WO2016135932A1 - 極端紫外光生成装置及びターゲット回収器 - Google Patents

極端紫外光生成装置及びターゲット回収器 Download PDF

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WO2016135932A1
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target
receiver
recovery unit
light generation
cylindrical portion
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司 堀
岩本　文男
一磨 上鉄穴
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ギガフォトン株式会社
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Definitions

  • the present disclosure relates to an extreme ultraviolet light generator and a target collector.
  • an extreme ultraviolet (EUV) light generation apparatus that generates extreme ultraviolet (EUV) light with a wavelength of about 13 nm and reduced projection reflective optics (Reduced Projection Reflective Optics) to meet the demand for fine processing of 32 nm or less Development of a combined exposure apparatus is expected.
  • EUV extreme ultraviolet
  • an LPP Laser Produced Plasma
  • DPP discharge
  • Three types of devices have been proposed: a Produced Plasma type device and an SR (Synchrotron Radiation) type device using orbital radiation.
  • An extreme ultraviolet light generation device includes: a chamber in which extreme ultraviolet light is generated when a target is irradiated with a laser beam in a predetermined region therein; and a chamber directed to the predetermined region in the chamber
  • a target supply device for supplying the target to the predetermined area by outputting a target
  • a target recovery device for recovering the target which is output from the target supply device and has not been irradiated with the laser light
  • the target recovery unit is disposed at an angle to the trajectory of the target output from the target supply unit, and a receiver for causing the target to collide with and receiving the laser light and a receiver for vibrating the receiver are added.
  • an oscillating device is disposed at an angle to the trajectory of the target output from the target supply unit, and a receiver for causing the target to collide with and receiving the laser light and a receiver for vibrating the receiver.
  • a target recovery device is disposed obliquely to the trajectory of a target flying along a trajectory, and has a receiver that causes the flying target to collide and receive, and a receiver that vibrates the receiver. And an oscillating device.
  • FIG. 1 schematically shows the configuration of an exemplary LPP EUV light generation system.
  • FIG. 2A shows a diagram for explaining a specific configuration of the target recovery unit.
  • FIG. 2B is a view of the receiver and the cylinder shown in FIG. 2A as viewed from the F direction.
  • FIG. 3A is a diagram for explaining the configuration of a target collector included in the EUV light generation system according to the first embodiment.
  • FIG. 3B shows a diagram for explaining the configuration of the vibration excitation apparatus shown in FIG. 3A.
  • FIG. 4A is a view for explaining a target recovery unit provided in the EUV light generation system according to Modification 1 of the first embodiment. .
  • FIG. 1 schematically shows the configuration of an exemplary LPP EUV light generation system.
  • FIG. 2A shows a diagram for explaining a specific configuration of the target recovery unit.
  • FIG. 2B is a view of the receiver and the cylinder shown in FIG. 2A as viewed from the F direction.
  • FIG. 3A is a
  • FIG. 4B shows a diagram for explaining the connection relationship of the vibration transfer member and the vibration device shown in FIG. 4A.
  • FIG. 4C is a view for explaining another example regarding the connection relationship between the vibration transfer member and the vibration device shown in FIG. 4A.
  • FIG. 5 is a view for explaining a target recovery unit provided in the EUV light generation system according to Modification 2 of the first embodiment.
  • FIG. 6 is a view for explaining a target recovery unit provided in the EUV light generation system of the second embodiment.
  • FIG. 7 is a view for explaining a target recovery unit provided in the EUV light generation system according to the first variation of the second embodiment.
  • FIG. 8 is a view for explaining a target recovery unit provided in the EUV light generation system according to the second modification of the second embodiment.
  • FIG. 5 is a view for explaining a target recovery unit provided in the EUV light generation system according to Modification 2 of the first embodiment.
  • FIG. 6 is a view for explaining a target recovery unit provided in the EUV light generation system of the
  • FIG. 9 is a view for explaining a target recovery unit provided in the EUV light generation system according to the third embodiment.
  • FIG. 10 is a view for explaining a target recovery unit provided in the EUV light generation system according to the first variation of the third embodiment.
  • FIG. 11 is a view for explaining a target recovery unit provided in the EUV light generation system according to the fourth embodiment.
  • FIG. 12 is a view for explaining a target recovery unit provided in the EUV light generation system according to the first modification of the fourth embodiment.
  • FIG. 13 is a view for explaining a target recovery unit provided in the EUV light generation system according to the second modification of the fourth embodiment.
  • FIG. 14 is a view for explaining a target recovery unit provided in the EUV light generation system of the fifth embodiment.
  • FIG. 15 is a view for explaining a target recovery unit provided in the EUV light generation system according to the first variation of the fifth embodiment.
  • FIG. 16 is a view for explaining a target recovery unit provided in the EUV light generation system of the modification 2 of the fifth embodiment.
  • FIG. 17 is a view for explaining a target recovery unit provided in the EUV light generation system according to the sixth embodiment.
  • FIG. 18A is an enlarged view of a portion P shown in FIG. 17 and is a view for explaining a configuration example 1 of the vibration damping member.
  • FIG. 18B is an enlarged view of a portion P shown in FIG. 17 and is a view for explaining a configuration example 2 of the vibration damping member.
  • FIG. 18C is an enlarged view of a portion P shown in FIG.
  • FIG. 17 is a view for explaining a configuration example 3 of the vibration damping member.
  • FIG. 19 is a view for explaining a target recovery unit provided in the EUV light generation system according to the first modification of the sixth embodiment.
  • FIG. 20 is a view for explaining a target recovery unit provided in the EUV light generation system according to the second modification of the sixth embodiment.
  • FIG. 21 is a view for explaining a target recovery unit provided in the EUV light generation system according to the seventh embodiment.
  • FIG. 22 is a view for explaining a target recovery unit provided in the EUV light generation system according to the first modification of the seventh embodiment.
  • FIG. 23 is a view for explaining a target recovery unit provided in the EUV light generation system according to the second modification of the seventh embodiment.
  • Target recovery unit provided in the EUV light generation system according to the fourth embodiment 9.1 Configuration 9.2 Operation 9.3 Operation 9.4 Modification 1 of Fourth Embodiment 9.5 Modification 2 of Fourth Embodiment 10.
  • Target recovery unit provided in the EUV light generation system of the fifth embodiment 10.1 Modification 1 of the fifth embodiment 10.2 Modification 2 of Fifth Embodiment 11.
  • Target recovery unit provided in the EUV light generation system according to the sixth embodiment 11.1 Modification 1 of the sixth embodiment 11.2 Modification 2 of the Sixth Embodiment 12.
  • Target recovery unit provided in the EUV light generation system according to the seventh embodiment 12.1 Configuration 12.2 Operation 12.3 Operation 12.4 Modification 1 of Seventh Embodiment 12.5 Modification 2 of Seventh Embodiment 13.
  • Other Configuration 12.
  • the EUV light generation apparatus 1 of the present disclosure is directed to the chamber 2 in which the EUV light 252 is generated when the target 27 is irradiated with the pulsed laser light 33 in the plasma generation region 25 inside, and the plasma generation region 25 in the chamber 2.
  • a target supply unit 26 for supplying the target 27 to the plasma generation region 25 by outputting the target 27; and a target recovery unit 28 for recovering the target 27 which is output from the target supply unit 26 and has not been irradiated with the pulsed laser
  • the target recovery unit 28 is disposed to be inclined with respect to the target trajectory 272 of the target 27 output from the target supply unit 26, and collides with and receives the target 27 that has not been irradiated with the pulse laser beam 33.
  • a receiver 280, and a vibrator 2851 for vibrating the receiver 280 It may be provided.
  • the EUV light generation system 1 can suppress the accumulation of the target 27 on the receiver 280.
  • the EUV light generation apparatus 1 can generate stable EUV light 252 because it can suppress the droplets of the target 27 from adhering to the EUV collector mirror 23 and the reflectance thereof decreasing.
  • the “target” is an object to be irradiated with the laser beam introduced into the chamber.
  • the target irradiated with the laser light is plasmatized to emit EUV light.
  • "Droplet” is a form of target supplied into the chamber.
  • the “optical path axis” is an axis passing through the center of the cross section of the laser beam along the traveling direction of the laser beam.
  • the “optical path” is a path through which laser light passes.
  • the optical path may include an optical path axis.
  • the "plasma generation region” is a predetermined region in the chamber.
  • the plasma generation region is a region where the target output into the chamber is irradiated with laser light and the target is turned into plasma.
  • the "target trajectory” is the trajectory of the target that is output into the chamber and travels through the chamber. The target trajectory may intersect the optical path of the laser light introduced into the chamber in the plasma generation region.
  • FIG. 1 schematically shows the configuration of an exemplary LPP EUV light generation system.
  • the EUV light generation device 1 may be used with at least one laser device 3.
  • a system including the EUV light generation apparatus 1 and the laser apparatus 3 is referred to as an EUV light generation system 11.
  • the EUV light generation apparatus 1 may include a chamber 2 and a target supply unit 26. Chamber 2 may be sealable.
  • the target supply 26 may, for example, be mounted through the wall of the chamber 2.
  • the material of the target 27 supplied from the target supply device 26 may include, but is not limited to, tin, terbium, gadolinium, lithium, xenon, or any combination of two or more thereof.
  • the wall of the chamber 2 may be provided with at least one through hole.
  • a window 21 may be provided in the through hole, and the pulse laser beam 32 output from the laser device 3 may be transmitted through the window 21.
  • an EUV collector mirror 23 having a spheroidal reflecting surface may be disposed inside the chamber 2, for example.
  • the EUV collector mirror 23 may have first and second focal points.
  • On the surface of the EUV collector mirror 23, for example, a multilayer reflective film in which molybdenum and silicon are alternately stacked may be formed.
  • the EUV collector mirror 23 is preferably arranged, for example, such that its first focal point is located at the plasma generation region 25 and its second focal point is located at the intermediate focusing point (IF) 292.
  • a through hole 24 may be provided in the central portion of the EUV collector mirror 23, and the pulse laser beam 33 may pass through the through hole 24.
  • the EUV light generation apparatus 1 may include an EUV light generation controller 5, a target sensor 4 and the like.
  • the target sensor 4 may have an imaging function, and may be configured to detect the presence, trajectory, position, velocity and the like of the target 27.
  • the EUV light generation apparatus 1 may include a connection part 29 that brings the inside of the chamber 2 into communication with the inside of the exposure apparatus 6. Inside the connection portion 29, a wall 291 having an aperture 293 may be provided. The wall 291 may be arranged such that its aperture 293 is located at the second focus position of the EUV collector mirror 23.
  • the EUV light generation apparatus 1 may include a laser light traveling direction control unit 34, a laser light collecting mirror 22, a target collector 28 for collecting the target 27, and the like.
  • the laser light traveling direction control unit 34 may include an optical element for defining the traveling direction of the laser light, and an actuator for adjusting the position, attitude, and the like of the optical element.
  • the pulse laser beam 31 output from the laser device 3 may pass through the window 21 as the pulse laser beam 32 and enter the chamber 2 through the laser beam direction control unit 34.
  • the pulsed laser beam 32 may travel along the at least one laser beam path in the chamber 2, be reflected by the laser beam focusing mirror 22, and be irradiated to the at least one target 27 as the pulsed laser beam 33.
  • the target supply device 26 may be configured to output the target 27 toward the plasma generation region 25 inside the chamber 2.
  • the target 27 may be irradiated with at least one pulse included in the pulsed laser light 33.
  • the target 27 irradiated with the pulsed laser light 33 is plasmatized, and the EUV light 251 can be emitted from the plasma along with the emission of light of another wavelength.
  • the EUV light 251 may be selectively reflected by the EUV collector mirror 23.
  • the EUV light 252 reflected by the EUV collector mirror 23 may be collected at an intermediate collection point 292 and output to the exposure apparatus 6. Note that a plurality of pulses included in the pulsed laser light 33 may be irradiated to one target 27.
  • the EUV light generation controller 5 may be configured to control the entire EUV light generation system 11.
  • the EUV light generation controller 5 may be configured to process image data or the like of the target 27 captured by the target sensor 4.
  • the EUV light generation controller 5 may perform at least one of timing control for outputting the target 27 and control of the output direction of the target 27, for example.
  • the EUV light generation controller 5 performs at least one of, for example, control of the output timing of the laser device 3, control of the traveling direction of the pulse laser beam 32, and control of the focusing position of the pulse laser beam 33. It is also good.
  • the various controls described above are merely exemplary, and other controls may be added as needed.
  • the target collector 28 provided in the EUV light generation system 1 will be described.
  • the target recovery unit 28 may be a device for recovering the target 27 output from the target supply unit 26 into the chamber 2 as shown in FIG. 1.
  • the target recovery unit 28 may be a device for recovering the target 27 not irradiated with the pulsed laser light 33 among the targets 27 output from the target supply unit 26 into the chamber 2.
  • the target recovery unit 28 may be provided on the side of the chamber 2 as shown in FIG.
  • the target recovery unit 28 may be disposed on an extension of a target trajectory, which is a traveling path of the target 27 output into the chamber 2.
  • the target 27 may be formed of a metal material.
  • the target 27 formed of a metallic material may include tin, terbium, gadolinium or lithium or any combination of two or more thereof, as described above.
  • the target supply device 26 may melt and store the target 27 formed of a metal material in advance.
  • the target supply unit 26 may output the molten target 27 as droplets 271 toward the plasma generation region 25 in the chamber 2. Thereby, the target supply unit 26 may supply the target 27 to the plasma generation region 25.
  • FIG. 2A shows a diagram for explaining the specific configuration of the target recovery unit 28.
  • FIG. 2B shows a view of the receiver 280 and the tubular portion 282 shown in FIG. 2A as viewed from the F direction.
  • the target recovery unit 28 may include a receiver 280, a recovery container 281, and a heating mechanism 284.
  • the collection container 281 may be a container for collecting the target 27 that has not been irradiated with the pulse laser beam 33.
  • the recovery container 281 may include a cylindrical portion 282 and a tank 283.
  • the cylindrical portion 282 may be formed in a hollow substantially cylindrical shape whose bottom surface is open.
  • the tube portion 282 may be formed of a material having high thermal conductivity and heat resistance to a temperature equal to or higher than the melting point of the target 27.
  • the cylindrical portion 282 may be disposed to penetrate the wall 2 a of the chamber 2.
  • the opening 282 a at one end side of the cylindrical portion 282 may be located inside the chamber 2.
  • the opening 282 a may be an opening for the target 27 that has not been irradiated with the pulse laser light 33 to enter the collection container 281.
  • the opening on the other end side of the cylindrical portion 282 may be located outside the chamber 2.
  • the cylindrical portion 282 may be connected to the wall 2a using an airtight flange or the like (not shown).
  • the inside of the chamber 2 can be kept airtight.
  • the cylindrical portion 282 may be arranged such that the central axis thereof substantially coincides with the target track 272.
  • the tank 283 may be a container whose inside communicates with the cylindrical portion 282.
  • the tank 283 may be connected to the end of the tubular portion 282 outside the chamber 2.
  • the tank 283 may be formed of a material having high thermal conductivity and heat resistance to the temperature above the melting point of the target 27.
  • the tank 283 may be formed of the same material as the cylindrical portion 282.
  • the tank 283 may be integrally formed with the cylindrical portion 282.
  • the heating mechanism 284 may be a mechanism that heats the recovery container 281 and controls the temperature in the recovery container 281.
  • the heating mechanism 284 may include a heating device 2841, a heating power supply 2842, a temperature sensor 2843, and a temperature control unit 2844.
  • the heating device 2841 may be a heater that heats the recovery container 281.
  • the heating device 2841 may be disposed to cover the cylindrical portion 282 and the tank 283.
  • the heating device 2841 may be disposed on at least one of the outer wall surface 282 b of the cylindrical portion 282 and the outer wall surface 283 b of the tank 283.
  • the heating power supply 2842 may be a power supply that supplies power to the heating device 2841.
  • the heating power supply 2842 may be electrically connected to the heating device 2841.
  • the temperature sensor 2843 may be a sensor that detects the temperature of the collection container 281.
  • the temperature sensor 2843 may be installed on the outer wall surface 283 b of the tank 283.
  • the temperature control unit 2844 may be a control unit that controls the temperature in the collection container 281.
  • the temperature control unit 2844 may be electrically connected to the heating power supply 2842 and the temperature sensor 2843.
  • the temperature control unit 2844 may be connected to the EUV light generation control unit 5.
  • the receiver 280 may be a member that receives the target 27 that has not been irradiated with the pulsed laser light 33 in collision.
  • the receiver 280 may be an elastic body configured using a plate-like member.
  • the receiver 280 may be formed of a material having high thermal conductivity and heat resistance to the temperature above the melting point of the target 27.
  • the receiver 280 may be formed of a material that does not easily wet the melted target 27.
  • the receiver 280 may be formed of a material having a contact angle with the melted target 27 of 90 ° or more.
  • the receiver 280 may be provided inside the collection container 281.
  • the receiver 280 may be supported by the inner wall surface 282 c of the cylindrical portion 282 which is a part of the inner wall surface of the collection container 281.
  • the receiver 280 may not completely close the inside of the tubular portion 282.
  • One end of the receiver 280 may be supported by a portion of the inner wall surface 282 c of the cylindrical portion 282.
  • a gap 280a may be formed between the other end of the receiver 280 and the other portion of the inner wall surface 282c.
  • the receiver 280 may be disposed at an incline relative to the target trajectory 272 and the direction of gravity, respectively.
  • the receiver 280 may be arranged such that the inclination angle with respect to the target trajectory 272 and the direction of gravity is other than 90 °.
  • the temperature control unit 2844 may receive a signal specifying the target temperature of the recovery container 281, which is output from the EUV light generation control unit 5.
  • the temperature control unit 2844 may receive the temperature detection signal output from the temperature sensor 2843.
  • the temperature control unit 2844 may control the power supplied from the heating power supply 2842 to the heating device 2841 such that the detected value indicated by the temperature detection signal approaches the target temperature.
  • the temperature of the recovery container 281 including the cylindrical portion 282 and the tank 283 may be controlled to the target temperature.
  • the heat generated by the heating device 2841 may be transmitted to the receiver 280 supported by the inner wall surface 282 c of the cylindrical portion 282 through the cylindrical portion 282.
  • the temperature of the receiver 280 can be controlled to a predetermined temperature lower than the target temperature.
  • the predetermined temperature of the receiver 280 may be a temperature equal to or higher than the melting point of the target 27.
  • the predetermined temperature of the receiver 280 may be, for example, about 280.degree.
  • the target temperature of the recovery container 281 may be a temperature at which the receiver 280 reaches the predetermined temperature.
  • the target temperature of the collection container 281 may be a temperature higher than the predetermined temperature of the receiver 280.
  • the target temperature of the recovery container 281 may be, for example, 400 ° C. to 500 ° C.
  • the target supply unit 26 controls the target 27 in the molten state as droplets 271 in the plasma generation region 25 in the chamber 2 under the control of the EUV light generation controller 5. It may be output toward the head.
  • the laser device 3 may output the pulse laser beam 31 so that the pulse laser beam 33 irradiates the target 27 in the plasma generation region 25 under the control of the EUV light generation controller 5.
  • the target 27 irradiated with the pulsed laser light 33 may be plasmatized to emit light including the EUV light 251.
  • the target 27 not irradiated with the pulsed laser light 33 may pass through the plasma generation region 25 and fly along the target trajectory 272 as it is. Then, the target 27 can enter into the collection container 281 from the opening 282 a of the cylindrical portion 282.
  • the velocity of the target 27 not irradiated with the pulsed laser light 33 may be 60 m / s to 100 m / s.
  • the target 27 entering the collection container 281 may collide with the receiver 280.
  • the receiver 280 can be deformed to bend when the target 27 collides. Thereby, the receiver 280 can reduce the kinetic energy of the target 27. The deformation of the receiver 280 can be recovered.
  • the target 27 with reduced kinetic energy may drop into the tank 283 heated to a temperature equal to or higher than the melting point of the target 27 and may be contained in the tank 283. Thereafter, the subsequent targets 27 may drop into the tank 283 one after another, and the liquid level of the targets 27 may be formed in the tank 283.
  • the receiver 280 may reduce the kinetic energy of the target 27 by deforming so as to bend when the target 27 collides, as described above. Therefore, the target recovery unit 28 can suppress the occurrence of droplets due to the collision of the target 27 with the liquid surface of the target 27 formed in the tank 283 or the bottom portion 283 d of the tank 283. As a result, the target recovery unit 28 can suppress that the droplets are scattered outside the recovery container 281 and adhere to the EUV collector mirror 23.
  • the recovery container 281 is heated to a temperature equal to or higher than the melting point of the target 27. For this reason, even if the target 27 falls into the tank 283 of the collection container 281, the target recovery unit 28 can suppress that the target 27 solidifies at the bottom portion 283d of the tank 283 and deposits in a dendritic shape and grows.
  • the target 27 deposits in a dendritic form and grows, the dendritic deposit may reach the plasma generation region 25 and may inhibit the generation of the EUV light 252. Therefore, it may be necessary to replace the target collector 28 when the dendritic deposit of the target 27 protrudes from the opening 282 a of the cylindrical portion 282. If the target 27 can be prevented from being deposited like a tree, the operation time of the target recovery unit 28 can be improved.
  • the receiver 280 is also heated to a temperature equal to or higher than the melting point of the target 27 as described above. Therefore, even if the target 27 collides with the receiver 280, the target collector 28 can be dropped as a liquid along the receiver 280 and dropped into the tank 283, so that the target 27 can be prevented from solidifying on the receiver 280.
  • the target 27 colliding with the receiver 280 can be dropped as a liquid into the tank 283, but when the target 27 is recovered to a certain extent, a part of the target 27 slightly on the receiver 280 It may be attached. In this case, the subsequent target 27 may collide with the target 27 deposited on the receiver 280 and a portion of the target 27 may further remain on the receiver 280. Thus, in the target collector 28 shown in FIG. 2A, the target 27 may gradually accumulate on the receiver 280. When the target 27 accumulates on the receiver 280, a subsequent target 27 may collide with the accumulated target 27 and a splash may occur.
  • the weight of the accumulated target 27 may make it impossible to restore the deformed receiver 280, and the kinetic energy of the subsequent target 27 may not be reduced.
  • the target 27 may collide with the liquid surface of the target 27 formed in the tank 283 or the bottom portion 283 d of the tank 283 to generate droplets. Accordingly, in the EUV light generation apparatus 1 including the target recovery unit 28 shown in FIG. 2A, these droplets scatter outside the recovery container 281 and adhere to the EUV collector mirror 23, and the reflection of the EUV collector mirror 23 The rate may be partially reduced. As a result, in the EUV light generation apparatus 1 including the target recovery unit 28 shown in FIG.
  • the output of the EUV light 252 may decrease and the beam profile of the EUV light 252 may deteriorate. Therefore, a technique capable of suppressing the decrease in the reflectance of the EUV collector mirror 23 by suppressing the accumulation of the target 27 on the receiver 280 and generating stable EUV light 252 is desired.
  • Target recovery unit provided in the EUV light generation apparatus of the first embodiment The target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. 3A and 3B.
  • the target recovery unit 28 included in the EUV light generation system 1 according to the first embodiment may have a configuration in which an excitation mechanism 285 is added to the target recovery unit 28 shown in FIG. 2A.
  • the description of the same configuration as that of the EUV light generation apparatus 1 shown in FIG. 1 and FIG. 2A will be omitted.
  • FIG. 3A is a view for explaining the configuration of the target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 of the first embodiment.
  • FIG. 3B shows a diagram for explaining the configuration of vibration applying apparatus 2851 shown in FIG. 3A.
  • the target collector 28 of FIG. 3A may include a receiver 280, a collection container 281, and a heating mechanism 284. Each of these components may be similar to the target collector 28 shown in FIG. 2A.
  • the illustration related to the heating power supply 2842 and the temperature control unit 2844 in the heating mechanism 284 is merely omitted, and the target collection unit 28 naturally includes the heating power supply 2842 and the temperature control unit 2844. May be.
  • the target recovery unit 28 of FIG. 3A may include a vibrating mechanism 285.
  • the vibrating mechanism 285 may be a mechanism that vibrates the receiver 280.
  • the excitation mechanism 285 may include an excitation device 2851 and an excitation power source 2852.
  • the vibration device 2851 may be a vibrator that vibrates the receiver 280.
  • the excitation device 2851 may be directly connected to the plate-like receiver 280.
  • the excitation device 2851 may be disposed on the side of the receiver 280 that does not collide with the target 27.
  • the vibration device 2851 may vibrate the receiver 280 so as to have a vibration component in a direction substantially orthogonal to the target trajectory 272.
  • the vibration device 2851 may include a motor 2851a, an unbalanced weight 2851b, a motor holding member 2851c, and a case 2851d, as shown in FIG. 3B.
  • the vibration device 2851 may have a configuration in which the motor 2851a connected to the unbalanced weight 2851b is connected to the case 2851d via the motor holding member 2851c. Electrical wiring for the motor 2851a may be connected to the excitation power supply 2852 through the case 2851d.
  • various motors such as an AC motor such as an induction motor, a DC motor, or an ultrasonic motor may be used.
  • the unbalanced weight 2851 b may be connected to the rotation shaft of the motor 2851 a.
  • the unbalanced weight 2851 b may be a weight having a center of gravity eccentric to the rotation axis of the motor 2851 a.
  • the excitation power supply 2852 may be a power supply that supplies electric power to the motor 2851 a included in the vibration excitation apparatus 2851.
  • the excitation power supply 2852 may be configured by a power supply according to the type of motor 2851a.
  • the excitation power supply 2852 may be electrically connected to the excitation device 2851 via a feedthrough 283g penetrating the side 283e of the tank 283.
  • the excitation power supply 2852 may be electrically connected to the EUV light generation controller 5 although not shown.
  • the vibrating device 2851 may be configured using a piezoelectric element, an electrostrictive element, or a magnetostrictive element. In any case, the vibrating device 2851 may be any device that can be directly connected to the receiver 280 and can vibrate the receiver 280.
  • the other configuration of the target recovery unit 28 according to the first embodiment may be the same as that of the target recovery unit 28 shown in FIG. 2A.
  • the EUV light generation controller 5 may control the power supplied from the vibration power supply 2852 to the vibration device 2851 so that the motor 2851a of the vibration device 2851 rotates at a predetermined number of rotations.
  • the EUV light generation controller 5 may control the excitation power supply 2852 so that the excitation device 2851 vibrates only while the target supply device 26 outputs the target 27.
  • the EUV light generation controller 5 may control the excitation power supply 2852 so that the excitation device 2851 vibrates in a period in which the EUV light 252 is not generated.
  • the excitation power supply 2852 may change the power supplied to the motor 2851 a under the control of the EUV light generation controller 5.
  • vibrations when the motor 2851a rotates, vibrations may be generated by the inertial force accompanying the rotation of the unbalanced weight 2851b.
  • the vibration can be transmitted to the receiver 280 via the rotation shaft of the motor 2851a, the motor 2851a, the motor holding member 2851c, and the case 2851d.
  • the receiver 280 may vibrate in synchronization with the vibration.
  • the portion of the target 27 that has collided with the receiver 280 may slightly adhere on the receiver 280.
  • the target 27 attached to the receiver 280 may be in a molten state.
  • the target 27 attached to the receiver 280 may fall along the receiver 280 into the tank 283 and be accommodated in the tank 283 by the vibration of the receiver 280 by the vibration device 2851.
  • the EUV light generation controller 5 generates the excitation device 2851 from the excitation power supply 2852 so that the excitation device 2851 vibrates at a predetermined frequency. May control the power supplied to the Further, the predetermined number of rotations of the motor 2851a and the predetermined frequency of the excitation device 2851 may be determined in advance by experiment or the like so that the target 27 attached to the receiver 280 falls.
  • the other operation of the target recovery unit 28 according to the first embodiment may be similar to that of the target recovery unit 28 shown in FIG. 2A.
  • the target collector 28 according to the first embodiment can drop the target 27 into the tank 283 by the vibration of the receiver 280 even if the target 27 adheres to the receiver 280, the target 27 is accumulated on the receiver 280. It can be suppressed.
  • the EUV light generation apparatus 1 including the target recovery unit 28 according to the first embodiment can suppress the occurrence of droplets of the target 27 and adhesion to the EUV collector mirror 23.
  • the EUV light generation apparatus 1 according to the first embodiment can suppress the decrease in the reflectance of the EUV collector mirror 23 and generate stable EUV light 252.
  • the target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 according to the first modification of the first embodiment will be described with reference to FIGS. 4A to 4C.
  • the target recovery unit 28 according to the first modification of the first embodiment may be mainly different from the target recovery unit 28 according to the first embodiment in the arrangement of the vibrating device 2851.
  • the description of the same configuration as that of the EUV light generation apparatus 1 of the first embodiment is omitted.
  • FIG. 4A is a view for explaining a target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 of Modification 1 of the first embodiment.
  • FIG. 4B shows a diagram for explaining the connection relationship between the vibration transfer member 2853 and the vibration device 2851 shown in FIG. 4A.
  • FIG. 4C is a view for explaining another example regarding the connection relationship between the vibration transfer member 2853 and the vibration device 2851 shown in FIG. 4A.
  • the exciter 2851 of FIG. 4A may not be directly connected to the receiver 280.
  • the vibrating device 2851 may be disposed outside the collection container 281 so as to be separated from the receiver 280.
  • the vibrating device 2851 may be disposed on the inner wall surface of the wall 2 a of the chamber 2.
  • the vibration device 2851 and the receiver 280 may be connected by a vibration transmission member 2853 passing through a through hole 282 d provided in the cylindrical portion 282 of the collection container 281.
  • the vibration transfer member 2853 may be formed of a material having high rigidity.
  • the vibration transfer member 2853 may be attached to the case 2851 d of the vibration device 2851 as shown in FIG. 4B.
  • the vibration transfer member 2853 may be attached to extend through the case 2851d to a position where it collides with the rotating unbalanced weight 2851b.
  • the vibration transfer member 2853 can vibrate by colliding with the rotating unbalanced weight 2851 b.
  • the excitation power supply 2852 may be electrically connected to the excitation device 2851 disposed in the chamber 2 via the feedthrough 2 c penetrating the wall 2 a of the chamber 2.
  • the other configuration of the target recovery unit 28 according to the first modification of the first embodiment may be the same as that of the target recovery unit 28 of the first embodiment.
  • the vibrating device 2851 can transmit vibrations to the receiver 280 via the vibration transfer member 2853 even when separated from the receiver 280. For this reason, the vibration device 2851 can be disposed apart from the receiver 280 and the collection container 281 heated to a high temperature equal to or higher than the melting point of the target 27. As a result, the excitation device 2851 can suppress the motor 2851a from being exposed to a high temperature environment and failing. As a result, since the target recovery unit 28 according to the first modification of the first embodiment can improve the durability of the vibration device 2851, the accumulation of the target 27 in the receiver 280 can be stably suppressed. As shown in FIG.
  • the target recovery unit 28 including the vibration transfer member 2853 can further suppress the accumulation of the target 27 in the receiver 280.
  • the target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 according to the second modification of the first embodiment will be described with reference to FIG.
  • the target recovery unit 28 according to the second modification of the first embodiment may be different from the target recovery unit 28 according to the first modification of the first embodiment mainly in the configurations of the receiver 280 and the recovery container 281.
  • the description of the same configuration as that of the EUV light generation apparatus 1 of the modification 1 of the first embodiment is omitted.
  • FIG. 5 is a view for explaining a target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 according to the second modification of the first embodiment.
  • the receiver 280 of FIG. 5 may be configured using a fiber member.
  • the receiver 280 formed of a fiber member is formed of a material having high thermal conductivity and heat resistance to a temperature higher than the melting point of the target 27 as the above-described receiver 280 formed of a plate-like member It may be done.
  • the receiver 280 formed of a fiber member may be formed of a material that is difficult to wet such that the contact angle with the melted target 27 is 90 ° or more, similar to the above-described receiver 280 formed of a plate-like member.
  • One fiber member constituting the receiver 280 may be constituted by a plurality of fiber bundles.
  • One fiber bundle may be a bundle of one or more fibers.
  • the said fiber bundle may be comprised, for example with a carbon fiber or a tungsten fine wire.
  • the receiver 280 may be supported on the inner wall surface of the collection container 281 via the support member 2801.
  • the vibration transfer member 2853 connected to the vibration device 2851 may be connected to the support member 2801.
  • the support member 2801 may be formed of a material having lower rigidity than the vibration transfer member 2853.
  • the support member 2801 may be formed in a structure having lower rigidity than the vibration transfer member 2853.
  • an inclined portion 283 f inclined at an inclination angle substantially equal to the inclination angle of the receiver 280 may be formed.
  • the inclined portion 283 f may be formed in the tank 283.
  • the inclined portion 283 f may be formed by disposing a bulk-like member formed of the same material as the bottom portion 283 d and the side portion 283 e on the bottom portion 283 d of the tank 283 and the inner wall surface 283 c of the side portion 283 e.
  • the inclined portion 283 f may be integrally formed with the bottom portion 283 d and the side portion 283 e of the tank 283.
  • the inclined portion 283 f may be formed to be inclined with respect to each of the target trajectory 272 and the gravity direction, similarly to the receiver 280.
  • the inclined surface of the inclined portion 283 f is directed toward the inner wall surface 283 c of the bottom portion 283 d of the tank 283 with a base of a part of the inner wall surface 283 c at the side portion 283 e of the tank 283 or a part of the inner wall surface 282 c of the cylindrical portion 282 It may be formed to extend.
  • the sloped surface of the sloped portion 283 f may be formed to extend to the inner wall surface 283 c of the bottom portion 283 d beyond the tip of the receiver 280 which is not supported by the support member 2801.
  • the other configuration of the target recovery unit 28 according to the second modification of the first embodiment may be the same as that of the target recovery unit 28 according to the first modification of the first embodiment.
  • the support member 2801 can amplify the amplitude of the vibration transmitted through the vibration transfer member 2853 having higher rigidity than the support member 2801.
  • the receiver 280 can vibrate with a greater amplitude than when supported by a support member having the same degree of rigidity as the vibration transfer member 2853.
  • the target recovery unit 28 according to the second modification of the first embodiment can further suppress the accumulation of the target 27 in the receiver 280.
  • the receiver 280 may deform so that some of the fiber bundles that make up the receiver 280 bend when the target 27 collides, thereby reducing the kinetic energy of the collided target 27.
  • the target 27 may penetrate the receiver 280 and fall into the inclined portion 283 f of the tank 283 recovery container 281.
  • the target 27 which has penetrated the receiver 280 may not fall directly on the liquid surface of the target 27 formed in the tank 283 or on the bottom portion 283 d of the tank 283 but may fall along the inclined portion 283 f.
  • the target recovery unit 28 according to the second modification of the first embodiment can further suppress the generation of droplets of the target 27.
  • the target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 according to the second embodiment will be described with reference to FIG.
  • the target recovery unit 28 according to the second embodiment may have a configuration in which the heat transfer suppressing member 286 is added to the target recovery unit 28 according to the first embodiment.
  • the description of the same configuration as that of the EUV light generation apparatus 1 of the first embodiment will be omitted.
  • FIG. 6 is a view for explaining a target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 of the second embodiment.
  • the vibrating device 2851 of FIG. 6 may be connected to the receiver 280 via the heat transfer suppressing member 286 instead of being directly connected to the plate-like receiver 280.
  • the heat transfer suppressing member 286 may be formed of a material having low thermal conductivity.
  • the heat transfer suppressing member 286 may be formed into a structure having low thermal conductivity.
  • the heat transfer suppressing member 286 may be formed of a material having high rigidity, or may be formed to have a structure having high rigidity.
  • the heat transfer suppressing member 286 may be formed of, for example, a box structure made of stainless steel or ceramic.
  • the other configuration of the target recovery unit 28 according to the second embodiment may be the same as that of the target recovery unit 28 according to the first embodiment.
  • the heat transfer suppressing member 286 can transmit the vibration from the vibrating device 2851 to the receiver 280.
  • the heat transfer suppressing member 286 can suppress transfer of heat from the receiver 280 heated to a high temperature higher than the melting point of the target 27 to the excitation device 2851.
  • the heat transfer suppressing member 286 can thermally protect the vibrating device 2851 and suppress the failure of the motor 2851a without attenuating the vibration transmitted from the vibrating device 2851 to the receiver 280 as much as possible.
  • the target recovery unit 28 according to the second embodiment can improve the durability of the vibration device 2851, the accumulation of the target 27 in the receiver 280 can be stably suppressed.
  • the target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 of the modification 1 of the second embodiment will be described using FIG. 7.
  • the target recovery unit 28 according to the first modification of the second embodiment may have a configuration in which the heat transfer suppressing member 286 is added to the target recovery unit 28 according to the first modification of the first embodiment.
  • the description of the same configuration as the EUV light generation apparatus 1 in the first modification of the first embodiment is omitted.
  • FIG. 7 is a view for explaining the target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 according to the first modification of the second embodiment.
  • the heat transfer suppressing member 286 shown in FIG. 7 may be disposed in the middle of the vibration transmitting member 2853 connecting the vibrating device 2851 and the receiver 280. Alternatively, the heat transfer suppressing member 286 may be disposed at the end of the vibration transmitting member 2853.
  • the other configuration of the heat transfer suppressing member 286 may be the same as the heat transfer suppressing member 286 of the target recovery unit 28 according to the second embodiment shown in FIG.
  • the other configuration of the target recovery unit 28 according to the first modification of the second embodiment may be the same as that of the target recovery unit 28 according to the first modification of the first embodiment.
  • the heat transfer suppressing member 286 thermally protects the vibrating device 2851 to further suppress the failure of the motor 2851a without attenuating the vibration transmitted from the vibrating device 2851 to the receiver 280 as much as possible. It can.
  • the target recovery unit 28 according to the first modification of the second embodiment can further improve the durability of the vibration device 2851, the accumulation of the target 27 in the receiver 280 can be further stably suppressed.
  • the target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 of the modified example 2 of the second embodiment will be described using FIG. 8.
  • the target recovery unit 28 according to the second modification of the second embodiment may have a configuration in which the heat transfer suppressing member 286 is added to the target recovery unit 28 according to the second modification of the first embodiment.
  • the configuration of the recovery container 281 may be different from the target recovery unit 28 according to the second modification of the first embodiment in the target recovery unit 28 according to the second modification of the second embodiment.
  • the description of the same configuration as the EUV light generation apparatus 1 of the second modification of the first embodiment will be omitted.
  • FIG. 8 is a view for explaining a target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 of the modified example 2 of the second embodiment.
  • the inclined portion 283 f of the tank 283 may not be formed in a bulk shape.
  • the inclined portion 283 f may be formed with a thin plate thickness, similar to the bottom portion 283 d and the side portion 283 e of the tank 283.
  • the support member 2801 may be connected to the inner wall surface 283 c of the inclined portion 283 f of the tank 283.
  • the heat transfer suppressing member 286 may be connected to the outer wall surface 283 b of the inclined portion 283 f of the tank 283.
  • the other configuration of the heat transfer suppressing member 286 may be the same as the heat transfer suppressing member 286 of the target recovery unit 28 according to the second embodiment shown in FIG.
  • the vibration device 2851 may be disposed outside the chamber 2 and the collection container 281.
  • the excitation device 2851 may be connected to the outer wall surface 283 b of the inclined portion 283 f of the tank 283 via the heat transfer suppressing member 286.
  • the excitation power supply 2852 may be disposed outside the chamber 2 and the recovery container 281.
  • the excitation power supply 2852 may be electrically connected to the excitation device 2851 without feedthrough.
  • the other configuration of the target recovery unit 28 according to the second modification of the second embodiment may be the same as that of the target recovery unit 28 according to the second modification of the first embodiment.
  • the vibration transfer device 2851 is disposed outside the chamber 2 and the recovery container 281, and the heat transfer suppressing member 286 can suppress the heat transfer from the recovery container 281. Therefore, the failure of the motor 2851a can be further suppressed, and the durability of the vibration device 2851 can be further improved.
  • the vibrating device 2851 can be connected to the outer wall surface 283b of the inclined portion 283f which is easy to transmit the vibration with a thin plate thickness. For this reason, the vibration applying device 2851 can transmit the vibration to the support member 2801 supporting the receiver 280 via the outer wall surface 283b without passing the vibration transfer member 2853. In other words, the vibration device 2851 may vibrate the receiver 280 via the outer wall surface of the collection container 281.
  • the support member 2801 can transmit the vibration while suppressing the vibration from the vibration device 2851 from being damped, and can amplify the amplitude of the vibration.
  • the receiver 280 may oscillate at a large amplitude.
  • the target recovery unit 28 according to the second modification of the second embodiment can suppress the accumulation of the target 27 in the receiver 280 more stably.
  • Target recovery unit provided in the EUV light generation system of the third embodiment The target collector 28 provided in the EUV light generation system 1 according to the third embodiment will be described with reference to FIG.
  • the target recovery unit 28 according to the third embodiment may be mainly different from the target recovery unit 28 according to the second embodiment in the configuration related to the heat transfer suppressing member 286.
  • the description of the same configuration as that of the EUV light generation apparatus 1 of the second embodiment will be omitted.
  • FIG. 9 is a view for explaining a target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 of the third embodiment.
  • the heat transfer suppressing member 286 in FIG. 9 may be replaced by a Peltier element 2861. That is, the Peltier element 2861 may be disposed between the receiver 280 and the exciter 2851.
  • Peltier power supply 2862 may be electrically connected to Peltier element 2861 via feedthrough 283 h penetrating side 283 e of tank 283. Although not shown, the Peltier power supply 2862 may be electrically connected to the EUV light generation controller 5.
  • the other configuration of the target recovery unit 28 according to the third embodiment may be the same as that of the target recovery unit 28 according to the second embodiment.
  • the EUV light generation controller 5 may control the Peltier power supply 2862 so that the Peltier element 2861 operates while the heating device 2841 is operating. Heat generated by the drive of the motor 2851 a included in the vibrating device 2851 can be transmitted to the Peltier element 2861 with respect to the connection portion with the vibrating device 2851. The Peltier element 2861 may transfer the heat transferred to the connection with the vibration device 2851 to the receiver 280. Thereby, the vibrator 2851 may be cooled and the receiver 280 may be heated.
  • the other operation of the target recovery unit 28 according to the third embodiment may be the same as that of the target recovery unit 28 according to the first and second embodiments.
  • the target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 according to the first modification of the third embodiment will be described with reference to FIG.
  • the target recovery unit 28 according to the first modification of the third embodiment may be mainly different from the target recovery unit 28 according to the second modification of the second embodiment in the configuration of the heat transfer suppressing member 286.
  • the description of the same configuration as the EUV light generation apparatus 1 in the second modification of the second embodiment is omitted.
  • FIG. 10 is a view for explaining a target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 according to the first modification of the third embodiment.
  • the heat transfer suppressing member 286 in FIG. 10 may be replaced by a Peltier element 2861. That is, the Peltier element 2861 may be disposed outside the chamber 2 and the recovery container 281 and may be connected to the outer wall surface 283 b of the inclined portion 283 f of the tank 283.
  • the other configuration of the Peltier device 2861 may be the same as that of the Peltier device 2861 of the target recovery unit 28 according to the third embodiment shown in FIG.
  • the Peltier power supply 2862 may be disposed outside the chamber 2 and the collection container 281 and may be electrically connected to the Peltier element 2861 without feedthrough.
  • the other configuration of the Peltier power supply 2862 may be the same as that of the Peltier element 2861 of the target recovery unit 28 according to the third embodiment shown in FIG. 9.
  • the other configuration of the target recovery unit 28 according to the first modification of the third embodiment may be the same as that of the target recovery unit 28 according to the second modification of the second embodiment.
  • the Peltier element 2861 may transfer the heat transferred to the connection portion with the vibration device 2851 to the tank 283.
  • the vibration device 2851 may be cooled and the tank 283 may be heated.
  • the heat transferred to the tank 283 by the Peltier element 2861 may be transferred to the receiver 280 via the support member 2801 so that the receiver 280 may be heated.
  • the target recovery unit 28 according to the first modification of the third embodiment can reduce the power consumption of the heating power supply 2842 that supplies power to the heating device 2841, and the failure of the motor 2851 a included in the vibration device 2851. Can be further suppressed.
  • Target recovery unit provided in the EUV light generation system of the fourth embodiment The target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 according to the fourth embodiment will be described with reference to FIG.
  • the target recovery unit 28 according to the fourth embodiment may have a configuration in which a cooling mechanism 287 is added to the target recovery unit 28 according to the second embodiment.
  • the description of the same configuration as that of the EUV light generation apparatus 1 of the second embodiment will be omitted.
  • FIG. 11 is a view for explaining a target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 of the fourth embodiment.
  • the cooling mechanism 287 of FIG. 11 may be a mechanism for cooling the vibration device 2851.
  • the cooling mechanism 287 may include a cooling device 2871, a heat exchanger 2872, and a pipe 2873.
  • the cooling device 2871 may be a member in which a refrigerant flow path is formed.
  • the refrigerant flowing through the refrigerant channel may be, for example, water.
  • the cooling device 2871 may be formed of a metal having high thermal conductivity.
  • the cooling device 2871 may be connected to the surface of the vibration device 2851 located on the opposite side to the heat transfer suppressing member 286.
  • the pipe 2873 may communicate the refrigerant flow path in the cooling device 2871 with the refrigerant flow path in the heat exchanger 2872.
  • the pipe 2873 may be disposed to pass through a feedthrough 283i that passes through the side 283e of the tank 283.
  • the heat exchanger 2872 may circulate the refrigerant in a loop formed by the refrigerant flow path in the heat exchanger 2872, the refrigerant flow path in the cooling device 2871, and the pipe 2873. Although not shown, the heat exchanger 2872 may be electrically connected to the EUV light generation controller 5.
  • the other configuration of the target recovery unit 28 according to the fourth embodiment may be the same as that of the target recovery unit 28 according to the second embodiment.
  • the EUV light generation controller 5 may control the heat exchanger 2872 so that the refrigerant in the refrigerant flow path in the cooling device 2871 flows while the heating device 2841 is in operation.
  • the heat exchanger 2872 may cool the refrigerant by discharging the heat of the refrigerant flowing from the cooling device 2871 to the atmosphere.
  • the heat exchanger 2872 may cause the cooled refrigerant to flow out to the cooling device 2871. Thereby, the vibration device 2851 connected to the cooling device 2871 can be cooled.
  • the other operations of the target recovery unit 28 according to the fourth embodiment may be the same as those of the target recovery unit 28 according to the first and second embodiments.
  • the target recovery device 28 according to the fourth embodiment can cool the vibration device 2851 by the cooling device 2871 and the heat exchanger 2872. Therefore, the failure of the motor 2851a included in the vibration device 2851 can be further suppressed.
  • the target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 according to the first modification of the fourth embodiment will be described with reference to FIG.
  • the target recovery unit 28 according to the first modification of the fourth embodiment may have a configuration in which a cooling mechanism 287 is added to the target recovery unit 28 according to the first modification of the second embodiment.
  • the description of the same configuration as the EUV light generation apparatus 1 in the first modification of the second embodiment is omitted.
  • FIG. 12 is a view for explaining a target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 of Modification 1 of the fourth embodiment.
  • the cooling device 2871 included in the cooling mechanism 287 of FIG. 12 may be disposed between the wall 2 a of the chamber 2 and the vibrating device 2851.
  • the pipe 2873 may be disposed to pass through the feedthrough 2 d penetrating the wall 2 a of the chamber 2.
  • the other configuration of the cooling mechanism 287 may be the same as the cooling mechanism 287 of the target recovery unit 28 according to the fourth embodiment shown in FIG.
  • the other configuration of the target recovery unit 28 according to the first modification of the fourth embodiment may be the same as that of the target recovery unit 28 according to the first modification of the second embodiment.
  • the target recovery unit 28 according to the first modification of the fourth embodiment can cool the vibration excitation device 2851 by the cooling device 2871 and the heat exchanger 2872. Can be further suppressed.
  • the target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 of Modification 2 of the fourth embodiment will be described using FIG. 13.
  • the target recovery unit 28 according to the second modification of the fourth embodiment may have a configuration in which a cooling mechanism 287 is added to the target recovery unit 28 according to the second modification of the second embodiment.
  • the description of the same configuration as that of the EUV light generation apparatus 1 in the modification 2 of the second embodiment is omitted.
  • FIG. 13 is a view for explaining a target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 according to the second modification of the fourth embodiment.
  • the cooling device 2871 included in the cooling mechanism 287 of FIG. 13 may be connected to the surface of the vibration excitation device 2851 located on the opposite side to the heat transfer suppressing member 286.
  • the pipe 2873 may directly connect the cooling device 2871 and the heat exchanger 2872.
  • the other configuration of the cooling mechanism 287 may be the same as the cooling mechanism 287 of the target recovery unit 28 according to the fourth embodiment shown in FIG.
  • the other configuration of the target recovery unit 28 according to the second modification of the fourth embodiment may be the same as that of the target recovery unit 28 according to the second modification of the second embodiment.
  • the target recovery unit 28 can cool the vibration excitation device 2851 by the cooling device 2871 and the heat exchanger 2872, so the motor 2851 a included in the vibration excitation device 2851. Can be further suppressed.
  • Target recovery unit provided in the EUV light generation system of the fifth embodiment The target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 according to the fifth embodiment will be described with reference to FIG.
  • the target recovery unit 28 according to the fifth embodiment may have a configuration in which a vibration damping member 288 is added to the target recovery unit 28 according to the second embodiment.
  • the description of the same configuration as that of the EUV light generation apparatus 1 of the second embodiment will be omitted.
  • FIG. 14 is a view for explaining a target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 of the fifth embodiment.
  • the receiver 280 of FIG. 14 may be supported on the inner wall surface 282c of the cylindrical portion 282 via the vibration damping member 288.
  • the vibration damping member 288 may be an elastic body that damps vibration.
  • the vibration damping member 288 may be formed of a material having high thermal conductivity.
  • the vibration damping member 288 may be made of, for example, vibration-proof silicone rubber or thermally conductive silicone rubber, and is formed using a metal member including pores such as a foam metal made of a metal such as aluminum or nickel. It may be done. Also, the vibration damping member 288 may be formed using a metal spring material.
  • the other configuration of the target recovery unit 28 according to the fifth embodiment may be the same as that of the target recovery unit 28 according to the second embodiment.
  • the vibration damping member 288 can suppress transmission of the vibration of the receiver 280 to other components of the target collector 28 such as the cylindrical portion 282 and the tank 283. Thereby, the vibration damping member 288 can suppress transmission of the vibration of the receiver 280 to the chamber 2 in which the target recovery unit 28 is fixed or the target supply unit 26 fixed in the chamber 2. As a result, the target recovery unit 28 according to the fifth embodiment can suppress the chamber 2 and the target supply unit 26 from vibrating and the target trajectory 272 being disturbed.
  • the target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 of the modification 1 of the fifth embodiment will be described using FIG.
  • the target recovery unit 28 according to the first modification of the fifth embodiment may have a configuration in which the vibration damping member 288 is added to the target recovery unit 28 according to the first modification of the second embodiment.
  • the description of the same configuration as that of the EUV light generation apparatus 1 in the modification 1 of the second embodiment is omitted.
  • FIG. 15 is a view for explaining a target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 according to the first modification of the fifth embodiment.
  • the vibration damping member 288 of FIG. 15 may be disposed between the inner wall surface 282c of the cylindrical portion 282 and the receiver 280, similarly to the vibration damping member 288 shown in FIG.
  • the other configuration of the vibration damping member 288 may be the same as the vibration damping member 288 of the target recovery unit 28 according to the fourth embodiment shown in FIG.
  • the other configuration of the target recovery unit 28 according to the first modification of the fifth embodiment may be the same as that of the target recovery unit 28 according to the first modification of the second embodiment.
  • the vibration damping member 288 can suppress transmission of the vibration of the receiver 280 to other components of the target collector 28.
  • the target recovery unit 28 according to the first modification of the fifth embodiment can suppress the transmission of the vibration of the receiver 280 to the chamber 2 and the target supply unit 26 to disturb the target trajectory 272.
  • the target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 of the modified example 2 of the fifth embodiment will be described using FIG.
  • the target recovery unit 28 according to the second modification of the fifth embodiment may have a configuration in which the vibration damping member 288 is added to the target recovery unit 28 according to the second modification of the second embodiment.
  • the description of the same configuration as the EUV light generation apparatus 1 in the modification 2 of the second embodiment is omitted.
  • FIG. 16 is a view for explaining a target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 according to the second modification of the fifth embodiment.
  • the vibration damping member 288 of FIG. 16 may be disposed as part of the sloped portion 283 f of the tank 283.
  • the vibration damping member 288 may be disposed as a part of the sloped portion 283 f around the area occupied by the heat transfer suppressing member 286 connected to the vibrating device 2851 in the sloped portion 283 f.
  • a support member 2801 for supporting the receiver 280 may be connected to the inner wall surface 283c in the region occupied by the heat transfer suppressing member 286 of the inclined portion 283f.
  • the vibration damping member 288 may be formed of an airtight material.
  • the vibration damping member 288 may be made of, for example, vibration-proof silicone rubber or thermally conductive silicone rubber.
  • the vibration damping member 288 may be arranged such that the air tightness in the tank 283 can be ensured.
  • the vibration damping member 288 differs from the vibration damping member 288 shown in FIG. 14 from the viewpoint of air tightness in the tank 283 and is not a metal member including pores such as foam metal or a spring material of metal preferable.
  • the other configuration of the vibration damping member 288 may be the same as the vibration damping member 288 of the target collector 28 according to the second embodiment shown in FIG.
  • the other configuration of the target recovery unit 28 according to the second modification of the fifth embodiment may be the same as that of the target recovery unit 28 according to the second modification of the second embodiment.
  • the vibration damping member 288 can suppress transmission of the vibration of the vibrating device 2851 and the receiver 280 to other components of the target recovery unit 28 such as the cylindrical portion 282 and the tank 283. Thereby, the vibration damping member 288 can suppress the transfer of the vibration of the vibrating device 2851 and the receiver 280 to the chamber 2 in which the target recovery unit 28 is fixed and the target supply unit 26 fixed in the chamber 2. As a result, the target recovery unit 28 according to the second modification of the fifth embodiment can suppress the chamber 2 and the target supply unit 26 from vibrating and the target trajectory 272 being disturbed.
  • Target recovery unit provided in the EUV light generation system of the sixth embodiment The target collector 28 provided in the EUV light generation system 1 according to the sixth embodiment will be described with reference to FIGS. 17 to 18C.
  • the target recovery unit 28 according to the sixth embodiment may be mainly different from the target recovery unit 28 according to the fifth embodiment in the configurations of the recovery container 281 and the vibration damping member 288.
  • the description of the same configuration as that of the EUV light generation apparatus 1 of the fifth embodiment will be omitted.
  • FIG. 17 is a view for explaining a target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 of the sixth embodiment.
  • FIG. 18A is an enlarged view of a portion P shown in FIG. 17 and is a view for explaining a configuration example 1 of the vibration damping member 288.
  • FIG. 18B is an enlarged view of a portion P shown in FIG. 17 and is a view for explaining a configuration example 2 of the vibration damping member 288.
  • FIG. 18C is an enlarged view of a portion P shown in FIG. 17 and is a view for explaining a configuration example 3 of the vibration damping member 288.
  • the collection container 281 of FIG. 17 may be provided with a holding flange 282e and a connection flange 282f.
  • the holding flange 282e may be formed in a bowl shape.
  • the holding flange 282 e may be formed so as to protrude radially outward from the outer wall surface 282 b of the cylindrical portion 282.
  • the holding flange 282 e may be formed to project substantially orthogonal to the target track 272.
  • the holding flange 282 e may be integrally formed with the cylindrical portion 282.
  • the holding flange 282 e may be formed of the same material as the cylindrical portion 282 and the tank 283.
  • the holding flange 282 e may be provided on the tank 283.
  • the connecting flange 282 f may be a flange for connecting the target collector 28 to the chamber 2.
  • the connection flange 282 f may be formed in a ring shape.
  • the connection flange 282 f may be formed of the same material as the cylindrical portion 282 and the tank 283.
  • bolt holes 282g and grooves 282h may be formed in the connection flange 282f.
  • the bolt hole 282g may be a hole into which a bolt 2891 for fixing the connection flange 282f to the wall 2a of the chamber 2 may be screwed.
  • the groove 282 h may be a groove for disposing a seal member 2892 that airtightly connects the connection flange 282 f to the wall 2 a of the chamber 2.
  • the groove for disposing the seal member 2892 may not be formed on the connection flange 282 f but may be formed on the wall 2 a of the chamber 2.
  • the vibration damping member 288 of FIG. 17 may be disposed between the chamber 2 and the target collector 28.
  • the vibration damping member 288 may be configured as a bellows member 2881 as shown in FIG. 18A.
  • the bellows member 2881 may be formed in an expandable tubular shape.
  • the bellows member 2881 may be formed of an elastic material.
  • the bellows member 2881 may be formed of the same material as the cylindrical portion 282 and the tank 283.
  • the bellows member 2881 may be airtightly joined to each of the holding flange 282 e and the connection flange 282 f by welding or the like.
  • the bellows member 2881 may connect the holding flange 282e and the connection flange 282f.
  • the chamber 2 and the target recovery unit 28 can be connected via a bellows member 2881 which is a vibration damping member 288.
  • the vibration damping member 288 may be configured by adding the anti-vibration rubber 2882 to the outside of the bellows member 2881 shown in FIG. 18A.
  • the anti-vibration rubber 2882 may be formed of the above-described anti-vibration silicone rubber.
  • the anti-vibration rubber 2882 may be disposed at a plurality of locations surrounding the cylindrical portion 282 between the holding flange 282 e and the connection flange 282 f.
  • the vibration damping member 288 may be configured using a metal member including the holes described above, instead of the vibration damping rubber 2882.
  • the metal member including the pores may be a foam metal or the like formed of the above-described metal such as aluminum or nickel.
  • the vibration damping member 288 may be configured by adding a spring member 2883 to the outside of the bellows member 2881 shown in FIG. 18A.
  • the spring member 2883 may be a metal spring material.
  • the spring members 2883 may be disposed at a plurality of locations surrounding the cylindrical portion 282 between the holding flange 282 e and the connection flange 282 f.
  • the vibration damping member 288 may be configured using a damper such as a gas spring or a hydraulic damper instead of the spring member 2883.
  • the other configuration of the target recovery unit 28 according to the sixth embodiment may be the same as that of the target recovery unit 28 according to the fifth embodiment.
  • the vibration damping member 288 can suppress transmission of the vibration of the receiver 280 to the chamber 2 connected to the target recovery unit 28 or the target supply unit 26 fixed to the chamber 2.
  • the target recovery unit 28 according to the sixth embodiment can suppress the chamber 2 and the target supply unit 26 from vibrating and the target trajectory 272 being disturbed.
  • the target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 of the modification 1 of the sixth embodiment will be described using FIG.
  • the target recovery unit 28 according to the first modification of the sixth embodiment differs from the target recovery unit 28 according to the first modification of the fifth embodiment mainly in the configurations of the recovery container 281 and the vibration damping member 288. Good.
  • the description of the same configuration as the EUV light generation apparatus 1 in the first modification of the fifth embodiment is omitted.
  • FIG. 19 is a view for explaining a target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 of Modification 1 of the sixth embodiment.
  • the collection container 281 of FIG. 19 may be provided with a holding flange 282e and a connection flange 282f, similar to the collection container 281 shown in FIGS. 17 to 18C.
  • the vibration damping member 288 of FIG. 19 has a configuration similar to the vibration damping member 288 shown in FIGS. 17-18C, and may be disposed between the chamber 2 and the target collector 28.
  • the other configuration of the target recovery unit 28 according to the first modification of the sixth embodiment may be the same as that of the target recovery unit 28 according to the first modification of the fifth embodiment.
  • the vibration damping member 288 can suppress transmission of the vibration of the receiver 280 to the chamber 2 and the target supply device 26.
  • the target recovery unit 28 according to the first modification of the sixth embodiment can suppress the chamber 2 and the target supply unit 26 from vibrating and the target trajectory 272 being disturbed.
  • the target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 according to the second modification of the sixth embodiment will be described with reference to FIG.
  • the target recovery unit 28 according to the second modification of the sixth embodiment differs from the target recovery unit 28 according to the second modification of the fifth embodiment mainly in the configurations of the recovery container 281 and the vibration damping member 288. Good.
  • the description of the same configuration as that of the EUV light generation apparatus 1 in the modification 2 of the fifth embodiment is omitted.
  • FIG. 20 is a view for explaining a target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 of the modified example 2 of the sixth embodiment.
  • the collection container 281 of FIG. 20 may be provided with a holding flange 282e and a connection flange 282f, similar to the collection container 281 shown in FIGS. 17 to 18C.
  • the recovery container 281 does not have the vibration damping member 288 arranged with respect to a part of the inclined portion 283 f of the tank 283, and may have the same configuration as the inclined portion 283 f shown in FIG. 8.
  • the vibration damping member 288 of FIG. 20 has a configuration similar to the vibration damping member 288 shown in FIGS. 17-18C, and may be disposed between the chamber 2 and the target collector 28.
  • the other configuration of the target recovery unit 28 according to the second modification of the sixth embodiment may be the same as that of the target recovery unit 28 according to the second modification of the fifth embodiment.
  • the vibration damping member 288 can suppress transmission of the vibration of the vibrating device 2851 and the receiver 280 to the chamber 2 and the target supply device 26.
  • the target recovery unit 28 according to the second modification of the sixth embodiment can suppress the chamber 2 and the target supply unit 26 from vibrating and the target trajectory 272 being disturbed.
  • the target collector 28 provided in the EUV light generation system 1 of the seventh embodiment will be described with reference to FIG.
  • the EUV light generation system 1 of the seventh embodiment may tilt the direction in which the EUV light 252 is directed from the chamber 2 toward the exposure system 6 with respect to the horizontal direction.
  • the substantially cylindrical chamber 2 may be provided such that the central axis direction thereof is inclined with respect to the horizontal direction.
  • the target supply device 26 provided on the side of the chamber 2 may output the target 27 so that the target trajectory 272 is inclined with respect to the direction of gravity.
  • the target recovery unit 28 according to the seventh embodiment may be disposed on an extension of the target track 272 which is inclined with respect to the gravity direction.
  • the description of the same configuration as that of the EUV light generation apparatus 1 of the first to sixth embodiments will be omitted.
  • FIG. 21 is a view for explaining a target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 of the seventh embodiment.
  • the cylindrical portion 282 may be bent.
  • the cylindrical portion 282 may include a first cylindrical portion 2821, a second cylindrical portion 2822, and a bent portion 2823.
  • the first tubular portion 2821 may be a part of the tubular portion 282 located on the inner side of the chamber 2 with respect to the bending portion 2823.
  • the first cylindrical portion 2821 may be formed such that its central axis extends along the target track 272.
  • the central axis of the first cylindrical portion 2821 may be inclined with respect to the gravity direction.
  • the first tubular portion 2821 may be disposed to penetrate the wall 2 a of the chamber 2.
  • the opening 2821 a at one end side of the first cylindrical portion 2821 may be located inside the chamber 2.
  • the opening 2821 a may be an opening for the target 27 not irradiated with the pulsed laser light 33 to enter the collection container 281.
  • the opening at the other end of the first cylindrical portion 2821 may be located outside the chamber 2.
  • a holding flange 282e may be integrally formed on the first cylindrical portion 2821, similarly to the cylindrical portion 282 shown in FIGS. 17 to 18C.
  • the first cylindrical portion 2821 may be connected to the connection flange 282f fixed to the wall 2a of the chamber 2 via the bellows member 2881 similarly to the cylindrical portion 282 shown in FIGS. 17 to 18C. . That is, the first cylindrical portion 2821 may be connected to the wall 2 a of the chamber 2 via the bellows member 2881.
  • the chamber 2 and the target recovery unit 28 can be connected via a bellows member 2881 which is a vibration damping member 288.
  • the second cylindrical portion 2822 may be a part of the cylindrical portion 282 located closer to the outside of the chamber 2 than the bending portion 2823.
  • the second cylindrical portion 2822 may be formed such that its central axis extends along the direction of gravity.
  • the central axis of the second tubular portion 2822 may be inclined relative to the target track 272.
  • the second cylindrical portion 2822 may be disposed outside the chamber 2.
  • the bent portion 2823 may be a part of the cylindrical portion 282 and may be a boundary between the first cylindrical portion 2821 and the second cylindrical portion 2822.
  • the bend 2823 may be located outside the chamber 2.
  • a reflective plate 2824 may be provided inside the bent portion 2823.
  • the reflecting surface of the reflecting plate 2824 may reflect the target 27 having entered the first cylindrical portion 2821 into the second cylindrical portion 2822.
  • the reflecting plate 2824 may be formed integrally with the bending portion 2823.
  • a part of the inner wall surface of the bent portion 2823 may function as a reflection surface of the reflection plate 2824. That is, the inner wall surface of the bending portion 2823 may reflect the target 27 which has entered the first cylindrical portion 2821 into the second cylindrical portion 2822.
  • An inclined portion 283 f may be formed in the tank 283 similarly to the tank 283 shown in FIG. 7.
  • the tank 283 may be connected to the second cylindrical portion 2822 via a bellows member 2881 which is a vibration damping member 288.
  • the receiver 280 of FIG. 21 may be configured using the plate-like member or the fiber member described above. In FIGS. 21 to 23, the receiver 280 configured by using the above-described plate-like member is representatively shown.
  • a plurality of receivers 280 may be provided inside the cylindrical portion 282. At least one of the plurality of receivers 280 may be disposed in the first tubular portion 2821. At least one of the plurality of receivers 280 may be supported by the inner wall surface 2821 c of the first cylindrical portion 2821 located closer to the inside of the chamber 2 than the reflective plate 2824.
  • Each of the plurality of receivers 280 may be directly supported with respect to each of the inner wall surface 2821 c of the first cylindrical portion 2821 and the inner wall surface 2822 c of the second cylindrical portion 2822 without the support member.
  • each of the plurality of receivers 280 may be supported on each of the inner wall surfaces 2821 c and 2822 c via a support member similar to the support member 2801 described above.
  • the plurality of receivers 280 may be alternately arranged with respect to the central axis of the first or second cylindrical portion 2821 or 2822.
  • the vibration applying device 2851 of FIG. 21 may be connected to the outer wall surface 2822 b of the second cylindrical portion 2822 via the heat transfer suppressing member 286.
  • the cooling device 2871 of FIG. 21 may be connected to the surface of the vibration device 2851 opposite to the heat transfer suppressing member 286.
  • the other configuration of the target recovery unit 28 according to the seventh embodiment may be the same as that of the target recovery unit 28 according to the first to sixth embodiments.
  • the target 27 can travel along the target track 272 inclined with respect to the direction of gravity and enter the first cylindrical portion 2821.
  • the target 27 entering the first cylindrical portion 2821 may collide with the receiver 280 disposed in the first cylindrical portion 2821 to reduce kinetic energy.
  • the target 27 that has collided with the receiver 280 disposed in the first cylindrical portion 2821 may collide with the reflection surface of the reflection plate 2824, and the traveling direction may be changed. At this time, even if the target 27 collides with the reflecting plate 2824, the scattering of the droplets out of the collection container 281 may be blocked by the receiver 280 disposed in the first cylindrical portion 2821.
  • the target 27 that has collided with the reflection surface of the reflection plate 2824 may enter into the second cylindrical portion 2822.
  • the target 27 entering the second cylindrical portion 2822 may collide with the receiver 280 disposed in the second cylindrical portion 2822 to further reduce kinetic energy.
  • the target 27 colliding with the receiver 280 disposed in the second cylindrical portion 2822 may fall to the inclined portion 283 f in the tank 283, and may be accommodated in the tank 283 along the inclined portion 283 f.
  • the exciter 2851 may vibrate the outer wall surface 2822 b of the second cylindrical portion 2822 via the heat transfer suppressing member 286 only while the target supply device 26 outputs the target 27.
  • the excitation apparatus 2851 may vibrate the outer wall surface 2822 b of the second cylindrical portion 2822 via the heat transfer suppressing member 286 in a period in which the EUV light 252 is not generated.
  • the vibration applied to the outer wall surface 2822 b of the second cylindrical portion 2822 via the heat transfer suppressing member 286 can be transmitted to the second cylindrical portion 2822 and the first cylindrical portion 2821.
  • the vibration transmitted to the second cylindrical portion 2822 and the first cylindrical portion 2821 may be transmitted to the receiver 280 disposed in the second cylindrical portion 2822 and the receiver 280 disposed in the first cylindrical portion 2821. That is, the vibration applying device 2851 can vibrate the receivers 280 disposed in the first cylindrical portion 2821 and the second cylindrical portion 2822 via the outer wall surface 2822 b of the second cylindrical portion 2822. Thereby, the accumulation of the target 27 on the receiver 280 can be suppressed.
  • the vibration transmitted to the second cylindrical portion 2822 may be attenuated by the vibration damping member 288 between the second cylindrical portion 2822 and the tank 283, and the transmission to the tank 283 may be blocked.
  • the vibration transmitted to the first cylindrical portion 2821 may be attenuated by the vibration damping member 288 between the first cylindrical portion 2821 and the chamber 2 and the transmission to the chamber 2 may be blocked.
  • the other operations of the target recovery unit 28 according to the seventh embodiment may be the same as those of the target recovery unit 28 according to the first to sixth embodiments.
  • the target recovery unit 28 according to the seventh embodiment can vibrate only the cylindrical portion 282 in which the vibration exciter 2851 and the receiver 280 are disposed in a limited manner. That is, in the target recovery unit 28 according to the seventh embodiment, the vibrations of the vibration device 2851 and the receiver 280 are transmitted to the chamber 2 in which the target recovery unit 28 is fixed and the target supply unit 26 in which the chamber 2 is fixed. Can be suppressed.
  • the target recovery unit 28 may be used in a state where the tank 283 is installed on a frame or floor surface on which the chamber 2 is mounted.
  • the target recovery unit 28 according to the seventh embodiment can vibrate only the cylindrical portion 282 in a limited manner, so that the vibration of the vibration device 2851 and the receiver 280 from the tank 283 via the frame and the floor surface. Transmission to the target supply unit 26 can be suppressed. As a result, the target recovery unit 28 according to the seventh embodiment can suppress that the chamber 2 and the target supply unit 26 vibrate and the target trajectory 272 is disturbed.
  • the target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 according to the first modification of the seventh embodiment will be described with reference to FIG.
  • the target recovery unit 28 according to the first modification of the seventh embodiment may be mainly different from the target recovery unit 28 according to the seventh embodiment in the configurations of the recovery container 281 and the vibration mechanism 285.
  • the description of the same configuration as that of the EUV light generation apparatus 1 of the seventh embodiment is omitted.
  • FIG. 22 is a view for explaining a target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 of Modification 1 of the seventh embodiment.
  • the first cylindrical portion 2821 may be fixed to the wall 2 a of the chamber 2 without the bellows member 2881. Further, in the recovery container 281, even if the second cylindrical portion 2822 is not integrally formed with the first cylindrical portion 2821 and the bending portion 2823, it is connected to the bending portion 2823 and the tank 283 via the bellows member 2881. Good.
  • the receiver 280 disposed in the first cylindrical portion 2821 may be supported via the vibration damping member 288 with respect to the inner wall surface 2821 c of the first cylindrical portion 2821.
  • the receiver 280 disposed in the second cylindrical portion 2822 among the plurality of receivers 280 may be directly supported on the inner wall surface 2822 c of the second cylindrical portion 2822.
  • the vibrating mechanism 285 of FIG. 22 may include a first vibrating device 2854, a first vibrating power source 2855, a second vibrating device 2856, and a second vibrating power source 2857.
  • the first excitation device 2854 may be a vibrator that vibrates the receiver 280 disposed in the first cylindrical portion 2821.
  • the first vibration device 2854 may be disposed on the inner wall surface of the wall 2 a of the chamber 2.
  • the first excitation device 2854 may be connected to the receiver 280 disposed in the first cylindrical portion 2821 via the heat transfer suppressing member 286 passing through the through hole 2821 d provided in the first cylindrical portion 2821.
  • the first excitation power supply 2855 may be a power supply that supplies power to the motor included in the first excitation device 2854.
  • the first excitation power supply 2855 may be electrically connected to the first excitation device 2854 disposed in the chamber 2 via the feedthrough 2 c penetrating the wall 2 a of the chamber 2.
  • the second excitation device 2856 may be a vibrator that vibrates the receiver 280 disposed in the second cylindrical portion 2822.
  • the second excitation device 2856 may be connected to the outer wall surface 2822 b of the second cylindrical portion 2822 via the heat transfer suppressing member 286.
  • the second excitation power supply 2857 is a power supply that supplies power to the motor included in the second excitation device 2856, and may be electrically connected to the second excitation device 2856.
  • the cooling device 2871 of FIG. 22 may be connected to the surface of the second vibration device 2856 opposite to the heat transfer suppressing member 286.
  • the other configuration of the target recovery unit 28 according to the first modification of the seventh embodiment may be the same as that of the target recovery unit 28 according to the seventh embodiment.
  • the target recovery unit 28 since the first cylindrical portion 2821 which is a part of the cylindrical portion 282 is fixed to the wall 2 a of the chamber 2, the target track Positioning of the collection container 281 relative to 272 may be facilitated.
  • the target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 of Modification 2 of the seventh embodiment will be described using FIG.
  • the target recovery unit 28 according to the second modification of the seventh embodiment is mainly configured of the receiver 280 disposed in the second cylindrical portion 2822 with respect to the target recovery unit 28 according to the first modification of the seventh embodiment. May be different.
  • the description of the same configuration as the EUV light generation apparatus 1 in the modification 1 of the seventh embodiment is omitted.
  • FIG. 23 is a view for explaining a target recovery unit 28 provided in the EUV light generation system 1 of Modification 2 of the seventh embodiment.
  • the receiver 280 disposed in the second cylindrical portion 2822 may be supported via the vibration damping member 288 with respect to the inner wall surface 2822 c of the second cylindrical portion 2822.
  • the second vibration exciter 2856 in FIG. 23 is connected to the receiver 280 disposed in the second cylindrical portion 2822 via the heat transfer suppressing member 286 passing through the through hole 2822 d provided in the second cylindrical portion 2822. It is also good.
  • the second excitation device 2856 and the cooling device 2871 may be accommodated in a case 2822 e provided on the outer wall surface 2822 b of the second cylindrical portion 2822.
  • the case 2822e may be disposed to surround the through hole 2822d.
  • the inside of the case 2822e may communicate with the inside of the second cylindrical portion 2822.
  • the case 2822 e may isolate the inside of the second cylindrical portion 2822 provided with the through hole 2822 d from the outside air.
  • the case 2822 e may be integrally formed with the second cylindrical portion 2822.
  • the second excitation device 2856 disposed in the case 2822e may be electrically connected to the second excitation power supply 2857 via a feedthrough 2822f penetrating the case 2822e.
  • the refrigerant flow path in the cooling device 2871 disposed in the case 2822e may be in communication with the heat exchanger 2872 by a pipe 2873 passing through a feedthrough 2822g penetrating the case 2822e.
  • the other configuration of the target recovery unit 28 according to the second modification of the seventh embodiment may be the same as that of the target recovery unit 28 according to the first modification of the seventh embodiment.
  • the first cylindrical portion 2821 is fixed to the chamber 2 as in the target recovery unit 28 according to the first modification of the seventh embodiment. By doing so, the positioning of the collection container 281 can be facilitated.

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Abstract

　ＥＵＶ光を安定的に生成する。　極端紫外光生成装置は、内部の所定領域でターゲットにレーザ光が照射されると極端紫外光が生成されるチャンバと、前記チャンバ内の前記所定領域に向かって前記ターゲットを出力することで前記所定領域に前記ターゲットを供給するターゲット供給器と、前記ターゲット供給器から出力され前記レーザ光が照射されなかった前記ターゲットを回収するターゲット回収器と、を具備し、前記ターゲット回収器は、前記ターゲット供給器から出力された前記ターゲットの軌道に対して傾斜して配置され、前記レーザ光が照射されなかった前記ターゲットを衝突させて受けるレシーバと、前記レシーバを振動させる加振装置と、を備えてもよい。

Description

極端紫外光生成装置及びターゲット回収器
　本開示は、極端紫外光生成装置及びターゲット回収器に関する。
　近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、７０ｎｍ～４５ｎｍの微細加工、さらには３２ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。このため、例えば３２ｎｍ以下の微細加工の要求に応えるべく、波長１３ｎｍ程度の極端紫外（ＥＵＶ）光を生成する極端紫外（ＥＵＶ）光生成装置と縮小投影反射光学系（Reduced Projection Reflective Optics）とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。
　ＥＵＶ光生成装置としては、ターゲットにレーザ光を照射することによって生成されるプラズマを用いたＬＰＰ（Laser Produced Plasma：レーザ励起プラズマ）方式の装置と、放電によって生成されるプラズマを用いたＤＰＰ（Discharge Produced Plasma）方式の装置と、軌道放射光を用いたＳＲ（Synchrotron Radiation）方式の装置との３種類の装置が提案されている。
特許出願公開２０００－２１９９２１号 特許出願公開２００８－２２６４６２号 特許出願公開２０１２－１４６６８２号 特許出願公表昭和６２－５０２４７８号 米国特許出願公開２０１０／０２５８７４８号 国際出願ＰＣＴ／ＪＰ２０１３／０７９０９２号 国際出願ＰＣＴ／ＪＰ２０１３／０８５１８４号
概要
　本開示の１つの観点に係る極端紫外光生成装置は、内部の所定領域でターゲットにレーザ光が照射されると極端紫外光が生成されるチャンバと、前記チャンバ内の前記所定領域に向かって前記ターゲットを出力することで前記所定領域に前記ターゲットを供給するターゲット供給器と、前記ターゲット供給器から出力され前記レーザ光が照射されなかった前記ターゲットを回収するターゲット回収器と、を具備し、前記ターゲット回収器は、前記ターゲット供給器から出力された前記ターゲットの軌道に対して傾斜して配置され、前記レーザ光が照射されなかった前記ターゲットを衝突させて受けるレシーバと、前記レシーバを振動させる加振装置と、を備えてもよい。
　本開示の１つの観点に係るターゲット回収器は、軌道に沿って飛来するターゲットの前記軌道に対して傾斜して配置され、飛来した前記ターゲットを衝突させて受けるレシーバと、前記レシーバを振動させる加振装置と、を備えてもよい。
　本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図１は、例示的なＬＰＰ方式のＥＵＶ光生成システムの構成を概略的に示す。 図２Ａは、ターゲット回収器の具体的な構成を説明するための図を示す。 図２Ｂは、図２Ａに示されたレシーバ及び筒部をＦ方向から視た図を示す。 図３Ａは、第１実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器の構成を説明するための図を示す。 図３Ｂは、図３Ａに示された加振装置の構成を説明するための図を示す。 図４Ａは、第１実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。 。図４Ｂは、図４Ａに示された振動伝達部材及び加振装置の接続関係を説明するための図を示す。 図４Ｃは、図４Ａに示された振動伝達部材及び加振装置の接続関係に関する他の例を説明するための図を示す。 図５は、第１実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。 図６は、第２実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。 図７は、第２実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。 図８は、第２実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。 図９は、第３実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。 図１０は、第３実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。 図１１は、第４実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。 図１２は、第４実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。 図１３は、第４実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。 図１４は、第５実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。 図１５は、第５実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。 図１６は、第５実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。 図１７は、第６実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。 図１８Ａは、図１７に示されたＰ部分の拡大図であって、振動減衰部材の構成例１を説明するための図を示す。 図１８Ｂは、図１７に示されたＰ部分の拡大図であって、振動減衰部材の構成例２を説明するための図を示す。 図１８Ｃは、図１７に示されたＰ部分の拡大図であって、振動減衰部材の構成例３を説明するための図を示す。 図１９は、第６実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。 図２０は、第６実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。 図２１は、第７実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。 図２２は、第７実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。 図２３は、第７実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。
実施形態
～内容～
　１．概要
　２．用語の説明
　３．ＥＵＶ光生成システムの全体説明
　　３．１　構成
　　３．２　動作
　４．ＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器
　　４．１　構成
　　４．２　動作
　　４．３　作用
　５．課題
　６．第１実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器
　　６．１　構成
　　６．２　動作
　　６．３　作用
　　６．４　第１実施形態の変形例１
　　６．５　第１実施形態の変形例２
　７．第２実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器
　　７．１　第２実施形態の変形例１
　　７．２　第２実施形態の変形例２
　８．第３実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器
　　８．１　構成
　　８．２　動作
　　８．３　作用
　　８．４　第３実施形態の変形例１
　９．第４実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器
　　９．１　構成
　　９．２　動作
　　９．３　作用
　　９．４　第４実施形態の変形例１
　　９．５　第４実施形態の変形例２
１０．第５実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器
　１０．１　第５実施形態の変形例１
　１０．２　第５実施形態の変形例２
１１．第６実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器
　１１．１　第６実施形態の変形例１
　１１．２　第６実施形態の変形例２
１２．第７実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器
　１２．１　構成
　１２．２　動作
　１２．３　作用
　１２．４　第７実施形態の変形例１
　１２．５　第７実施形態の変形例２
１３．その他
　以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
［１．概要］
　本開示は、以下の実施形態を単なる例として少なくとも開示し得る。
　本開示のＥＵＶ光生成装置１は、内部のプラズマ生成領域２５でターゲット２７にパルスレーザ光３３が照射されるとＥＵＶ光２５２が生成されるチャンバ２と、チャンバ２内のプラズマ生成領域２５に向かってターゲット２７を出力することでプラズマ生成領域２５にターゲット２７を供給するターゲット供給器２６と、ターゲット供給器２６から出力されパルスレーザ光３３が照射されなかったターゲット２７を回収するターゲット回収器２８と、を具備し、ターゲット回収器２８は、ターゲット供給器２６から出力されたターゲット２７のターゲット軌道２７２に対して傾斜して配置され、パルスレーザ光３３が照射されなかったターゲット２７を衝突させて受けるレシーバ２８０と、レシーバ２８０を振動させる加振装置２８５１と、を備えてもよい。
　このような構成により、ＥＵＶ光生成装置１は、ターゲット２７のレシーバ２８０上での蓄積を抑制し得る。それにより、ＥＵＶ光生成装置１は、ターゲット２７の飛沫がＥＵＶ集光ミラー２３に付着してその反射率が低下することを抑制し得るため、安定したＥＵＶ光２５２を生成し得る。
［２．用語の説明］
　「ターゲット」は、チャンバ内に導入されたレーザ光の被照射物である。レーザ光が照射されたターゲットは、プラズマ化してＥＵＶ光を放射する。
　「ドロップレット」は、チャンバ内へ供給されるターゲットの一形態である。
　「光路軸」は、レーザ光の進行方向に沿ってレーザ光のビーム断面の中心を通る軸である。
　「光路」は、レーザ光が通る経路である。光路には、光路軸が含まれてもよい。
　「プラズマ生成領域」は、チャンバ内の所定領域である。プラズマ生成領域は、チャンバ内に出力されたターゲットに対してレーザ光が照射され、ターゲットがプラズマ化される領域である。
　「ターゲット軌道」は、チャンバ内に出力されチャンバ内を進行するターゲットの軌道である。ターゲット軌道は、プラズマ生成領域において、チャンバ内に導入されたレーザ光の光路と交差してもよい。
［３．ＥＵＶ光生成システムの全体説明］
　［３．１　構成］
　図１に、例示的なＬＰＰ方式のＥＵＶ光生成システムの構成を概略的に示す。
　ＥＵＶ光生成装置１は、少なくとも１つのレーザ装置３と共に用いられてもよい。本願においては、ＥＵＶ光生成装置１及びレーザ装置３を含むシステムを、ＥＵＶ光生成システム１１と称する。図１に示し、かつ、以下に詳細に説明するように、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２、ターゲット供給器２６を含んでもよい。チャンバ２は、密閉可能であってもよい。ターゲット供給器２６は、例えば、チャンバ２の壁を貫通するように取り付けられてもよい。ターゲット供給器２６から供給されるターゲット２７の材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノン、又は、それらの内のいずれか２つ以上の組合せを含んでもよいが、これらに限定されない。
　チャンバ２の壁には、少なくとも１つの貫通孔が設けられていてもよい。その貫通孔には、ウインドウ２１が設けられてもよく、ウインドウ２１をレーザ装置３から出力されるパルスレーザ光３２が透過してもよい。チャンバ２の内部には、例えば、回転楕円面形状の反射面を有するＥＵＶ集光ミラー２３が配置されてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３は、第１及び第２の焦点を有し得る。ＥＵＶ集光ミラー２３の表面には、例えば、モリブデンと、シリコンとが交互に積層された多層反射膜が形成されていてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３は、例えば、その第１の焦点がプラズマ生成領域２５に位置し、その第２の焦点が中間集光点（ＩＦ）２９２に位置するように配置されるのが好ましい。ＥＵＶ集光ミラー２３の中央部には貫通孔２４が設けられていてもよく、貫通孔２４をパルスレーザ光３３が通過してもよい。
　ＥＵＶ光生成装置１は、ＥＵＶ光生成制御部５、ターゲットセンサ４等を含んでもよい。ターゲットセンサ４は、撮像機能を有してもよく、ターゲット２７の存在、軌跡、位置、速度等を検出するよう構成されてもよい。
　また、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２の内部と露光装置６の内部とを連通させる接続部２９を含んでもよい。接続部２９内部には、アパーチャ２９３が形成された壁２９１が設けられてもよい。壁２９１は、そのアパーチャ２９３がＥＵＶ集光ミラー２３の第２の焦点位置に位置するように配置されてもよい。
　更に、ＥＵＶ光生成装置１は、レーザ光進行方向制御部３４、レーザ光集光ミラー２２、ターゲット２７を回収するためのターゲット回収器２８等を含んでもよい。レーザ光進行方向制御部３４は、レーザ光の進行方向を規定するための光学素子と、この光学素子の位置、姿勢等を調整するためのアクチュエータとを備えてもよい。
　［３．２　動作］
　図１を参照すると、レーザ装置３から出力されたパルスレーザ光３１は、レーザ光進行方向制御部３４を経て、パルスレーザ光３２としてウインドウ２１を透過してチャンバ２内に入射してもよい。パルスレーザ光３２は、少なくとも１つのレーザ光経路に沿ってチャンバ２内を進み、レーザ光集光ミラー２２で反射されて、パルスレーザ光３３として少なくとも１つのターゲット２７に照射されてもよい。
　ターゲット供給器２６は、ターゲット２７をチャンバ２内部のプラズマ生成領域２５に向けて出力するよう構成されてもよい。ターゲット２７には、パルスレーザ光３３に含まれる少なくとも１つのパルスが照射されてもよい。パルスレーザ光３３が照射されたターゲット２７はプラズマ化し、そのプラズマからＥＵＶ光２５１が、他の波長の光の放射に伴って放射され得る。ＥＵＶ光２５１は、ＥＵＶ集光ミラー２３によって選択的に反射されてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３によって反射されたＥＵＶ光２５２は、中間集光点２９２で集光され、露光装置６に出力されてもよい。なお、１つのターゲット２７に、パルスレーザ光３３に含まれる複数のパルスが照射されてもよい。
　ＥＵＶ光生成制御部５は、ＥＵＶ光生成システム１１全体の制御を統括するよう構成されてもよい。ＥＵＶ光生成制御部５は、ターゲットセンサ４によって撮像されたターゲット２７のイメージデータ等を処理するよう構成されてもよい。また、ＥＵＶ光生成制御部５は、例えば、ターゲット２７が出力されるタイミング制御及びターゲット２７の出力方向等の制御の内の少なくとも１つを行ってもよい。更に、ＥＵＶ光生成制御部５は、例えば、レーザ装置３の出力タイミングの制御、パルスレーザ光３２の進行方向の制御、パルスレーザ光３３の集光位置の制御の内の少なくとも１つを行ってもよい。上述の様々な制御は単なる例示に過ぎず、必要に応じて他の制御が追加されてもよい。
［４．ＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器］
　ＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
　ターゲット回収器２８は、図１に示されるように、ターゲット供給器２６からチャンバ２内に出力されたターゲット２７を回収する機器であってもよい。
　特に、ターゲット回収器２８は、ターゲット供給器２６からチャンバ２内に出力されたターゲット２７のうち、パルスレーザ光３３が照射されなかったターゲット２７を回収する機器であってもよい。
　ターゲット回収器２８は、図１に示されるように、チャンバ２の側面側に設けられていてもよい。ターゲット回収部２８は、チャンバ２内に出力されたターゲット２７の進行経路であるターゲット軌道の延長線上に配置されてもよい。
　なお、ターゲット２７は、金属材料で形成されてもよい。金属材料で形成されたターゲット２７は、上述のように、スズ、テルビウム、ガドリニウム若しくはリチウム又はそれらの内のいずれか２つ以上の組合せを含んでもよい。
　また、ターゲット供給器２６は、金属材料で形成されたターゲット２７を予め溶融させて貯めておいてもよい。ターゲット供給器２６は、溶融状態のターゲット２７をドロップレット２７１としてチャンバ２内のプラズマ生成領域２５に向かって出力してもよい。それにより、ターゲット供給器２６は、プラズマ生成領域２５にターゲット２７を供給してもよい。
　［４．１　構成］
　図２Ａ及び図２Ｂを用いて、ターゲット回収器２８の具体的な構成について説明する。
　図２Ａは、ターゲット回収器２８の具体的な構成を説明するための図を示す。図２Ｂは、図２Ａに示されたレシーバ２８０及び筒部２８２をＦ方向から視た図を示す。
　ターゲット回収器２８は、レシーバ２８０と、回収容器２８１と、加熱機構２８４と、を備えてもよい。
　回収容器２８１は、パルスレーザ光３３が照射されなかったターゲット２７を回収する容器であってもよい。
　回収容器２８１は、筒部２８２と、タンク２８３と、を含んでもよい。
　筒部２８２は、底面が開放された中空の略円筒状に形成されてもよい。
　筒部２８２は、高い熱伝導性を有し、かつ、ターゲット２７の融点以上の温度に対して耐熱性を有する材料で形成されてもよい。
　筒部２８２は、チャンバ２の壁２ａを貫通するように配置されでもよい。筒部２８２の一端側の開口部２８２ａは、チャンバ２の内部に位置してもよい。開口部２８２ａは、パルスレーザ光３３が照射されなかったターゲット２７が回収容器２８１内に進入するための開口であってもよい。筒部２８２の他端側の開口部は、チャンバ２の外部に位置してもよい。
　筒部２８２は、図示しない気密フランジ等を用いて壁２ａと接続されてもよい。チャンバ２の内部は、気密性が確保され得る。
　筒部２８２は、その中心軸がターゲット軌道２７２と略一致するように配置されてもよい。
　タンク２８３は、その内部が筒部２８２に連通した容器であってもよい。
　タンク２８３は、チャンバ２の外部側にある筒部２８２の端部に接続されてもよい。
　タンク２８３は、高い熱伝導性を有し、かつ、ターゲット２７の融点以上の温度に対して耐熱性を有する材料で形成されてもよい。タンク２８３は、筒部２８２と同じ材料で形成されてもよい。
　タンク２８３は、筒部２８２と一体的に形成されてもよい。
　加熱機構２８４は、回収容器２８１を加熱すると共に回収容器２８１内の温度を制御する機構であってもよい。
　加熱機構２８４は、加熱装置２８４１と、加熱電源２８４２と、温度センサ２８４３と、温度制御部２８４４と、を含んでもよい。
　加熱装置２８４１は、回収容器２８１を加熱するヒータであってもよい。
　加熱装置２８４１は、筒部２８２及びタンク２８３を覆うように配置されてもよい。
　加熱装置２８４１は、筒部２８２の外壁面２８２ｂ及びタンク２８３の外壁面２８３ｂの少なくとも一方に配置されてもよい。
　加熱電源２８４２は、加熱装置２８４１に電力を供給する電源であってもよい。
　加熱電源２８４２は、加熱装置２８４１に電気的に接続されてもよい。
　温度センサ２８４３は、回収容器２８１の温度を検出するセンサであってもよい。
　温度センサ２８４３は、タンク２８３の外壁面２８３ｂに設置されてもよい。
　温度制御部２８４４は、回収容器２８１内の温度を制御する制御部であってもよい。
　温度制御部２８４４は、加熱電源２８４２及び温度センサ２８４３に電気的に接続されてもよい。
　温度制御部２８４４は、ＥＵＶ光生成制御部５に接続されてもよい。
　レシーバ２８０は、パルスレーザ光３３が照射されなかったターゲット２７を衝突させて受ける部材であってもよい。
　レシーバ２８０は、板状部材を用いて構成された弾性体であってもよい。
　レシーバ２８０は、高い熱伝導性を有し、かつ、ターゲット２７の融点以上の温度に対して耐熱性を有する材料で形成されてもよい。
　レシーバ２８０は、溶融したターゲット２７に濡れ難い材料で形成されてもよい。レシーバ２８０は、溶融したターゲット２７との接触角が９０°以上となる材料で形成されてもよい。
　レシーバ２８０は、回収容器２８１の内部に設けられてもよい。
　レシーバ２８０は、回収容器２８１の内壁面の一部である筒部２８２の内壁面２８２ｃに支持されてもよい。
　レシーバ２８０は、筒部２８２の内部を完全に閉塞しなくてもよい。レシーバ２８０の一端は、筒部２８２の内壁面２８２ｃの一部分に支持されてもよい。レシーバ２８０の他端と内壁面２８２ｃの他の部分との間には間隙２８０ａが形成されてもよい。
　レシーバ２８０は、ターゲット軌道２７２及び重力方向のそれぞれに対して傾斜して配置されてもよい。レシーバ２８０は、ターゲット軌道２７２及び重力方向に対する傾斜角度が９０°以外の角度となるように配置されてもよい。
　［４．２　動作］
　図２Ａに示されたターゲット回収器２８の動作について説明する。
　温度制御部２８４４には、ＥＵＶ光生成制御部５から出力された、回収容器２８１の目標温度を指定する信号が入力されてもよい。
　温度制御部２８４４には、温度センサ２８４３から出力された温度検出信号が入力されてもよい。
　温度制御部２８４４は、温度検出信号が示す検出値が当該目標温度に近付くよう、加熱電源２８４２から加熱装置２８４１に供給される電力を制御してもよい。
　筒部２８２及びタンク２８３を含む回収容器２８１の温度は、当該目標温度に制御され得る。このとき、筒部２８２の内壁面２８２ｃに支持されたレシーバ２８０には、加熱装置２８４１により発生した熱が筒部２８２を介して伝達され得る。それにより、レシーバ２８０の温度は、当該目標温度よりも低い所定温度に制御され得る。
　レシーバ２８０の当該所定温度は、ターゲット２７の融点以上の温度であってもよい。ターゲット２７がスズである場合、レシーバ２８０の当該所定温度は、例えば２８０℃程度であってもよい。
　回収容器２８１の当該目標温度は、レシーバ２８０が当該所定温度となるような温度であってもよい。回収容器２８１の当該目標温度は、レシーバ２８０の当該所定温度よりも高い温度であってもよい。ターゲット２７がスズである場合、回収容器２８１の当該目標温度は、例えば４００℃～５００℃であってもよい。
　ＥＵＶ光生成装置１がＥＵＶ光２５２を生成する際、ターゲット供給器２６は、ＥＵＶ光生成制御部５からの制御により、溶融状態のターゲット２７をドロップレット２７１としてチャンバ２内のプラズマ生成領域２５に向かって出力してもよい。
　また、レーザ装置３は、ＥＵＶ光生成制御部５からの制御により、プラズマ生成領域２５においてパルスレーザ光３３がターゲット２７を照射するようパルスレーザ光３１を出力してもよい。
　パルスレーザ光３３が照射されたターゲット２７は、プラズマ化してＥＵＶ光２５１を含む光を放射し得る。
　一方、パルスレーザ光３３が照射されなかったターゲット２７は、プラズマ生成領域２５を通過して、そのままターゲット軌道２７２に沿って飛来し得る。そして、当該ターゲット２７は、筒部２８２の開口部２８２ａから回収容器２８１内に進入し得る。パルスレーザ光３３が照射されなかったターゲット２７の速度は、６０ｍ／ｓ～１００ｍ／ｓであってもよい。回収容器２８１内に進入したターゲット２７は、レシーバ２８０に衝突し得る。
　レシーバ２８０は、ターゲット２７が衝突すると撓むように変形し得る。それにより、レシーバ２８０は、ターゲット２７の運動エネルギーを低減し得る。レシーバ２８０の変形は復元され得る。
　運動エネルギーが低減されたターゲット２７は、ターゲット２７の融点以上の温度に加熱されたタンク２８３内に落下し、タンク２８３内に収容され得る。
　その後、後続のターゲット２７が次々にタンク２８３に落下し、タンク２８３内にはターゲット２７の液面が形成され得る。
　［４．３　作用］
　レシーバ２８０は、上述のように、ターゲット２７が衝突すると撓むように変形することでターゲット２７の運動エネルギーを低減させ得る。
　このため、ターゲット回収器２８は、タンク２８３内に形成されたターゲット２７の液面やタンク２８３の底部２８３ｄにターゲット２７が衝突して飛沫が発生することを抑制し得る。
　それにより、ターゲット回収器２８は、飛沫が回収容器２８１外に飛散してＥＵＶ集光ミラー２３に付着することを抑制し得る。
　また、回収容器２８１は、上述のように、ターゲット２７の融点以上の温度となるように加熱されている。
　このため、ターゲット回収器２８は、回収容器２８１のタンク２８３にターゲット２７が落下しても、ターゲット２７がタンク２８３の底部２８３ｄで固化して樹状に堆積して成長することを抑制し得る。
　ターゲット２７が樹状に堆積して成長すると、樹状の堆積物がプラズマ生成領域２５に達してＥＵＶ光２５２の生成を阻害する場合があり得る。このため、ターゲット２７の樹状の堆積物が筒部２８２の開口部２８２ａから突出した時点でターゲット回収器２８を交換する必要性が生じ得る。ターゲット２７が樹状に堆積することを抑制できれば、ターゲット回収器２８の稼働時間を向上させ得る。
　また、レシーバ２８０は、上述のように、ターゲット２７の融点以上の温度となるように加熱されている。
　このため、ターゲット回収器２８は、レシーバ２８０にターゲット２７が衝突しても液体としてレシーバ２８０を伝ってタンク２８３内に落下させ得るため、ターゲット２７がレシーバ２８０上で固化することを抑制し得る。
［５．課題］
　図２Ａに示されたターゲット回収器２８では、レシーバ２８０に衝突したターゲット２７を液体としてタンク２８３内に落下させ得るが、ある程度ターゲット２７を回収すると、ターゲット２７の一部がレシーバ２８０上に僅かに付着することがあり得る。この場合、後続するターゲット２７は、レシーバ２８０上に付着したターゲット２７に衝突してその一部が更にレシーバ２８０上に留まることがあり得る。このようにして、図２Ａに示されたターゲット回収器２８では、徐々にターゲット２７がレシーバ２８０上に蓄積することがあり得る。
　ターゲット２７がレシーバ２８０上に蓄積すると、後続するターゲット２７が蓄積したターゲット２７に衝突して飛沫が発生することがあり得る。
　或いは、蓄積したターゲット２７の重量によって変形したレシーバ２８０が復元できなくなり、後続するターゲット２７の運動エネルギーを低減できなくなることがあり得る。このため、タンク２８３内に形成されたターゲット２７の液面やタンク２８３の底部２８３ｄにターゲット２７が衝突して飛沫が発生することがあり得る。
　それにより、図２Ａに示されたターゲット回収器２８を備えるＥＵＶ光生成装置１では、これらの飛沫が回収容器２８１外に飛散してＥＵＶ集光ミラー２３に付着し、ＥＵＶ集光ミラー２３の反射率が部分的に低下することがあり得る。
　その結果、図２Ａに示されたターゲット回収器２８を備えるＥＵＶ光生成装置１では、ＥＵＶ光２５２の出力が低下し、ＥＵＶ光２５２のビームプロファイルが悪化することがあり得る。
　よって、ターゲット２７のレシーバ２８０上での蓄積を抑制することによってＥＵＶ集光ミラー２３の反射率低下を抑制し、安定したＥＵＶ光２５２を生成し得る技術が望まれている。
［６．第１実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器］
　図３Ａ及び図３Ｂを用いて、第１実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
　第１実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８は、図２Ａに示されたターゲット回収器２８に対して、加振機構２８５が追加された構成を備えてもよい。
　第１実施形態のＥＵＶ光生成装置１の構成において、図１及び図２Ａに示されたＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
　［６．１　構成］
　図３Ａは、第１実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８の構成を説明するための図を示す。図３Ｂは、図３Ａに示された加振装置２８５１の構成を説明するための図を示す。
　図３Ａのターゲット回収器２８は、レシーバ２８０と、回収容器２８１と、加熱機構２８４と、を備えてもよい。これらの各構成要素は、図２Ａに示されたターゲット回収器２８と同様であってもよい。なお、図３Ａでは、加熱機構２８４のうちの加熱電源２８４２及び温度制御部２８４４に係る図示が単に省略されているに過ぎず、ターゲット回収器２８は当然ながら加熱電源２８４２及び温度制御部２８４４を含んでもよい。以降の図面でも同様である。
　更に、図３Ａのターゲット回収器２８は、加振機構２８５を備えてもよい。
　加振機構２８５は、レシーバ２８０を振動させる機構であってもよい。
　加振機構２８５は、加振装置２８５１と、加振電源２８５２と、を含んでもよい。
　加振装置２８５１は、レシーバ２８０を振動させるバイブレータであってもよい。
　加振装置２８５１は、板状部材のレシーバ２８０に直接接続されてもよい。
　加振装置２８５１は、レシーバ２８０のターゲット２７と衝突しない側の面に配置されてもよい。
　加振装置２８５１は、ターゲット軌道２７２と略直交する方向への振動成分を持つようにレシーバ２８０を振動させてもよい。
　加振装置２８５１は、図３Ｂに示されるように、モータ２８５１ａと、アンバランスウェイト２８５１ｂと、モータ保持材２８５１ｃと、ケース２８５１ｄと、を含んでもよい。
　そして、加振装置２８５１は、アンバランスウェイト２８５１ｂに接続されたモータ２８５１ａが、モータ保持材２８５１ｃを介してケース２８５１ｄに接続された構成であってもよい。
　モータ２８５１ａ用の電気配線は、ケース２８５１ｄを貫通して加振電源２８５２に接続されてもよい。
　モータ２８５１ａには、誘導モータ等のＡＣモータ、ＤＣモータ又は超音波モータ等の各種モータが用いられてもよい。
　アンバランスウェイト２８５１ｂは、モータ２８５１ａの回転軸に接続されてもよい。アンバランスウェイト２８５１ｂは、モータ２８５１ａの回転軸に対して偏心した重心を有する重量体であってもよい。
　加振電源２８５２は、加振装置２８５１に含まれるモータ２８５１ａに電力を供給する電源であってもよい。
　加振電源２８５２は、モータ２８５１ａの種類に応じた電源によって構成されてもよい。
　加振電源２８５２は、タンク２８３の側部２８３ｅを貫通するフィードスルー２８３ｇを介して、加振装置２８５１に電気的に接続されてもよい。
　加振電源２８５２は、図示されていないが、ＥＵＶ光生成制御部５に電気的に接続されてもよい。
　なお、加振装置２８５１は、圧電素子、電歪素子又は磁歪素子を用いて構成されてもよい。何れにせよ、加振装置２８５１は、レシーバ２８０に直接接続でき、レシーバ２８０を振動させ得る装置であればよい。
　第１実施形態に係るターゲット回収器２８の他の構成については、図２Ａに示されたターゲット回収器２８と同様であってもよい。
　［６．２　動作］
　第１実施形態に係るターゲット回収器２８の動作について説明する。
　第１実施形態に係るターゲット回収器２８の動作において、図２Ａに示されたターゲット回収器２８と同様の動作について説明を省略する。
　ＥＵＶ光生成制御部５は、加振装置２８５１のモータ２８５１ａが所定回転数で回転するよう、加振電源２８５２から加振装置２８５１に供給される電力を制御してもよい。
　ＥＵＶ光生成制御部５は、ターゲット供給器２６がターゲット２７を出力している間だけ加振装置２８５１が振動するよう、加振電源２８５２を制御してもよい。或いは、ＥＵＶ光生成制御部５は、ＥＵＶ光２５２を生成しない期間に加振装置２８５１が振動するよう、加振電源２８５２を制御してもよい。
　加振電源２８５２は、ＥＵＶ光生成制御部５からの制御によりモータ２８５１ａへ供給する電力を変化させてもよい。
　加振装置２８５１では、モータ２８５１ａが回転すると、アンバランスウェイト２８５１ｂの回転に伴う慣性力によって振動が発生し得る。当該振動は、モータ２８５１ａの回転軸、モータ２８５１ａ、モータ保持材２８５１ｃ及びケース２８５１ｄを経由してレシーバ２８０に伝達し得る。レシーバ２８０は、当該振動に同期して振動し得る。
　上述のように、レシーバ２８０に衝突したターゲット２７の一部は、レシーバ２８０上に僅かに付着することがあり得る。
　この場合、レシーバ２８０がターゲット２７の融点以上の温度に加熱されているため、レシーバ２８０に付着したターゲット２７は、溶融状態であり得る。
　このため、レシーバ２８０に付着したターゲット２７は、加振装置２８５１によるレシーバ２８０の振動によって、レシーバ２８０を伝ってタンク２８３内に落下し、タンク２８３内に収容され得る。
　なお、加振装置２８５１が上述のように圧電素子等で構成されていれば、ＥＵＶ光生成制御部５は、加振装置２８５１が所定振動数で振動するよう加振電源２８５２から加振装置２８５１に供給される電力を制御してもよい。
　また、モータ２８５１ａの所定回転数や加振装置２８５１の所定振動数は、レシーバ２８０に付着したターゲット２７が落下するような値を実験等によって予め定めておけばよい。
　第１実施形態に係るターゲット回収器２８の他の動作については、図２Ａに示されたターゲット回収器２８と同様であってもよい。
　［６．３　作用］
　第１実施形態に係るターゲット回収器２８は、ターゲット２７がレシーバ２８０に付着してもレシーバ２８０の振動によりターゲット２７をタンク２８３内に落下させ得るため、ターゲット２７がレシーバ２８０上に蓄積することを抑制し得る。
　それにより、第１実施形態に係るターゲット回収器２８を備えるＥＵＶ光生成装置１は、ターゲット２７の飛沫が発生してＥＵＶ集光ミラー２３に付着することを抑制し得る。
　その結果、第１実施形態のＥＵＶ光生成装置１は、ＥＵＶ集光ミラー２３の反射率低下を抑制し、安定したＥＵＶ光２５２を生成し得る。
　［６．４　第１実施形態の変形例１］
　図４Ａ～図４Ｃを用いて、第１実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
　第１実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８は、第１実施形態のターゲット回収器２８に対して、加振装置２８５１の配置が主に異なってもよい。
　第１実施形態の変形例１におけるＥＵＶ光生成装置１の構成において、第１実施形態のＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
　図４Ａは、第１実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。図４Ｂは、図４Ａに示された振動伝達部材２８５３及び加振装置２８５１の接続関係を説明するための図を示す。図４Ｃは、図４Ａに示された振動伝達部材２８５３及び加振装置２８５１の接続関係に関する他の例を説明するための図を示す。
　図４Ａの加振装置２８５１は、レシーバ２８０に直接接続されていなくてもよい。
　具体的には、加振装置２８５１は、レシーバ２８０と離間するよう回収容器２８１の外に配置されてもよい。加振装置２８５１は、チャンバ２の壁２ａの内壁面に配置されてもよい。
　加振装置２８５１及びレシーバ２８０は、回収容器２８１の筒部２８２に設けられた貫通孔２８２ｄを通る振動伝達部材２８５３によって接続されてもよい。
　振動伝達部材２８５３は、高い剛性を有する材料で形成されてもよい。
　振動伝達部材２８５３は、図４Ｂに示されるように、加振装置２８５１のケース２８５１ｄに取り付けられてもよい。
　或いは、振動伝達部材２８５３は、図４Ｃに示されるように、ケース２８５１ｄを貫通し、回転するアンバランスウェイト２８５１ｂに衝突する位置まで延びるように取り付けられてもよい。振動伝達部材２８５３は、回転するアンバランスウェイト２８５１ｂと衝突することで振動し得る。
　加振電源２８５２は、チャンバ２の壁２ａを貫通するフィードスルー２ｃを介して、チャンバ２内に配置された加振装置２８５１に電気的に接続されてもよい。
　第１実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第１実施形態のターゲット回収器２８と同様であってもよい。
　このような構成により、加振装置２８５１は、レシーバ２８０と離間しても振動伝達部材２８５３を介してレシーバ２８０に振動を伝達させ得る。
　このため、加振装置２８５１は、ターゲット２７の融点以上という高温に加熱されたレシーバ２８０や回収容器２８１から離れて配置され得る。
　それにより、加振装置２８５１は、モータ２８５１ａが高温環境下に曝されて故障することを抑制し得る。
　その結果、第１実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８は、加振装置２８５１の耐久性を向上させ得るため、ターゲット２７のレシーバ２８０への蓄積を安定して抑制し得る。
　なお、図４Ｃに示されるように、アンバランスウェイト２８５１ｂと振動伝達部材２８５３が衝突する場合、振動伝達部材２８５３には比較的大きな振動が発生し得る。このため、振動伝達部材２８５３を含むターゲット回収器２８は、ターゲット２７のレシーバ２８０への蓄積を更に抑制し得る。
　［６．５　第１実施形態の変形例２］
　図５を用いて、第１実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
　第１実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８は、第１実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８に対して、レシーバ２８０及び回収容器２８１の構成が主に異なってもよい。
　第１実施形態の変形例２におけるＥＵＶ光生成装置１の構成において、第１実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
　図５は、第１実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
　図５のレシーバ２８０は、繊維部材を用いて構成されてもよい。
　繊維部材で構成されたレシーバ２８０は、板状部材で構成された上述のレシーバ２８０と同様に、高い熱伝導性を有し、ターゲット２７の融点以上の温度に対して耐熱性を有する材料で形成されてもよい。更に、繊維部材で構成されたレシーバ２８０は、板状部材で構成された上述のレシーバ２８０と同様に、溶融したターゲット２７との接触角が９０°以上となる濡れ難い材料で形成されてもよい。
　レシーバ２８０を構成する１つの繊維部材は、複数の繊維束で構成されていてもよい。１つの繊維束は、１又は複数の繊維の束であってもよい。当該繊維束は、例えば炭素繊維やタングステン細線で構成されてもよい。
　レシーバ２８０は、支持部材２８０１を介して回収容器２８１の内壁面に支持されてもよい。
　支持部材２８０１には、加振装置２８５１に接続された振動伝達部材２８５３が接続されてもよい。
　支持部材２８０１は、振動伝達部材２８５３よりも低い剛性を有する材料で形成されてもよい。支持部材２８０１は、振動伝達部材２８５３よりも低い剛性を有する構造に形成されてもよい。
　支持部材２８０１が接続される回収容器２８１の内壁面には、図５に示されるように、レシーバ２８０の傾斜角度と略同等の傾斜角度で傾斜する傾斜部２８３ｆが形成されてもよい。
　傾斜部２８３ｆは、タンク２８３内に形成されてもよい。傾斜部２８３ｆは、タンク２８３の底部２８３ｄ及び側部２８３ｅの内壁面２８３ｃ上に、底部２８３ｄ及び側部２８３ｅと同じ材料で形成されたバルク状の部材を配置することによって形成されてもよい。傾斜部２８３ｆは、タンク２８３の底部２８３ｄ及び側部２８３ｅと一体的に形成されてもよい。
　傾斜部２８３ｆは、レシーバ２８０と同様に、ターゲット軌道２７２及び重力方向のそれぞれに対して傾斜するように形成されてもよい。
　傾斜部２８３ｆの傾斜面は、タンク２８３の側部２８３ｅにおける内壁面２８３ｃの一部又は筒部２８２の内壁面２８２ｃの一部を基端として、先端がタンク２８３の底部２８３ｄの内壁面２８３ｃに向かって延びるように形成されてもよい。
　傾斜部２８３ｆの傾斜面は、支持部材２８０１に支持されていない側のレシーバ２８０の先端を超えて、底部２８３ｄの内壁面２８３ｃに延びるように形成されてもよい。
　第１実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第１実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
　このような構成により、支持部材２８０１は、支持部材２８０１よりも高い剛性を有する振動伝達部材２８５３を介して伝達された振動の振幅を増幅させ得る。
　それにより、レシーバ２８０は、振動伝達部材２８５３と同程度の剛性を有する支持部材によって支持されている場合に比べて大きな振幅で振動し得る。
　その結果、第１実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８は、ターゲット２７のレシーバ２８０への蓄積を更に抑制し得る。
　また、レシーバ２８０は、ターゲット２７が衝突すると、レシーバ２８０を構成する幾つかの繊維束が撓むように変形し、衝突したターゲット２７の運動エネルギーを低減させ得る。ターゲット２７は、レシーバ２８０を貫通し、タンク２８３回収容器２８１の傾斜部２８３ｆに落下し得る。すなわち、レシーバ２８０を貫通したターゲット２７は、タンク２８３内に形成されたターゲット２７の液面やタンク２８３の底部２８３ｄに直接落下するのではなく、傾斜部２８３ｆを伝って落下し得る。
　その結果、第１実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８は、ターゲット２７の飛沫が発生することを更に抑制し得る。
［７．第２実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器］
　図６を用いて、第２実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
　第２実施形態に係るターゲット回収器２８は、第１実施形態に係るターゲット回収器２８に対して、伝熱抑制部材２８６が追加された構成を備えてもよい。
　第２実施形態のＥＵＶ光生成装置１の構成において、第１実施形態のＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
　図６は、第２実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
　図６の加振装置２８５１は、板状部材のレシーバ２８０に直接接続されるのではなく、伝熱抑制部材２８６を介してレシーバ２８０に接続されてもよい。
　伝熱抑制部材２８６は、低い熱伝導性を有する材料で形成されてもよい。伝熱抑制部材２８６は、低い熱伝導性を有する構造に形成されてもよい。
　伝熱抑制部材２８６は、第１実施形態の変形例２に係る振動伝達部材２８５３と同様に、高い剛性を有する材料で形成されてもよく、高い剛性を有する構造に形成されてもよい。伝熱抑制部材２８６は、例えばステンレス又はセラミックスによる箱構造体で形成されてもよい。
　第２実施形態に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第１実施形態に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
　このような構成により、伝熱抑制部材２８６は、加振装置２８５１からの振動をレシーバ２８０に伝達させ得る。
　また、伝熱抑制部材２８６は、ターゲット２７の融点以上という高温に加熱されたレシーバ２８０からの熱が加振装置２８５１に伝達することを抑制し得る。
　それにより、伝熱抑制部材２８６は、加振装置２８５１からレシーバ２８０に伝達する振動を極力減衰させずに、加振装置２８５１を熱的に保護してモータ２８５１ａの故障を抑制し得る。
　その結果、第２実施形態に係るターゲット回収器２８は、加振装置２８５１の耐久性を向上させ得るため、ターゲット２７のレシーバ２８０への蓄積を安定して抑制し得る。
　［７．１　第２実施形態の変形例１］
　図７を用いて、第２実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
　第２実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８は、第１実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８に対して、伝熱抑制部材２８６が追加された構成を備えてもよい。
　第２実施形態の変形例１におけるＥＵＶ光生成装置１の構成において、第１実施形態の変形例１におけるＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
　図７は、第２実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
　図７の伝熱抑制部材２８６は、加振装置２８５１及びレシーバ２８０を接続する振動伝達部材２８５３の途中に配置されてもよい。
　或いは、伝熱抑制部材２８６は、振動伝達部材２８５３の端部に配置されてもよい。
　伝熱抑制部材２８６の他の構成については、図６に示された第２実施形態に係るターゲット回収器２８の伝熱抑制部材２８６と同様であってもよい。
　第２実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第１実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
　このような構成により、伝熱抑制部材２８６は、加振装置２８５１からレシーバ２８０に伝達される振動を極力減衰させずに、加振装置２８５１を熱的に保護してモータ２８５１ａの故障を更に抑制し得る。
　その結果、第２実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８は、加振装置２８５１の耐久性を更に向上させ得るため、ターゲット２７のレシーバ２８０への蓄積を更に安定して抑制し得る。
　［７．２　第２実施形態の変形例２］
　図８を用いて、第２実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
　第２実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８は、第１実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８に対して、伝熱抑制部材２８６が追加された構成を備えてもよい。
　更に、第２実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８は、第１実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８に対して、回収容器２８１の構成が異なってもよい。
　第２実施形態の変形例２におけるＥＵＶ光生成装置１の構成において、第１実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
　図８は、第２実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
　図８の回収容器２８１は、タンク２８３の傾斜部２８３ｆがバルク状に形成されていなくてもよい。傾斜部２８３ｆは、タンク２８３の底部２８３ｄ及び側部２８３ｅと同様に、薄い板厚で形成されてもよい。
　支持部材２８０１は、タンク２８３の傾斜部２８３ｆにおける内壁面２８３ｃに接続されてもよい。
　伝熱抑制部材２８６は、タンク２８３の傾斜部２８３ｆにおける外壁面２８３ｂに接続されてもよい。
　伝熱抑制部材２８６の他の構成については、図６に示された第２実施形態に係るターゲット回収器２８の伝熱抑制部材２８６と同様であってもよい。
　加振装置２８５１は、チャンバ２及び回収容器２８１の外部に配置されてもよい。
　加振装置２８５１は、タンク２８３の傾斜部２８３ｆにおける外壁面２８３ｂに対して、伝熱抑制部材２８６を介して接続されてもよい。
　加振電源２８５２は、チャンバ２及び回収容器２８１の外部に配置されてもよい。
　加振電源２８５２は、フィードスルーを介さずに、加振装置２８５１に電気的に接続されてもよい。
　第２実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第１実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
　このような構成により、加振装置２８５１は、チャンバ２及び回収容器２８１の外部に配置される共に伝熱抑制部材２８６によって回収容器２８１からの伝熱が抑制され得る。このため、モータ２８５１ａの故障が更に抑制され、加振装置２８５１の耐久性は更に向上し得る。
　また、加振装置２８５１は、薄い板厚で振動を伝達し易い傾斜部２８３ｆの外壁面２８３ｂに対して接続され得る。このため、加振装置２８５１は、振動伝達部材２８５３を介さずに外壁面２８３ｂを介して、レシーバ２８０を支持する支持部材２８０１に振動を伝達させ得る。言い換えると、加振装置２８５１は、回収容器２８１の外壁面を介してレシーバ２８０を振動させ得る。
　支持部材２８０１は、加振装置２８５１からの振動が減衰することを抑制しながら当該振動を伝達し得ると共に当該振動の振幅を増幅し得る。レシーバ２８０は、大きな振幅で振動し得る。
　その結果、第２実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８は、ターゲット２７のレシーバ２８０への蓄積を更に安定して抑制し得る。
［８．第３実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器］
　図９を用いて、第３実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
　第３実施形態に係るターゲット回収器２８は、第２実施形態に係るターゲット回収器２８に対して、伝熱抑制部材２８６に係る構成が主に異なってもよい。
　第３実施形態のＥＵＶ光生成装置１の構成において、第２実施形態のＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
　［８．１　構成］
　図９は、第３実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
　図９の伝熱抑制部材２８６は、ペルチェ素子２８６１に置換されてもよい。
　すなわち、ペルチェ素子２８６１は、レシーバ２８０と加振装置２８５１との間に配置されてもよい。
　ペルチェ電源２８６２は、タンク２８３の側部２８３ｅを貫通するフィードスルー２８３ｈを介して、ペルチェ素子２８６１に電気的に接続されてもよい。
　ペルチェ電源２８６２は、図示されていないが、ＥＵＶ光生成制御部５に電気的に接続されてもよい。
　第３実施形態に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第２実施形態に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
　［８．２　動作］
　第３実施形態に係るターゲット回収器２８の動作について説明する。
　第３実施形態に係るターゲット回収器２８の動作において、第１及び第２実施形態に係るターゲット回収器２８と同様の動作について説明を省略する。
　ＥＵＶ光生成制御部５は、加熱装置２８４１が動作している間、ペルチェ素子２８６１が動作するよう、ペルチェ電源２８６２を制御してもよい。
　ペルチェ素子２８６１には、加振装置２８５１との接続部分に対して、加振装置２８５１に含まれるモータ２８５１ａの駆動によって発生する熱が伝達され得る。
　ペルチェ素子２８６１は、加振装置２８５１との接続部分に伝達された熱をレシーバ２８０に伝達してもよい。それにより、加振装置２８５１は冷却されレシーバ２８０は加熱されてもよい。
　第３実施形態に係るターゲット回収器２８の他の動作については、第１及び第２実施形態に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
　［８．３　作用］
　第３実施形態に係るターゲット回収器２８は、ペルチェ素子２８６１によってレシーバ２８０が加熱され得るので、加熱装置２８４１に電力を供給する加熱電源２８４２の消費電力を低減し得る。
　一方、第３実施形態に係るターゲット回収器２８は、ペルチェ素子２８６１によって加振装置２８５１が冷却され得るので、加振装置２８５１に含まれるモータ２８５１ａの故障を更に抑制し得る。
　［８．４　第３実施形態の変形例１］
　図１０を用いて、第３実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
　第３実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８は、第２実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８に対して、伝熱抑制部材２８６に係る構成が主に異なってもよい。
　第３実施形態の変形例１におけるＥＵＶ光生成装置１の構成において、第２実施形態の変形例２におけるＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
　図１０は、第３実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
　図１０の伝熱抑制部材２８６は、ペルチェ素子２８６１に置換されてもよい。
　すなわち、ペルチェ素子２８６１は、チャンバ２及び回収容器２８１の外部に配置されおり、タンク２８３の傾斜部２８３ｆにおける外壁面２８３ｂに接続されてもよい。
　ペルチェ素子２８６１の他の構成については、図９に示された第３実施形態に係るターゲット回収器２８のペルチェ素子２８６１と同様であってもよい。
　ペルチェ電源２８６２は、チャンバ２及び回収容器２８１の外部に配置され、フィードスルーを介さずに、ペルチェ素子２８６１に電気的に接続されてもよい。
　ペルチェ電源２８６２の他の構成については、図９に示された第３実施形態に係るターゲット回収器２８のペルチェ素子２８６１と同様であってもよい。
　第３実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第２実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
　このような構成により、ペルチェ素子２８６１は、加振装置２８５１との接続部分に伝達された熱をタンク２８３に伝達してもよい。それにより、加振装置２８５１は冷却されタンク２８３は加熱されてもよい。ペルチェ素子２８６１によってタンク２８３に伝達された熱は支持部材２８０１を介してレシーバ２８０に伝達し得るため、レシーバ２８０は加熱され得る。
　その結果、第３実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８は、加熱装置２８４１に電力を供給する加熱電源２８４２の消費電力を低減し得ると共に、加振装置２８５１に含まれるモータ２８５１ａの故障を更に抑制し得る。
［９．第４実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器］
　図１１を用いて、第４実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
　第４実施形態に係るターゲット回収器２８は、第２実施形態に係るターゲット回収器２８に対して、冷却機構２８７が追加された構成を備えてもよい。
　第４実施形態のＥＵＶ光生成装置１の構成において、第２実施形態のＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
　［９．１　構成］
　図１１は、第４実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
　図１１の冷却機構２８７は、加振装置２８５１を冷却する機構であってもよい。
　冷却機構２８７は、冷却装置２８７１と、熱交換器２８７２と、配管２８７３と、を含んでもよい。
　冷却装置２８７１は、内部に冷媒流路が形成された部材であってもよい。冷媒流路を流れる冷媒は、例えば水であってもよい。
　冷却装置２８７１は、高い熱伝導性を有する金属で形成されてもよい。
　冷却装置２８７１は、伝熱抑制部材２８６とは反対側に位置する加振装置２８５１の面に接続されてもよい。
　配管２８７３は、冷却装置２８７１内の冷媒流路と熱交換器２８７２内の冷媒流路とを連通させてもよい。
　配管２８７３は、タンク２８３の側部２８３ｅを貫通するフィードスルー２８３ｉを通るように配置されてもよい。
　熱交換器２８７２は、熱交換器２８７２内の冷媒流路、冷却装置２８７１内の冷媒流路及び配管２８７３によって形成されたループにおいて冷媒を循環させてもよい。
　熱交換器２８７２は、図示されていないが、ＥＵＶ光生成制御部５に電気的に接続されてもよい。
　第４実施形態に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第２実施形態に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
　［９．２　動作］
　第４実施形態に係るターゲット回収器２８の動作について説明する。
　第４実施形態に係るターゲット回収器２８の動作において、第１及び第２実施形態に係るターゲット回収器２８と同様の動作について説明を省略する。
　ＥＵＶ光生成制御部５は、加熱装置２８４１が動作している間、冷却装置２８７１内の冷媒流路中の冷媒が流れるよう、熱交換器２８７２を制御してもよい。
　熱交換器２８７２は、冷却装置２８７１から流入した冷媒の熱を大気中に排出して冷媒を冷却してもよい。熱交換器２８７２は、冷却された冷媒を冷却装置２８７１に流出させてもよい。それにより、冷却装置２８７１に接続された加振装置２８５１は冷却され得る。
　第４実施形態に係るターゲット回収器２８の他の動作については、第１及び第２実施形態に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
　［９．３　作用］
　第４実施形態に係るターゲット回収器２８は、冷却装置２８７１及び熱交換器２８７２によって加振装置２８５１を冷却し得るので、加振装置２８５１に含まれるモータ２８５１ａの故障を更に抑制し得る。
　［９．４　第４実施形態の変形例１］
　図１２を用いて、第４実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
　第４実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８は、第２実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８に対して、冷却機構２８７が追加された構成を備えてもよい。
　第４実施形態の変形例１におけるＥＵＶ光生成装置１の構成において、第２実施形態の変形例１におけるＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
　図１２は、第４実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
　図１２の冷却機構２８７に含まれる冷却装置２８７１は、チャンバ２の壁２ａと加振装置２８５１との間には配置されてもよい。
　配管２８７３は、チャンバ２の壁２ａを貫通するフィードスルー２ｄを通るように配置されてもよい。
　冷却機構２８７の他の構成については、図１１に示された第４実施形態に係るターゲット回収器２８の冷却機構２８７と同様であってもよい。
　第４実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第２実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
　このような構成により、第４実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８は、冷却装置２８７１及び熱交換器２８７２によって加振装置２８５１を冷却し得るので、加振装置２８５１に含まれるモータ２８５１ａの故障を更に抑制し得る。
　［９．５　第４実施形態の変形例２］
　図１３を用いて、第４実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
　第４実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８は、第２実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８に対して、冷却機構２８７が追加された構成を備えてもよい。
　第４実施形態の変形例２におけるＥＵＶ光生成装置１の構成において、第２実施形態の変形例２におけるＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
　図１３は、第４実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
　図１３の冷却機構２８７に含まれる冷却装置２８７１は、伝熱抑制部材２８６とは反対側に位置する加振装置２８５１の面に接続されてもよい。
　配管２８７３は、冷却装置２８７１及び熱交換器２８７２を直接連通させてもよい。
　冷却機構２８７の他の構成については、図１１に示された第４実施形態に係るターゲット回収器２８の冷却機構２８７と同様であってもよい。
　第４実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第２実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
　このような構成により、第４実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８は、冷却装置２８７１及び熱交換器２８７２によって加振装置２８５１を冷却し得るので、加振装置２８５１に含まれるモータ２８５１ａの故障を更に抑制し得る。
［１０．第５実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器］
　図１４を用いて、第５実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
　第５実施形態に係るターゲット回収器２８は、第２実施形態に係るターゲット回収器２８に対して、振動減衰部材２８８が追加された構成を備えてもよい。
　第５実施形態のＥＵＶ光生成装置１の構成において、第２実施形態のＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
　図１４は、第５実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
　図１４のレシーバ２８０は、筒部２８２の内壁面２８２ｃに振動減衰部材２８８を介して支持されてもよい。
　振動減衰部材２８８は、振動を減衰させる弾性体であってもよい。
　振動減衰部材２８８は、高い熱伝導性を有する材料で形成されてもよい。
　振動減衰部材２８８は、例えば防振性シリコンゴムや熱伝導性シリコンゴムで形成されてもよく、アルミニウムやニッケル等の金属で形成された発泡金属等の、空孔を含む金属部材を用いて形成されてもよい。また、振動減衰部材２８８は、金属のばね材を用いて形成されてもよい。
　第５実施形態に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第２実施形態に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
　このような構成により、振動減衰部材２８８は、レシーバ２８０の振動が、筒部２８２やタンク２８３等のターゲット回収器２８の他の構成要素に伝達することを抑制し得る。
　それにより、振動減衰部材２８８は、レシーバ２８０の振動が、ターゲット回収器２８が固定されたチャンバ２やチャンバ２に固定されたターゲット供給器２６に伝達することを抑制し得る。
　その結果、第５実施形態に係るターゲット回収器２８は、チャンバ２やターゲット供給器２６が振動してターゲット軌道２７２が乱れることを抑制し得る。
　［１０．１　第５実施形態の変形例１］
　図１５を用いて、第５実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
　第５実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８は、第２実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８に対して、振動減衰部材２８８が追加された構成を備えてもよい。
　第５実施形態の変形例２におけるＥＵＶ光生成装置１の構成において、第２実施形態の変形例１におけるＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
　図１５は、第５実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
　図１５の振動減衰部材２８８は、図１４に示された振動減衰部材２８８と同様に、筒部２８２の内壁面２８２ｃとレシーバ２８０との間に配置されてもよい。
　振動減衰部材２８８の他の構成については、図１４に示された第４実施形態に係るターゲット回収器２８の振動減衰部材２８８と同様であってもよい。
　第５実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第２実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
　このような構成により、振動減衰部材２８８は、レシーバ２８０の振動がターゲット回収器２８の他の構成要素に伝達することを抑制し得る。
　その結果、第５実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８は、レシーバ２８０の振動がチャンバ２やターゲット供給器２６に伝達してターゲット軌道２７２が乱れることを抑制し得る。
　［１０．２　第５実施形態の変形例２］
　図１６を用いて、第５実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
　第５実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８は、第２実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８に対して、振動減衰部材２８８が追加された構成を備えてもよい。
　第５実施形態の変形例２におけるＥＵＶ光生成装置１の構成において、第２実施形態の変形例２におけるＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
　図１６は、第５実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
　図１６の振動減衰部材２８８は、タンク２８３の傾斜部２８３ｆの一部として配置されてもよい。振動減衰部材２８８は、傾斜部２８３ｆにおいて加振装置２８５１に接続された伝熱抑制部材２８６が占める領域の周囲に、傾斜部２８３ｆの一部として配置されてもよい。傾斜部２８３ｆの当該伝熱抑制部材２８６が占める領域内の内壁面２８３ｃには、レシーバ２８０を支持する支持部材２８０１が接続されてもよい。
　振動減衰部材２８８は、気密性を有する材料で形成されてもよい。振動減衰部材２８８は、例えば防振性シリコンゴムや熱伝導性シリコンゴムで形成されてもよい。
　振動減衰部材２８８は、タンク２８３内の気密性が確保され得るように配置されてもよい。
　なお、タンク２８３内の気密性の観点から、振動減衰部材２８８は、図１４に示された振動減衰部材２８８とは異なり、発泡金属等の空孔を含む金属部材や金属のばね材でない方が好ましい。
　振動減衰部材２８８の他の構成については、図１４に示された第２実施形態に係るターゲット回収器２８の振動減衰部材２８８と同様であってもよい。
　第５実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第２実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
　このような構成により、振動減衰部材２８８は、加振装置２８５１及びレシーバ２８０の振動が、筒部２８２やタンク２８３等のターゲット回収器２８の他の構成要素に伝達することを抑制し得る。
　それにより、振動減衰部材２８８は、加振装置２８５１及びレシーバ２８０の振動が、ターゲット回収器２８が固定されたチャンバ２やチャンバ２に固定されたターゲット供給器２６に伝達することを抑制し得る。
　その結果、第５実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８は、チャンバ２やターゲット供給器２６が振動してターゲット軌道２７２が乱れることを抑制し得る。
［１１．第６実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器］
　図１７～図１８Ｃを用いて、第６実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
　第６実施形態に係るターゲット回収器２８は、第５実施形態に係るターゲット回収器２８に対して、回収容器２８１及び振動減衰部材２８８の構成が主に異なってもよい。
　第６実施形態のＥＵＶ光生成装置１の構成において、第５実施形態のＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
　図１７は、第６実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。図１８Ａは、図１７に示されたＰ部分の拡大図であって、振動減衰部材２８８の構成例１を説明するための図を示す。図１８Ｂは、図１７に示されたＰ部分の拡大図であって、振動減衰部材２８８の構成例２を説明するための図を示す。図１８Ｃは、図１７に示されたＰ部分の拡大図であって、振動減衰部材２８８の構成例３を説明するための図を示す。
　図１７の回収容器２８１には、保持フランジ２８２ｅ及び接続フランジ２８２ｆが設けられてもよい。
　保持フランジ２８２ｅは、鍔状に形成されてもよい。保持フランジ２８２ｅは、筒部２８２の外壁面２８２ｂから径方向外側に向かって突出するように形成されてもよい。保持フランジ２８２ｅは、ターゲット軌道２７２と略直交するように突出して形成されてもよい。
　保持フランジ２８２ｅは、筒部２８２と一体的に形成されてもよい。
　保持フランジ２８２ｅは、筒部２８２やタンク２８３と同じ材料で形成されてもよい。
　なお、保持フランジ２８２ｅは、タンク２８３に設けられてもよい。
　接続フランジ２８２ｆは、チャンバ２に対してターゲット回収器２８を接続するためのフランジであってもよい。
　接続フランジ２８２ｆは、リング状に形成されてもよい。
　接続フランジ２８２ｆは、筒部２８２やタンク２８３と同じ材料で形成されてもよい。
　接続フランジ２８２ｆには、図１８Ａに示されるように、ボルト穴２８２ｇと、溝２８２ｈと、が形成されてもよい。
　ボルト穴２８２ｇは、チャンバ２の壁２ａに対して接続フランジ２８２ｆを固定するボルト２８９１をねじ込む穴であってもよい。
　溝２８２ｈは、チャンバ２の壁２ａに対して接続フランジ２８２ｆを気密的に接続するシール部材２８９２を配置するための溝であってもよい。なお、シール部材２８９２を配置するための溝は、接続フランジ２８２ｆに対して形成されるのではなく、チャンバ２の壁２ａに対して形成されてもよい。
　図１７の振動減衰部材２８８は、チャンバ２とターゲット回収器２８との間に配置されてもよい。
　振動減衰部材２８８は、図１８Ａに示されるように、ベローズ材２８８１として構成されてもよい。
　ベローズ材２８８１は、伸縮自在な筒状に形成されてもよい。
　ベローズ材２８８１は、弾性を有する材料で形成されてもよい。
　ベローズ材２８８１は、筒部２８２やタンク２８３と同じ材料で形成されてもよい。
　ベローズ材２８８１は、保持フランジ２８２ｅ及び接続フランジ２８２ｆのそれぞれに対して、溶接等により気密的に接合されてもよい。
　ベローズ材２８８１は、保持フランジ２８２ｅと接続フランジ２８２ｆとを接続してもよい。チャンバ２とターゲット回収器２８とは、振動減衰部材２８８であるベローズ材２８８１を介して接続され得る。
　また、振動減衰部材２８８は、図１８Ｂに示されるように、図１８Ａに示されたベローズ材２８８１の外側に防振ゴム２８８２を追加して構成されてもよい。
　防振ゴム２８８２は、上述の防振性シリコンゴムで形成されてもよい。
　防振ゴム２８８２は、保持フランジ２８２ｅ及び接続フランジ２８２ｆの間において、筒部２８２を囲むような複数箇所に配置されてもよい。
　振動減衰部材２８８は、防振ゴム２８８２の代りに、上述の空孔を含む金属部材を用いて構成されてもよい。空孔を含む金属部材は、上述のアルミニウムやニッケル等の金属で形成された発泡金属等であってもよい。
　また、振動減衰部材２８８は、図１８Ｃに示されるように、図１８Ａに示されたベローズ材２８８１の外側にばね材２８８３を追加して構成されてもよい。
　ばね材２８８３は、金属のばね材であってもよい。
　ばね材２８８３は、保持フランジ２８２ｅ及び接続フランジ２８２ｆの間において、筒部２８２を囲むような複数箇所に配置されてもよい。
　振動減衰部材２８８は、ばね材２８８３の代りに、ガススプリングや油圧ダンパ等のダンパを用いて構成されてもよい。
　第６実施形態に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第５実施形態に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
　このような構成により、振動減衰部材２８８は、レシーバ２８０の振動が、ターゲット回収器２８に接続されたチャンバ２やチャンバ２に固定されたターゲット供給器２６に伝達することを抑制し得る。
　その結果、第６実施形態に係るターゲット回収器２８は、チャンバ２やターゲット供給器２６が振動してターゲット軌道２７２が乱れることを抑制し得る。
　［１１．１　第６実施形態の変形例１］
　図１９を用いて、第６実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
　第６実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８は、第５実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８に対して、回収容器２８１及び振動減衰部材２８８の構成が主に異なってもよい。
　第６実施形態の変形例１におけるＥＵＶ光生成装置１の構成において、第５実施形態の変形例１におけるＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
　図１９は、第６実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
　図１９の回収容器２８１は、図１７～図１８Ｃに示された回収容器２８１と同様に、保持フランジ２８２ｅ及び接続フランジ２８２ｆが設けられてもよい。
　図１９の振動減衰部材２８８は、図１７～図１８Ｃに示された振動減衰部材２８８と同様の構成を備え、チャンバ２とターゲット回収器２８との間に配置されてもよい。
　第６実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第５実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
　このような構成により、振動減衰部材２８８は、レシーバ２８０の振動がチャンバ２やターゲット供給器２６に伝達することを抑制し得る。
　その結果、第６実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８は、チャンバ２やターゲット供給器２６が振動してターゲット軌道２７２が乱れることを抑制し得る。
　［１１．２　第６実施形態の変形例２］
　図２０を用いて、第６実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
　第６実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８は、第５実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８に対して、回収容器２８１及び振動減衰部材２８８の構成が主に異なってもよい。
　第６実施形態の変形例２におけるＥＵＶ光生成装置１の構成において、第５実施形態の変形例２におけるＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
　図２０は、第６実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
　図２０の回収容器２８１には、図１７～図１８Ｃに示された回収容器２８１と同様に、保持フランジ２８２ｅ及び接続フランジ２８２ｆが設けられてもよい。
　回収容器２８１は、タンク２８３の傾斜部２８３ｆの一部に対して振動減衰部材２８８が配置されておらず、図８に示された傾斜部２８３ｆと同様の構成を備えてもよい。
　図２０の振動減衰部材２８８は、図１７～図１８Ｃに示された振動減衰部材２８８と同様の構成を備え、チャンバ２とターゲット回収器２８との間に配置されてもよい。
　第６実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第５実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
　このような構成により、振動減衰部材２８８は、加振装置２８５１及びレシーバ２８０の振動がチャンバ２やターゲット供給器２６に伝達することを抑制し得る。
　その結果、第６実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８は、チャンバ２やターゲット供給器２６が振動してターゲット軌道２７２が乱れることを抑制し得る。
［１２．第７実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器］
　図２１を用いて、第７実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
　第７実施形態のＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２から露光装置６に向かってＥＵＶ光２５２を導出する方向を、水平方向に対して傾斜させてもよい。このため、略円筒形状のチャンバ２は、その中心軸方向が水平方向に対して傾斜するように設けられてもよい。
　チャンバ２の側面部に設けられたターゲット供給器２６は、ターゲット軌道２７２が重力方向に対して傾斜するようターゲット２７を出力してもよい。
　第７実施形態に係るターゲット回収器２８は、重力方向に対して傾斜するターゲット軌道２７２の延長線上に配置されてもよい。
　第７実施形態のＥＵＶ光生成装置１の構成において、第１～第６実施形態のＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
　［１２．１　構成］
　図２１は、第７実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
　図２１の回収容器２８１は、筒部２８２が屈曲していてもよい。
　筒部２８２は、第１筒部２８２１と、第２筒部２８２２と、屈曲部２８２３と、を含んでもよい。
　第１筒部２８２１は、屈曲部２８２３よりもチャンバ２の内部側に位置する筒部２８２の一部分であってもよい。
　第１筒部２８２１は、その中心軸がターゲット軌道２７２に沿って延びるように形成されてもよい。第１筒部２８２１の中心軸は、重力方向に対して傾斜し得る。
　第１筒部２８２１は、チャンバ２の壁２ａを貫通するように配置されでもよい。第１筒部２８２１の一端側の開口部２８２１ａは、チャンバ２の内部に位置してもよい。開口部２８２１ａは、パルスレーザ光３３が照射されなかったターゲット２７が回収容器２８１内に進入するための開口であってもよい。第１筒部２８２１の他端側の開口部は、チャンバ２の外部に位置してもよい。
　第１筒部２８２１には、図１７～図１８Ｃに示された筒部２８２と同様に、保持フランジ２８２ｅが一体的に形成されてもよい。そして、第１筒部２８２１は、図１７～図１８Ｃに示された筒部２８２と同様に、チャンバ２の壁２ａに固定された接続フランジ２８２ｆと、ベローズ材２８８１を介して接続されてもよい。すなわち、第１筒部２８２１は、チャンバ２の壁２ａと、ベローズ材２８８１を介して接続されてもよい。チャンバ２とターゲット回収器２８とは、振動減衰部材２８８であるベローズ材２８８１を介して接続され得る。
　第２筒部２８２２は、屈曲部２８２３よりもチャンバ２の外部側に位置する筒部２８２の一部分であってもよい。
　第２筒部２８２２は、その中心軸が重力方向に沿って延びるように形成されてもよい。第２筒部２８２２の中心軸は、ターゲット軌道２７２に対して傾斜し得る。
　第２筒部２８２２は、チャンバ２の外部に配置されてもよい。
　屈曲部２８２３は、筒部２８２の一部であって、第１筒部２８２１と第２筒部２８２２との境界部分であってもよい。
　屈曲部２８２３は、チャンバ２の外部に位置してもよい。
　屈曲部２８２３の内部には、反射板２８２４が設けられてもよい。
　反射板２８２４の反射面は、第１筒部２８２１内に進入したターゲット２７を第２筒部内２８２２内に反射させてもよい。
　なお、反射板２８２４は、屈曲部２８２３と一体的に形成されてもよい。
　また、屈曲部２８２３の内壁面の一部が、反射板２８２４の反射面として機能してもよい。すなわち、屈曲部２８２３の内壁面は、第１筒部２８２１内に進入したターゲット２７を第２筒部内２８２２内に反射させてもよい。
　タンク２８３には、図７に示されたタンク２８３と同様に、傾斜部２８３ｆが形成されてもよい。
　タンク２８３は、振動減衰部材２８８であるベローズ材２８８１を介して、第２筒部２８２２と接続されてもよい。
　図２１のレシーバ２８０は、上述の板状部材又は繊維部材を用いて構成されてもよい。図２１～図２３では、上述の板状部材を用いて構成されたレシーバ２８０が代表して示されている。
　レシーバ２８０は、筒部２８２の内部に複数設けられてもよい。
　複数のレシーバ２８０の少なくとも１つは、第１筒部２８２１内に配置されてもよい。複数のレシーバ２８０の少なくとも１つは、反射板２８２４よりもチャンバ２の内部側に位置する第１筒部２８２１の内壁面２８２１ｃに支持されてもよい。
　複数のレシーバ２８０のそれぞれは、支持部材を介さずに、第１筒部２８２１の内壁面２８２１ｃ及び第２筒部２８２２の内壁面２８２２ｃのそれぞれに対して直接支持されてもよい。或いは、複数のレシーバ２８０のそれぞれは、上述した支持部材２８０１と同様の支持部材を介して、内壁面２８２１ｃ及び２８２２ｃのそれぞれに対して支持されてもよい。
　複数のレシーバ２８０は、第１又は第２筒部２８２１又は２８２２の中心軸に対して互い違いに配置されてもよい。
　図２１の加振装置２８５１は、第２筒部２８２２の外壁面２８２２ｂに対して、伝熱抑制部材２８６を介して接続されてもよい。
　図２１の冷却装置２８７１は、加振装置２８５１の伝熱抑制部材２８６とは反対側に位置する面に接続されてもよい。
　第７実施形態に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第１～第６実施形態に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
　［１２．２　動作］
　第７実施形態に係るターゲット回収器２８の動作について説明する。
　第７実施形態に係るターゲット回収器２８の動作において、第１～第６実施形態に係るターゲット回収器２８と同様の動作について説明を省略する。
　ターゲット２７は、重力方向に対して傾斜したターゲット軌道２７２に沿って進行し、第１筒部２８２１内に進入し得る。
　第１筒部２８２１内に進入したターゲット２７は、第１筒部２８２１内に配置されたレシーバ２８０に衝突して運動エネルギーが低減され得る。
　第１筒部２８２１内に配置されたレシーバ２８０に衝突したターゲット２７は、反射板２８２４の反射面に衝突して進行方向が変更され得る。このとき、ターゲット２７の反射板２８２４への衝突によって飛沫が発生しても、飛沫の回収容器２８１外への飛散は、第１筒部２８２１内に配置されたレシーバ２８０によって阻まれ得る。
　反射板２８２４の反射面に衝突したターゲット２７は、第２筒部２８２２内に進入し得る。
　第２筒部２８２２内に進入したターゲット２７は、第２筒部２８２２内に配置されたレシーバ２８０に衝突して運動エネルギーが更に低減され得る。
　第２筒部２８２２内に配置されたレシーバ２８０に衝突したターゲット２７は、タンク２８３内の傾斜部２８３ｆに落下し、傾斜部２８３ｆを伝ってタンク２８３内に収容され得る。
　上述のように、加振装置２８５１は、ターゲット供給器２６がターゲット２７を出力している間だけ、伝熱抑制部材２８６を介して第２筒部２８２２の外壁面２８２２ｂを振動させてもよい。或いは、加振装置２８５１は、ＥＵＶ光２５２を生成しない期間に、伝熱抑制部材２８６を介して第２筒部２８２２の外壁面２８２２ｂを振動させてもよい。
　伝熱抑制部材２８６を介して第２筒部２８２２の外壁面２８２２ｂに加えられた振動は、第２筒部２８２２及び第１筒部２８２１に伝達し得る。
　第２筒部２８２２及び第１筒部２８２１に伝達した振動は、第２筒部２８２２内に配置されたレシーバ２８０及び第１筒部２８２１内に配置されたレシーバ２８０に伝達し得る。すなわち、加振装置２８５１は、第２筒部２８２２の外壁面２８２２ｂを介して第１筒部２８２１及び第２筒部２８２２に配置されたレシーバ２８０を振動させ得る。それにより、レシーバ２８０上へのターゲット２７の蓄積は抑制され得る。
　また、第２筒部２８２２に伝達した振動は、第２筒部２８２２とタンク２８３との間の振動減衰部材２８８によって減衰され、タンク２８３への伝達が阻まれ得る。第１筒部２８２１に伝達した振動は、第１筒部２８２１とチャンバ２との間の振動減衰部材２８８によって減衰され、チャンバ２への伝達が阻まれ得る。
　第７実施形態に係るターゲット回収器２８の他の動作については、第１～第６実施形態に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
　［１２．３　作用］
　第７実施形態に係るターゲット回収器２８は、加振装置２８５１及びレシーバ２８０が配置された筒部２８２だけを限定的に振動させ得る。
　すなわち、第７実施形態に係るターゲット回収器２８は、加振装置２８５１及びレシーバ２８０の振動が、ターゲット回収器２８が固定されたチャンバ２やチャンバ２に固定されたターゲット供給器２６に伝達することを抑制し得る。
　なお、ターゲット回収器２８は、チャンバ２が搭載されるフレームや床面にタンク２８３が設置された状態で使用される場合がある。
　この場合でも、第７実施形態に係るターゲット回収器２８は、筒部２８２だけを限定的に振動させ得るため、加振装置２８５１及びレシーバ２８０の振動が、タンク２８３から当該フレームや床面を介してターゲット供給器２６に伝達することを抑制し得る。
　その結果、第７実施形態に係るターゲット回収器２８は、チャンバ２やターゲット供給器２６が振動してターゲット軌道２７２が乱れることを抑制し得る。
　［１２．４　第７実施形態の変形例１］
　図２２を用いて、第７実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
　第７実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８は、第７実施形態に係るターゲット回収器２８に対して、回収容器２８１及び加振機構２８５の構成が主に異なってもよい。
　第７実施形態の変形例１におけるＥＵＶ光生成装置１の構成において、第７実施形態のＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
　図２２は、第７実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
　図２２の回収容器２８１は、第１筒部２８２１が、ベローズ材２８８１を介さずにチャンバ２の壁２ａに固定されてもよい。
　また、回収容器２８１は、第２筒部２８２２が、第１筒部２８２１及び屈曲部２８２３と一体的に形成されるのではなくベローズ材２８８１を介して屈曲部２８２３及びタンク２８３に接続されてもよい。
　図２２の複数のレシーバ２８０のうちで第１筒部２８２１内に配置されたレシーバ２８０は、第１筒部２８２１の内壁面２８２１ｃに対して振動減衰部材２８８を介して支持されてもよい。
　複数のレシーバ２８０のうちで第２筒部２８２２内に配置されたレシーバ２８０は、第２筒部２８２２の内壁面２８２２ｃに対して直接支持されてもよい。
　図２２の加振機構２８５は、第１加振装置２８５４と、第１加振電源２８５５と、第２加振装置２８５６と、第２加振電源２８５７と、を含んでもよい。
　第１加振装置２８５４は、第１筒部２８２１内に配置されたレシーバ２８０を振動させるバイブレータであってもよい。
　第１加振装置２８５４は、チャンバ２の壁２ａの内壁面に配置されてもよい。
　第１加振装置２８５４は、第１筒部２８２１に設けられた貫通孔２８２１ｄを通る伝熱抑制部材２８６を介して、第１筒部２８２１内に配置されたレシーバ２８０と接続されてもよい。
　第１加振電源２８５５は、第１加振装置２８５４に含まれるモータに電力を供給する電源であってもよい。
　第１加振電源２８５５は、チャンバ２の壁２ａを貫通するフィードスルー２ｃを介して、チャンバ２内に配置された第１加振装置２８５４に電気的に接続されてもよい。
　第２加振装置２８５６は、第２筒部２８２２内に配置されたレシーバ２８０を振動させるバイブレータであってもよい。
　第２加振装置２８５６は、第２筒部２８２２の外壁面２８２２ｂに対して、伝熱抑制部材２８６を介して接続されてもよい。
　第２加振電源２８５７は、第２加振装置２８５６に含まれるモータに電力を供給する電源であって、第２加振装置２８５６と電気的に接続されてもよい。
　図２２の冷却装置２８７１は、第２加振装置２８５６の伝熱抑制部材２８６とは反対側に位置する面に接続されてもよい。
　第７実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第７実施形態に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
　このような構成により、第７実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８は、筒部２８２の一部である第１筒部２８２１がチャンバ２の壁２ａに固定されているため、ターゲット軌道２７２に対する回収容器２８１の位置決めが容易となり得る。
　［１２．５　第７実施形態の変形例２］
　図２３を用いて、第７実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
　第７実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８は、第７実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８に対して、第２筒部２８２２内に配置されたレシーバ２８０の構成が主に異なってもよい。
　第７実施形態の変形例２におけるＥＵＶ光生成装置１の構成において、第７実施形態の変形例１におけるＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
　図２３は、第７実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
　図２３の複数のレシーバ２８０のうちで第２筒部２８２２内に配置されたレシーバ２８０は、第２筒部２８２２の内壁面２８２２ｃに対して振動減衰部材２８８を介して支持されてもよい。
　図２３の第２加振装置２８５６は、第２筒部２８２２に設けられた貫通孔２８２２ｄを通る伝熱抑制部材２８６を介して、第２筒部２８２２内に配置されたレシーバ２８０と接続されてもよい。
　第２加振装置２８５６及び冷却装置２８７１は、第２筒部２８２２の外壁面２８２２ｂに設けられたケース２８２２ｅに収容されてもよい。
　ケース２８２２ｅは、貫通孔２８２２ｄを囲むように配置されてもよい。
　ケース２８２２ｅの内部は、第２筒部２８２２の内部と連通してもよい。
　ケース２８２２ｅは、貫通孔２８２２ｄが設けられた第２筒部２８２２の内部を外気から隔絶してもよい。
　ケース２８２２ｅは、第２筒部２８２２と一体的に形成されてもよい。
　ケース２８２２ｅ内に配置された第２加振装置２８５６は、ケース２８２２ｅを貫通するフィードスルー２８２２ｆを介して、第２加振電源２８５７に電気的に接続されてもよい。
　ケース２８２２ｅ内に配置された冷却装置２８７１内の冷媒流路は、ケース２８２２ｅを貫通するフィードスルー２８２２ｇを通る配管２８７３によって、熱交換器２８７２と連通してもよい。
　第７実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第７実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
　このような構成により、第７実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８は、第７実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８と同様に、第１筒部２８２１がチャンバ２に固定されていることによって回収容器２８１の位置決めが容易となり得る。
［１３．その他］
　上記で説明した実施形態は、変形例を含めて各実施形態同士で互いの技術を適用し得ることは、当業者には明らかであろう。
　上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
　本明細書及び添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書、及び添付の特許請求の範囲に記載される修飾語「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。
　１　　　　　　　　　…ＥＵＶ光生成装置
　２　　　　　　　　　…チャンバ
　２ａ　　　　　　　　…壁
　２５　　　　　　　　…プラズマ生成領域
　２５２　　　　　　　…ＥＵＶ光
　２６　　　　　　　　…ターゲット供給器
　２７　　　　　　　　…ターゲット
　２７１　　　　　　　…ドロップレット
　２７２　　　　　　　…ターゲット軌道
　２８　　　　　　　　…ターゲット回収器
　２８０　　　　　　　…レシーバ
　２８１　　　　　　　…回収容器
　２８２　　　　　　　…筒部
　２８２ｂ　　　　　　…外壁面
　２８２ｃ　　　　　　…内壁面
　２８２１　　　　　　…第１筒部
　２８２１ａ　　　　　…開口部
　２８２１ｂ　　　　　…外壁面
　２８２１ｃ　　　　　…内壁面
　２８２２　　　　　　…第２筒部
　２８２２ｂ　　　　　…外壁面
　２８２２ｃ　　　　　…内壁面
　２８２４　　　　　　…反射板
　２８３　　　　　　　…タンク
　２８４１　　　　　　…加熱装置
　２８５１　　　　　　…加振装置
　２８６　　　　　　　…伝熱抑制部材
　２８７１　　　　　　…冷却装置
　２８８　　　　　　　…振動減衰部材
　２８８１　　　　　　…ベローズ材
　３３　　　　　　　　…パルスレーザ光

Claims (12)

  1. 　内部の所定領域でターゲットにレーザ光が照射されると極端紫外光が生成されるチャンバと、
    　前記チャンバ内の前記所定領域に向かって前記ターゲットを出力することで前記所定領域に前記ターゲットを供給するターゲット供給器と、
    　前記ターゲット供給器から出力され前記レーザ光が照射されなかった前記ターゲットを回収するターゲット回収器と、
    　を具備し、
    　前記ターゲット回収器は、
    　　前記ターゲット供給器から出力された前記ターゲットの軌道に対して傾斜して配置され、前記レーザ光が照射されなかった前記ターゲットを衝突させて受けるレシーバと、
    　　前記レシーバを振動させる加振装置と、
    　を備える
    　極端紫外光生成装置。
  2. 　前記ターゲットは、金属材料で形成されており、
    　前記ターゲット供給器は、前記ターゲットを溶融させドロップレットとして前記チャンバ内に出力し、
    　前記ターゲット回収器は、前記レシーバが前記ターゲットの融点以上の温度となるよう前記レシーバを加熱する加熱装置を更に備え、
    　前記レシーバは、溶融した前記ターゲットとの接触角が９０°以上となる材料で形成されている
    　請求項１に記載の極端紫外光生成装置。
  3. 　前記ターゲット回収器は、前記加振装置により発生した振動が前記チャンバに伝達することを抑制する振動減衰部材を更に備える
    　請求項２に記載の極端紫外光生成装置。
  4. 　前記ターゲット回収器は、前記加熱装置により発生した熱が前記加振装置に伝達することを抑制する伝熱抑制部材を更に備える
    　請求項３に記載の極端紫外光生成装置。
  5. 　前記ターゲット回収器は、前記加振装置を冷却する冷却装置を更に備える
    　請求項４に記載の極端紫外光生成装置。
  6. 　前記レシーバは、重力方向に対して傾斜配置されている
    　請求項４に記載の極端紫外光生成装置。
  7. 　前記レシーバは、繊維部材を用いて構成されている
    　請求項４に記載の極端紫外光生成装置。
  8. 　前記ターゲット回収器は、内部に前記レシーバが配置され前記ターゲットを回収する回収容器を更に備え、
    　前記レシーバは、前記回収容器の内壁面に支持され、
    　前記加振装置は、前記回収容器の外壁面を介して前記レシーバを振動させる
    　請求項７に記載の極端紫外光生成装置。
  9. 　前記ターゲット供給器は、前記軌道が重力方向に対して傾斜するよう前記ターゲットを出力し、
    　前記ターゲット回収器は、内部に前記レシーバが配置され前記ターゲットを回収する回収容器を更に備え、
    　前記回収容器は、
    　　前記レーザ光が照射されなかった前記ターゲットが進入する開口部が形成され前記軌道に沿って延びる第１筒部と、
    　　前記第１筒部に連通し前記重力方向に沿って延びる第２筒部と、
    　　前記第１筒部内に進入した前記ターゲットを前記第２筒部内に反射させる反射面と、
    　　前記第２筒部に連通し前記チャンバ外に配置され少なくとも前記レシーバに衝突した前記ターゲットを収容するタンクと、
    　を含み、
    　前記レシーバは、少なくとも前記第１筒部内に配置されている
    　請求項７に記載の極端紫外光生成装置。
  10. 　前記レシーバは、少なくとも前記第１筒部の内壁面に支持され、
    　前記加振装置は、前記第２筒部の外壁面を介して前記レシーバを振動させ、
    　前記第１筒部は、前記振動減衰部材を介して前記チャンバの壁に接続されている
    　請求項９に記載の極端紫外光生成装置。
  11. 　前記第１筒部は、前記チャンバの壁に固定され、
    　前記レシーバは、少なくとも前記第１筒部の内壁面に前記振動減衰部材を介して支持され、
    　前記加振装置は、前記第１筒部の内壁面に支持された前記レシーバに前記伝熱抑制部材を介して接続されている
    　請求項９に記載の極端紫外光生成装置。
  12. 　軌道に沿って飛来するターゲットの前記軌道に対して傾斜して配置され、飛来した前記ターゲットを衝突させて受けるレシーバと、
    　前記レシーバを振動させる加振装置と、
    　を備えるターゲット回収器。
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