部材７７Ｂと同様に、ターゲット物質との反応性が低い材料で略円板状に形成されてもよい。第１部材７７Ｃの厚さ寸法は、例えば約３００μｍであってもよい。第１部材７７Ｃの直径は、例えば約５ｍｍであってもよい。

第１部材７７Ｃの中央には、上下方向に貫通する略円形の第１貫通孔７７３Ｃが設けられてもよい。第１貫通孔７７３Ｃの直径は、例えば６００μｍであってもよい。第１部材７７Ｃの＋Ｚ方向側の第１面７７１Ｃには、第１溝部７７０Ｃ１と、第２溝部７７０Ｃ２とが形成されてもよい。第１溝部７７０Ｃ１は、例えば直径が２．６ｍｍの円形状であってもよい。第２溝部７７０Ｃ２は、第１溝部７７０Ｃ１の外縁から放射状に延びるように設けられてもよい。第２溝部７７０Ｃ２は、第１溝部７７０Ｃ１の外周方向に沿って略等しい間隔で設けられてもよい。第１，第２溝部７７０Ｃ１，７７０Ｃ２の深さ寸法は、例えば３μｍ以下であってもよい。

第１溝部７７０Ｃ１の内部には、複数の第１スペーサ部７７４１Ｃと、複数の第２スペーサ部７７４２Ｃとが設けられてもよい。第１，第２溝部７７０Ｃ１，７７０Ｃ２と、第１，第２スペーサ部７７４１Ｃ，７７４２Ｃとは、第１部材７７Ｃの第１面７７１Ｃをエッチングすることにより形成されてもよい。

第１スペーサ部７７４１Ｃは、第１貫通孔７７３Ｃを中心とした略円環状の領域に設けられてもよい。第１スペーサ部７７４１Ｃは、第１貫通孔７７３Ｃから所定距離離れた位置から放射状に延びるように設けられてもよい。第１スペーサ部７７４１Ｃは、第１貫通孔７７３Ｃの外周方向に沿って略等しい間隔で設けられてもよい。

第２スペーサ部７７４２Ｃは、第１スペーサ部７７４１Ｃを囲む略円環状の領域に設けられてもよい。第２スペーサ部７７４２Ｃは、第１スペーサ部７７４１Ｃから所定距離離れた位置から放射状に延びるように設けられてもよい。第２スペーサ部７７４２Ｃは、第１貫通孔７７３Ｃの外周方向に沿って略等しい間隔で設けられてもよい。

第１溝部７７０Ｃ１における第１スペーサ部７７４１Ｃより第１貫通孔７７３Ｃ側の略円環状の領域は、第１流路７７４Ｃ１を構成し得る。第１溝部７７０Ｃ１における互いに隣接する第１スペーサ部７７４１Ｃの間の領域は、放射状の第２流路７７４Ｃ２を構成し得る。第１溝部７７０Ｃ１における互いに隣接する第１スペーサ部７７４１Ｃと第２スペーサ部７７４２Ｃとの間の領域は、略円形状の第３流路７７４Ｃ３を構成し得る。第１溝部７７０Ｃ１における互いに隣接する第２スペーサ部７７４２Ｃの間の領域は、放射状の第４流路７７４Ｃ４を構成し得る。第１溝部７７０Ｃ１における第２スペーサ部７７４２Ｃより外側の略円環状の領域は、第５流路７７４Ｃ５を構成し得る。

第２溝部７７０Ｃ２と、第１流路７７４Ｃ１と、第２流路７７４Ｃ２と、第３流路７７４Ｃ３と、第４流路７７４Ｃ４と、第５流路７７４Ｃ５とは、流路７７４Ｃを構成してもよい。
第２溝部７７０Ｃ２の幅寸法は、例えば７０μｍ〜１００μｍであってもよい。第１流路７７４Ｃ１の幅寸法は、例えば１５０μｍであってもよい。第２，第３流路７７４Ｃ２，７７４Ｃ３の幅寸法は、例えば１０μｍであってもよい。第４流路７７４Ｃ４の幅寸法は、例えば４０μｍ〜６０μｍであってもよい。第５流路７７４Ｃ５の幅寸法は、例えば１００μｍであってもよい。
第２溝部７７０Ｃ２の深さ寸法と、第１〜第５流路７７４Ｃ１〜７７４Ｃ５の深さ寸法は、第１溝部７７０Ｃ１の深さ寸法と同じであってよい。第１〜第５流路７７４Ｃ１〜７７４Ｃ５の深さ寸法は、第３多孔質フィルタ７５３Ａを通過したパーティクルの寸法より小さくなり得る。これにより、流路７７４Ｃは、微細なパーティクルを捕集し得る。

流路７７４Ｃにおける第１流路７７４Ｃ１は、第１領域７７５Ｃであってもよい。これにより、図８Ｃに示すように、第１貫通孔７７３Ｃは、第１面７７１Ｃと、第１面７７１Ｃと反対側の第３面７７２Ｃ側の第１空間７７６Ｃとの間を、流路７７４Ｃの第１領域７７５Ｃを介して流体としてのターゲット物質を流通させるための第１流通部を構成し得る。第３実施形態では、第１貫通孔７７３Ｃは、流路７７４Ｃの第１領域７７５Ｃに流入するターゲット物質を第１空間７７６Ｃに流出させるための第１流通部を構成し得る。
第１部材７７Ｃの第１面７７１Ｃにおける流路７７４Ｃの外側には、図８Ｃに示すように、平面部７７７Ｃが設けられてもよい。平面部７７７Ｃは、円環状の部分と、当該円環状の内縁から放射状に延びる部分とで構成されてもよい。平面部７７７Ｃは、第１面７７１Ｃにおけるエッチングされていない領域であってもよい。平面部７７７Ｃおよび第３面７７２Ｃは、研磨されてもよい。

第２部材７８Ｂの第２貫通孔７８３Ｂは、第２部材７８Ｂが第１部材７７Ｃ上に配置されたときに、第１貫通孔７７３Ｃの開口内に位置しないように設けられてもよい。このとき、第２貫通孔７８３Ｂの開口内に、流路７７４Ｃの一部が位置してもよい。第２貫通孔７８３Ｂの開口内に位置する流路７７４Ｃの一部は、第２領域７７８Ｃであってもよい。第２領域７７８Ｃは、第２溝部７７０Ｃ２、第４，第５流路７７４Ｃ４，７７４Ｃ５の一部を含んでもよい。これにより、第２貫通孔７８３Ｂは、第２面７８１Ｂと、第２面７８１Ｂと反対側の第４面７８２Ｂ側の第２空間７８４Ｂとの間を、流路７７４Ｃの第２領域７７８Ｃを介してターゲット物質を流通させるための第２流通部を構成し得る。第３実施形態では、第２貫通孔７８３Ｂは、第２実施形態と同様の第２流通部を構成し得る。

３．４．２ 動作
次に、フィルタの製造方法、フィルタの組み込みおよびターゲット生成器の動作について説明する。
以下において、第１実施形態および第２実施形態と同様の動作については、説明を省略する。

３．４．２．１ フィルタの製造方法とフィルタの組み込み
まず、第１貫通孔７７３Ｃおよび流路７７４Ｃが形成された第１部材７７Ｃと、第２貫通孔７８３Ｂが形成された第２部材７８Ｂを製造してもよい。第１部材７７Ｃは、ウェットエッチング法の代わりにドライエッチング法を用いること以外は、第１部材７７Ｂと同様の方法で製造されてもよい。第２部材７８Ｂの第２面７８１Ｂが第１部材７７Ｃの流路７７４Ｃを覆うように、第２部材７８Ｂを第１部材７７Ｃに重ねて配置してもよい。このとき、第１部材７７Ｃと第２部材７８Ｂとを拡散接合してもよい。これにより、深さ寸法が３μｍ以下の流路７７４Ｃを有する第２フィルタ７６Ｃが形成され得る。このとき、第２貫通孔７８３Ｂが第２部材７８Ｂの中心を中心に点対称に設けられているため、第１部材７７Ｃに対する第２部材７８Ｂの配置位置が回転方向にずれても、第２貫通孔７８３Ｂの開口内に第２溝部７７０Ｃ２、第４，第５流路７７４Ｃ４，７７４Ｃ５の一部が位置し、ターゲット物質が第２フィルタ７６Ｃを流通し得る。第１，第２面７７１Ｃ，７８１Ｂを研磨しているため、第１面７７１Ｃと第２面７８１Ｂとの隙間が小さくなり得る。なお、第３実施形態においては、第１部材と第２部材との拡散接合は必須でなくともよい。

次に、第２フィルタ７６Ｃのターゲット生成器８Ａへの組み込みについて説明する。ノズル基端部８２Ａとノズル先端部８３Ａとの間に第２フィルタ７６Ｃを取り付けてもよい。
これにより、第２部材７８Ｂの８個の第２貫通孔７８３Ｂが第２貫通孔８２２Ａの開口内に位置し、第２貫通孔８２２Ａの内部が第２空間７８４Ｂとなり得る。第１部材７７Ｃの第１貫通孔７７３Ｃが第３貫通孔８３２Ａの＋Ｚ方向側の開口内に位置し、第３貫通孔８３２Ａの内部が第１空間７７６Ｃとなり得る。

３．４．２．２ ターゲット供給装置の動作
ターゲット生成器８Ａがターゲット物質の融点以上の温度に加熱されている状態で、当該ターゲット生成器８Ａ内の圧力が調節されると、パーティクルが第１フィルタ７５Ａで捕集されたターゲット物質が、第２フィルタ７６Ｃを通過し得る。
第２フィルタ７６Ｃに到達したターゲット物質は、第２部材７８Ｂの第２貫通孔７８３Ｂ内に流入し得る。第２貫通孔７８３Ｂ内に流入したターゲット物質は、流路７７４Ｃを第２溝部７７０Ｃ２、第５流路７７４Ｃ５、第４流路７７４Ｃ４、第３流路７７４Ｃ３、第２流路７７４Ｃ２、第１流路７７４Ｃ１の順序で通過し得る。このとき、流路７７４Ｃは、当該流路７７４Ｃの深さ寸法より大きいパーティクルを捕集し得る。第１，第２スペーサ部７７４１Ｃ，７７４２Ｃの上端が第２面７８１Ｂに当接するため、第４面７８２Ｂに圧力がかかっても、流路７７４Ｃがつぶされることが抑制され得る。その後、ターゲット物質は、第１貫通孔７７３Ｃを通過し、第３貫通孔８３２Ａ内に流入し得る。

３．５ 第４実施形態
３．５．１ 概略
本開示の第４実施形態のフィルタにおいて、第１面には、柱状のスペーサが配置され、流路は、互いに隣接するスペーサの間の領域で構成されてもよい。
本開示の第４実施形態のフィルタにおいて、第１部材は、第１面の一部が第２面からはみ出すように配置され、流路は、第２部材の外縁に対応する位置まで形成され、第２流通部は、第２面からはみ出した第１面の一部と第２部材の外縁とに面する側方空間で構成されてもよい。

３．５．２ 構成
図９Ａは、第４実施形態に係る第２フィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。図９Ｂは、図９ＡのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。
第４実施形態のターゲット供給装置は、第２フィルタ７６Ｄ以外の構成については、第１実施形態のターゲット供給装置７Ａと同様のものを適用してもよい。

第２フィルタ７６Ｄは、本開示のフィルタであってもよい。第２フィルタ７６Ｄは、図９Ａおよび図９Ｂに示すように、第１部材７７Ｄと、第２部材７８Ｄとを備えてもよい。

第１，第２部材７７Ｄ，７８Ｄは、ターゲット物質との反応性が低い材料で略円板状に形成されてもよい。第１，第２部材７７Ｄ、７８Ｄの厚さ寸法は、例えば約３００μｍであってもよい。

第１部材７７Ｄの直径は、例えば約５ｍｍであってもよい。第１部材７７Ｄの中央には、上下方向に貫通する略円形の第１貫通孔７７３Ｄが設けられてもよい。第１部材７７Ｄの＋Ｚ方向側の第１面７７１Ｄには、複数のスペーサ７７４１Ｄが配置されてもよい。スペーサ７７４１Ｄは、柱状であってもよい。スペーサ７７４１Ｄは、第１部材７７Ｄと別体で構成されてもよいし、第１部材７７Ｄと一体的に構成されてもよい。スペーサ７７４１Ｄは、第１貫通孔７７３Ｄを中心とした略円環状の領域に点在してもよい。

第１部材７７Ｄの第１面７７１Ｄ上の互いに隣接するスペーサ７７４１Ｄの間の領域は、流路７７４Ｄを構成し得る。流路７７４Ｄの幅寸法は、例えば１０μｍ〜１５０μｍであってもよい。流路７７４Ｄの深さ寸法は、例えば３μｍ以下であってもよい。これにより、流路７７４Ｄは、微細なパーティクルを捕集し得る。第１面７７１Ｄおよび第３面７７２Ｄは、研磨されてもよい。

第２部材７８Ｄの直径は、第１部材７７Ｄの直径より小さくてもよい。これにより、第１部材７７Ｄは、第１面７７１Ｄの一部が第２面７８１Ｄからはみ出すように配置され得る。第２部材７８Ｄは、第１部材７７Ｄのスペーサ７７４１Ｄに重ねられて配置されたときに、複数のスペーサ７７４１Ｄが−Ｚ方向側の第２面７８１Ｄに接触するように設けられてもよい。

流路７７４Ｄにおける第１貫通孔７７３Ｄ側の端部は、第１領域７７５Ｄであってもよい。これにより、図９Ｂに示すように、第１貫通孔７７３Ｄは、第１面７７１Ｄと、第１面７７１Ｄと反対側の第３面７７２Ｄ側の第１空間７７６Ｄとの間を、流路７７４Ｄの第１領域７７５Ｄを介して流体としてのターゲット物質を流通させるための第１流通部を構成し得る。第４実施形態では、第１貫通孔７７３Ｄは、流路７７４Ｄの第１領域７７５Ｄに流入するターゲット物質を第１空間７７６Ｄに流出させるための第１流通部を構成し得る。
流路７７４Ｄにおける第２部材７８Ｄの外縁側の端部は、第２領域７７８Ｄであってもよい。これにより、第１面７７１Ｄにおける第２面７８１Ｄの外側にはみ出した部分と、第２部材７８Ｄの外縁とに面する側方空間７６２Ｄは、第２面７８１Ｄと、第２面７８１Ｄと反対側の第４面７８２Ｄ側の第２空間７８４Ｄとの間を、流路７７４Ｄの第２領域７７８Ｄを介してターゲット物質を流通させるための第２流通部を構成し得る。第４実施形態では、側方空間７６２Ｄは、第２空間７８４Ｄに存在するターゲット物質を流路７７４Ｄの第２領域７７８Ｄに流入させるための第２流通部を構成し得る。第２面７８１Ｄおよび第４面７８２Ｄは、研磨されてもよい。

３．５．３ 動作
次に、フィルタの製造方法、フィルタの組み込みおよびターゲット生成器の動作について説明する。
以下において、第１実施形態および第２実施形態と同様の動作については、説明を省略する。

３．５．３．１ フィルタの製造方法とフィルタの組み込み
まず、第１貫通孔７７３Ｄが形成された第１部材７７Ｄを製造してもよい。第１部材７７Ｄの第１面７７１Ｄにスペーサ７７４１Ｄを配置することで、流路７７４Ｄを形成してもよい。第２部材７８Ｄを製造してもよい。第２部材７８Ｄの第２面７８１Ｄが第１部材７７Ｄの流路７７４Ｄを覆うように、第２部材７８Ｄを第１部材７７Ｄに重ねられて配置してもよい。このとき、第１部材７７Ｄと第２部材７８Ｄとを拡散接合してもよい。これにより、深さ寸法が例えば３μｍ以下の流路７７４Ｄを有する第２フィルタ７６Ｄが形成され得る。

次に、第２フィルタ７６Ｄのターゲット生成器８Ａへの組み込みについて説明する。ノズル基端部８２Ａとノズル先端部８３Ａの間に第２フィルタ７６Ｄを取り付けてもよい。
これにより、第２フィルタ７６Ｄの側方空間７６２Ｄが第２貫通孔８２２Ａの開口内に位置し、第２貫通孔８２２Ａの内部が第２空間７８４Ｄとなり得る。第１部材７７Ｄの第１貫通孔７７３Ｄが第３貫通孔８３２Ａの＋Ｚ方向側の開口内に位置し、第３貫通孔８３２Ａの内部が第１空間７７６Ｄとなり得る。

３．５．３．２ ターゲット供給装置の動作
ターゲット生成器８Ａがターゲット物質の融点以上の温度に加熱されている状態で、当該ターゲット生成器８Ａ内の圧力が調節されると、パーティクルが第１フィルタ７５Ａで捕集されたターゲット物質が、第２フィルタ７６Ｄを通過し得る。
第２フィルタ７６Ｄに到達したターゲット物質は、側方空間７６２Ｄを介して流路７７４Ｄ内に流入し得る。このとき、流路７７４Ｄは、当該流路７７４Ｄの深さ寸法より大きいパーティクルを捕集し得る。スペーサ７７４１Ｄの上端が第２面７８１Ｄに当接するため、第４面７８２Ｄに圧力がかかっても、流路７７４Ｄがつぶされることが抑制され得る。その後、ターゲット物質は、第１貫通孔７７３Ｄを通過し、第３貫通孔８３２Ａ内に流入し得る。

第４実施形態によれば、互いに隣接するスペーサ７７４１Ｄの間の領域で流路７７４Ｄを構成したため、第１部材７７Ｄを孔あけ加工することなく流路７７４Ｄを容易に形成し得る。

第２流通部を、第１面７７１Ｄにおける第２面７８１Ｄの外側にはみ出した部分と、第２部材７８Ｄの外縁とに面する側方空間７６２Ｄで構成したため、第２部材７８Ｄを孔あけ加工することなく第２流通部を容易に形成し得る。

３．６ 第５実施形態
３．６．１ 概略
本開示の第５実施形態のフィルタにおいて、第２貫通孔は、第２部材の略中心を貫通するように形成されてもよい。
本開示の第５実施形態のフィルタにおいて、第２部材は、第２面の一部が第１面からはみ出すように配置され、流路は、第１部材の外縁まで形成され、第１流通部は、第１面からはみ出した第２面の一部と第１部材の外縁とに面する側方空間で構成されてもよい。

３．６．２ 構成
図１０Ａは、第５実施形態に係る第２フィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。図１０Ｂは、図１０ＡのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。
第５実施形態のターゲット供給装置は、第２フィルタ７６Ｅ以外の構成については、第１実施形態のターゲット供給装置７Ａと同様のものを適用してもよい。

第２フィルタ７６Ｄは、本開示のフィルタであってもよい。第２フィルタ７６Ｅは、図１０Ａおよび図１０Ｂに示すように、第１部材７７Ｅと、第２部材７８Ｅとを備えてもよい。第１部材７７Ｅおよび第２部材７８Ｅは、略円板状に形成されてもよい。
第１部材７７Ｅの−Ｚ方向側の第１面７７１Ｅには、複数の流路７７４Ｅが形成されてもよい。流路７７４Ｅは、第１面７７１Ｅに形成された溝部で構成されてもよい。流路７７４Ｅは、第１部材７７Ｅの外縁と後述する貫通孔７８３Ｅとを連通するように設けられてもよい。流路７７４Ｅは、放射状に設けられてもよい。流路７７４Ｅの深さ寸法は、例えば３μｍ以下であってもよい。これにより、流路７７４Ｅは、パーティクルを捕集し得る。
第２部材７８Ｅの直径は、第１部材７７Ｅの直径より大きくてもよい。これにより、第２部材７８Ｅは、第２面７８１Ｅの一部が第１面７７１Ｅからはみ出すように配置され得る。第２部材７８Ｅは、第１部材７７Ｅの下側に重なるように配置されてもよい。第２部材７８Ｅは、第２面７８１Ｅが流路７７４Ｅを覆うように配置されてもよい。第２部材７８Ｅの中央には、略円形の貫通孔７８３Ｅが設けられてもよい。貫通孔７８３Ｅは、本開示の第２貫通孔であってもよい。

流路７７４Ｅにおける第２部材７８Ｅの外縁側の端部は、第１領域７７５Ｅであってもよい。これにより、第２面７８１Ｅにおける第１面７７１Ｅの外側にはみ出した部分と、第１部材７７Ｅの外縁とに面する側方空間７６１Ｅは、第１面７７１Ｅと、第１面７７１Ｅと反対側の第３面７７２Ｅ側の第１空間７７６Ｅとの間を、流路７７４Ｅの第１領域７７５Ｅを介してターゲット物質を流通させるための第１流通部を構成し得る。第５実施形態では、側方空間７６１Ｅは、第１空間７７６Ｅに存在するターゲット物質を流路７７４Ｅの第１領域７７５Ｅに流入させるための第１流通部を構成し得る。
流路７７４Ｅにおける貫通孔７８３Ｅ側の端部は、第２領域７７８Ｅであってもよい。これにより、貫通孔７８３Ｅは、第２面７８１Ｅと、第２面７８１Ｅと反対側の第４面７８２Ｅ側の第２空間７８４Ｅとの間を、流路７７４Ｅの第２領域７７８Ｅを介してターゲット物質を流通させるための第２流通部を構成し得る。第５実施形態では、貫通孔７８３Ｅは、流路７７４Ｅの第２領域７７８Ｅに流入するターゲット物質を第２空間７８４Ｅに流出させるための第２流通部を構成し得る。

３．６．３ 動作
次に、フィルタの製造方法、フィルタの組み込み及びターゲット生成器の動作について説明する。
以下において、第１実施形態および第２実施形態と同様の動作については、説明を省略する。

３．６．３．１ フィルタの製造方法とフィルタの組み込み
まず、流路７７４Ｅが形成された第１部材７７Ｅを製造してもよい。貫通孔７８３Ｅが形成された第２部材７８Ｅを製造してもよい。第２部材７８Ｅの第２面７８１Ｅが第１部材７７Ｅの流路７７４Ｅを覆うように、第１部材７７Ｅを第２部材７８Ｅに重ねられて配置してもよい。このとき、第１部材７７Ｅと第２部材７８Ｅとを拡散接合してもよい。これにより、深さ寸法が例えば３μｍ以下の流路７７４Ｅを有する第２フィルタ７６Ｅが形成され得る。

次に、第２フィルタ７６Eのターゲット生成器８Ａへの組み込みについて説明する。ノズル基端部８２Ａとノズル先端部８３Ａの間に第２フィルタ７６Ｅを取り付けてもよい。
これにより、第２フィルタ７６Ｅの側方空間７６１Ｅが第２貫通孔８２２Ａの開口内に位置し、第２貫通孔８２２Ａの内部が第１空間７７６Ｅとなり得る。第２部材７８Ｅの貫通孔７８３Ｅが第３貫通孔８３２Ａの＋Ｚ方向側の開口内に位置し、第３貫通孔８３２Ａの内部が第２空間７８４Ｅとなり得る。

３．６．３．２ ターゲット供給装置の動作
ターゲット生成器８Ａがターゲット物質の融点以上の温度に加熱されている状態で、当該ターゲット生成器８Ａ内の圧力が調節されると、パーティクルが第１フィルタ７５Ａで捕集されたターゲット物質が、第２フィルタ７６Ｅを通過し得る。
第２フィルタ７６Ｅに到達したターゲット物質は、側方空間７６１Ｅを介して流路７７４Ｅ内に流入し得る。このとき、流路７７４Ｅは、当該流路７７４Ｅの深さ寸法より大きいパーティクルを捕集し得る。その後、ターゲット物質は、貫通孔７８３Ｅを通過し、第３貫通孔８３２Ａ内に流入し得る。

第５実施形態によれば、第１流通部を、第２面７８１Ｅにおける第１面７７１Ｅの外側にはみ出した部分と、第１部材７７Ｅの外縁とに面する側方空間７６１Ｅで構成したため、第１部材７７Ｅを孔あけ加工することなく第１流通部を容易に形成し得る。

３．７ 第６実施形態
３．７．１ 概略
本開示の第６実施形態のフィルタにおいて、第１部材は、第１板状部材と、第１板状部材と重ねて配置された第２板状部材とから構成され、流路は、第２板状部材を貫通する第３貫通孔により構成されてもよい。

３．７．２ 構成
図１１Ａは、第６実施形態に係る第２フィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。図１１Ｂは、図１１ＡのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。図１１Ｃは、第２フィルタの流路の変形例を概略的に示す。
第６実施形態のターゲット供給装置は、第２フィルタ７６Ｆ以外の構成については、第１実施形態のターゲット供給装置７Ａと同様のものを適用してもよい。

第２フィルタ７６Ｆは、本開示のフィルタであってもよい。第２フィルタ７６Ｆは、図１１Ａおよび図１１Ｂに示すように、第１部材７７Ｆと、第２部材７８Ｆとを備えてもよい。

第１，第２部材７７Ｆ，７８Ｆは、ターゲット物質との反応性が低い材料で略円板状に形成されてもよい。第１，第２部材７７Ｆ，７８Ｆの厚さ寸法は、例えば約３００μｍであってもよい。第１，第２部材７７Ｆ，７８Ｆの直径は、例えば約５ｍｍであってもよい。

第１部材７７Ｆは、第１板状部材７７Ｆ１と、第２板状部材７７Ｆ２とを備えてもよい。
第１板状部材７７Ｆ１の厚さ寸法は、第２部材７８Ｆの厚さ寸法より小さくてもよい。第１板状部材７７Ｆ１の中央には、上下方向に貫通する第１貫通孔７７３Ｆが設けられてもよい。
第２板状部材７７Ｆ２の厚さ寸法は、例えば３μｍ以下であってもよい。第２板状部材７７Ｆ２には、上下方向に貫通するスリット状の例えば８個の第３貫通孔７７４１Ｆが設けられてもよい。第３貫通孔７７４１Ｆは、第２板状部材７７Ｆ２の中心から所定距離離れた位置から放射状に延びるように設けられてもよい。第３貫通孔７７４１Ｆは、第２板状部材７７Ｆ２の外周方向に沿って略等しい間隔で設けられてもよい。これにより、第３貫通孔７７４１Ｆは、第２板状部材７７Ｆ２の中心を中心に点対称に設けられ得る。
第２板状部材７７Ｆ２は、第１板状部材７７Ｆ１の＋Ｚ方向側の面に配置されてもよい。これにより、第３貫通孔７７４１Ｆは、例えば深さ寸法が３μｍ以下の流路７７４Ｆを構成し得る。流路７７４Ｆは、パーティクルを捕集し得る。

流路７７４Ｆにおける第２板状部材７７Ｆ２の中央側の端部は、第１領域７７５Ｆであってもよい。これにより、第１貫通孔７７３Ｆは、第１部材７７Ｆの第１面７７１Ｆと、第１面７７１Ｆと反対側の第３面７７２Ｆ側の第１空間７７６Ｆとの間を、流路７７４Ｆの第１領域７７５Ｆを介してターゲット物質を流通させるための第１流通部を構成し得る。第６実施形態では、第１貫通孔７７３Ｆは、流路７７４Ｆの第１領域７７５Ｆに流入するターゲット物質を第１空間７７６Ｆに流出させるための第１流通部を構成し得る。
第１部材７７Ｆの第１面７７１Ｆにおける流路７７４Ｆの外側には、平面部７７７Ｆが設けられてもよい。

第２部材７８Ｆは、第１部材７７Ｆの上側に重なるように配置されてもよい。第２部材７８Ｆは、第２面７８１Ｆが第１部材７７Ｆの流路７７４Ｆを覆うように配置されてもよい。
第２部材７８Ｆには、上下方向に貫通する８個の略円形の第２貫通孔７８３Ｆが設けられてもよい。第２貫通孔７８３Ｆは、第２部材７８Ｆの外周方向に沿って略等しい間隔で設けられてもよい。これにより、第２貫通孔７８３Ｆは、第２部材７８Ｆの中心を中心に点対称に設けられ得る。第２貫通孔７８３Ｆは、第２部材７８Ｆが第１部材７７Ｆ上に配置されたときに、第１貫通孔７７３Ｆの開口内に位置しないように設けられてもよい。このとき、第２貫通孔７８３Ｆの開口内に、流路７７４Ｆの一部が位置してもよい。第２貫通孔７８３Ｆの開口内に位置する流路７７４Ｆの一部は、第２領域７７８Ｆであってもよい。これにより、第２貫通孔７８３Ｆは、第２面７８１Ｆと、第２面７８１Ｆと反対側の第４面７８２Ｆ側の第２空間７８４Ｆとの間を、流路７７４Ｆの第２領域７７８Ｆを介してターゲット物質を流通させるための第２流通部を構成し得る。第６実施形態では、第２貫通孔７８３Ｆは、第２空間７８４Ｆに存在するターゲット物質を流路７７４Ｆの第２領域７７８Ｆに流入させるための第２流通部を構成し得る。

なお、流路７７４Ｆは、図１１Ｃに示すように、クランク状に形成されてもよい。流路７７４Ｆにおけるコーナ部７７４Ｆ１は、外側に略円形状に突出するように形成されてもよい。これにより、コーナ部７７４Ｆ１においてパーティクルが捕集され、パーティクルによる流路７７４Ｆのつまりが抑制し得る。

３．７．３ 動作
次に、フィルタの製造方法、フィルタの組み込み及びターゲット生成器の動作について説明する。
以下において、第１実施形態および第２実施形態と同様の動作については、説明を省略する。

３．７．３．１ フィルタの製造方法とフィルタの組み込み
図１２は、第２フィルタの製造方法を概略的に示す。
図１２に示すように、モリブデンで形成された第１板状部材７７Ｆ１を準備してもよい。第１板状部材７７Ｆ１は、第２実施形態における第１部材７７Ｆと同様に、複数の第１板状部材７７Ｆ１を得ることが可能な大きさのプレートから切り出されてもよい。なお、後述する第２板状部材７７Ｆ２、第２部材７８Ｆも同様に大きなプレートから切り出されてもよい。第１板状部材７７Ｆ１の略中央に孔あけ加工を施すことで、第１貫通孔７７３Ｆを形成してもよい。
第１板状部材７７Ｆ１の両面を研磨し、洗浄してもよい。以上により、第１板状部材７７Ｆ１が製造され得る。
モリブデンで形成された第２板状部材７７Ｆ２を準備してもよい。第２板状部材７７Ｆ２の複数箇所に、孔あけ加工を施すことで、第３貫通孔７７４１Ｆを形成してもよい。
第２板状部材７７Ｆ２の両面を研磨し、洗浄してもよい。以上により、第２板状部材７７Ｆ２が製造され得る。
モリブデンで形成された第２部材７８Ｆを準備してもよい。第２部材７８Ｆの複数箇所に、孔あけ加工を施すことで、第２貫通孔７８３Ｆを形成してもよい。
第２部材７８Ｆの両面を研磨し、洗浄してもよい。以上により、第２部材７８Ｆが製造され得る。

第２板状部材７７Ｆ２を第１板状部材７７Ｆ１に重ねて配置し、第１部材７７Ｆを形成してもよい。
第２部材７８Ｆの第２面７８１Ｆが第１部材７７Ｆの流路７７４Ｆを覆うように、第２部材７８Ｆを第１部材７７Ｆに重ねて配置してもよい。このとき、第１部材７７Ｆと第２部材７８Ｆとを拡散接合してもよい。これにより、深さ寸法が３μｍ以下の流路７７４Ｆを有する第２フィルタ７６Ｆが製造され得る。このとき、第２貫通孔７８３Ｆが第２部材７８Ｆの中心を中心に点対称に設けられているため、第１部材７７Ｆに対する第２部材７８Ｆの配置位置が回転方向に多少ずれても、第２貫通孔７８３Ｆの開口内に流路７７４Ｆが位置し、ターゲット物質が第２フィルタ７６Ｆを流通し得る。第１，第２面７７１Ｆ，７８１Ｆを研磨しているため、第１面７７１Ｆと第２面７８１Ｆとの隙間が小さくなり得る。第１板状部材７７Ｆ１と第２板状部材７７Ｆ２との接合面を研磨しているため、第１板状部材７７Ｆ１と第２板状部材７７Ｆ２との隙間が小さくなり得る。なお、第６実施形態においては、第１部材と第２部材との拡散接合は必須でなくともよい。

次に、第２フィルタ７６Fのターゲット生成器８Ａへの組み込みについて説明する。ノズル基端部８２Ａとノズル先端部８３Ａとの間に第２フィルタ７６Ｆを取り付けてもよい。
これにより、第２部材７８Ｆの８個の第２貫通孔７８３Ｆが第２貫通孔８２２Ａの開口内に位置し、第２貫通孔８２２Ａの内部が第２空間７８４Ｆとなり得る。第１部材７７Ｆの第１貫通孔７７３Ｆが第３貫通孔８３２Ａの＋Ｚ方向側の開口内に位置し、第３貫通孔８３２Ａの内部が第１空間７７６Ｆとなり得る。

３．７．３．２ ターゲット供給装置の動作
ターゲット生成器８Ａがターゲット物質の融点以上の温度に加熱されている状態で、当該ターゲット生成器８Ａ内の圧力が調節されると、パーティクルが第１フィルタ７５Ａで捕集されたターゲット物質が、第２フィルタ７６Ｆを通過し得る。
第２フィルタ７６Ｆに到達したターゲット物質は、第２部材７８Ｆの第２貫通孔７８３Ｆ内に流入し得る。第２貫通孔７８３Ｆ内に流入したターゲット物質は、流路７７４Ｆを通過し得る。このとき、流路７７４Ｆは、当該流路７７４Ｆの深さ寸法より大きいパーティクルを捕集し得る。その後、ターゲット物質は、第１貫通孔７７３Ｆを通過し、第３貫通孔８３２Ａ内に流入し得る。

第６実施形態によれば、流路７７４Ｅを、第２板状部材７７Ｆ２を貫通する第３貫通孔７７４１Ｆにより構成しているため、溝部を形成する場合と比べて、流路７７４Ｅを容易に形成し得る。

３．８ 第７実施形態
３．８．１ 概略
本開示の第７実施形態のターゲット供給装置において、第２部材は、第１部材に対しターゲット物質の出力方向側に配置され、第２流通部は、第２部材を貫通する第２貫通孔により構成され、第２貫通孔の出力方向側の開口は、ノズル孔を構成してもよい。

３．８．２ 構成
図１３Ａは、第７実施形態に係るターゲット供給装置の要部を概略的に示す。図１３Ｂは、図１３ＡのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。
第７実施形態のターゲット供給装置は、ターゲット生成器８Ｇおよびフィルタ７６Ｇ以外の構成については、第１実施形態のターゲット供給装置７Ａと同様のものを適用してもよい。

ターゲット生成器８Ｇは、第１フィルタ７５Ａを備えてもよいし、備えなくてもよい。ターゲット生成器８Ｇは、図１３Ａおよび図１３Ｂに示すように、図示しないタンクの先端に設けられたノズル基端部８２Ｇと、ノズル先端部８３Ｇとを備えてもよい。ノズル基端部８２Ｇと、ノズル先端部８３Ｇとは、ターゲット物質との反応性が低い材料で構成されてもよい。
ノズル基端部８２Ｇの中央には、Ｚ軸方向に貫通する第２貫通孔８２２Ｇが設けられてもよい。第２貫通孔８２２Ｇの内径は、例えば３ｍｍであってもよい。ノズル基端部８２Ｇの先端には、凹部８２７Ｇが設けられてもよい。
ノズル先端部８３Ｇは、略円筒状に形成されてもよく、平面部分の外形寸法が第２貫通孔８２２Ｇの直径よりも大きく形成されてもよい。ノズル先端部８３Ｇの上面には、凹部８３１Ｇが設けられてもよい。ノズル先端部８３Ｇの中央には、上下方向に貫通する錐状孔８３４Ｇが設けられてもよい。錐状孔８３４Ｇは、−Ｚ方向に向かうに従って径寸法が大きくなる円錐状に形成されてもよい。

フィルタ７６Ｇは、ノズル基端部８２Ｇの先端において第２貫通孔８２２Ｇを閉じるように設けられてもよい。フィルタ７６Ｇは、第１部材７７Ｇと、第２部材７８Ｇとを備えてもよい。

第１，第２部材７７Ｇ，７８Ｇは、ターゲット物質との反応性が低い材料で略円板状に形成されてもよい。第１，第２部材７７Ｇ，７８Ｇの直径は、第２貫通孔８２２Ｇの直径より大きくてもよい。

第１部材７７Ｇには、上下方向に貫通する、例えば８個の略円形の第１貫通孔７７３Ｇが設けられてもよい。第１貫通孔７７３Ｇは、第１部材７７Ｇの外周方向に沿って略等しい間隔で設けられてもよい。これにより、第１貫通孔７７３Ｇは、第１部材７７Ｇの中心に対して点対称に設けられ得る。第１部材７７Ｇの−Ｚ方向側の第１面７７１Ｇには、略円形状の第１流路７７４Ｇ１が設けられてもよい。第１流路７７４Ｇ１は、第１面７７１Ｇの中央に設けられてもよい。第１面７７１Ｇには、第２流路７７４Ｇ２が設けられてもよい。第２流路７７４Ｇ２は、第１流路７７４Ｇ１の外縁から第１貫通孔７７３Ｇに向けて、放射状に延びるように設けられてもよい。第１，第２流路７７４Ｇ１，７７４Ｇ２は、第１面７７１Ｇに形成された溝部により構成されてもよい。第２流路７７４Ｇ２は、第１部材７７Ｇの外周方向に沿って略等しい間隔で設けられてもよい。これにより、第２流路７７４Ｇ２は、第１部材７７Ｇの中心に対して点対称に設けられ得る。第１流路７７４Ｇ１と、第２流路７７４Ｇ２とは、流路７７４Ｇを構成してもよい。第２流路７７４Ｇ２の深さ寸法は、第１流路７７４Ｇ１の深さ寸法より小さくてもよい。第２流路７７４Ｇ２の深さ寸法は、例えば３μｍ以下であってもよい。これにより、流路７７４Ｇは、パーティクルを捕集し得る。

流路７７４Ｇにおける第１貫通孔７７３Ｇ側の端部は、第１領域７７５Ｇであってもよい。これにより、第１貫通孔７７３Ｇは、第１部材７７Ｇの第１面７７１Ｇと、第１面７７１Ｇと反対側の第３面７７２Ｇ側の第１空間７７６Ｇとの間を、流路７７４Ｇの第１領域７７５Ｇを介して流体としてのターゲット物質を流通させるための第１流通部を構成し得る。第７実施形態では、第１貫通孔７７３Ｇは、第１空間７７６Ｇに存在するターゲット物質を流路７７４Ｇの第１領域７７５Ｇに流入させるための第１流通部を構成し得る。第１面７７１Ｇおよび第３面７７２Ｇは、研磨されてもよい。

第２部材７８Ｇは、第１部材７７Ｇに重なるように配置されてもよい。第２部材７８Ｇは、＋Ｚ方向側の第２面７８１Ｇが第１部材７７Ｇの流路７７４Ｇを覆うように配置されてもよい。
第２部材７８Ｇの中央には、Ｚ軸方向に貫通する第２貫通孔７８３Ｇが設けられてもよい。第２貫通孔７８３Ｇは、−Ｚ方向に向かうに従って径寸法が大きくなる円錐状に形成されてもよい。第２貫通孔７８３Ｇの上側の開口は、ノズル孔７８５Ｇを構成してもよい。ノズル孔７８５Ｇの直径は、例えば１μｍ〜３μｍであってもよい。第２貫通孔７８３Ｇは、第２部材７８Ｇが第１部材７７Ｇに重ねられて配置されたときに、第１貫通孔７７３Ｇの開口内に位置しないように設けられてもよい。このとき、第２貫通孔７８３Ｇのノズル孔７８５Ｇの開口内に、流路７７４Ｇの一部が位置してもよい。第２貫通孔７８３Ｇの開口内に位置する流路７７４Ｇの一部は、第２領域７７８Ｇであってもよい。これにより、第２貫通孔７８３Ｇは、第２面７８１Ｇと、第２面７８１Ｇと反対側の第４面７８２Ｇ側の第２空間７８４Ｇとの間を、流路７７４Ｇの第２領域７７８Ｇを介してターゲット物質を流通させるための第２流通部を構成し得る。第７実施形態では、第２貫通孔７８３Ｇは、流路７７４Ｇの第２領域７７８Ｇに流入するターゲット物質を第２空間７８４Ｇに流出させるための第２流通部を構成し得る。第２面７８１Ｇおよび第４面７８２Ｇは、研磨されてもよい。

３．８．３ 動作
次に、フィルタの組み込み、およびターゲット供給装置の動作について説明する。
以下において、第１実施形態および第２実施形態と同様の動作については、説明を省略する。

３．８．３．１ フィルタの組み込み まず、第１部材７７Ｇの流路７７４Ｇが第２部材７８Ｇの第２面７８１Ｇで覆われるように、第１部材７７Ｇと第２部材７８Ｇとを拡散接合してもよい。これにより、最も浅い部分の深さ寸法が３μｍ以下の流路７７４Ｇを有するフィルタ７６Ｇが形成され得る。第１，第２面７７１Ｇ，７８１Ｇを研磨しているため、第１面７７１Ｇと第２面７８１Ｇとの隙間が小さくなり得る。なお、第７実施形態においては、第１部材と第２部材との拡散接合は必須でなくともよい。

次に、ノズル先端部８３Ｇの凹部８３１Ｇにフィルタ７６Ｇを挿入し、図示しないボルトによりノズル先端部８３Ｇをノズル基端部８２Ｇに取り付けてもよい。このとき、第１部材７７Ｇが凹部８２７Ｇに挿入されてもよい。第２部材７８Ｇは、第１部材７７Ｇに対し−Ｚ方向側に配置されてもよい。
これにより、第１部材７７Ｇの８個の第１貫通孔７７３Ｇが第２貫通孔８２２Ｇの開口内に位置し、第２貫通孔８２２Ｇの内部が第１空間７７６Ｇとなり得る。第２部材７８Ｇの第２貫通孔７８３Ｇが錐状孔８３４Ｇの＋Ｚ方向側の開口内に位置し、錐状孔８３４Ｇの内部が第２空間７８４Ｇとなり得る。

３．８．３．２ ターゲット供給装置の動作
ターゲット生成器８Ｇがターゲット物質の融点以上の温度に加熱されている状態で、当該ターゲット生成器８Ｇ内の圧力が調節されると、ターゲット物質がフィルタ７６Ｇを通過し得る。
フィルタ７６Ｇに到達したターゲット物質は、第１貫通孔７７３Ｇを介して流路７７４Ｇを通過し得る。このとき、流路７７４Ｇは、当該流路７７４Ｇの深さ寸法より大きいパーティクルを捕集し得る。
その後、ターゲット制御装置は、ターゲット生成器８Ｇ内の圧力を調節して、ターゲット物質をドロップレット２７としてノズル孔７８５Ｇから出力してもよい。

第７実施形態によれば、第２貫通孔７８３Ｇにおけるターゲット物質の出力方向側の開口によって、ノズル孔７８５Ｇを構成しているため、フィルタ７６Ｇがパーティクルを捕集する機能と、ノズルの機能とを有し得る。

３．９ 第８実施形態
３．９．１ 構成
図１４は、第８実施形態に係るターゲット供給装置の要部を概略的に示す。
第８実施形態のターゲット供給装置は、ターゲット生成器８Ｈを構成するフィルタ７６Ｈの第２部材７８Ｈ以外の構成については、第７実施形態のターゲット供給装置と同様のものを適用してもよい。

フィルタ７６Ｈの第２部材７８Ｈは、図１４に示すように、ターゲット物質との反応性が低い材料で略円板状に形成されてもよい。第２部材７８Ｈは、＋Ｚ方向側の第２面７８１Ｈが第１部材７７Ｇの流路７７４Ｇを覆うように配置されてもよい。
第２部材７８Ｈにおける−Ｚ方向側の第４面７８２Ｈの中央には、円錐台状の突出部７８６Ｈが設けられてもよい。突出部７８６Ｈは、電界を利用してドロップレットを生成する場合、突出部７８６Ｈに電界が集中し易いようにするために設けられてもよい。第２部材７８Ｈの中央には、Ｚ軸方向に貫通する第２貫通孔７８３Ｈが設けられてもよい。第２貫通孔７８３Ｈは、−Ｚ方向に向かうに従って径寸法が小さくなる円錐状に形成されてもよい。第２貫通孔７８３Ｈの−Ｚ方向側の開口であって突出部７８６Ｈの先端部中央の開口は、ノズル孔７８５Ｈを構成してもよい。ノズル孔７８５Ｈの直径は、例えば１μｍ〜３μｍであってもよい。第２貫通孔７８３Ｈは、第２部材７８Ｈが第１部材７７Ｇに重ねられて配置されたときに、第１貫通孔７７３Ｇの開口内に位置しないように設けられてもよい。このとき、第２貫通孔７８３Ｈの開口内に、流路７７４Ｇの一部が位置してもよい。第２貫通孔７８３Ｈの開口内に位置する流路７７４Ｇの一部は、第２領域７７８Ｇであってもよい。これにより、第２貫通孔７８３Ｈは、第２面７８１Ｈと、第２面７８１Ｈと反対側の第４面７８２Ｈ側の第２空間７８４Ｈとの間を、流路７７４Ｇの第２領域７７８Ｇを介してターゲット物質を流通させるための第２流通部を構成し得る。第８実施形態では、第２貫通孔７８３Ｈは、流路７７４Ｇの第２領域７７８Ｇに流入するターゲット物質を第２空間７８４Ｈに流出させるための第２流通部を構成し得る。第２面７８１Ｈおよび第４面７８２Ｈは、研磨されてもよい。

３．９．２ 動作
次に、フィルタの組み込みおよびターゲット生成器の動作について説明する。
以下において、第１実施形態と同様の動作については、説明を省略する。

３．９．２．１ フィルタの組み込み
まず、第１部材７７Ｇの流路７７４Ｇが第２部材７８Ｈの第２面７８１Ｈで覆われるように、第１部材７７Ｇと第２部材７８Ｈとを拡散接合してもよい。これにより、最も浅い部分の深さ寸法が３μｍ以下の流路７７４Ｇを有するフィルタ７６Ｈが形成され得る。第１，第２面７７１Ｇ，７８１Ｈを研磨しているため、第１面７７１Ｇと第２面７８１Ｈとの隙間が小さくなり得る。
次に、ノズル基端部８２Ｇとノズル先端部８３Ｇとで挟み込むように、フィルタ７６Ｈを取り付けてもよい。第２部材７８Ｈは、第１部材７７Ｇに対し−Ｚ方向側に配置されてもよい。
これにより、第２部材７８Ｈの第２貫通孔７８３Ｈが錐状孔８３４Ｇの内部に位置し、錐状孔８３４Ｇの内部が第２空間７８４Ｈとなり得る。

３．９．２．２ ターゲット供給装置の動作
ターゲット生成器８Ｈがターゲット物質の融点以上の温度に加熱されている状態で、当該ターゲット生成器８Ｈ内の圧力が調節されると、ターゲット物質がフィルタ７６Ｈを通過し得る。
フィルタ７６Ｈに到達したターゲット物質は、第１貫通孔７７３Ｇを介して流路７７４Ｇを通過し得る。このとき、流路７７４Ｇは、当該流路７７４Ｇの深さ寸法より大きいパーティクルを捕集し得る。
その後、ターゲット制御装置は、ターゲット生成器８Ｈ内の圧力を調節して、ターゲット物質をドロップレット２７としてノズル孔７８５Ｈから出力してもよい。

３．１０ 第９実施形態
３．１０．１ 構成
図１５Ａは、第９実施形態に係るターゲット供給装置の要部を概略的に示す。図１５Ｂは、図１５ＡのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。
第９実施形態のターゲット供給装置は、ターゲット生成器８Ｊを構成するフィルタ７６Ｊ以外の構成については、第７実施形態のターゲット供給装置と同様のものを適用してもよい。

ターゲット生成器８Ｊは、ノズル基端部８２Ｇと、パイプ８４Ｊとを備えてもよい。パイプ８４Ｊは、ターゲット物質との反応性が低い材料で構成されてもよい。パイプ８４Ｊの貫通孔８４１Ｊの内径は、ノズル基端部８２Ｇの第２貫通孔８２２Ｇの内径と略等しくてもよい。パイプ８４Ｊの＋Ｚ側の端は、ノズル基端部８２Ｇの凹部８２７Ｇに挿入されてもよい。パイプ８４Ｊの＋Ｚ側の端面と、ノズル基端部８２Ｇの凹部８２７Ｇ表面とは、パイプ８４Ｊが凹部８２７Ｇに挿入された際にシール可能に研磨されていてもよい。

フィルタ７６Ｊは、パイプ８４Ｊの先端において貫通孔８４１Ｊを閉じるように設けられてもよい。フィルタ７６Ｊは、第１部材７７Ｊと、第２部材７８Ｊとを備えてもよい。

第１，第２部材７７Ｊ，７８Ｊは、ターゲット物質との反応性が低い材料で形成されてもよい。第１，第２部材７７Ｊ，７８Ｊの外形は、貫通孔８４１Ｊの直径より大きくてもよい。

第１部材７７Ｊには、例えば８個の第１貫通孔７７３Ｇが設けられてもよい。第１部材７７Ｊの−Ｚ方向側の第１面７７１Ｊには、流路７７４Ｊが設けられてもよい。流路７７４Ｊは、第１面７７１Ｊに形成された溝部により構成されてもよい。流路７７４Ｊは、第１面７７１Ｊの中心から第１貫通孔７７３Ｇに向けて、放射状に延びるように設けられてもよい。流路７７４Ｊの深さ寸法は、例えば３μｍ以下であってもよい。これにより、流路７７４Ｊは、パーティクルを捕集し得る。

流路７７４Ｊにおける第１貫通孔７７３Ｇ側の端部は、第１領域７７５Ｇであってもよい。これにより、第１貫通孔７７３Ｇは、第１部材７７Ｊの第１面７７１Ｊと、第１面７７１Ｊと反対側の第３面７７２Ｊ側の第１空間７７６Ｊとの間を、流路７７４Ｊの第１領域７７５Ｊを介して流体としてのターゲット物質を流通させるための第１流通部を構成し得る。第９実施形態では、第１貫通孔７７３Ｇは、第１空間７７６Ｊに存在するターゲット物質を流路７７４Ｊの第１領域７７５Ｊに流入させるための第１流通部を構成し得る。第１面７７１Ｊおよび第３面７７２Ｊは、研磨されてもよい。

第２部材７８Ｊは、板状部７８７Ｊと、筒状部７８８Ｊとを備えてもよい。板状部７８７Ｊは、略円板状に形成されてもよい。板状部７８７Ｊの外径は、第１部材７７Ｊの外径よりも大きくてもよい。板状部７８７Ｊにおける−Ｚ方向側の第４面７８２Ｊの中央には、突出部７８６Ｈが設けられてもよい。板状部７８７Ｊの中央には、第２貫通孔７８３Ｈが設けられてもよい。第２貫通孔７８３Ｈの下側の開口は、ノズル孔７８５Ｈを構成してもよい。
筒状部７８８Ｊは、板状部７８７Ｊの面方向外側の端部に設けられもよい。

第２部材７８Ｊの内部には、＋Ｚ方向側の第２面７８１Ｊが第１部材７７Ｊの流路７７４Ｊを覆うように、第１部材７７Ｊが配置されてもよい。このとき、第１部材７７Ｊの外周面と筒状部７８８Ｊの内周面とがシールされてもよい。第１面７７１Ｊと第２面７８１Ｊとがシールされてもよい。第２貫通孔７８３Ｈは、第１部材７７Ｊが第２部材７８Ｊ内に配置されたときに、第１貫通孔７７３Ｇの開口内に位置しないように設けられてもよい。このとき、第２貫通孔７８３Ｈの開口内に、流路７７４Ｊの一部が位置してもよい。第２貫通孔７８３Ｈの開口内に位置する流路７７４Ｊの一部は、第２領域７７８Ｊであってもよい。これにより、第２貫通孔７８３Ｈは、第２面７８１Ｊと、第２面７８１Ｊと反対側の第４面７８２Ｊ側の第２空間７８４Ｊとの間を、流路７７４Ｊの第２領域７７８Ｊを介してターゲット物質を流通させるための第２流通部を構成し得る。第９実施形態では、第２貫通孔７８３Ｈは、流路７７４Ｊの第２領域７７８Ｊに流入するターゲット物質を第２空間７８４Ｊに流出させるための第２流通部を構成し得る。第１部材７７Ｊの第３面７７２Ｊ側には、パイプ８４Ｊが配置されてもよい。このとき、パイプ８４Ｊの外周面と筒状部７８８Ｊの内周面とがシールされてもよい。第３面７７２Ｊと、第２面７８１Ｊとは研磨されていてもよい。パイプ８４Ｊの−Ｚ側の端面は研磨されていてもよい。第４面７８２Ｊの内周面は研磨されていてもよい。筒状部７８８Ｊの内周面は研磨されていてもよい。

３．１０．２ 動作
次に、フィルタの組み込みについて説明する。
以下において、第１実施形態および第２実施形態と同様の動作については、説明を省略する。
まず、第１部材７７Ｊの流路７７４Ｊが第２部材７８Ｊの第２面７８１Ｊで覆われるように、第１部材７７Ｊを第２部材７８Ｊ内に配置してもよい。これにより、深さ寸法が３μｍ以下の流路７７４Ｊを有するフィルタ７６Ｊが形成され得る。
次に、パイプ８４Ｊを第２部材７８Ｊ内に配置してもよい。フィルタ７６Ｊの第２部材７８Ｊを図示しないボルトによりノズル基端部８２Ｇに取り付けてもよい。このとき、パイプ８４Ｊが凹部８２７Ｇに挿入されてもよい。第２部材７８Ｊは、第１部材７７Ｊに対し−Ｚ方向側に配置されてもよい。
これにより、第１部材７７Ｊの８個の第１貫通孔７７３Ｇが貫通孔８４１Ｊの開口内に位置し、貫通孔８４１Ｊの内部が第１空間７７６Ｊとなり得る。第２部材７８Ｊの第２貫通孔７８３Ｈが板状部７８７Ｊの−Ｚ方向側に位置し、当該−Ｚ方向側の位置が第２空間７８４Ｊとなり得る。

３．１１． 第１０実施形態
３．１１．１ 概略
本開示の第１０実施形態のターゲット供給装置において、第１部材は、第２部材に対しターゲット物質の出力方向側に配置され、第１流通部は、第１部材を貫通する第１貫通孔により構成され、第１貫通孔の出力方向側の開口は、ノズル孔を構成してもよい。

３．１１．２ 構成
図１６は、第１０実施形態に係るターゲット供給装置の要部を概略的に示す。
第１０実施形態のターゲット供給装置は、ターゲット生成器８Ｋを構成するフィルタ７６Ｋ以外の構成については、第７実施形態のターゲット供給装置と同様のものを適用してもよい。

フィルタ７６Ｋは、図１６に示すように、第１部材７７Ｋと、第２部材７８Ｋとを備えてもよい。第１部材７７Ｋおよび第２部材７８Ｋは、略円板状に形成されてもよい。
第１部材７７Ｋにおける−Ｚ方向側の第３面７７２Ｋの中央には、円錐台状の突出部７９３Ｋが設けられてもよい。第１部材７７Ｋの中央には、第１貫通孔７７３Ｋが設けられてもよい。第１貫通孔７７３Ｋの−Ｚ方向側の開口であって突出部７９３Ｋの先端部中央は、ノズル孔７９４Ｋを構成してもよい。ノズル孔７９４Ｋの直径は、例えば１μｍ〜３μｍであってもよい。
第１部材７７Ｋの＋Ｚ方向側の第１面７７１Ｋには、例えば８本の流路７７４Ｋが設けられてもよい。流路７７４Ｋは、第１面７７１Ｋに形成された溝部により構成されてもよい。流路７７４Ｋは、図１１Ａに示した流路７７４Ｆと同様に、第１面７７１Ｋの中心から放射状に延びるように設けられてもよい。流路７７４Ｋは、第１部材７７Ｋの外周方向に沿って略等しい間隔で設けられてもよい。流路７７４Ｋの深さ寸法は、例えば３μｍ以下であってもよい。
流路７７４Ｋにおける第１貫通孔７７３Ｋに連通する部分は、第１領域７７５Ｋであってもよい。これにより、第１貫通孔７７３Ｋは、第１部材７７Ｋの第１面７７１Ｋと、第１面７７１Ｋと反対側の第３面７７２Ｋ側の第１空間７７６Ｋとの間を、流路７７４Ｋの第１領域７７５Ｋを介してターゲット物質を流通させるための第１流通部を構成し得る。第１０実施形態では、第１貫通孔７７３Ｋは、流路７７４Ｋの第１領域７７５Ｋに流入するターゲット物質を第１空間７７６Ｋに流出させるための第１流通部を構成し得る。

第２部材７８Ｋは、第１部材７７Ｋの上側に重なるように配置されてもよい。第２部材７８Ｋは、第２面７８１Ｋが流路７７４Ｋを覆うように配置されてもよい。
第２部材７８Ｋには、８個の略円形の第２貫通孔７８３Ｋが設けられてもよい。第２貫通孔７８３Ｋは、第２部材７８Ｋの外周方向に沿って略等しい間隔で設けられてもよい。第２貫通孔７８３Ｋは、第１貫通孔７７３Ｋの開口内に位置しないように設けられてもよい。このとき、第２貫通孔７８３Ｋの開口内に、流路７７４Ｋの端部である第２領域７７８Ｋが位置してもよい。これにより、第２貫通孔７８３Ｋは、第２面７８１Ｋと、第２面７８１Ｋと反対側の第４面７８２Ｋ側の第２空間７８４Ｋとの間を、流路７７４Ｋの第２領域７７８Ｋを介してターゲット物質を流通させるための第２流通部を構成し得る。第１０実施形態では、第２貫通孔７８３Ｋは、第２空間７８４Ｋに存在するターゲット物質を流路７７４Ｋの第２領域７７８Ｋに流入させるための第２流通部を構成し得る。

３．１１．３ 動作
次に、フィルタの組み込みについて説明する。
以下において、第１実施形態と同様の動作については、説明を省略する。
まず、第１部材７７Ｋの流路７７４Ｋが第２部材７８Ｋの第２面７８１Ｋで覆われるように、第１部材７７Ｋと第２部材７８Ｋとを拡散接合してもよい。これにより、深さ寸法が３μｍ以下の流路７７４Ｋを有するフィルタ７６Ｋが形成され得る。
次に、ノズル先端部８３Ｇとノズル基端部８２Ｇとの間にフィルタ７６Ｋを取り付けてもよい。第１部材７７Ｋは、第２部材７８Ｋに対し−Ｚ方向側に配置されてもよい。
これにより、第２部材７８Ｋの第２貫通孔７８３Ｋが第２貫通孔８２２Ｇの開口内に位置し、第２貫通孔８２２Ｇの内部が第２空間７８４Ｋとなり得る。第１部材７７Ｋの第１貫通孔７７３Ｋが錐状孔８３４Ｇの＋Ｚ方向側の開口内に位置し、錐状孔８３４Ｇの内部が第１空間７７６Ｋとなり得る。

第１０実施形態によれば、第１貫通孔７７３Ｋにおけるターゲット物質の出力方向側の開口によって、ノズル孔７９４Ｋを構成しているため、フィルタ７６Ｋがパーティクルを捕集する機能と、ノズルの機能とを有し得る。

３．１２ 変形例
なお、フィルタとしては、以下に示すような構成としてもよい。以下の変形例において、第１，第２部材は、ターゲット物質との反応性が低い材料で形成されてもよい。流路の深さ寸法は、例えば３μｍ以下であってもよい。−Ｚ方向は、重力方向１０Ｂと一致してもよい。

３．１２．１ 第１変形例
図１７Ａは、第１変形例に係るフィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。図１７Ｂは、図１７ＡのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。
フィルタ７６Ｌは、図１７Ａおよび図１７Ｂに示すように、第１部材７７Ｌと、第２部材７８Ｌとを備えてもよい。第１部材７７Ｌおよび第２部材７８Ｌは、略円板状に形成されてもよい。
第１部材７７Ｌには、複数の第１貫通孔７７３Ｌが設けられてもよい。第１貫通孔７７３Ｌは、千鳥状に配置されてもよい。第１部材７７Ｌの−Ｚ方向側の第１面７７１Ｌには、流路７７４Ｌが形成されてもよい。流路７７４Ｌは、第１貫通孔７７３Ｌと、当該第１貫通孔７７３Ｌと隣り合う後述する第２貫通孔７８３Ｌとを連通するように設けられてもよい。流路７７４Ｌにおける第１貫通孔７７３Ｌ側の端部は、第１領域７７５Ｌであってもよい。これにより、第１貫通孔７７３Ｌは、第１面７７１Ｌと、第１面７７１Ｌと反対側の第３面７７２Ｌ側の第１空間７７６Ｌとの間で、流路７７４Ｌの第１領域７７５Ｌを介して、ターゲット物質を流通させるための第１流通部を構成し得る。

第２部材７８Ｌは、第１部材７７Ｌの−Ｚ方向側から重なるように配置されてもよい。第２部材７８Ｌは、第２面７８１Ｌが流路７７４Ｌを覆うように配置されてもよい。
第２部材７８Ｌには、複数の第２貫通孔７８３Ｌが設けられてもよい。第２貫通孔７８３Ｌは、互いに隣り合う第１貫通孔７７３Ｌの間に対応する位置に設けられてもよい。第２貫通孔７８３Ｌは、第１部材７７Ｌが第２部材７８Ｌ上に配置されたときに、第１貫通孔７７３Ｌの開口内に位置しないように設けられてもよい。このとき、第２貫通孔７８３Ｌの開口内に、流路７７４Ｌの第２領域７７８Ｌが位置してもよい。これにより、第２貫通孔７８３Ｌは、第２面７８１Ｌと、第２面７８１Ｌと反対側の第４面７８２Ｌ側の第２空間７８４Ｌとの間で、流路７７４Ｌの第２領域７７８Ｌを介して、ターゲット物質を流通させるための第２流通部を構成し得る。

３．１２．２ 第２変形例
図１８Ａは、第２変形例に係るフィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。図１８Ｂは、図１８ＡのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。
フィルタ７６Ｍは、図１８Ａおよび図１８Ｂに示すように、第１部材７７Ｍと、第２部材７８Ｍとを備えてもよい。第１部材７７Ｍおよび第２部材７８Ｍは、略円板状に形成されてもよい。
第１部材７７Ｍには、例えば８個の第１貫通孔７７３Ｍが設けられてもよい。第１貫通孔７７３Ｍは、第１部材７７Ｍの外周方向に沿って略等しい間隔で設けられてもよい。第１部材７７Ｍの−Ｚ方向側の第１面７７１Ｍには、流路７７４Ｍが形成されてもよい。流路７７４Ｍは、第１貫通孔７７３Ｍと、後述する第２貫通孔７８３Ｍとを連通するように設けられてもよい。流路７７４Ｍにおける第１貫通孔７７３Ｍ側の端部は、第１領域７７５Ｍであってもよい。これにより、第１貫通孔７７３Ｍは、第１面７７１Ｍと、第１面７７１Ｍと反対側の第３面７７２Ｍ側の第１空間７７６Ｍとの間で、流路７７４Ｍの第１領域７７５Ｍを介して、ターゲット物質を流通させるための第１流通部を構成し得る。

第２部材７８Ｍは、第１部材７７Ｍの−Ｚ方向側から重なるように配置されてもよい。第２部材７８Ｍは、第２面７８１Ｍが流路７７４Ｍを覆うように配置されてもよい。
第２部材７８Ｍの中央には、第２貫通孔７８３Ｍが設けられてもよい。第２貫通孔７８３Ｍは、第１部材７７Ｍが第２部材７８Ｍ上に配置されたときに、第１貫通孔７７３Ｍの開口内に位置しないように設けられてもよい。このとき、第２貫通孔７８３Ｍの開口内に、流路７７４Ｍの第２領域７７８Ｍが位置してもよい。これにより、第２貫通孔７８３Ｍは、第２面７８１Ｍと、第２面７８１Ｍと反対側の第４面７８２Ｍ側の第２空間７８４Ｍとの間で、流路７７４Ｍの第２領域７７８Ｍを介して、ターゲット物質を流通させるための第２流通部を構成し得る。

３．１２．３．第３変形例
図１９Ａは、第３変形例に係るフィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。図１９Ｂは、図１９ＡのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。図１９Ｃは、図１９ＡのＣ−Ｃ線に沿った断面図である。図２０Ａは、第３変形例に係る他のフィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。図２０Ｂは、図２０ＡのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。図２１Ａは、第３変形例に係る他のフィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。図２１Ｂは、第３変形例に係る他のフィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。図２１Ｃは、第３変形例に係る他のフィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。図２１Ｄは、第３変形例に係る他のフィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。図２１Ｅは、第３変形例に係る他のフィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。図２１Ｆは、第３変形例に係る他のフィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。図２１Ｇは、第３変形例に係る他のフィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。

フィルタ７６Ｎは、図１９Ａ、図１９Ｂおよび図１９Ｃに示すように、第１部材７７Ｎと、第２部材７８Ｎとを備えてもよい。第１部材７７Ｎおよび第２部材７８Ｎは、略円板状に形成されてもよい。
第１部材７７Ｎの中央より＋Ｘ方向側には、第１貫通孔７７３Ｎが設けられてもよい。第１部材７７Ｎの−Ｚ方向側の第１面７７１Ｎには、１本の流路７７４Ｎが形成されてもよい。流路７７４Ｎは、第１貫通孔７７３Ｎから−Ｘ方向に直線状に延びるように設けられてもよい。流路７７４Ｎにおける第１貫通孔７７３Ｎ側の端部は、第１領域７７５Ｎであってもよい。これにより、第１貫通孔７７３Ｎは、第１面７７１Ｎと、第１面７７１Ｎと反対側の第３面７７２Ｎ側の第１空間７７６Ｎとの間で、流路７７４Ｎの第１領域７７５Ｎを介して、ターゲット物質を流通させるための第１流通部を構成し得る。

第２部材７８Ｎは、第１部材７７Ｎの−Ｚ方向側から重なるように配置されてもよい。第２部材７８Ｎは、第２面７８１Ｎが流路７７４Ｎを覆うように配置されてもよい。このとき、第１部材７７Ｎと第２部材７８Ｎとは、シール部材７６３Ｎにより挟まれてもよい。
第２部材７８Ｎの中央より−Ｘ方向側には、第２貫通孔７８３Ｎが設けられてもよい。第２貫通孔７８３Ｎは、第１部材７７Ｎが第２部材７８Ｎ上に配置されたときに、第１貫通孔７７３Ｎの開口内に位置しないように設けられてもよい。このとき、第２貫通孔７８３Ｎの開口内に、流路７７４Ｎの第２領域７７８Ｎが位置してもよい。これにより、第２貫通孔７８３Ｎは、第２面７８１Ｎと、第２面７８１Ｎと反対側の第４面７８２Ｎ側の第２空間７８４Ｎとの間で、流路７７４Ｎの第２領域７７８Ｎを介して、ターゲット物質を流通させるための第２流通部を構成し得る。

図２０Ａおよび図２０Ｂに示すように、フィルタ７６Ｎにおいて、第１部材７７Ｎに複数本の流路７７４Ｎを設けてもよい。流路７７４Ｎの数は、例えば５本でもよい。５本の流路７７４Ｎは、Ｙ軸方向に並んで形成されてもよい。

図２１Ａに示すように、フィルタ７６Ｎにおいて、流路７７４Ｎは、第１流路７９０Ｎ１と、第２流路７９０Ｎ２と、第３流路７９０Ｎ３とから構成されてもよい。第１流路７９０Ｎ１は、第２貫通孔７８３Ｎに連通してもよい。第１流路７９０Ｎ１の幅寸法であるＹ軸方向の寸法は、第２流路７９０Ｎ２の幅寸法より小さくてもよい。第１流路７９０Ｎ１の長さ寸法であるＸ軸方向の寸法は、第２流路７９０Ｎ２の長さ寸法より小さくてもよい。第２流路７９０Ｎ２は、第１流路７９０Ｎ１の＋Ｘ方向側につながってもよい。第２流路７９０Ｎ２の幅寸法は、第３流路７９０Ｎ３の幅寸法より小さくてもよい。第２流路７９０Ｎ２の長さ寸法は、第３流路７９０Ｎ３の長さ寸法より小さくてもよい。第３流路７９０Ｎ３は、第２流路７９０Ｎ２の＋Ｘ方向側につながり、かつ、第１貫通孔７７３Ｎに連通してもよい。このように幅寸法を設定することにより、大きいパーティクルを第３流路７９０Ｎ３で捕集でき、第１流路７９０Ｎ１でのつまりが抑制し得る。このように長さ寸法を設定することにより、圧損が低減し得る。

図２１Ｂに示すように、フィルタ７６Ｎにおいて、流路７７４Ｎは、図２１Ａに示す第１〜第３流路７９０Ｎ１〜Ｎ３と、第４流路７９０Ｎ４と、第５流路７９０Ｎ５と、第６流路７９０Ｎ６とから構成されてもよい。第４流路７９０Ｎ４は、互いに隣り合う第１流路７９０Ｎ１同士をつなげてもよい。第５流路７９０Ｎ５は、互いに隣り合う第２流路７９０Ｎ２同士をつなげてもよい。第６流路７９０Ｎ６は、互いに隣り合う第３流路７９０Ｎ３同士をつなげてもよい。

図２１Ｃに示すように、フィルタ７６Ｎにおいて、流路７７４Ｎは、クランク状に屈曲する第１流路７９１Ｎ１から構成されてもよい。第１流路７９１Ｎ１は、第２貫通孔７８３Ｎ側の幅寸法が第１貫通孔７７３Ｎ側の幅寸法より小さくてもよい。このように第１流路７９１Ｎ１の幅寸法を設定することにより、大きいパーティクルを第１流路７９１Ｎ１の第１貫通孔７７３Ｎ側で捕集でき、第２貫通孔７８３Ｎ側でのつまりが抑制し得る。このように第１流路７９１Ｎ１をクランク状に屈曲させることにより、屈曲部分でパーティクルを捕集し得る。

図２１Ｄに示すように、フィルタ７６Ｎにおいて、流路７７４Ｎは、図２１Ｃに示す第１流路７９１Ｎ１と、第２流路７９１Ｎ２と、第３流路７９１Ｎ３と、第４流路７９１Ｎ４とから構成されてもよい。第２流路７９１Ｎ２は、流路７７４Ｎ側において互いに隣り合う第１流路７９１Ｎ１同士をつなげてもよい。第３流路７９１Ｎ３は、第２流路７９１Ｎ２より第１貫通孔７７３Ｎ側において互いに隣り合う第１流路７９１Ｎ１同士をつなげてもよい。第４流路７９１Ｎ４は、第３流路７９１Ｎ３より第１貫通孔７７３Ｎ側において互いに隣り合う第１流路７９１Ｎ１同士をつなげてもよい。

図２１Ｅに示すように、フィルタ７６Ｎにおいて、流路７７４Ｎは、Ｙ軸方向に蛇行するように屈曲してもよい。流路７７４Ｎの屈曲部分は、円弧状に曲がってもよい。

図２１Ｆに示すように、フィルタ７６Ｎにおいて、流路７７４Ｎは、クランク状に屈曲してもよい。流路７７４Ｎの屈曲部分は、略直角に曲がってもよい。

図２１Ｇに示すように、フィルタ７６Ｎにおいて、流路７７４Ｎは、第１流路７９２Ｎ１と、第２流路７９２Ｎ２とから構成されてもよい。第１流路７９２Ｎ１は、屈曲してもよい。第１流路７９２Ｎ１は、第２貫通孔７８３Ｎに連通してもよい。第１流路７９２Ｎ１の幅寸法は、第２流路７９２Ｎ２の幅寸法より小さくてもよい。第１流路７９２Ｎ１の長さ寸法は、第２流路７９２Ｎ２の長さ寸法より小さくてもよい。第２流路７９２Ｎ２は、屈曲してもよい。第２流路７９２Ｎ２は、３本の第１流路７９１Ｎ１の＋Ｘ方向側につながってもよい。

３．１２．４ 第４変形例
図２２Ａは、第４変形例に係るフィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。図２２Ｂは、図２２ＡのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。図２２Ｃは、図２２ＡのＣ−Ｃ線に沿った断面図である。
フィルタ７６Ｐは、図２２Ａ、図２２Ｂおよび図２２Ｃに示すように、第１部材７７Ｐと、第２部材７８Ｐとを備えてもよい。
第１部材７７Ｐは、略正方形板状に形成されてもよい。第１部材７７Ｐの−Ｚ方向側の第１面７７１Ｐには、直線状の流路７７４Ｐが形成されてもよい。流路７７４Ｐは、第１部材７７Ｐの外縁と後述する貫通孔７８３Ｐとを連通するように設けられてもよい。
第２部材７８Ｐは、略円板状に形成されてもよい。第２部材７８Ｐの外形は、第１部材７７Ｐの外形より大きくてもよい。これにより、第２部材７８Ｐは、第２面７８１Ｐの一部が第１面７７１Ｐからはみ出すように配置され得る。第２部材７８Ｐにおける＋Ｚ方向側の第２面７８１Ｐの一部には、＋Ｚ方向側に突出する突出部７８９Ｐが設けられてもよい。第２部材７８Ｐは、第１部材７７Ｐの−Ｚ方向側から重なるように配置されてもよい。第２部材７８Ｐは、突出部７８９Ｐの上面である第２面７８１Ｐが流路７７４Ｐを覆うように配置されてもよい。第２部材７８Ｐの突出部７８９Ｐが設けられた部分には、貫通孔７８３Ｐが設けられてもよい。貫通孔７８３Ｐは、本開示の第２貫通孔であってもよい。

流路７７４Ｐにおける＋Ｘ方向側の端部は、第１領域７７５Ｐであってもよい。これにより、第２面７８１Ｐにおける第１面７７１Ｐの外側にはみ出した部分と、第１部材７７Ｐの＋Ｘ方向側の外縁とに面する側方空間７６１Ｐは、第１面７７１Ｐと、第１面７７１Ｐと反対側の第３面７７２Ｐ側の第１空間７７６Ｐとの間を、流路７７４Ｐの第１領域７７５Ｐを介してターゲット物質を流通させるための第１流通部を構成し得る。
流路７７４Ｐにおける貫通孔７８３Ｐ側の端部は、第２領域７７８Ｐであってもよい。これにより、貫通孔７８３Ｐは、第２面７８１Ｐと、第２面７８１Ｐと反対側の第４面７８２Ｐ側の第２空間７８４Ｐとの間を、流路７７４Ｐの第２領域７７８Ｐを介してターゲット物質を流通させるための第２流通部を構成し得る。

３．１２．６ 第５変形例
図２３Ａは、第５変形例に係るフィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。図２３Ｂは、図２３ＡのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。図２３Ｃは、図２３ＡのＣ−Ｃ線に沿った断面図である。
フィルタ７６Ｑは、図２３Ａ、図２３Ｂおよび図２３Ｃに示すように、第１部材７７Ｑと、第２部材７８Ｑとを備えてもよい。
第１部材７７Ｑは、略正方形板状に形成されてもよい。第１部材７７Ｑの−Ｚ方向側の第１面７７１Ｑには、直線状の流路７７４Ｑが形成されてもよい。流路７７４Ｑは、第１部材７７Ｑの＋Ｘ方向側の外縁から、−Ｘ方向側外縁にかけて設けられてもよい。
第２部材７８Ｑは、第１部材７７Ｑと略等しい形状に形成されてもよい。第２部材７８Ｑは、第１部材７７Ｑの−Ｚ方向側から重なるように配置されてもよい。第２部材７８Ｑは、第１部材７７Ｑに対して＋Ｘ方向側にずれた位置に配置されてもよい。これにより、第２部材７８Ｑは、第２面７８１Ｑの一部が第１面７７１Ｑからはみ出すように配置され得る。第１部材７７Ｑは、第１面７７１Ｑの一部が第２面７８１Ｑからはみ出すように配置され得る。第２部材７８Ｑは、第２面７８１Ｑが流路７７４Ｑを覆うように配置されてもよい。このとき、第１部材７７Ｑと第２部材７８Ｑとは、シール部材７６３Ｑにより挟まれてもよい。

流路７７４Ｑにおける＋Ｘ方向側の端部は、第１領域７７５Ｑであってもよい。これにより、第２面７８１Ｑにおける第１面７７１Ｑの外側にはみ出した部分と、第１部材７７Ｑの＋Ｘ方向側の外縁とに面する第１側方空間７６１Ｑは、第１面７７１Ｑと、第１面７７１Ｑと反対側の第３面７７２Ｑ側の第１空間７７６Ｑとの間を、流路７７４Ｑの第１領域７７５Ｑを介してターゲット物質を流通させるための第１流通部を構成し得る。
流路７７４Ｑにおける第２部材７８Ｑの−Ｘ方向側の外縁に対応する部分は、第２領域７７８Ｑであってもよい。これにより、第１面７７１Ｑにおける第２面７８１Ｑの外側にはみ出した部分と、第２部材７８Ｑの−Ｘ方向側の外縁とに面する第２側方空間７６２Ｑは、第２面７８１Ｑと、第２面７８１Ｑと反対側の第４面７８２Ｑ側の第２空間７８４Ｑとの間を、流路７７４Ｑの第２領域７７８Ｑを介してターゲット物質を流通させるための第２流通部を構成し得る。

３．１２．６ 第６変形例
図２４Ａは、第６変形例に係るフィルタを＋Ｚ方向側から見た構成を概略的に示す。図２４Ｂは、図２４ＡのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。図２４Ｃは、図２４ＡのＣ−Ｃ線に沿った断面図である。
フィルタ７６Ｒは、図２４Ａ、図２４Ｂおよび図２４Ｃに示すように、第１部材７７Ｒと、第２部材７８Ｒとを備えてもよい。
第１部材７７Ｒは、略正方形板状に形成されてもよい。第１部材７７Ｒにおける＋Ｘ方向側の第１面７７１Ｒの一部には、−Ｚ方向側に突出する突出部７７９Ｒが設けられてもよい。突出部７７９Ｒの−Ｚ方向側の面である第１面７７１Ｒには、直線状の流路７７４Ｒが形成されてもよい。流路７７４Ｒは、第１部材７７Ｒの＋Ｘ方向側の外縁から、−Ｘ方向側外縁にかけて設けられてもよい。
第２部材７８Ｒは、第１部材７７Ｒと略等しい形状に形成されてもよい。第２部材７８Ｒにおける＋Ｚ方向側の第２面７８１Ｒの一部には、＋Ｚ方向側に突出する突出部７８９Ｒが設けられてもよい。第２部材７８Ｒは、第１部材７７Ｒの−Ｚ方向側から重なるように配置されてもよい。第２部材７８Ｒは、第１部材７７Ｒに対して＋Ｘ方向側にずれた位置に配置されてもよい。第２部材７８Ｒは、突出部７８９Ｒの＋Ｚ方向側の面である第２面７８１Ｒが流路７７４Ｒを覆うように配置されてもよい。このとき、第１部材７７Ｒと第２部材７８Ｒとは、シール部材７６３Ｒにより挟まれてもよい。

流路７７４Ｒにおける＋Ｘ方向側の端部は、第１領域７７５Ｒであってもよい。これにより、第２面７８１Ｒにおける第１面７７１Ｒの外側にはみ出した部分と、第１部材７７Ｒの＋Ｘ方向側の外縁とに面する第１側方空間７６１Ｒは、第１面７７１Ｒと、第１面７７１Ｒと反対側の第３面７７２Ｒ側の第１空間７７６Ｒとの間を、流路７７４Ｒの第１領域７７５Ｒを介してターゲット物質を流通させるための第１流通部を構成し得る。
流路７７４Ｒにおける−Ｘ方向側の端部は、第２領域７７８Ｒであってもよい。これにより、第１面７７１Ｒにおける第２面７８１Ｒの外側にはみ出した部分と、第２部材７８Ｒの−Ｘ方向側の外縁とに面する第２側方空間７６２Ｒは、第２面７８１Ｒと、第２面７８１Ｒと反対側の第４面７８２Ｒ側の第２空間７８４Ｒとの間を、流路７７４Ｒの第２領域７７８Ｒを介してターゲット物質を流通させるための第２流通部を構成し得る。

３．１２．８ 第７変形例
図２５は、第７変形例に係るフィルタの断面図である。
フィルタ７６Ｓは、図２５に示すように、第１部材７７Ｓと、第２部材７８Ｓとを備えてもよい。
第１部材７７Ｓは、略円板状に形成されてもよい。
第１部材７７Ｓの中央より＋Ｘ方向側および−Ｘ方向側には、それぞれ第１貫通孔７７３Ｓが設けられてもよい。第１貫通孔７７３Ｓは、略長方形状であってもよい。第１部材７７Ｓの−Ｚ方向側の第１面７７１Ｓには、１本の流路７７４Ｓが形成されてもよい。流路７７４Ｓは、第１貫通孔７７３Ｓ同士をつなぐように設けられてもよい。流路７７４Ｓにおける各第１貫通孔７７３Ｓ側の端部は、第１領域７７５Ｓであってもよい。これにより、第１貫通孔７７３Ｓは、第１面７７１Ｓと、第１面７７１Ｓと反対側の第３面７７２Ｓ側の第１空間７７６Ｓとの間を、流路７７４Ｓの第１領域７７５Ｓを介してターゲット物質を流通させるための第１流通部を構成し得る。
第２部材７８Ｓは、第１部材７７Ｓと略等しい形状に形成されてもよい。第２部材７８Ｓは、第１部材７７Ｓの−Ｚ方向側から重なるように配置されてもよい。第２部材７８Ｓは、第２面７８１Ｓが流路７７４Ｓを覆うように配置されてもよい。このとき、第１部材７７Ｓと第２部材７８Ｓとは、シール部材７６３Ｓにより挟まれてもよい。
第２部材７８Ｓの中央には、略長方形状の第２貫通孔７８３Ｓが設けられてもよい。第２貫通孔７８３Ｓは、第１部材７７Ｓが第２部材７８Ｓに配置されたときに、第１貫通孔７７３Ｓの開口内に位置しないように設けられてもよい。このとき、第２貫通孔７８３Ｓの開口内に、流路７７４Ｓの第２領域７７８Ｓが位置してもよい。これにより、第２貫通孔７８３Ｓは、第２面７８１Ｓと、第２面７８１Ｓと反対側の第４面７８２Ｓ側の第２空間７８４Ｓとの間を、流路７７４Ｓの第２領域７７８Ｓを介してターゲット物質を流通させるための第２流通部を構成し得る。

３．１２．８ 第８変形例
図２６は、第８変形例に係るフィルタの断面図である。
フィルタ７６Ｔは、図２６に示すように、第１部材７７Ｔと、第２部材７８Ｓとを備えてもよい。
第１部材７７Ｔは、長方形板状に形成されてもよい。第１部材７７Ｔの外形は、第２部材７８Ｓの第２貫通孔７８３Ｓの外形より大きくてもよい。
第１部材７７Ｔの−Ｚ方向側の第１面７７１Ｔには、１本の流路７７４Ｔが形成されてもよい。流路７７４Ｔは、第１部材７７Ｔの＋Ｘ方向側の外縁から、−Ｘ方向側外縁にかけて設けられてもよい。
第２部材７８Ｓは、第１部材７７Ｔの−Ｚ方向側から重なるように配置されてもよい。第２部材７８Ｓは、第２面７８１Ｓが流路７７４Ｔを覆うように配置されてもよい。このとき、第１部材７７Ｔと第２部材７８Ｓとは、シール部材７６３Ｔにより挟まれてもよい。

流路７７４Ｔにおける＋Ｘ方向側の端部および−Ｘ方向側の端部は、第１領域７７５Ｔであってもよい。これにより、第２面７８１Ｓにおける第１面７７１Ｔの外側にはみ出した部分と、第１部材７７Ｔの外縁とに面する側方空間７６１Ｔは、第１面７７１Ｔと、第１面７７１Ｔと反対側の第３面７７２Ｔ側の第１空間７７６Ｔとの間を、流路７７４Ｔの第１領域７７５Ｔを介してターゲット物質を流通させるための第１流通部を構成し得る。
第２貫通孔７８３Ｓの開口内に、流路７７４Ｔの第２領域７７８Ｔが位置してもよい。これにより、第２貫通孔７８３Ｓは、第２面７８１Ｓと、第２面７８１Ｓと反対側の第４面７８２Ｓ側の第２空間７８４Ｓとの間を、流路７７４Ｔの第２領域７７８Ｔを介してターゲット物質を流通させるための第２流通部を構成し得る。

３．１２．９ その他の変形例
第１〜第６実施形態および各変形例において、各フィルタ７６Ａ，７６Ｂ，７６Ｃ，７６Ｄ，７６Ｅ，７６Ｆ，７６Ｌ，７６Ｍ，７６Ｎ，７６Ｐ，７６Ｑ，７６Ｒ，７６Ｓ，７６Ｔを使用する際に、上下を入れ替えて配置してもよい。ターゲット供給装置に、各フィルタ７６Ａ，７６Ｂ，７６Ｃ，７６Ｄ，７６Ｅ，７６Ｆ，７６Ｌ，７６Ｍ，７６Ｎ，７６Ｐ，７６Ｑ，７６Ｒ，７６Ｓ，７６Ｔを重ねて配置してもよい。
各実施形態および各変形例において、第１部材と第２部材との両方に流路を設けてもよい。
各実施形態および各変形例の第１部材と第２部材との組み合わせを変更してもよい。

上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。

本明細書および添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」または「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書および添付の特許請求の範囲に記載される修飾句「１つの」は、「少なくとも１つ」または「１またはそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。

７…ターゲット供給装置、８Ｇ，８Ｈ，８Ｊ，８Ｋ…ターゲット生成器、７６Ａ，７６Ｂ，７６Ｃ，７６Ｄ，７６Ｅ，７６Ｆ，７６Ｇ，７６Ｈ，７６Ｊ，７６Ｋ，７６Ｌ，７６Ｍ，７６Ｎ，７６Ｐ，７６Ｑ，７６Ｒ，７６Ｓ，７６Ｔ…フィルタ、７７Ａ，７７Ｂ，７７Ｃ，７７Ｄ，７７Ｅ，７７Ｆ，７７Ｇ，７７Ｊ，７７Ｋ，７７Ｌ，７７Ｍ，７７Ｎ，７７Ｐ，７７Ｑ，７７Ｒ，７７Ｓ，７７Ｔ…第１部材、７７Ｆ１…第１板状部材、７７Ｆ２…第２板状部材、７８Ａ，７８Ｂ，７８Ｄ，７８Ｅ，７８Ｆ，７８Ｇ，７８Ｈ，７８Ｊ，７８Ｋ，７８Ｌ，７８Ｍ，７８Ｎ，７８Ｐ，７８Ｑ，７８Ｒ，７８Ｓ…第２部材、７６０Ｂ…圧延方向、７６１Ｅ，７６１Ｐ，７６１Ｑ，７６１Ｒ，７６１Ｔ，７６２Ｄ，７６２Ｑ，７６２Ｒ…側方空間、７７０Ｂ…溝部、７７０Ｃ１…第１溝部、７７０Ｃ２…第２溝部、７７１Ａ，７７１Ｂ，７７１Ｃ，７７１Ｄ，７７１Ｅ，７７１Ｆ，７７１Ｇ，７７１Ｊ，７７１Ｋ，７７１Ｌ，７７１Ｍ，７７１Ｎ，７７１Ｐ，７７１Ｑ，７７１Ｒ，７７１Ｓ，７７１Ｔ…第１面、７７２Ａ，７７２Ｂ，７７２Ｃ，７７２Ｄ，７７２Ｅ，７７２Ｆ，７７２Ｇ，７７２Ｊ，７７２Ｋ，７７２Ｌ，７７２Ｍ，７７２Ｎ，７７２Ｐ，７７２Ｑ，７７２Ｒ，７７２Ｓ，７７２Ｔ…第３面、７７３Ａ，７７３Ｂ，７７３Ｃ，７７３Ｄ，７７３Ｆ，７７３Ｇ，７７３Ｋ，７７３Ｌ，７７３Ｍ，７７３Ｎ，７７３Ｓ，７７３Ｔ…第１貫通孔、７７４Ａ，７７４Ｂ，７７４Ｃ，７７４Ｄ，７７４Ｅ，７７４Ｆ，７７４Ｇ，７７４Ｊ，７７４Ｋ，７７４Ｌ，７７４Ｍ，７７４Ｎ，７７４Ｐ，７７４Ｑ，７７４Ｒ，７７４Ｓ，７７４Ｔ…流路、７７４１Ｆ…第３貫通孔、７７５Ａ，７７５Ｂ，７７５Ｃ，７７５Ｄ，７７５Ｅ，７７５Ｆ，７７５Ｇ，７７５Ｊ，７７５Ｋ，７７５Ｌ，７７５Ｍ，７７５Ｎ，７７５Ｐ，７７５Ｑ，７７５Ｒ，７７５Ｓ，７７５Ｔ…第１領域、７７６Ａ，７７６Ｂ，７７６Ｃ，７７６Ｄ，７７６Ｅ，７７６Ｆ，７７６Ｇ，７７６Ｊ，７７６Ｋ，７７６Ｌ，７７６Ｍ，７７６Ｎ，７７６Ｐ，７７６Ｑ，７７６Ｒ，７７６Ｓ，７７６Ｔ…第１空間、７７８Ａ，７７８Ｂ，７７８Ｃ，７７８Ｄ，７７８Ｅ，７７８Ｆ，７７８Ｇ，７７８Ｊ，７７８Ｋ，７７８Ｌ，７７８Ｍ，７７８Ｎ，７７８Ｐ，７７８Ｑ，７７８Ｒ，７７８Ｓ，７７８Ｔ…第２領域、７８１Ａ，７８１Ｂ，７８１Ｄ，７８１Ｅ，７８１Ｆ，７８１Ｇ，７８１Ｈ，７８１Ｊ，７８１Ｋ，７８１Ｌ，７８１Ｍ，７８１Ｎ，７８１Ｐ，７８１Ｑ，７８１Ｒ，７８１Ｓ…第２面、７８２Ａ，７８２Ｂ，７８２Ｄ，７８２Ｅ，７８２Ｆ，７８２Ｇ，７８２Ｈ，７８２Ｊ，７８２Ｋ，７８２Ｌ，７８２Ｍ，７８２Ｎ，７８２Ｐ，７８２Ｑ，７８２Ｒ，７８２Ｓ…第４面、７８３Ａ，７８３Ｂ，７８３Ｅ，７８３Ｆ，７８３Ｇ，７８３Ｈ，７８３Ｋ，７８３Ｌ，７８３Ｍ，７８３Ｎ，７８３Ｐ，７８３Ｓ…第２貫通孔、７８４Ａ，７８４Ｂ，７８４Ｄ，７８４Ｅ，７８４Ｆ，７８４Ｇ，７８４Ｈ，７８４Ｊ，７８４Ｋ，７８４Ｌ，７８４Ｍ，７８４Ｎ，７８４Ｐ，７８４Ｑ，７８４Ｒ，７８４Ｓ…第２空間、７８５Ｇ，７８５Ｈ，７９４Ｋ…ノズル孔。

Claims (13)

1. ターゲット物質が出力されるノズル孔が形成されたノズルを有し、内部にターゲット物質を収容するターゲット生成器と、
   前記ターゲット生成器内に配置され、前記ターゲット物質内の異物が前記ノズル孔を閉塞することを抑制するためのフィルタとを備え、
   前記フィルタは、第１面に流路が形成された第１部材と、
   第２面が前記流路を覆うように配置された第２部材とを備え、
   前記第１部材は、前記第１面と、前記第１面と反対面側の第１空間との間を、前記流路の第１領域を介して、前記ターゲット物質を流通させるための第１流通部を備え、
   前記第２部材は、前記第２面と、前記第２面と反対面側の第２空間との間を、前記流路の前記第１領域とは離間した第２領域を介して、前記ターゲット物質を流通させるための第２流通部を備えるターゲット供給装置。
2. 請求項１に記載のターゲット供給装置において、
   前記第２部材は、前記第１部材に対し前記ターゲット物質の出力方向側に配置され、
   前記第２流通部は、前記第２部材を貫通する第２貫通孔により構成され、
   前記第２貫通孔の前記出力方向側の開口は、前記ノズル孔を構成するターゲット供給装置。
3. 請求項１に記載のターゲット供給装置において、
   前記第１部材は、前記第２部材に対し前記ターゲット物質の出力方向側に配置され、
   前記第１流通部は、前記第１部材を貫通する第１貫通孔により構成され、
   前記第１貫通孔の前記出力方向側の開口は、前記ノズル孔を構成するターゲット供給装置。
4. 請求項１に記載のターゲット供給装置において、
   前記第１流通部は、前記第１部材を貫通する第１貫通孔により構成されたターゲット供給装置。
5. 請求項４に記載のターゲット供給装置において、
   前記第１貫通孔は、前記第１部材の略中心を貫通するように形成されたターゲット供給装置。
6. 請求項１に記載のターゲット供給装置において、
   前記第２流通部は、前記第２部材を貫通する第２貫通孔により構成されたターゲット供給装置。
7. 請求項６に記載のターゲット供給装置において、
   前記第２貫通孔は、前記第２部材の略中心を貫通するように形成されたターゲット供給装置。
8. 請求項１に記載のターゲット供給装置において、
   前記流路は、前記第１面に形成された溝部で構成されたターゲット供給装置。
9. 請求項１に記載のターゲット供給装置において、
   前記第１面には、スペーサが配置され、
   前記流路は、互いに隣接する前記スペーサの間の領域で構成されたターゲット供給装置。
10. 請求項１に記載のターゲット供給装置において、
    前記第１部材は、圧延によって略板状に形成され、
    前記流路は、前記第１部材の圧延方向と交差する方向に延びるように形成されたターゲット供給装置。
11. 請求項１に記載のターゲット供給装置において、
    前記第１部材は、第１板状部材と、前記第１板状部材と重ねて配置された第２板状部材とから構成され、
    前記流路は、前記第２板状部材を貫通する第３貫通孔により構成されたターゲット供給装置。
12. 請求項１に記載のターゲット供給装置において、
    前記第２部材は、前記第２面の一部が前記第１面からはみ出すように配置され、
    前記流路は、前記第１部材の外縁まで形成され、
    前記第１流通部は、前記第１面からはみ出した前記第２面の前記一部と前記第１部材の前記外縁とに面する側方空間で構成されたターゲット供給装置。
13. 請求項１に記載のターゲット供給装置において、
    前記第１部材は、前記第１面の一部が前記第２面からはみ出すように配置され、
    前記流路は、前記第２部材の外縁に対応する位置まで形成され、
    前記第２流通部は、前記第２面からはみ出した前記第１面の前記一部と前記第２部材の前記外縁とに面する側方空間で構成されたターゲット供給装置。

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