JP6414053B2 - 液晶表示素子、液晶配向膜及び液晶配向処理剤 - Google Patents

Description

本発明は、電圧無印加時に透明状態となり、電圧印加時に散乱状態となる透過散乱型の液晶表示素子、それに用いられる液晶配向膜及びこの液晶配向膜を形成するための液晶配向処理剤に関するものである。

液晶材料を用いた液晶表示素子としては、ＴＮ（Twisted Nematic）モードが実用化されている。このモードでは、液晶の旋光特性を利用して、光のスイッチングを行うものであり、液晶表示素子として用いる際には、偏光板を用いる必要がある。しかしながら、偏光板を用いることで光の利用効率が低くなる。
偏光板を用いずに光の利用効率の高い液晶表示素子として、液晶の透過状態（透明状態ともいう）と散乱状態との間でスイッチングを行う液晶表示素子があり、一般的には、高分子分散型液晶（ＰＤＬＣ（Polymer Dispersed Liquid Crystal））や高分子ネットワーク型液晶（ＰＮＬＣ（Polymer Network Liquid Crystal））を用いたものが知られている。

これらを用いた液晶表示素子は、電極を備えた一対の基板の間に液晶層を有してなり、前記一対の基板の間に活性エネルギー線及び熱の少なくとも一方により重合する重合性化合物を含む液晶組成物を配置し、液晶組成物の一部又は全体が液晶性を示す状態で前記液晶組成物の硬化を行い、液晶と重合性化合物の硬化物複合体を形成させる工程を経て製造される液晶表示素子である。そして、この液晶表示素子は、電圧の印加により、液晶の透過状態と散乱状態とを制御する。

従来のＰＤＬＣやＰＮＬＣを用いた液晶表示素子は、電圧無印加時に液晶分子がランダムな方向を向いているため、白濁（散乱）状態となり、電圧印加時には液晶が電界方向に配列し、光を透過して透過状態となる（このような透過散乱の制御を行う液晶表示素子をノーマル型素子ともいう）。しかし、このノーマル型素子においては、透過状態を得るために常時電圧を印加しておく必要があるため、透明状態で使用される場合が多い用途、例えば窓ガラスなどで使用する場合には、消費電力が大きい。
ノーマル型素子に対して、電圧無印加時に透過状態となり、電圧印加時には、散乱状態になるＰＤＬＣが報告されている（このような透過散乱の制御を行う液晶表示素子をリバース型素子ともいう）（例えば、特許文献１又は２参照）。

日本特許２８８５１１６号公報 日本特許４１３２４２４号公報

リバース型素子では、液晶を垂直に配向させなければならないため、液晶を垂直に配向させる液晶配向膜（垂直液晶配向膜ともいう）が用いられる。その際、垂直液晶配向膜は疎水性が高い膜であるため、液晶層と液晶配向膜との密着性が低くなってしまう。そのため、リバース型素子に用いる液晶組成物には、液晶層と液晶配向膜との密着性を高めるための重合性化合物（硬化剤ともいう）を多く導入しなければならない。しかしながら、重合性化合物を多く導入すると、液晶の垂直配向性が阻害され、電圧無印加時の透明性と電圧印加時の散乱特性が大きく低下する問題がある。そのため、リバース型素子に用いる液晶配向膜は、液晶の垂直配向性が高いものが必要となる。

そこで、本発明は、上記特性を兼ね備えた液晶表示素子を提供することを目的とする。すなわち、本発明は、液晶表示素子であって、液晶層と垂直液晶配向膜との密着性が高い、更には、液晶の垂直配向性が高く、良好な光学特性、すなわち、電圧無印加時の透明性と電圧印加時の散乱特性が良好な液晶表示素子を提供することを目的とする。加えて、上記液晶表示素子に用いる液晶配向膜及び液晶配向処理剤の提供を目的とする。

本発明者は、鋭意研究を行った結果、特定構造の側鎖を有する重合体及び特定構造の発生剤を含む液晶配向処理剤から得られた垂直液晶配向膜を用いた液晶表示素子が、上記の目的を達成するために極めて有効であることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は以下の要旨を有するものである。

（１）電極を備えた一対の基板の間に液晶層を有し、前記一対の基板の間に活性エネルギー線及び熱の少なくとも一方により重合する重合性化合物を含む液晶組成物を配置し、さらに、基板の少なくとも一方が液晶を垂直に配向させる液晶配向膜を有し、液晶組成物の一部又は全体が液晶性を示す状態で前記液晶組成物の硬化を行い、液晶と重合性化合物の硬化物複合体を形成させてなり、かつ電圧無印加時に透明状態となり、電圧印加時に散乱状態となる透過散乱型の液晶表示素子であり、前記液晶配向膜が、下記の（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を含む液晶配向処理剤から得られる液晶配向膜である液晶表示素子。
（Ａ）成分：下記の式［１−１］及び式［１−２］で示される構造からなる群から選ばれる少なくとも１種の構造を有する重合体
（Ｂ）成分：光ラジカル発生剤、光酸発生剤及び光塩基発生剤からなる群から選ばれる少なくとも１つの発生剤

（Ｙ^１は単結合、−（ＣＨ_２）_ａ−（ａは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−及び−ＯＣＯ−からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合基を示す。Ｙ^２は単結合又は−（ＣＨ_２）_ｂ−（ｂは１〜１５の整数である）を示す。Ｙ^３は単結合、−（ＣＨ_２）_ｃ−（ｃは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−及び−ＯＣＯ−からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合基を示す。Ｙ^４はベンゼン環、シクロヘキサン環及び複素環からなる群から選ばれる少なくとも１種の２価の環状基、又はステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の２価の有機基を示し、前記環状基上の任意の水素原子は、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシル基又はフッ素原子で置換されていてもよい。Ｙ^５はベンゼン環、シクロヘキサン環及び複素環からなる群から選ばれる２価の環状基を示し、これらの環状基上の任意の水素原子は、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシル基又はフッ素原子で置換されていてもよい。ｎは０〜４の整数を示す。Ｙ^６は炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル基及び炭素数１〜１８のフッ素含有アルコキシル基からなる群から選ばれる少なくとも１種を示す。）

（Ｙ^７は単結合、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−、−Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ−、−ＣＯＯ−及び−ＯＣＯ−からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合基を示す。Ｙ^８は炭素数８〜２２のアルキル基又は炭素数６〜１８のフッ素含有アルキル基を示す。）

（２）前記（Ａ）成分の重合体が、アクリルポリマー、メタクリルポリマー、ノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル、セルロース及びポリシロキサンからなる群から選ばれる少なくとも１つである上記（１）に記載の液晶表示素子。
（３）前記重合体が、前記式［１−１］の構造の側鎖を有するジアミン化合物及び式［１−２］の構造の側鎖を有するジアミン化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種のジアミン化合物を原料の一部に用いて得られるポリイミド前駆体及びポリイミドからなる群から選ばれる少なくとも１種である上記（２）に記載の液晶表示素子。
（４）前記ジアミン化合物が、下記の式［１ａ］で示されるジアミン化合物である上記（３）に記載の液晶表示素子。

（Ｙは前記式［１−１］及び式［１−２］で示される構造からなる群から選ばれる少なくとも１種を示す。ｎは１〜４の整数を示す。）

（５）前記（Ａ）成分の重合体が、下記の式［３］で示されるテトラカルボン酸成分を原料の一部に用いて得られるポリイミド前駆体及びポリイミドからなる群から選ばれる少なくとも１種である上記（２）〜（４）のいずれかに記載の液晶表示素子。

（Ｚ^１は後記する式［３ａ］〜式［３ｊ］から選ばれる構造を示す。）
（６）前記重合体がポリイミドである上記（３）〜（５）のいずれかに記載の液晶表示素子。

（７）前記（Ａ）成分の重合体が、下記の式［Ａ１］で示されるアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサン、又は、式［Ａ１］と、下記の式［Ａ２］及び式［Ａ３］で示されるアルコキシシランからなる群から選ばれる少なくとも１種のアルコキシシランとを重縮合させて得られるポリシロキサンである上記（２）に記載の液晶表示素子。

（Ａ^１は前記式［１−１］又は式［１−２］で示される構造を示す。Ａ^２はそれぞれ水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を示す。Ａ^３はそれぞれ炭素数１〜５のアルキル基を示す。ｍは１又は２の整数を示す。ｎは０〜２の整数を示す。ｐは０〜３の整数を示す。ただし、ｍ＋ｎ＋ｐは４である。）

（Ｂ^１はビニル基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、イソシアネート基、メタクリル基、アクリル基、ウレイド基及びシンナモイル基からなる群から選ばれる少なくとも１種の炭素数２〜１２の有機基を示す。Ｂ^２はそれぞれ水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を示す。Ｂ^３はそれぞれ炭素数１〜５のアルキル基を示す。ｍは１又は２の整数を示す。ｎは０〜２の整数を示す。ｐは０〜３の整数を示す。ただし、ｍ＋ｎ＋ｐは４である。）

（Ｄ^１はそれぞれ水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を示す。Ｄ^２は炭素数１〜５のアルキル基を示す。ｎは０〜３の整数を示す。）

（８）前記（Ｂ）成分の発生剤が、光ラジカル発生剤である上記（１）〜（７）のいずれかに記載の液晶表示素子。
（９）前記液晶配向処理剤中に、１−ヘキサノール、シクロヘキサノール、１，２−エタンジオール、１，２−プロパンジオール、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、下記の式［Ｄ１］、式［Ｄ２］及び式［Ｄ３］で示される溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１つの溶媒を含有する上記（１）〜（８）のいずれかに記載の液晶表示素子。

（Ｄ^１は炭素数１〜３のアルキル基を示す。Ｄ^２は炭素数１〜３のアルキル基を示す。Ｄ^３は炭素数１〜４のアルキル基を示す。）

（１０）前記液晶配向処理剤中に、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン及びγ−ブチロラクトンからなる群から選ばれる少なくとも１つの溶媒を含有する上記（１）〜（９）のいずれかに記載の液晶表示素子。
（１１）前記液晶配向処理剤に、後記する式［Ｂ１］〜式［Ｂ７］で示される構造を有する化合物からなる群から選ばれる少なくとも１つの化合物を含有する上記（１）〜（１０）のいずれかに記載の液晶表示素子。

（１２）前記液晶表示素子の基板が、ガラス基板又はプラスチック基板である上記（１）〜（１１）のいずれかに記載の液晶表示素子。
（１３）上記（１）〜（１２）のいずれかに記載の液晶表示素子に用いる液晶配向膜。
（１４）膜厚が５〜３００ｎｍである上記（１３）に記載の液晶配向膜。
（１５）上記（１３）又は（１４）に記載の液晶配向膜を形成するための液晶配向処理剤。

本発明によれば、特定構造の側鎖を有する重合体及び特定構造の発生剤を含む液晶配向処理剤から得られる垂直液晶配向膜を用いることにより、液晶層と垂直液晶配向膜との密着性が高い、更には、液晶の垂直配向性が高く、良好な光学特性、すなわち、電圧無印加時の透明性と電圧印加時の散乱特性が良好な液晶表示素子を提供できる。本発明の液晶表示素子であるリバース型素子は、表示を目的とする液晶ディスプレイ、光の透過と遮断を制御する調光窓や光シャッター素子などに用いることができる。

＜液晶表示素子＞
本発明の液晶表示素子は、電極を備えた一対の基板の間に液晶層を有し、前記一対の基板の間に活性エネルギー線及び熱の少なくとも一方により重合する重合性化合物を含む液晶組成物を配置し、さらに、基板の少なくとも一方が液晶を垂直に配向させる液晶配向膜を有し、液晶組成物の一部又は全体が液晶性を示す状態で前記液晶組成物の硬化を行い、液晶と重合性化合物の硬化物複合体を形成させて得られる液晶表示素子であり、前記液晶配向膜が、下記の（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を含む液晶配向処理剤から得られる液晶配向膜を有する。
（Ａ）成分：下記の式［１−１］及び式［１−２］で示される構造からなる群から選ばれる少なくとも１種の構造を有する重合体（特定重合体ともいう）
（Ｂ）成分：光ラジカル発生剤、光酸発生剤及び光塩基発生剤からなる群から選ばれる少なくとも１つの発生剤（特定発生剤ともいう）

（式中、Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３、Ｙ^４、Ｙ^５、Ｙ^６、及びｎは、前記と同意義である。）

（式中、Ｙ^７、及びＹ^８は、前記と同意義である。）

本発明における垂直液晶配向膜は、紫外線などの活性エネルギー線や熱により、ラジカル、酸又は塩基（触媒ともいう）を発生する特定発生剤を含む液晶配向処理剤から得られる。そのため、液晶表示素子を作製する際の液晶と重合性化合物の硬化物複合体、すなわち、液晶層を形成させる工程で用いる紫外線や加熱により、垂直液晶配向膜中の特定発生剤から触媒が発生して、液晶層と垂直液晶配向膜との密着性が、より強固なものとなる。
さらに、本発明の液晶表示素子に使用される、特定重合体に含まれる、式［１−１］で示される特定側鎖構造は、側鎖部位にベンゼン環、シクロヘキシル環、複素環、又はステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の２価の有機基を有する。これら環及び有機基の側鎖構造は、剛直な構造を示すため、高くて安定な液晶の垂直配向性を得ることができる。
以上の点から、本発明の特定側鎖構造を有する重合体及び特定発生剤を含む液晶配向処理剤から得られる垂直液晶配向膜を有する液晶表示素子は、液晶の垂直配向性が高く、良好な光学特性、すなわち、電圧無印加時の透明性（透過状態）と電圧印加時の散乱特性（散乱状態）が良好で、さらに液晶層と垂直液晶配向膜との密着性が高いリバース型素子として用いることができる。

＜液晶組成物＞
本発明の液晶表示素子の作製に用いる液晶組成物中の液晶には、ネマチック液晶やスメクチック液晶を用いることができる。なかでも、負の誘電異方性を有するものが好ましい。また、低電圧駆動及び散乱特性の点からは、誘電率の異方性が大きく、屈折率の異方性が大きいものが好ましい。
さらに、液晶表示素子をＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）などの能動素子として駆動させるためには、液晶の電気抵抗が高く、電圧保持率（ＶＨＲともいう）が高いことが求められる。そのため、液晶には、電気抵抗が高く、紫外線などの活性エネルギー線によりＶＨＲが低下しないフッ素系や塩素系の液晶を用いることが好ましい。さらに、液晶としては、複屈折率（Δｎ）が大きいものを用いることが好ましい。

本発明における液晶表示素子は、液晶組成物中に二色性染料を溶解させてゲストホスト型の素子とすることもできる。この場合、電圧無印加時は透明で、電圧印加時に吸収（散乱）となる素子が得られる。
また、本発明における液晶表示素子では、液晶の配向の方向は、電圧印加の有無により９０度変化する。そのため、本発明の液晶表示素子では、二色性染料の吸光特性の違いを利用することで、ランダム配向と垂直配向でスイッチングを行う従来のゲストホスト型の素子に比べて、高いコントラストが得られる。また、二色性染料を溶解させたゲストホスト型の素子では、液晶が水平方向に配向した場合に有色になり、散乱状態においてのみ、不透明となる。そのため、電圧を印加するにつれ、電圧無印加時の無色透明から有色不透明、有色透明の状態に切り替わる素子を得ることもできる。

本発明における液晶組成物中には、紫外線などの活性エネルギー線及び熱の少なくとも一方により重合する重合性化合物が含まれる。重合性化合物の重合は、その反応形式は問わず、液晶と重合性化合物の硬化物複合体を形成させても良い。具体的な重合の反応形式としては、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合又は重付加反応が挙げられる。ここで、硬化物複合体とは、重合性化合物により形成される高分子量体（ポリマー）中に液晶が存在しているような状態を意味する。
重合性化合物としては、液晶に溶解すれば、どのような化合物であってもよい。ただし、重合性化合物を液晶に溶解した際に、液晶組成物の一部又は全体が液晶相を示す温度が存在することが必要となる。液晶組成物の一部が液晶相を示す場合であっても、液晶表示素子を肉眼で確認して、素子内全体が、ほぼ一様な透明性と散乱特性が得られていれば良い。

重合性化合物の反応形式がラジカル重合の場合、下記のラジカル型の重合性化合物を用いることができる。
例えば、２−エチルヘキシルアクリレート、ブチルエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、２−シアノエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、グリシジルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボニルアクリレート、イソデシルアクリレート、ラウリルアクリレート、モルホリンアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルアクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルアクリレート、２，２，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ブチルエチルメタクリレート、ブトキシエチルメタクリレート、２−シアノエチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、ジシクロペンテニルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、イソボニルメタクリレート、イソデシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、モルホリンメタクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、フェノキシジエチレングリコールメタクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルメタクリレート、２，２，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチルメタクリレート、４，４’−ビフェニルジアクリレート、ジエチルスチルべストロールジアクリレート、１，４−ビスアクリロイルオキシベンゼン、４，４’−ビスアクリロイルオキシジフェニルエーテル、４，４’−ビスアクリロイルオキシジフェニルメタン、３，９−［１，１−ジメチル−２−アクリロイルオキシエチル］−２，４，８，１０−テトラスピロ［５，５］ウンデカン、α，α’−ビス［４−アクリロイルオキシフェニル］−１，４−ジイソプロピルベンゼン、１，４−ビスアクリロイルオキシテトラフルオロベンゼン、４，４’−ビスアクリロイルオキシオクタフルオロビフェニル、ジエチレングリコールアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、ジシクロペンタニルジアクリレート、グリセロールジアクリレート、１，６−へキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、４，４’−ジアクリロイルオキシスチルベン、４，４’−ジアクリロイルオキシジメチルスチルベン、４，４’−ジアクリロイルオキシジエチルスチルベン、４，４’−ジアクリロイルオキシジプロピルスチルベン、４，４’−ジアクリロイルオキシジブチルスチルベン、４，４’−ジアクリロイルオキシジペンチルスチルベン、４，４’−ジアクリロイルオキシジヘキシルスチルベン、４，４’−ジアクリロイルオキシジフルオロスチルベン、２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロペンタンジオール−１，５−ジアクリレート、１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロプロピル−１，３−ジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、１，３−ブチレングリコールジメタクリレート、１，６−へキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタメタクリレート、２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロペンタンジオール−１，５−ジメタクリレートなどのモノマー及びオリゴマーが挙げられる。

なかでも、電圧印加時の散乱特性を高くすることを目的に、３個以上の官能基を有する多官能性型のラジカル型の重合性化合物を用いることが好ましい。
具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリストリトールトリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタメタクリレートなどのモノマー及びオリゴマーが挙げられる。

上記のラジカル型の重合性化合物は、液晶表示素子の光学特性や液晶層と垂直液晶配向膜との密着性の特性に応じて、１種類又は２種類以上を混合して使用することもできる。
さらに、重合性化合物の反応形式がラジカル重合の場合、液晶組成物中に、紫外線によりラジカルを発生するラジカル開始剤を導入することもできる。
具体的には、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−ｉｓｏ−ブタレート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ベンゾイルジオキシ）へキサン、１，４−ビス［α−（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）−ｉｓｏ−プロポキシ］ベンゼン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）へキセンヒドロペルオキシド、α−（ｉｓｏ−プロピルフェニル）−ｉｓｏ−プロピルヒドロペルオキシド、２，５−ジメチルへキサン、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロへキサン、ブチル−４，４−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）バレレート、シクロへキサノンペルオキシド、２，２’，５，５’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−アミルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）−４，４’−ジカルボキシベンゾフェノン、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシベンゾエート、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジペルオキシイソフタレートなどの有機過酸化物；９，１０−アントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−クロロアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノンなどのキノン類；ベンゾインメチル、ベンゾインエチルエーテル、α−メチルベンゾイン、α−フェニルベンゾインなどのベンゾイン誘導体；などが挙げられる。

重合性化合物の反応形式がカチオン重合又はアニオン重合の場合、下記のイオン型の重合性化合物を用いることができる。
具体的には、ヒドロキシル基、ヒドロキシアルキル基、及び低級アルコキシアルキル基からなる群より選ばれる少なくとも１種の架橋形成基を有する化合物である。
例えば、アミノ基の水素原子がメチロール基、アルコキシメチル基またその両方で置換されたメラミン誘導体、ベンゾグアナミン誘導体又はグリコールウリルを用いることができる。このメラミン誘導体やベンゾグアナミン誘導体はオリゴマーであっても良い。これらはトリアジン環１個当たり、メチルール基又はアルコキシメチル基を平均３個以上６個未満有するものが好ましい。

このようなメラミン誘導体やベンゾグアナミン誘導体の例としては、市販品のトリアジン環１個当たりメトキシメチル基が平均３．７個置換されているＭＸ−７５０、トリアジン環１個当たりメトキシメチル基が平均５．８個置換されているＭＷ−３０（以上、三和ケミカル社製）や、サイメル３００、３０１、３０３、３５０、３７０、７７１、３２５、３２７、７０３、７１２などのメトキシメチル化メラミン、サイメル２３５、２３６、２３８、２１２、２５３、２５４などのメトキシメチル化ブトキシメチル化メラミン、サイメル５０６、５０８などのブトキシメチル化メラミン、サイメル１１４１のようなカルボキシル基含有メトキシメチル化イソブトキシメチル化メラミン、サイメル１１２３のようなメトキシメチル化エトキシメチル化ベンゾグアナミン、サイメル１１２３−１０のようなメトキシメチル化ブトキシメチル化ベンゾグアナミン、サイメル１１２８のようなブトキシメチル化ベンゾグアナミン、サイメル１１２５−８０のようなカルボキシル基含有メトキシメチル化エトキシメチル化ベンゾグアナミン（以上、三井サイテック社製）が挙げられる。また、グリコールウリルの例として、サイメル１１７０のようなブトキシメチル化グリコールウリル、サイメル１１７２のようなメチロール化グリコールウリルなどが挙げられる。

ヒドロキシル基又はアルコキシル基を有するベンゼン、又はフェノール性化合物としては、例えば、１，３，５−トリス（メトキシメトキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（イソプロポキシメトキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ｓｅｃ−ブトキシメトキシ）ベンゼン、２，６−ジヒドロキシメチル−ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールなどが挙げられる。

また、上記イオン型の重合性化合物としては、エポキシ基、イソシアネート基を含み架橋形成基を有する化合物を用いることもできる。具体的には、ビスフェノールアセトングリシジルエーテル、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート、テトラグリシジルアミノジフェニレン、テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、テトラグリシジル−１，３−ビス（アミノエチル）シクロヘキサン、テトラフェニルグリシジルエーテルエタン、トリフェニルグリシジルエーテルエタン、ビスフェノールヘキサフルオロアセトジグリシジルエーテル、１，３−ビス（１−（２，３−エポキシプロポキシ）−１−トリフルオロメチル−２，２，２−トリフルオロメチル）ベンゼン、４，４−ビス（２，３−エポキシプロポキシ）オクタフルオロビフェニル、トリグリシジル−ｐ−アミノフェノール、テトラグリシジルメタキシレンジアミン、２−（４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル）−２−（４−（１，１−ビス（４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル）エチル）フェニル）プロパン、１，３−ビス（４−（１−（４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル）−１−（４−（１−（４−（２，３−エポキシプロポキシフェニル）−１−メチルエチル）フェニル）エチル）フェノキシ）−２−プロパノールなどが挙げられる。
上記のイオン型の重合性化合物は、光学特性や液晶層と垂直液晶配向膜との密着性の特性に応じて、１種類又は２種類以上を混合して使用することもできる。

さらに、重合性化合物の反応形式がカチオン重合又はアニオン重合の場合、液晶組成物中に、紫外線により酸又は塩基を発生するイオン開始剤を導入することもできる。
具体的には、トリアジン系化合物、アセトフェノン誘導体化合物、ジスルホン系化合物、ジアゾメタン系化合物、スルホン酸誘導体化合物、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩、トリアリールホスホニウム塩、鉄アレーン錯体などを用いることができるが、これらに限定されるものではない。
より具体的には、例えば、ジフェニルヨードニウムクロライド、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムメシレート、ジフェニルヨードニウムトシレート、ジフェニルヨードニウムブロミド、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムメシレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトシレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムクロリド、ビス（ｐ−クロロフェニル）ヨードニウムクロライド、ビス（ｐ−クロロフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムクロリド、トリフェニルスルホニウムブロミド、トリ（ｐ−メトキシフェニル）スルホニウムテトラフルオロボレート、トリ（ｐ−メトキシフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスホネート、トリ（ｐ−エトキシフェニル）スルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルホスホニウムクロリド、トリフェニルホスホニウムブロミド、トリ（ｐ−メトキシフェニル）ホスホニウムテトラフルオロボレート、トリ（ｐ−メトキシフェニル）ホスホニウムヘキサフルオロホスホネート、又はトリ（ｐ−エトキシフェニル）ホスホニウムテトラフルオロボレートが挙げられる。
また、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニルへキサン−１，６−ジアミン］、ニトロベンジルシクロへキシルカルバメート、ジ（メトキシベンジル）ヘキサメチレンジカルバメート、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニルへキサン−１，６−ジアミン］、ニトロベンジルシクロへキシルカルバメート又はジ（メトキシベンジル）ヘキサメチレンジカルバメートが挙げられる。
本発明の液晶表示素子においては、本素子の光学特性の点から、ラジカル型の重合性化合物を用いることが好ましい。

液晶組成物中における重合性化合物の含有量には特に制限は無いが、重合性化合物の含有量が多い場合、液晶中に重合性化合物が溶解しなかったり、液晶組成物が液晶相を示す温度がなかったり、素子の透明状態と散乱状態との変化が小さくなり光学特性が悪くなる。また、重合性化合物の含有量が少ない場合、液晶層の硬化性が低くなり、さらには、液晶層と垂直液晶配向膜との密着性が低下し、機械的な外圧に対して液晶の配向性が乱れやすくなる。そのため、重合性化合物の含有量は、液晶１００質量部に対して、１〜５０質量部であることが好ましく、なかでも、５〜４０質量部が好ましい。特に好ましいのは、１１〜３０質量部である。
また、重合性化合物の反応を促進するラジカル開始剤及びイオン開始剤の含有量には特に制限は無いが、好ましくは、液晶１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部であり、なかでも、０．０５〜５質量部が好ましい。特に好ましいのは、０．０５〜３質量部である。

＜特定重合体＞
本発明の液晶表示素子は、基板の少なくとも一方に液晶を垂直に配向させるような垂直液晶配向膜を有する素子である。その際の垂直液晶配向膜は、下記の式［１−１］及び式［１−２］で示される特定側鎖構造からなる群から選ばれる少なくとも１種の特定側鎖構造を有する特定重合体を含む液晶配向処理剤から得られる液晶配向膜である。

Ｙ^１は単結合、−（ＣＨ_２）_ａ−（ａは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−及び−ＯＣＯ−からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合基を示す。なかでも、原料の入手性や合成の容易さの点から、単結合、−（ＣＨ_２）_ａ−（ａは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−又は−ＣＯＯ−が好ましい。より好ましいのは、単結合、−（ＣＨ_２）_ａ−（ａは１〜１０の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−又は−ＣＯＯ−である。
Ｙ^２は単結合又は−（ＣＨ_２）_ｂ−（ｂは１〜１５の整数である）を示す。なかでも、単結合又は−（ＣＨ_２）_ｂ−（ｂは１〜１０の整数である）が好ましい。
Ｙ^３は単結合、−（ＣＨ_２）_ｃ−（ｃは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−及び−ＯＣＯ−からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合基を示す。なかでも、合成の容易さの点から、単結合、−（ＣＨ_２）_ｃ−（ｃは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−又は−ＣＯＯ−が好ましい。より好ましいのは、単結合、−（ＣＨ_２）_ｃ−（ｃは１〜１０の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−又は−ＣＯＯ−である。

Ｙ^４はベンゼン環、シクロヘキサン環及び複素環からなる群から選ばれる少なくとも１種の２価の環状基であり、これらの環状基上の任意の水素原子は、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシル基又はフッ素原子で置換されていてもよい。さらに、Ｙ^４は、ステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の有機基から選ばれる２価の有機基であってもよい。なかでも、合成の容易さの点から、ベンゼン環、シクロへキサン環又はステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の有機基が好ましい。
Ｙ^５はベンゼン環、シクロヘキサン環及び複素環からなる群から選ばれる少なくとも１種の２価の環状基を示し、これらの環状基上の任意の水素原子は、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシル基又はフッ素原子で置換されていてもよい。なかでも、ベンゼン環又はシクロへキサン環が好ましい。

ｎは０〜４の整数を示す。なかでも、原料の入手性や合成の容易さの点から、０〜３が好ましい。より好ましいのは、０〜２である。
Ｙ^６は炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル基及び炭素数１〜１８のフッ素含有アルコキシル基からなる群から選ばれる少なくとも１種を示す。なかでも、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１０のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル基又は炭素数１〜１０のフッ素含有アルコキシル基が好ましい。より好ましくは、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数１〜１２のアルコキシル基である。特に好ましくは、炭素数１〜９のアルキル基又は炭素数１〜９のアルコキシル基である。

Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３、Ｙ^４、Ｙ^５、Ｙ^６及びｎの好ましい組み合わせとしては、国際公開公報ＷＯ２０１１／１３２７５１（２０１１．１０．２７公開）の１３頁〜３４頁の表６〜表４７に掲載される（２−１）〜（２−６２９）と同じ組み合わせが挙げられる。なお、国際公開公報の各表におけるＹ１〜Ｙ６は、それぞれ、本発明のＹ^１〜Ｙ^６に読み替えるものとする。また、国際公開公報の各表に掲載される（２−６０５）〜（２−６２９）における、ステロイド骨格を有する炭素数１２〜２５の有機基は、いずれも、ステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の有機基に読み替えるものとする。
なかでも、（２−２５）〜（２−９６）、（２−１４５）〜（２−１６８）、（２−２１７）〜（２−２４０）、（２−２６８）〜（２−３１５）、（２−３６４）〜（２−３８７）、（２−４３６）〜（２−４８３）又は（２−６０３）〜（２−６１５）の組み合わせが好ましい。特に好ましい組み合わせは、（２−４９）〜（２−９６）、（２−１４５）〜（２−１６８）、（２−２１７）〜（２−２４０）、（２−６０３）〜（２−６０６）、（２−６０７）〜（２−６０９）、（２−６１１）、（２−６１２）又は（２−６２４）である。

Ｙ^７は単結合、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−、−Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ−、−ＣＯＯ−及び−ＯＣＯ−からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合基を示す。なかでも、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−又は−ＣＯＯ−が好ましい。より好ましくは、単結合、−Ｏ−、−ＣＯＮＨ−又は−ＣＯＯ−である。
Ｙ^８は炭素数８〜２２のアルキル基又は炭素数６〜１８のフッ素含有アルキル基を示す。なかでも、炭素数８〜１８のアルキル基が好ましい。
上記特定側鎖構造としては、高くて安定な液晶の垂直配向性を得ることができる点から、式［１−１］で示される構造を用いることが好ましい。

特定側鎖構造を有する特定重合体としては、特に限定は無いが、アクリルポリマー、メタクリルポリマー、ノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル、セルロース及びポリシロキサンからなる群から選ばれる少なくとも１つの重合体であることが好ましい。なかでも、ポリイミド前駆体、ポリイミド又はポリシロキサンが好ましい。
特定重合体にポリイミド前駆体又はポリイミド（総称してポリイミド系重合体ともいう）を用いる場合、それらは、ジアミン成分とテトラカルボン酸成分とを反応させて得られるポリイミド前駆体又はポリイミドであることが好ましい。

ポリイミド前駆体とは、下記の式［Ａ］で示される構造である。

（Ｒ^１は４価の有機基を示す。Ｒ^２は２価の有機基を示す。Ａ^１及びＡ^２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を示し、それぞれ同じであっても異なってもよい。Ａ^３及びＡ^４は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又はアセチル基を示し、それぞれ同じであっても異なってもよい。ｎは正の整数を示す。）

前記ジアミン成分としては、分子内に１級又は２級のアミノ基を２個有するジアミン化合物であり、テトラカルボン酸成分としては、テトラカルボン酸化合物、テトラカルボン酸二無水物、テトラカルボン酸ジハライド化合物、テトラカルボン酸ジアルキルエステル化合物又はテトラカルボン酸ジアルキルエステルジハライド化合物が挙げられる。
ポリイミド系重合体は、下記の式［Ｂ］で示されるテトラカルボン酸二無水物と下記の式［Ｃ］で示されるジアミン化合物とを原料とすることで、比較的簡便に得られるという理由から、下記の式［Ｄ］で示される繰り返し単位の構造式からなるポリアミド酸又は該ポリアミド酸をイミド化させたポリイミドが好ましい。なかでも、特定ポリイミド系重合体としては、垂直液晶配向膜の物理的及び化学的安定性の点から、ポリイミドを用いることが好ましい。

（Ｒ^１及びＲ^２は式［Ａ］で定義したものと同意義である。）

（Ｒ^１及びＲ^２は式［Ａ］で定義したものと同意義である。）
また、通常の合成手法で、上記で得られた式［Ｄ］の重合体に、式［Ａ］で示されるＡ^１及びＡ^２の炭素数１〜８のアルキル基、及び式［Ａ］で示されるＡ^３及びＡ^４の炭素数１〜５のアルキル基又はアセチル基を導入することもできる。

上記特定側鎖構造をポリイミド系重合体に導入する方法としては、特定側鎖構造を有するジアミン化合物を原料の一部に用いることが好ましい。特に下記の式［１ａ］で示されるジアミン化合物（特定側鎖型ジアミン化合物ともいう）を用いることが好ましい。

Ｙは前記式［１−１］及び式［１−２］で示される構造を示す。なお、式［１−１］におけるＹ^１〜Ｙ^６及びｎの好ましい組み合わせ及び式［１−２］におけるＹ^７及びＹ^８の好ましい組み合わせは、前記の通りである。
ｍは１〜４の整数を示す。なかでも、１が好ましい。

特定側鎖型ジアミン化合物としては、高くて安定な液晶の垂直配向性を得ることができる点から、前記式［１−１］で示される構造のジアミン化合物を用いることが好ましい。
具体的には、例えば下記の式［１ａ−１］〜式［１ａ−３１］で示される構造が挙げられる。

（Ｒ^１はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯＣＨ_２−及び−ＣＨ_２ＯＣＯ−からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合基を示す。Ｒ^２はそれぞれ独立して、炭素数１〜２２の直鎖状又は分岐状アルキル基、炭素数１〜２２の直鎖状又は分岐状アルコキシル基、炭素数１〜２２の直鎖状又は分岐状フッ素含有アルキル基、又は炭素数１〜２２の直鎖状又は分岐状フッ素含有アルコキシル基を示す。）

（Ｒ^３はそれぞれ独立して、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−及び−ＣＨ_２−からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合基を示す。Ｒ^４はそれぞれ独立して、炭素数１〜２２の直鎖状又は分岐状アルキル基、炭素数１〜２２の直鎖状又は分岐状アルコキシル基、炭素数１〜２２の直鎖状又は分岐状フッ素含有アルキル基、又は炭素数１〜２２の直鎖状又は分岐状フッ素含有アルコキシル基を示す。）

（Ｒ^５はそれぞれ独立して、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２−、−Ｏ−及び−ＮＨ−からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合基を示す。Ｒ^６はそれぞれ独立して、フッ素基、シアノ基、トリフルオロメタン基、ニトロ基、アゾ基、ホルミル基、アセチル基、アセトキシ基及び水酸基からなる群から選ばれる少なくとも１種を示す。）

（Ｒ^７はそれぞれ独立して、炭素数３〜１２の直鎖状又は分岐状アルキル基を示し、１,４-シクロヘキシレンのシス−トランス異性は、それぞれトランス異性体である。）

（Ｒ^８はそれぞれ独立して、炭素数３〜１２の直鎖状又は分岐状アルキル基を示し、１,４-シクロヘキシレンのシス−トランス異性は、それぞれトランス異性体である。）

（Ａ_４はフッ素原子で置換されていてもよい炭素数３〜２０の直鎖状又は分岐状アルキル基であり、Ａ_３は１，４−シクロへキシレン基又は１，４−フェニレン基であり、Ａ_２は酸素原子又は−ＣＯＯ−＊（ただし、「＊」を付した結合手がＡ_３と結合する）であり、Ａ_１は酸素原子又は−ＣＯＯ−＊（ただし、「＊」を付した結合手が（ＣＨ_２）ａ_２）と結合する）である。また、ａ_１は０又は１の整数であり、ａ_２は２〜１０の整数であり、ａ_３は０又は１の整数である。）

上記の式［１ａ−１］〜［１ａ−３１］中、特に好ましい構造の特定側鎖型ジアミン化合物としては、式［１ａ−１］〜式［１ａ−６］、式［１ａ−９］〜式［１ａ−１３］又は式［１ａ−２２］〜式［１ａ−３１］である。
また、本発明においては、液晶の垂直配向性と、液晶層と垂直液晶配向膜との密着性の点から、これら特定側鎖型ジアミン化合物は、ジアミン成分全体の１０モル％以上８０モル％以下であることが好ましい。より好ましくは、１０モル％以上７０モル％以下である。

上記の特定側鎖型ジアミン化合物は、ポリイミド系重合体の溶媒への溶解性、垂直液晶配向膜にした際の液晶の垂直配向性、さらには、液晶表示素子の光学特性などの特性に応じて、１種類又は２種類以上を混合して使用することができる。
上記のポリイミド系重合体を作製するためのジアミン成分としては、下記の式［２］で示される第２のジアミン化合物（第２のジアミン化合物ともいう）を用いることも好ましい。

式［２］中、Ｘは下記の式［２ａ］、式［２ｂ］、式［２ｃ］及び式［２ｄ］から選ばれる構造の置換基を示す。

ａは０〜４の整数を示す。なかでも、原料の入手性や合成の容易さの点から、０又は１の整数が好ましい。
ｂは０〜４の整数を示す。なかでも、原料の入手性や合成の容易さの点から、０又は１の整数が好ましい。
Ｘ^１及びＸ^２はそれぞれ独立して、炭素数１〜１２の炭化水素基を示す。
Ｘ^３は炭素数１〜５のアルキル基を示す。
ｍは１〜４の整数を示す。なかでも、１が好ましい。

上記式［２］で示されるジアミン化合物の具体的な構造を挙げるが、これらの例に限定されるものではない。
すなわち、式［２］で示されるジアミン化合物としては、２，４−ジメチル−ｍ−フェニレンジアミン、２，６−ジアミノトルエン、２，４−ジアミノフェノール、３，５−ジアミノフェノール、３，５−ジアミノベンジルアルコール、２，４−ジアミノベンジルアルコール、４，６−ジアミノレゾルシノール、２，４−ジアミノ安息香酸、２，５−ジアミノ安息香酸、３，５−ジアミノ安息香酸の他に、下記の式［２−１］〜［２−６］で示される構造のジアミン化合物を挙げることができる。

なかでも、２，４−ジアミノフェノール、３，５−ジアミノフェノール、３，５−ジアミノベンジルアルコール、２，４−ジアミノベンジルアルコール、４，６−ジアミノレゾルシノール、２，４−ジアミノ安息香酸、２，５−ジアミノ安息香酸、３，５−ジアミノ安息香酸、式［２−１］、式［２−２］又は式［２−３］で示されるジアミン化合物が好ましい。特に好ましくは、２，４−ジアミノフェノール、３，５−ジアミノフェノール、３，５−ジアミノベンジルアルコール、３，５−ジアミノ安息香酸、式［２−１］又は式［２−２］で示されるジアミン化合物である。
上記式［２］で示されるジアミン化合物は、ポリイミド系重合体の溶媒への溶解性、垂直液晶配向膜にした際の液晶の垂直配向性、さらには、液晶表示素子の光学特性などの特性に応じて、１種類又は２種類以上を混合して使用することができる。

上記のポリイミド系重合体を作製するためジアミン成分としては、式［１ａ］及び式［２］で示されるジアミン化合物以外のジアミン化合物（その他ジアミン化合物ともいう）を用いることもできる。下記に、その他ジアミン化合物の具体例を挙げるが、これらの例に限定されるものではない。
例えば、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジメトキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジヒドロキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジカルボキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジフルオロ−４，４’− ジアミノビフェニル、３，３’−トリフルオロメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、３，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジアミノビフェニル、２，２’−ジアミノビフェニル、２，３’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、３，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２’−ジアミノジフェニルメタン、２，３’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、２，２’−ジアミノジフェニルエーテル、２，３’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−スルホニルジアニリン、３，３’−スルホニルジアニリン、ビス（４−アミノフェニル）シラン、ビス（３−アミノフェニル）シラン、ジメチル−ビス（４−アミノフェニル）シラン、ジメチル−ビス（３−アミノフェニル）シラン、４，４’−チオジアニリン、３，３’−チオジアニリン、４，４’−ジアミノジフェニルアミン、３，３’−ジアミノジフェニルアミン、３，４’−ジアミノジフェニルアミン、２，２’−ジアミノジフェニルアミン、２，３’−ジアミノジフェニルアミン、Ｎ−メチル（４，４’−ジアミノジフェニル）アミン、Ｎ−メチル（３，３’−ジアミノジフェニル）アミン、Ｎ−メチル（３，４’−ジアミノジフェニル）アミン、Ｎ−メチル（２，２’−ジアミノジフェニル）アミン、Ｎ−メチル（２，３’−ジアミノジフェニル）アミン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、３，３’−ジアミノベンゾフェノン、３，４’−ジアミノベンゾフェノン、１，４−ジアミノナフタレン、２，２’−ジアミノベンゾフェノン、２，３’−ジアミノベンゾフェノン、１，５−ジアミノナフタレン、１，６−ジアミノナフタレン、１，７−ジアミノナフタレン、１，８−ジアミノナフタレン、２，５−ジアミノナフタレン、２，６ジアミノナフタレン、２，７−ジアミノナフタレン、２，８−ジアミノナフタレン、１，２−ビス（４−アミノフェニル）エタン、１，２−ビス（３−アミノフェニル）エタン、１，３−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、１，３−ビス（３−アミノフェニル）プロパン、１，４−ビス（４アミノフェニル）ブタン、１，４−ビス（３−アミノフェニル）ブタン、ビス（３，５−ジエチル−４−アミノフェニル）メタン、１，４−ビス（４-アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４-アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４-アミノフェニル）ベンゼン、１，３−ビス（４-アミノフェニル）ベンゼン、１，４−ビス（４-アミノベンジル）ベンゼン、１，３−ビス（４-アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−［１，４−フェニレンビス（メチレン）］ジアニリン、４，４’−［１，３−フェニレンビス（メチレン）］ジアニリン、３，４’−［１，４−フェニレンビス（メチレン）］ジアニリン、３，４’−［１，３−フェニレンビス（メチレン）］ジアニリン、３，３’−［１，４−フェニレンビス（メチレン）］ジアニリン、３，３’−［１，３−フェニレンビス（メチレン）］ジアニリン、１，４−フェニレンビス［（４−アミノフェニル）メタノン］、１，４−フェニレンビス［（３−アミノフェニル）メタノン］、１，３−フェニレンビス［（４−アミノフェニル）メタノン］、１，３−フェニレンビス［（３−アミノフェニル）メタノン］、１，４−フェニレンビス（４−アミノベンゾエート）、１，４−フェニレンビス（３−アミノベンゾエート）、１，３−フェニレンビス（４−アミノベンゾエート）、１，３−フェニレンビス（３−アミノベンゾエート）、ビス（４−アミノフェニル）テレフタレート、ビス（３−アミノフェニル）テレフタレート、ビス（４−アミノフェニル）イソフタレート、ビス（３−アミノフェニル）イソフタレート、Ｎ，Ｎ’−（１，４−フェニレン）ビス（４−アミノベンズアミド）、Ｎ，Ｎ’−（１，３−フェニレン）ビス（４−アミノベンズアミド）、Ｎ，Ｎ’−（１，４−フェニレン）ビス（３−アミノベンズアミド）、Ｎ，Ｎ’−（１，３−フェニレン）ビス（３−アミノベンズアミド）、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−アミノフェニル）テレフタルアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノフェニル）テレフタルアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−アミノフェニル）イソフタルアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノフェニル）イソフタルアミド、９，１０−ビス（４−アミノフェニル）アントラセン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ジフェニルスルホン、２，２’−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２’−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２’−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２’−ビス（３−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２’−ビス（３−アミノ−４−メチルフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２’−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２，２’−ビス（３−アミノフェニル）プロパン、２，２’−ビス（３−アミノ−４−メチルフェニル）プロパン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）プロパン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）プロパン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ブタン、１，４−ビス（３−アミノフェノキシ）ブタン、１，５−ビス（４−アミノフェノキシ）ペンタン、１，５−ビス（３−アミノフェノキシ）ペンタン、１，６−ビス（４−アミノフェノキシ）へキサン、１，６−ビス（３−アミノフェノキシ）へキサン、１，７−ビス（４−アミノフェノキシ）ヘプタン、１，７−（３−アミノフェノキシ）ヘプタン、１，８−ビス（４−アミノフェノキシ）オクタン、１，８−ビス（３−アミノフェノキシ）オクタン、１，９−ビス（４−アミノフェノキシ）ノナン、１，９−ビス（３−アミノフェノキシ）ノナン、１，１０−ビス（４−アミノフェノキシ）デカン、１，１０−ビス（３−アミノフェノキシ）デカン、１，１１−ビス（４−アミノフェノキシ）ウンデカン、１，１１−ビス（３−アミノフェノキシ）ウンデカン、１，１２−ビス（４−アミノフェノキシ）ドデカン、１，１２−ビス（３−アミノフェノキシ）ドデカン、ビス（４−アミノシクロヘキシル）メタン、ビス（４−アミノ−３−メチルシクロヘキシル）メタン、１，３−ジアミノプロパン、１，４−ジアミノブタン、１，５−ジアミノペンタン、１，６−ジアミノへキサン、１，７−ジアミノヘプタン、１，８−ジアミノオクタン、１，９−ジアミノノナン、１，１０−ジアミノデカン、１，１１−ジアミノウンデカン、１，１２−ジアミノドデカンなどが挙げられる。

また、その他ジアミン化合物として、ジアミン化合物の側鎖にアルキル基、フッ素含有アルキル基又は複素環を有するものなどを挙げることもできる。
具体的には、本発明の効果を損なわない限りにおいて、下記の式［ＤＡ１］〜［ＤＡ１２］で示されるジアミン化合物を例示することができる。

（ｐは１〜１０の整数を示す。）

（ｍは０〜３の整数を示す。ｎは１〜５の整数を示す。）

（Ａ^１は単結合、−ＣＨ_２−、−Ｃ_２Ｈ_４−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−ＣＦ_２−、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−及び−Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ−をからなる群から選ばれる少なくとも１種の結合基を示す。ｍ^１及びｍ^２はそれぞれ０〜４の整数を示し、かつｍ^１＋ｍ^２は１〜４の整数を示す。ｍ^３及びｍ^４はそれぞれ１〜５の整数を示す。Ａ^２は炭素数１〜５の直鎖又は分岐アルキル基を示す。ｍ^５は１〜５の整数を示す。Ａ^３は単結合、−ＣＨ_２−、−Ｃ_２Ｈ_４−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−ＣＦ_２−、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−及び−Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ−からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合基を示す。ｍ^６は１〜４の整数を示す。）

（Ａ^１は−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−及び−Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ−からなる群から選ばれる２価の有機基を示す。Ａ^２は単結合、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、非芳香族環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基からなる群から選ばれる少なくとも１種を示す。Ａ^３は単結合、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−、−Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ−及び−Ｏ（ＣＨ_２）_ｍ−（ｍは１〜５の整数である）からなる群から選ばれる少なくとも１種を示す。Ａ^４は窒素含有芳香族複素環を示す。ｎは１〜４の整数を示す。）

加えて、その他ジアミン化合物として、下記の式［ＤＡ１３］又は式［ＤＡ１４］で示されるジアミン化合物を用いることもできる。

上記のその他ジアミン化合物は、ポリイミド系重合体の溶媒への溶解性、垂直液晶配向膜にした際の液晶の垂直配向性、さらには、液晶表示素子の光学特性などの特性に応じて、１種類又は２種類以上を混合して使用することができる。

ポリイミド系重合体を作製するためのテトラカルボン酸成分としては、下記の式［３］で示されるテトラカルボン酸二無水物やそのテトラカルボン酸誘導体であるテトラカルボン酸、テトラカルボン酸ジハライド化合物、テトラカルボン酸ジアルキルエステル化合物又はテトラカルボン酸ジアルキルエステルジハライド化合物（すべてを総称して特定テトラカルボン酸成分ともいう）を用いることが好ましい。

Ｚ^１は下記の式［３ａ］〜式［３ｊ］から選ばれる構造の基である。

Ｚ^２〜Ｚ^５は水素原子、メチル基、塩素原子又はベンゼン環を示し、それぞれ同じであっても異なってもよい。
Ｚ^６及びＺ^７は水素原子又はメチル基を示し、それぞれ同じであっても異なってもよい。

上記の特定テトラカルボン酸成分である式［３］に示される構造中、Ｚ^１は、合成の容易さやポリマーを製造する際の重合反応性のし易さの点から、式［３ａ］、式［３ｃ］、式［３ｄ］、式［３ｅ］、式［３ｆ］又は式［３ｇ］で示される構造が好ましい。より好ましいのは、式［３ａ］、式［３ｅ］、式［３ｆ］又は式［３ｇ］で示される構造であり、特に好ましいのは、式［３ｅ］、式［３ｆ］又は式［３ｇ］である。
特定テトラカルボン酸成分は、全テトラカルボン酸成分中の１モル％以上であることが好ましい。より好ましいのは、５モル％以上であり、特に好ましいのは、１０モル％以上である。中でも、１０〜９０モル％がさらに好ましい。
また、式［３ｅ］、式［３ｆ］又は式［３ｇ］の構造の特定テトラカルボン酸成分を用いる場合、その使用量は、テトラカルボン酸成分全体の２０モル％以上とすることで、所望の効果が得られる。好ましくは、３０モル％以上である。さらに、テトラカルボン酸成分のすべてを式［３ｅ］、式［３ｆ］又は式［３ｇ］の構造のテトラカルボン酸成分であってもよい。

ポリイミド系重合体には、本発明の効果を損なわない限りにおいて、特定テトラカルボン酸成分以外のその他のテトラカルボン酸成分を用いることができる。
その他のテトラカルボン酸成分としては、以下に示すテトラカルボン酸化合物、テトラカルボン酸二無水物、ジカルボン酸ジハライド化合物、ジカルボン酸ジアルキルエステル化合物又はジアルキルエステルジハライド化合物が挙げられる。
すなわち、その他のテトラカルボン酸成分としては、ピロメリット酸、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸、２，３，６，７−アントラセンテトラカルボン酸、１，２，５，６−アントラセンテトラカルボン酸、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸、２，３，３’，４’−ビフェニルテトラカルボン酸、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）メタン、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ジメチルシラン、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ジフェニルシラン、２，３，４，５−ピリジンテトラカルボン酸、２，６−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ピリジン、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸、３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボン酸又は１，３−ジフェニル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸が挙げられる。
特定テトラカルボン酸成分及びその他のテトラカルボン酸成分は、ポリイミド系重合体の溶媒への溶解性、垂直液晶配向膜にした際の液晶の垂直配向性、さらには、液晶表示素子の光学特性などの特性に応じて、１種類又は２種類以上を混合して使用することができる。

ポリイミド系重合体を合成する方法は特に限定されない。通常、ジアミン成分とテトラカルボン酸成分とを反応させて得られる。一般的には、テトラカルボン酸及びその誘導体からなる群から選ばれる少なくとも１種のテトラカルボン酸成分と、１種又は複数種のジアミン化合物からなるジアミン成分とを反応させて、ポリアミド酸を得る。具体的には、テトラカルボン酸二無水物と１級又は２級のジアミン化合物とを重縮合させてポリアミド酸を得る方法、テトラカルボン酸と１級又は２級のジアミン化合物とを脱水重縮合反応させてポリアミド酸を得る方法、又はジカルボン酸ジハライドと１級又は２級のジアミン化合物とを重縮合させてポリアミド酸を得る方法が用いられる。

ポリアミド酸アルキルエステルを得るには、カルボン酸基をジアルキルエステル化したテトラカルボン酸と１級又は２級のジアミン化合物とを重縮合させる方法、カルボン酸基をジアルキルエステル化したジカルボン酸ジハライドと１級又は２級のジアミン化合物とを重縮合させる方法、又はポリアミド酸のカルボキシル基をエステルに変換する方法が用いられる。
ポリイミドを得るには、前記のポリアミド酸又はポリアミド酸アルキルエステルを閉環させてポリイミドとする方法が用いられる。

ジアミン成分とテトラカルボン酸成分との反応は、通常、ジアミン成分とテトラカルボン酸成分とを含む溶媒中で行う。その際に用いる溶媒としては、生成したポリイミド前駆体が溶解するものであれば特に限定されない。下記に、反応に用いる溶媒の具体例を挙げるが、これらの例に限定されるものではない。
例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン又はγ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、１，３−ジメチル−イミダゾリジノン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等が挙げられる。
これらは単独で使用しても、混合して使用してもよい。さらに、ポリイミド前駆体を溶解させない溶媒であっても、生成したポリイミド前駆体が析出しない範囲で、上記溶媒に混合して使用してもよい。また、溶媒中の水分は重合反応を阻害し、さらには生成したポリイミド前駆体を加水分解させる原因となるので、溶媒は脱水乾燥させたものを用いることが好ましい。

ジアミン成分とテトラカルボン酸成分とを溶媒中で反応させる際には、ジアミン成分を溶媒に分散あるいは溶解させた溶液を攪拌させ、テトラカルボン酸成分をそのまま、又は溶媒に分散あるいは溶解させて添加する方法、逆にテトラカルボン酸成分を溶媒に分散、あるいは溶解させた溶液にジアミン成分を添加する方法、ジアミン成分とテトラカルボン酸成分とを交互に添加する方法などが挙げられ、これらのいずれの方法を用いてもよい。また、ジアミン成分又はテトラカルボン酸成分を、それぞれ複数種用いて反応させる場合は、あらかじめ混合した状態で反応させてもよく、個別に順次反応させてもよく、さらに個別に反応させた低分子量体を混合反応させ重合体としてもよい。その際の重合温度は−２０〜１５０℃の任意の温度を選択することができるが、好ましくは−５〜１００℃の範囲である。また、反応は任意の濃度で行うことができるが、濃度が低すぎると高分子量の重合体を得ることが難しくなり、濃度が高すぎると反応液の粘性が高くなり過ぎて均一な攪拌が困難となる。そのため、好ましくは１〜５０質量％、より好ましくは５〜３０質量％である。反応初期は高濃度で行い、その後、溶媒を追加することができる。

ポリイミド前駆体の重合反応においては、ジアミン成分の合計モル数とテトラカルボン酸成分の合計モル数の比は０．８〜１．２であることが好ましい。通常の重縮合反応と同様、このモル比が１．０に近いほど生成するポリイミド前駆体の分子量は大きくなる。
本発明のポリイミドは前記のポリイミド前駆体を閉環させて得られるポリイミドであり、このポリイミドにおいては、アミド酸基の閉環率（イミド化率ともいう）は必ずしも１００％である必要はなく、用途や目的に応じて任意に調整することができる。
ポリイミド前駆体をイミド化させる方法としては、ポリイミド前駆体の溶液をそのまま加熱する熱イミド化、又はポリイミド前駆体の溶液に触媒を添加する触媒イミド化が挙げられる。
ポリイミド前駆体を溶液中で熱イミド化させる場合の温度は、１００〜４００℃、好ましくは１２０〜２５０℃であり、イミド化反応により生成する水を系外に除きながら行う方が好ましい。

ポリイミド前駆体の触媒イミド化は、ポリイミド前駆体の溶液に、塩基性触媒と酸無水物とを添加し、−２０〜２５０℃、好ましくは０〜１８０℃で攪拌することにより行うことができる。塩基性触媒の量はアミド酸基の０．５〜３０モル倍、好ましくは２〜２０モル倍であり、酸無水物の量はアミド酸基の１〜５０モル倍、好ましくは３〜３０モル倍である。塩基性触媒としてはピリジン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミンなどを挙げることができ、中でもピリジンは反応を進行させるのに適度な塩基性を持つので好ましい。酸無水物としては、無水酢酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸などを挙げることができ、中でも無水酢酸を用いると反応終了後の精製が容易となるので好ましい。触媒イミド化によるイミド化率は、触媒量と反応温度、反応時間を調節することにより制御することができる。

ポリイミド前駆体又はポリイミドの反応溶液から、生成したポリイミド前駆体又はポリイミドを回収する場合には、反応溶液を溶媒に投入して沈殿させればよい。沈殿に用いる溶媒としてはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセトン、ヘキサン、ブチルセルソルブ、ヘプタン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、ベンゼン、水などを挙げることができる。溶媒に投入して沈殿させたポリマーは濾過して回収した後、常圧あるいは減圧下で、常温あるいは加熱して乾燥することができる。また、沈殿回収した重合体を、溶媒に再溶解させ、再沈殿回収する操作を２〜１０回繰り返すと、重合体中の不純物を少なくすることができる。この際の溶媒として、例えば、アルコール類、ケトン類、炭化水素などが挙げられ、これらの内から選ばれる３種類以上の溶媒を用いると、より一層精製の効率が上がるので好ましい。
上記のポリイミド系重合体の分子量は、そこから得られる垂直液晶配向膜の強度、垂直膜形成時の作業性及び塗膜性を考慮した場合、ＧＰＣ（Ｇｅｌ Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ）法で測定した重量平均分子量で５，０００〜１，０００，０００とするのが好ましく、より好ましくは、１０，０００〜１５０，０００である。

特定重合体にポリシロキサンを用いる場合、下記の式［Ａ１］で示されるアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサン、又は、式［Ａ１］と、下記の式［Ａ２］及び式［Ａ３］で示されるアルコキシシランからなる群から選ばれる少なくとも１種のアルコキシシランとを重縮合させて得られるポリシロキサンである（総称してポリシロキサン系重合体ともいう）ことが好ましい。
式［Ａ１］で示されるアルコキシシランは、下記の式［Ａ１］に示される。

Ａ^１は前記式［１−１］又は式［１−２］で示される構造を示す。なお、式［１−１］におけるＹ^１〜Ｙ^６及びｎの好ましい組み合わせ及び式［１−２］におけるＹ^７及びＹ^８の好ましい組み合わせは、前記の通りである。
なかでも、高くて安定な液晶の垂直配向性を得ることができる点から、Ａ^１は式［１−１］で示される構造が好ましい。

Ａ^２はそれぞれ水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を示す。なかでも、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基が好ましい。
Ａ^３はそれぞれ炭素数１〜５のアルキル基を示す。なかでも、重縮合の反応性の点から、炭素数１〜３のアルキル基が好ましい。
ｍは１又は２の整数を示す。なかでも、合成の点からは、１が好ましい。
ｎは０〜２の整数を示す。
ｐは０〜３の整数を示す。なかでも、重縮合の反応性の点から、１〜３の整数が好ましい。より好ましくは、２又は３である。
ｍ＋ｎ＋ｐは４を示す。

式［Ａ１］で示されるアルコキシシランの具体例としては、下記の式［Ａ１−１］〜式［Ａ１−３２］で示されるアルコキシシランを挙げることができる。

（Ｒ^１はそれぞれ独立して、炭素数１〜３のアルキル基を示す。Ｒ^２はそれぞれ独立して、炭素数１〜３のアルキル基を示す。ｍはそれぞれ独立して、２又は３を示す。ｎはそれぞれ独立して、０又は１を示す。）

（Ｒ^１はそれぞれ独立して、炭素数１〜３のアルキル基を示す。Ｒ^２はそれぞれ独立して、炭素数１〜３のアルキル基を示す。ｍはそれぞれ独立して、２又は３を示す。ｎはそれぞれ独立して、０又は１を示す。Ｒ^３はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−、−Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯＣＨ_２−及び−ＣＨ_２ＯＣＯ−からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合基を示す。Ｒ^４はそれぞれ独立して、炭素数１〜１２のアルキル基、アルコキシ基フッ素含有アルキル基及びフッ素含有アルコキシ基からなる群から選ばれる少なくとも１種を示す。）

（Ｒ^１はそれぞれ独立して、炭素数１〜３のアルキル基を示す。Ｒ^２はそれぞれ独立して、炭素数１〜３のアルキル基を示す。ｍはそれぞれ独立して、２又は３を示す。ｎはそれぞれ独立して、０又は１を示す。Ｒ^３はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−、−Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯＣＨ_２−及び−ＣＨ_２ＯＣＯ−からなる群から選ばれる少なくとも１種を示す。Ｒ^４はそれぞれ独立して、炭素数１〜１２のアルキル基、アルコキシ基、フッ素含有アルキル基又はフッ素含有アルコキシ基、フッ素基、シアノ基、トリフルオロメタン基、ニトロ基、アゾ基、ホルミル基、アセチル基、アセトキシ基及び水酸基からなる群から選ばれる少なくとも１種を示す。）

（Ｒ^１はそれぞれ独立して、炭素数１〜３のアルキル基を示す。Ｒ^２はそれぞれ独立して、炭素数１〜３のアルキル基を示す。ｍはそれぞれ独立して、２又は３を示す。ｎはそれぞれ独立して、０又は１を示す。Ｒ^３はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−、−Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯＣＨ_２−及び−ＣＨ_２ＯＣＯ−からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合基を示す。Ｒ^４はそれぞれ独立して、炭素数１〜１２のアルキル基、アルコキシ基フッ素含有アルキル基及びフッ素含有アルコキシ基からなる群から選ばれる少なくとも１種示す。）

（Ｒ^１はそれぞれ炭素数１〜３のアルキル基を示す。Ｒ^２はそれぞれ炭素数１〜３のアルキル基を示す。ｍは２又は３を示す。ｎは０又は１を示す。Ｂ^４はフッ素原子で置換されていてもよい炭素数３〜２０のアルキル基を示す。Ｂ^３は１，４−シクロへキシレン基又は１，４−フェニレン基を示す。Ｂ^２は酸素原子又は−ＣＯＯ−＊（但し、「＊」を付した結合手がＢ^３と結合する。）を示す。Ｂ^１は酸素原子又は−ＣＯＯ−＊（但し、「＊」を付した結合手が（ＣＨ_２）ａ^２）と結合する。）を示す。ａ^１は０又は１の整数を示す。ａ^２は２〜１０の整数を示す。ａ^３は０又は１の整数を示す。）
上記の式［Ａ１］で示されるアルコキシシランは、ポリシロキサン系重合体の溶媒への溶解性、垂直液晶配向膜にした際の液晶の垂直配向性、さらには、液晶表示素子の光学特性などの特性に応じて、１種類又は２種類以上を混合して使用することができる。

式［Ａ２］で示されるアルコキシシランは、下記の式［Ａ２］に示される。

Ｂ^１はそれぞれビニル基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、イソシアネート基、メタクリル基、アクリル基、ウレイド基及びシンナモイル基からなる群から選ばれる少なくとも１種を有する炭素数２〜１２の有機基を示す。なかでも、入手の容易さの点から、ビニル基、エポキシ基、アミノ基、メタクリル基、アクリル基又はウレイド基が好ましい。より好ましくは、メタクリル基、アクリル基又はウレイド基である。

Ｂ^２はそれぞれ水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を示す。なかでも、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基が好ましい。
Ｂ^３はそれぞれ炭素数１〜５のアルキル基を示す。なかでも、重縮合の反応性の点から、炭素数１〜３のアルキル基が好ましい。
ｍは１又は２の整数を示す。なかでも、合成の点からは、１が好ましい。
ｎは０〜２の整数を示す。
ｐは０〜３の整数を示す。なかでも、重縮合の反応性の点から、１〜３の整数が好ましい。より好ましくは、２又は３である。
ｍ＋ｎ＋ｐは４を示す。

上記の式［Ａ２］で示されるアルコキシシランの具体例としては、アリルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、ジメトキシメチルビニルシラン、トリエトキシビニルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、ｍ−スチリルエチルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルエチルトリエトキシシラン、ｍ−スチリルメチルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルメチルトリエトキシシラン、３−（Ｎ−スチリルメチル−２−アミノエチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、ジエトキシ（３−グリシジルオキシプロピル）メチルシラン、３−グリシジルオキシプロピル（ジメトキシ）メチルシラン、３−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−（２−アミノエチルアミノ）プロピルジメトキシメチルシラン、３−（２−アミノエチルアミノ）プロピルトリエトキシシラン、３−（２−アミノエチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルジエトキシメチルシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、トリメトキシ［３−（フェニルアミノ）プロピル］シラン、３−メルカプトプロピル（ジメトキシ）メチルシラン、（３−メルカプトプロピル）トリエトキシシラン、（３−メルカプトプロピル）トリメトキシシラン、３−（トリエトキシシリル）プロピルイソシアネート、３−（トリエトキシシリル）プロピルメタクリレート、３−（トリメトキシシリル）プロピルメタクリレート、３−（トリエトキシシリル）プロピルアクリレート、３−（トリメトキシシリル）プロピルアクリレート、３−（トリエトキシシリル）エチルメタクリレート、３−（トリメトキシシリル）エチルメタクリレート、３−（トリエトキシシリル）エチルアクリレート、３−（トリメトキシシリル）エチルアクリレート、３−（トリエトキシシリル）メチルメタクリレート、３−（トリメトキシシリル）メチルメタクリレート、 ３−（トリエトキシシリル）メチルアクリレート、３−（トリメトキシシリル）メチルアクリレート、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリプロポキシシラン、（Ｒ）−Ｎ−１−フェニルエチル−Ｎ’−トリエトキシシリルプロピルウレア、（Ｒ）−Ｎ−１−フェニルエチル−Ｎ’−トリメトキシシリルプロピルウレア、ビス［３−（トリメトキシシリル）プロピル］ウレア、ビス［３−（トリプロポキシシリル）プロピル］ウレア、１−［３−（トリメトキシシリル）プロピル］ウレアなどが挙げられる。
上記の式［Ａ２］で示されるアルコキシシランは、ポリシロキサン系重合体の溶媒への溶解性、垂直液晶配向膜にした際の液晶の垂直配向性、さらには、液晶表示素子の光学特性などの特性に応じて、１種類又は２種類以上を混合して使用することができる。

式［Ａ３］で示されるアルコキシシランは、下記の式［Ａ３］に示される。

Ｄ^１はそれぞれ水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を示すが、これらは、ハロゲン原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等で置換されていても良い。なかでも、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基が好ましい。
Ｄ^２はそれぞれ炭素数１〜５のアルキル基を示す。なかでも、重縮合の反応性の点から、炭素数１〜３のアルキル基が好ましい。
ｎは０〜３の整数を示す。

上記の式［Ａ３］で示されるアルコキシシランの具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエトキシジエチルシラン、ジブトキシジメチルシラン、（クロロメチル）トリエトキシシラン、３−クロロプロピルジメトキシメチルシラン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン、２−シアノエチルトリエトキシシラン、トリメトキシ（３，３，３−トリフルオロプロピル）シラン、ヘキシルトリメトキシシラン、３−トリメトキシシリルプロピルクロライドなどが挙げられる。

式［Ａ３］中、ｎが０であるアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン又はテトラブトキシシランが挙げられる。
上記の式［Ａ３］で示されるアルコキシシランは、ポリシロキサン系重合体の溶媒への溶解性、垂直液晶配向膜にした際の液晶の垂直配向性、さらには、液晶表示素子の光学特性などの特性に応じて、１種類又は２種類以上を混合して使用することができる。

ポリシロキサン系重合体は、上記式［Ａ１］で示されるアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサン、又は、式［Ａ１］と、上記式［Ａ２］及び式［Ａ３］で示されるアルコキシシランからなる群から選ばれる少なくとも１種のアルコキシシランとを重縮合させて得られるポリシロキサンである。すなわち、式［Ａ１］で示されるアルコキシシランのみで重縮合させて得られるポリシロキサン、式［Ａ１］と式［Ａ２］で示される２種類のアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサン、式［Ａ１］と式［Ａ３］で示される２種類のアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサン、又は式［Ａ１］、式［Ａ２］及び式［Ａ３］で示される３種類のアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサンのうちのいずれか１種である。
なかでも、重縮合の反応性やポリシロキサン系重合体の溶媒への溶解性の点から、複数種のアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサンが好ましい。すなわち、式［Ａ１］と式［Ａ２］で示される２種類のアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサン、式［Ａ１］と式［Ａ３］で示される２種類のアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサン、又は式［Ａ１］、式［Ａ２］及び式［Ａ３］で示される３種類のアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサンである。

上記のポリシロキサン系重合体を作製する際、複数種のアルコキシランを用いる場合、式［Ａ１］で示されるアルコキシシランは、すべてのアルコキシシラン中、１〜４０モル％であることが好ましく、より好ましくは、１〜３０モル％である。また、式［Ａ２］で示されるアルコキシシランは、すべてのアルコキシシラン中、１〜７０モル％であることが好ましく、より好ましくは、１〜６０モル％である。さらに、式［Ａ３］で示されるアルコキシシランは、すべてのアルコキシシラン中、１〜９９モル％であることが好ましくは、より好ましくは、１〜８０モル％である。
ポリシロキサン系重合体を作製する方法は特に限定されない。本発明におけるポリシロキサン系重合体は、前記式［Ａ１］で示されるアルコキシシランを溶媒中で重縮合させて得る方法、式［Ａ１］と前記式［Ａ２］で示されるアルコキシシランを溶媒中で重縮合させて得る方法、式［Ａ１］と前記式［Ａ３］で示されるアルコキシシランを溶媒中で重縮合させて得る方法、さらに、式［Ａ１］、式［Ａ２］及び式［Ａ３］で示されるアルコキシシランを溶媒中で重縮合させて得る方法が挙げられる。また、本発明のポリシロキサン系重合体は、これらアルコキシシランを重縮合して、溶媒に均一に溶解した溶液として得られる。

ポリシロキサン系重合体を重縮合する方法は特に限定されない。例えば、アルコキシシランをアルコール系溶媒やグリコール系溶媒中で、加水分解・重縮合反応させる方法が挙げられる。その際、加水分解・重縮合反応は、部分的に加水分解させても、完全に加水分解させてもよい。完全に加水分解する場合は、理論上、アルコキシシラン中のすべてのアルコキシ基の０．５倍モル量の水を加えれば良いが、０．５倍モル量よりも過剰量の水を加えることが好ましい。ポリシロキサン系重合体を得るためには、上記の加水分解・重縮合反応に用いる水の量は、目的に応じて適宜選択することができるが、アルコキシシラン中のすべてのアルコキシ基の０．５〜２．５倍モル量であることが好ましい。

また、加水分解・重縮合反応を促進する目的で、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、蟻酸、蓚酸、マレイン酸、フマル酸などの酸性化合物、アンモニア、メチルアミン、エチルアミン、エタノールアミン、トリエチルアミンなどのアルカリ性化合物、あるいは、塩酸、硝酸、蓚酸などの金属塩などを触媒として用いることができる。加えて、アルコキシシランが溶解した溶液を加熱することでも、加水分解・重縮合反応を促進させることもできる。その際の加熱温度及び加熱時間は、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、５０℃で２４時間加熱攪拌して、その後、還流条件下で１時間攪拌するなどの条件が挙げられる。

さらに、重縮合する別の方法として、アルコキシシラン、溶媒及び蓚酸の混合物を加熱して、重縮合反応する方法が挙げられる。具体的には、あらかじめ、溶媒に蓚酸を加えて、蓚酸の溶液とした後、該溶液を加熱した状態で、アルコキシシランを混合する方法である。その際、上記反応に用いる蓚酸の量は、アルコキシシラン中のすべてのアルコキシ基の１モルに対して、０．２〜２．０モルとすることが好ましい。また、この反応は、溶液の温度が５０〜１８０℃で行うことができるが、溶媒の蒸発や揮散が起こらないように、還流下で数十分から数十時間で行うことが好ましい。
ポリシロキサン系重合体を作製する重縮合反応において、前記式［Ａ１］、式［Ａ２］及び式［Ａ３］で示されるアルコキシシランを複種用いる場合は、複数種のアルコキシシランをあらかじめ混合した混合物を用いて反応しても、複数種のアルコキシシランを順次添加しながら反応してもよい。

アルコキシシランの重縮合反応に用いる溶媒としては、アルコキシシランが溶解するものであれば、特に限定されない。また、アルコキシシランが溶解しない溶媒であっても、アルコキシシランの重縮合反応の進行とともに溶解するものであればよい。重縮合反応に用いる溶媒としては、一般的に、アルコキシシランの重縮合反応によりアルコールが発生するため、アルコール系溶媒、グリコール系溶媒、グリコールエーテル系溶媒又はアルコールと相溶性がよい溶媒が用いられる。このような重縮合反応に用いる溶媒の具体例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール又はジアセトンアルコールなどのアルコール系溶媒、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、へキシレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，２−ペンタンジオール、１，３−ペンタンジオール、１，４−ペンタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，４−ペンタンジオール、２，３−ペンタンジオール又は１，６−ヘキサンジオールなどのグルコール系溶媒、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジプロピルエーテル又はプロピレングリコールジブチルエーテルなどのグリコールエーテル系溶媒、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホトリアミド、ｍ−クレゾールなどのアルコールと相性のよい溶媒が挙げられる。
また、本発明においては、重縮合反応の際、これら溶媒を１種類又は２種類以上、混合して用いることもできる。

上記の方法により得られたポリシロキサン系重合体の溶液は、原料として仕込んだ全アルコキシシランが有する珪素原子をＳｉＯ_２に換算した濃度（ＳｉＯ_２換算濃度ともいう）が、２０質量％以下であることが好ましい。なかでも、５〜１５質量％であることが好ましい。この濃度範囲において任意の濃度を選択することで、溶液中のゲルの発生を抑制することができ、均一なポリシロキサン系重合体の溶液を得ることができる。
本発明においては、上記の方法で得られたポリシロキサン系重合体の溶液を、そのまま特定重合体として用いても良いし、必要に応じて、前記方法で得られたポリシロキサン系重合体の溶液を濃縮したり、溶媒を加えて希釈したり、他の溶媒に置換して、特定重合体として用いることもできる。

上記の溶媒を加えて希釈する際に用いる溶媒（添加溶媒ともいう）は、重縮合反応に用いる溶媒やその他の溶媒であってもよい。この添加溶媒は、ポリシロキサン系重合体が均一に溶解している限りにおいては特に限定されず、１種類又は２種類以上を任意に選択して使用することができる。このような添加溶媒としては、前記重縮合反応に用いる溶媒に加え、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸エチルなどのエステル系溶媒などが挙げられる。
さらに、特定重合体にポリシロキサン系重合体とそれ以外の重合体を用いる場合、ポリシロキサン系重合体にそれ以外の重合体を混合する前に、ポリシロキサン系重合体の重縮合反応の際に発生するアルコールを常圧又は減圧で留去しておくことが好ましい。

＜特定発生剤＞
本発明における垂直液晶配向膜は、（Ｂ）成分である光ラジカル発生剤、光酸発生剤及び光塩基発生剤からなる群から選ばれる少なくとも１つの特定発生剤を含む液晶配向処理剤から得られる。
光ラジカル発生剤としては、紫外線によりラジカルを発生するものであれば特に制限は無く、例えば、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−ｉｓｏ−ブタレート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ベンゾイルジオキシ）へキサン、１，４−ビス［α−（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）−ｉｓｏ−プロポキシ］ベンゼン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）へキセンヒドロペルオキシド、α−（ｉｓｏ−プロピルフェニル）−ｉｓｏ−プロピルヒドロペルオキシド、２，５−ジメチルへキサン、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロへキサン、ブチル−４，４−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）バレレート、シクロへキサノンペルオキシド、２，２’，５，５’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−アミルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）−４，４’−ジカルボキシベンゾフェノン、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシベンゾエート、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジペルオキシイソフタレートなどの有機過酸化物や、９，１０−アントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−クロロアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノンなどのキノン類、ベンゾインメチル、ベンゾインエチルエーテル、α−メチルベンゾイン、α−フェニルベンゾインなどのベンゾイン誘導体などが挙げられる。

また、光酸発生剤及び光塩基発生剤としては、紫外線により酸又は塩基を発生するものであれば特に制限は無く、例えば、トリアジン系化合物、アセトフェノン誘導体化合物、ジスルホン系化合物、ジアゾメタン系化合物、スルホン酸誘導体化合物、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩、トリアリールホスホニウム塩、鉄アレーン錯体などが挙げられる。より具体的には、例えば、ジフェニルヨードニウムクロライド、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムメシレート、ジフェニルヨードニウムトシレート、ジフェニルヨードニウムブロミド、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムメシレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトシレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムクロリド、ビス（ｐ−クロロフェニル）ヨードニウムクロライド、ビス（ｐ−クロロフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムクロリド、トリフェニルスルホニウムブロミド、トリ（ｐ−メトキシフェニル）スルホニウムテトラフルオロボレート、トリ（ｐ−メトキシフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスホネート、トリ（ｐ−エトキシフェニル）スルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルホスホニウムクロリド、トリフェニルホスホニウムブロミド、トリ（ｐ−メトキシフェニル）ホスホニウムテトラフルオロボレート、トリ（ｐ−メトキシフェニル）ホスホニウムヘキサフルオロホスホネート、トリ（ｐ−エトキシフェニル）ホスホニウムテトラフルオロボレート、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニルへキサン−１，６−ジアミン］、ニトロベンジルシクロへキシルカルバメート、ジ（メトキシベンジル）ヘキサメチレンジカルバメート、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニルへキサン−１，６−ジアミン］、ニトロベンジルシクロへキシルカルバメート、ジ（メトキシベンジル）ヘキサメチレンジカルバメートなどが挙げられる。
本発明における特定発生剤としては、液晶層と垂直液晶配向膜との密着性を高める効果が高いことから、光ラジカル発生剤を用いることが好ましい。

＜液晶配向処理剤＞
本発明の液晶配向処理剤は、垂直液晶配向膜を形成するための塗布溶液であり、（Ａ）成分である前記式［１−１］及び式［１−２］からなる群から選ばれる少なくとも１種の特定側鎖構造を有する特定重合体、（Ｂ）成分である光ラジカル発生剤、光酸発生剤及び光塩基発生剤からなる群から選ばれる少なくとも１つの特定発生剤、さらに溶媒を含有する塗布溶液である。

上記の特定側鎖構造を有する特定重合体としては、特に限定は無いが、アクリルポリマー、メタクリルポリマー、ノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル、セルロース及びポリシロキサンからなる群から選ばれる少なくとも１つであることが好ましい。なかでも、ポリイミド前駆体、ポリイミド又はポリシロキサンが好ましく、特に好ましいのは、ポリイミド又はポリシロキサンである。また、特定重合体には、これら重合体のなかの１種類又は２種類以上を用いることができる。
液晶配向処理剤におけるすべての重合体成分は、すべてが特定重合体であってもよく、それ以外の他の重合体が混合されていても良い。その際、それ以外の他の重合体の含有量は、特定重合体１００質量部に対して、０．５〜１５質量部、好ましくは、１〜１０質量部である。それ以外の他の重合体としては、前記式［１−１］又は式［１−２］で示される特定側鎖構造を含有しない前記重合体が挙げられる。

液晶配向処理剤における特定発生剤は、光ラジカル発生剤、光酸発生剤及び光塩基発生剤からなる群から選ばれる少なくとも１つの特定発生剤である。なかでも、液晶層と垂直液晶配向膜との密着性を高めることができる点から、光ラジカル発生剤を用いることが好ましい。また、液晶配向処理剤中の特定発生剤の含有量は、すべての重合体成分１００質量部に対して、０．０１〜５０質量部であることが好ましい。なかでも、０．０１〜３０質量部であることが好ましく、特に好ましいのは、０．１〜２０質量部である。

液晶配向処理剤中の溶媒の含有量は、液晶配向処理剤の塗布方法や目的とする膜厚を得るという観点から、適宜選択することができる。なかでも、塗布により均一な垂直液晶配向膜を形成するとい観点から、液晶配向処理剤中の溶媒の含有量は５０〜９９．９質量％であることが好ましい。なかでも、６０〜９９質量％が好ましく、特に好ましくは、６５〜９９質量％である。
液晶配向処理剤に用いる溶媒は、特定重合体を溶解させる溶媒であれば特に限定されない。
なかでも、特定重合体がポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリアミド又はポリエステルの場合、あるいは、アクリルポリマー、メタクリルポリマー、ノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレン、セルロース、ポリシロキサン等の溶媒への溶解性が低い場合は、下記に示すような溶媒（溶媒Ａ類ともいう）を用いることが好ましい。
例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、１，３−ジメチル−イミダゾリジノン、メチルエチルケトン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなどが挙げられる。
なかでも、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン又はγ−ブチロラクトンを用いることが好ましい。これらは単独で使用しても、混合して使用してもよい。

特定重合体が、アクリルポリマー、メタクリルポリマー、ノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレン、セルロース又はポリシロキサンである場合、あるいは、ポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル等の溶媒への溶解性が高い場合、下記に示すような溶媒（溶媒Ｂ類ともいう）を用いることができる。
例えば、エタノール、イソプロピルアルコール、１−ブタノール、２−ブタノール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、１−ペンタノール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、２−メチル−１−ブタノール、イソペンチルアルコール、ｔｅｒｔ−ペンチルアルコール、３−メチル−２−ブタノール、ネオペンチルアルコール、１−ヘキサノール、２−メチル−１−ペンタノール、２−メチル−２−ペンタノール、２−エチル−１−ブタノール、１−ヘプタノール、２−ヘプタノール、３−ヘプタノール、１−オクタノール、２−オクタノール、２−エチル−１−ヘキサノール、シクロヘキサノール、１−メチルシクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノール、３−メチルシクロヘキサノール、１，２−エタンジオール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２−メチル−２，４−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、１，２−ブトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、２−ペンタノン、３−ペンタノン、２−ヘキサノン、２−ヘプタノン、４−ヘプタノン、３−エトキシブチルアセタート、１−メチルペンチルアセタート、２−エチルブチルアセタート、２−エチルヘキシルアセタート、エチレングリコールモノアセタート、エチレングリコールジアセタート、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、２−（メトキシメトキシ）エタノール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノイソアミルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、２−（ヘキシルオキシ）エタノール、フルフリルアルコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノブチルエーテル、１−（ブトキシエトキシ）プロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセタート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセタート、エチレングリコールモノアセタート、エチレングリコールジアセタート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセタート、２−（２−エトキシエトキシ）エチルアセタート、ジエチレングリコールアセタート、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸メチルエチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸、３−メトキシプロピオン酸、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、乳酸メチルエステル、乳酸エチルエステル、乳酸ｎ−プロピルエステル、乳酸ｎ−ブチルエステル、乳酸イソアミルエステル、シクロヘキサノン、シクロペンタノンなどを挙げることができる。さらには、下記の式［Ｄ１]、式[Ｄ２]又は式［Ｄ３］で示される溶媒を用いることもできる。

（Ｄ^１は炭素数１〜３のアルキル基を示す。Ｄ^２は炭素数１〜３のアルキル基を示す。Ｄ^３は炭素数１〜４のアルキル基を示す。）
なかでも、１−ヘキサノール、シクロヘキサノール、１，２−エタンジオール、１，２−プロパンジオール、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、前記式［Ｄ１］、式［Ｄ２］又は式［Ｄ３］で示される溶媒を用いることが好ましい。

これら溶媒Ｂ類は、液晶配向処理剤を塗布する際の垂直液晶配向膜の塗膜性や表面平滑性を高めることができるため、特定重合体にポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリアミド又はポリエステルを用いた場合、前記溶媒Ａ類と混合して用いることが好ましい。その際、溶媒Ｂ類は、液晶配向処理剤に含まれる溶媒全体の１〜７０質量％であることが好ましい。なかでも、１０〜６０質量％がさらに好ましい。より好ましいのは、２０〜６０質量％である。また、ポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル等の溶媒への溶解性が高い場合は、溶媒Ｂ類のみを用いることができる。

液晶配向処理剤には、液晶層と垂直液晶配向膜との密着性を高める目的で、下記の式［Ｂ１］〜式［Ｂ７］で示される構造を有する化合物（密着性化合物ともいう）からなる群から選ばれる少なくとも１つの化合物を含有することが好ましい。その際、これら式［Ｂ１］〜式［Ｂ７］で示される構造は、化合物中に２個以上有することが好ましい。

Ｗ^１は、水素原子又はベンゼン環を示す。
Ｗ^２は、ベンゼン環、シクロへキサン環及び複素環からなる群から選ばれる少なくとも１種の２価の環状基を示す。
Ｗ^３は、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル基及び炭素数１〜１８のフッ素含有アルコキシル基からなる群から選ばれる少なくとも１種を示す。
より具体的には、下記に示すものが挙げられる。

例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリ（メタ）アクリロイルオキシエトキシトリメチロールプロパン又はグリセリンポリグリシジルエーテルポリ（メタ）アクリレート等の重合性不飽和基を分子内に３個有する化合物；さらに、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイドビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイドビスフェノール型ジ（メタ）アクリレート、１，６−へキサンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ（メタ）アクリレート又はヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどの重合性不飽和基を分子内に２個有する化合物；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピルフタレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルリン酸エステル又はＮ−メチロール（メタ）アクリルアミド等の重合性不飽和基を分子内に１個有する化合物；などが挙げられる。

加えて、下記の式［７］で示される化合物を用いることもできる。

（Ｅ_１はシクロヘキサン環、ビシクロヘキサン環、ベンゼン環、ビフェニル環、ターフェニル環、ナフタレン環、フルオレン環、アントラセン環及びフェナントレン環からなる群から選ばれる基を示す。Ｅ_２は下記の式［７ａ］又は式［７ｂ］から選ばれる基を示す。ｎは１〜４の整数を示す。）

特定発生剤として光ラジカル発生剤を用いる場合、液晶層と垂直液晶配向膜との密着性を高める効果が大きいことから、密着性化合物には、前記式［Ｂ１］〜式［Ｂ６］で示される構造を有する化合物、又は式［７］で示される化合物を用いることが好ましい。なかでも、式［Ｂ１］〜式［Ｂ５］で示される構造を有する化合物又は式［７］で示される化合物を用いることが好ましい。

上記密着性化合物は、化合物の一例であり、これらに限定されるものではない。また、密着性化合物は、１種類であってもよく、２種類以上組み合わせてもよい。
密着性化合物の含有量は、すべての重合体成分１００質量部に対して、０．１〜１５０質量部であることが好ましい。架橋反応が進行し目的の効果を発現させるためには、すべての重合体成分１００質量部に対して０．１〜１００質量部がより好ましく、特に、１〜５０質量部が最も好ましい。

液晶配向処理剤には、本発明の効果を損なわない限り、エポキシ基、イソシアネート基、オキセタン基又はシクロカーボネート基を有する化合物、あるいは、ヒドロキシル基、ヒドロキシアルキル基及び低級アルコキシアルキル基からなる群より選ばれる少なくとも１種の置換基を有する化合物（総称して架橋性化合物ともいう）を導入することもできる。その際、これら置換基は、架橋性化合物中に２個以上有する必要がある。

エポキシ基又はイソシアネート基を有する架橋性化合物としては、例えば、ビスフェノールアセトングリシジルエーテル、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート、テトラグリシジルアミノジフェニレン、テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、テトラグリシジル−１，３−ビス（アミノエチル）シクロヘキサン、テトラフェニルグリシジルエーテルエタン、トリフェニルグリシジルエーテルエタン、ビスフェノールヘキサフルオロアセトジグリシジルエーテル、１，３−ビス（１−（２，３−エポキシプロポキシ）−１−トリフルオロメチル−２，２，２−トリフルオロメチル）ベンゼン、４，４−ビス（２，３−エポキシプロポキシ）オクタフルオロビフェニル、トリグリシジル−ｐ−アミノフェノール、テトラグリシジルメタキシレンジアミン、２−（４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル）−２−（４−（１，１−ビス（４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル）エチル）フェニル）プロパン、１，３−ビス（４−（１−（４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル）−１−（４−（１−（４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル）−１−メチルエチル）フェニル）エチル）フェノキシ）−２−プロパノールなどが挙げられる。

オキセタン基を有する架橋性化合物は、下記の式［４］で示すオキセタン基を少なくとも２個有する架橋性化合物である。

具体的には、国際公開公報ＷＯ２０１１／１３２７５１（２０１１．１０．２７公開）の５８頁〜５９頁に掲載される式［４ａ］〜式［４ｋ］で示される架橋性化合物が挙げられる。

シクロカーボネート基を有する架橋性化合物としては、下記の式［５］で示されるシクロカーボネート基を少なくとも２個有する架橋性化合物である。

具体的には、国際公開公報ＷＯ２０１２／０１４８９８（２０１２．２．２公開）の７６頁〜８２頁に掲載される式［５−１］〜式［５−４２］で示される架橋性化合物が挙げられる。

ヒドロキシル基及びアルコキシル基からなる群より選ばれる少なくとも１種の置換基を有する架橋性化合物としては、例えば、ヒドロキシル基又はアルコキシル基を有するアミノ樹脂、例えば、メラミン樹脂、尿素樹脂、グアナミン樹脂、グリコールウリル−ホルムアルデヒド樹脂、スクシニルアミド−ホルムアルデヒド樹脂、エチレン尿素−ホルムアルデヒド樹脂などが挙げられる。具体的には、アミノ基の水素原子がメチロール基又はアルコキシメチル基又はその両方で置換されたメラミン誘導体、ベンゾグアナミン誘導体、又はグリコールウリルを用いることができる。このメラミン誘導体又はベンゾグアナミン誘導体は、２量体又は３量体として存在することも可能である。これらはトリアジン環１個当たり、メチロール基又はアルコキシメチル基を平均３個以上６個以下有するものが好ましい。

このようなメラミン誘導体又はベンゾグアナミン誘導体の例としては、市販品のトリアジン環１個当たりメトキシメチル基が平均３．７個置換されているＭＸ−７５０、トリアジン環１個当たりメトキシメチル基が平均５．８個置換されているＭＷ−３０（以上、三和ケミカル社製）やサイメル３００、３０１、３０３、３５０、３７０、７７１、３２５、３２７、７０３、７１２などのメトキシメチル化メラミン、サイメル２３５、２３６、２３８、２１２、２５３、２５４などのメトキシメチル化ブトキシメチル化メラミン、サイメル５０６、５０８などのブトキシメチル化メラミン、サイメル１１４１のようなカルボキシル基含有メトキシメチル化イソブトキシメチル化メラミン、サイメル１１２３のようなメトキシメチル化エトキシメチル化ベンゾグアナミン、サイメル１１２３−１０のようなメトキシメチル化ブトキシメチル化ベンゾグアナミン、サイメル１１２８のようなブトキシメチル化ベンゾグアナミン、サイメル１１２５−８０のようなカルボキシル基含有メトキシメチル化エトキシメチル化ベンゾグアナミン（以上、三井サイアナミド社製）が挙げられる。また、グリコールウリルの例として、サイメル１１７０のようなブトキシメチル化グリコールウリル、サイメル１１７２のようなメチロール化グリコールウリルなど、パウダーリンク１１７４のようなメトキシメチロール化グリコールウリルなどが挙げられる。

ヒドロキシル基又はアルコキシル基を有するベンゼン、又はフェノール性化合物としては、例えば、１，３，５−トリス（メトキシメチル）ベンゼン、１，２，４−トリス（イソプロポキシメチル）ベンゼン、１，４−ビス（ｓｅｃ−ブトキシメチル）ベンゼン、２，６−ジヒドロキシメチル−ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールなどが挙げられる。
より具体的には、国際公開公報ＷＯ２０１１／１３２７５１（２０１１．１０．２７公開）の６２頁〜６６頁に掲載される、式［６−１］〜式［６−４８］で示される架橋性化合物が挙げられる。
架橋性化合物の含有量は、すべての重合体成分１００質量部に対して、０．１〜１００質量部であることが好ましい。架橋反応が進行し目的の効果を発現させるためには、すべての重合体成分１００質量部に対して０．１〜５０質量部がより好ましく、特に、１〜３０質量部が最も好ましい。

本発明の液晶表示素子には、液晶配向膜中の電荷移動を促進して素子の電荷抜けを促進させる化合物として、国際公開公報ＷＯ２０１１／１３２７５１（２０１１．１０．２７公開）の６９頁〜７３頁に掲載される、式［Ｍ１］〜式［Ｍ１５６］で示される窒素含有複素環アミン化合物を添加することもできる。このアミン化合物は、液晶配向処理剤に直接添加しても構わないが、適当な溶媒で濃度が０．１〜１０質量％、好ましくは１〜７質量％の溶液にしてから添加することが好ましい。この溶媒としては、上述した特定重合体を溶解させる有機溶媒であれば特に限定されない。

液晶配向処理剤は、本発明の効果を損なわない限り、液晶配向処理剤を塗布した際の垂直液晶配向膜の膜厚の均一性や表面平滑性を向上させる化合物を用いることができる。さらに、垂直液晶配向膜と基板との密着性を向上させる化合物などを用いることもできる。
垂直液晶配向膜の膜厚の均一性や表面平滑性を向上させる化合物としては、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノ二オン系界面活性剤などが挙げられる。
より具体的には、例えば、エフトップＥＦ３０１、ＥＦ３０３、ＥＦ３５２（以上、トーケムプロダクツ社製）、メガファックＦ１７１、Ｆ１７３、Ｒ−３０（以上、大日本インキ社製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１（以上、住友スリーエム社製）、アサヒガードＡＧ７１０、サーフロンＳ−３８２、ＳＣ１０１、ＳＣ１０２、ＳＣ１０３、ＳＣ１０４、ＳＣ1０５、ＳＣ１０６（以上、旭硝子社製）などが挙げられる。これらの界面活性剤の使用割合は、液晶配向処理剤に含有されるすべての重合体成分１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜２質量部、より好ましくは０．０１〜１質量部である。

垂直液晶配向膜と基板との密着性を向上させる化合物の具体例としては、以下に示す官能性シラン含有化合物やエポキシ基含有化合物が挙げられる。
例えば、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、２−アミノプロピルトリメトキシシラン、２−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、Ｎ−トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、１０−トリメトキシシリル−１,４,７−トリアザデカン、１０−トリエトキシシリル−１,４,７−トリアザデカン、９−トリメトキシシリル−３,６−ジアザノニルアセテート、９−トリエトキシシリル−３,６−ジアザノニルアセテート、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１,６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、２,２−ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１,３,５,６−テトラグリシジル−２,４−ヘキサンジオール、Ｎ,Ｎ,Ｎ’,Ｎ’,−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１,３−ビス（Ｎ,Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ,Ｎ,Ｎ’,Ｎ’,−テトラグリシジル−４、４’−ジアミノジフェニルメタンなどが挙げられる。
これら基板との密着させる化合物を使用する場合は、液晶配向処理剤に含有されるすべての重合体成分１００質量部に対して０．１〜３０質量部であることが好ましく、より好ましくは１〜２０質量部である。０．１質量部未満であると密着性向上の効果は期待できず、３０質量部よりも多くなると液晶配向処理剤の保存安定性が悪くなる場合がある。
液晶配向処理剤には、上記以外の化合物の他に、本発明の効果が損なわれない範囲であれば、垂直液晶配向膜の誘電率や導電性などの電気特性を変化させる目的の誘電体や導電物質を添加してもよい。

＜垂直液晶配向膜・液晶表示素子の作製方法＞
液晶表示素子に用いる基板としては、透明性の高い基板であれば特に限定されず、ガラス基板の他、アクリル基板、ポリカーボネート基板、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）基板、それらのフィルムなどのプラスチック基板などを用いることができる。液晶表示素子をリバース型素子として、調光窓などに用いる場合には、プラスチック基板であることが好ましい。また、プロセスの簡素化の観点からは、液晶駆動のためのＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）電極などが形成された基板を用いることが好ましい。また、反射型のリバース型素子とする場合には、片側の基板のみにならば、シリコンウエハやアルミニウムなどの金属や誘電体多層膜が形成された基板を使用することができる。

本発明の液晶表示素子は、基板の少なくとも一方が、液晶分子を垂直に配向させるような垂直液晶配向膜を有する。この垂直液晶配向膜は、液晶配向処理剤を基板上に塗布、焼成した後、ラビング処理や光照射などで配向処理をして得ることができる。また、本発明における垂直液晶配向膜は、これらの配向処理無しでも垂直液晶配向膜として用いることができる。
液晶配向処理剤の塗布方法は、特に限定されないが、工業的には、スクリーン印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、インクジェット法、ディップ法、ロールコータ法、スリットコータ法、スピンナー法、スプレー法などがあり、基板の種類や目的とする垂直液晶配向膜の膜厚に応じて、適宜選択することができる。

液晶配向処理剤を基板上に塗布した後は、ホットプレート、熱循環型オーブン、ＩＲ（赤外線）型オーブンなどの加熱手段により、液晶配向処理剤に用いる溶媒に応じて、３０〜３００℃、好ましくは３０〜２５０℃の温度で溶媒を蒸発させて垂直液晶配向膜を得ることができる。焼成後の垂直液晶配向膜の厚みは、厚すぎると液晶表示素子の消費電力の面で不利となり、薄すぎると本素子の信頼性が低下する場合があるので、好ましくは５〜３００ｎｍ、より好ましくは１０〜２００ｎｍである。
液晶表示素子に用いる液晶組成物は、少なくとも液晶と重合性化合物を有する液晶組成物である。液晶と重合性化合物以外のものとしては、前記開始剤や液晶表示素子の電極間隙（ギャップともいう）を制御するためのスパーサーが挙げられる。

液晶組成物の注入方法は、特に限定されないが、例えば、次の方法が挙げられる。すなわち、基板にガラス基板を用いる場合、垂直液晶配向膜が形成された一対の基板を用意し、片側の基板の４片を、一部分を除いてシール剤を塗布し、その後、垂直液晶配向膜の面が内側になるようにして、もう片側の基板を貼り合わせた空セルを作製する。そして、シール剤が塗布されていない場所から、液晶組成物を減圧注入して、液晶組成物注入セルを得る方法が挙げられる。
さらに、基板にプラスチック基板を用いる場合には、垂直液晶配向膜が形成された一対の基板を用意し、片側の基板の上にＯＤＦ（Ｏｎｅ Ｄｒｏｐ Ｆｉｌｌｉｎｇ）法やインクジェット法などで、液晶組成物を滴下し、その後、もう片側の基板を貼り合わせて、液晶組成物注入セルを得る方法が挙げられる。
本発明の液晶表示素子では、液晶層と垂直液晶配向膜との密着性が高いため、基板の４片にシール剤を塗布しなくても良い。

また、液晶表示素子のギャップは、スパーサーなどで制御することができる。その方法は、上述した液晶組成物中に目的とする大きさのスパーサーを導入する方法や、目的とする大きさのカラムスペーサを有する基板を用いる方法が挙げられる。また、ギャップの大きさは、１〜１００μｍが好ましく、より好ましくは、２〜５０μｍである。特に好ましくは、３〜３０μｍである。ギャップが小さすぎると液晶表示素子のコントラストが低下し、大きすぎると本素子の駆動電圧が高くなる。

本発明の液晶表示素子は、液晶組成物の一部又は全体が液晶性を示す状態で、液晶組成物の硬化を行い、液晶と重合性化合物の硬化物複合体を形成させて得られる。この液晶組成物の硬化は、前記で得られた液晶組成物注入セルに、活性エネルギー線の照射及び加熱の少なくとも一方の処理によって行う。ここで、活性エネルギー線としては、紫外線が好適である。紫外線としては、波長が２５０〜４００ｎｍ、好ましくは、３１０〜３７０ｎｍである。また、加熱処理の場合、その温度は、４０〜１２０℃、好ましくは６０〜８０℃である。また、紫外線処理と加熱処理とを両方同時に行っても、紫外線処理をした後に加熱処理を行っても良い。液晶組成物の硬化は、紫外線処理のみが好ましい。

上記のように、特定重合体を含む液晶配向処理剤から得られる垂直液晶配向膜を用いた液晶表示素子は、リバース型素子として、液晶層と垂直液晶配向膜との密着性が高く、さらには、液晶の垂直配向性が高く、良好な光学特性、すなわち、電圧無印加時の透明性と電圧印加時の散乱特性が良好であり、液晶ディスプレイや、光の透過と遮断を制御する調光窓や光シャッター素子などに好適に利用することができる。
また、自動車、鉄道及び航空機などの輸送機器及び輸送機械に用いる液晶表示素子、具体的には、光の透過と遮断を制御する調光窓やルームミラーに用いる光シャッター素子などに好適に用いることができる。
特に、従来のリバース型素子を使用した場合に比べて、電圧無印加時の透明性と電圧印加時の散乱特性が良好であることから、乗り物のガラス窓に使用した場合は、夜間時における光の取り入れ効率が高く、さらに、外光からの眩しさを防ぐ効果も高くなる。そのため、乗り物を運転する際の安全性や乗車時の快適性を、より改善することが可能となる。
また、液晶表示素子をフィルム基板で作製し、それを乗り物のガラス窓に貼って使用する場合、従来のリバース型素子に比べて、液晶層と垂直配向膜との密着性が低いことが要因の不良や劣化が起こりにくく、信頼性が高くなる。

さらに、ＬＣＤ（Liquid Crystal Display）やＯＬＥＤ（Organic Light-emitting Diode）ディスプレイなどのディスプレイ装置の導光板やこれらディスプレイを用いた透明ディスプレイの裏板に用いることもできる。具体的には、透明ディスプレイの裏板に用いる場合は、透明ディスプレイと本発明の液晶表示素子とを合わせ、透明ディスプレイ上で画面表示を行う際に、その背面からの光の入り込みを液晶表示素子で抑制するために用いることができる。これにより、本発明の液晶表示素子は、透明ディスプレイ上で画面表示を行う際に電圧印加された散乱状態となり、画面表示を鮮明にすることができ、画面表示が終わった後には、電圧が無印加の透明状態となる。

以下に実施例を挙げ、本発明をさらに詳しく説明するが、これらに限定して解釈されるものではない。
「合成例、実施例及び比較例で用いる化合物の略号」
Ｌ１（液晶）：ＭＬＣ−６６０８（メルク社製）
Ｒ１（重合性化合物）：下記の式［Ｒ１］で示される化合物
Ｐ１（光開始剤）：下記の式［Ｐ１］で示される化合物

（特定側鎖型ジアミン化合物）
Ａ１：１，３−ジアミノ−４−〔４−（トランス−４−ｎ−ヘプチルシクロへキシル）フェノキシ〕ベンゼン
Ａ２：１，３−ジアミノ−４−〔４−（トランス−４−ｎ−ヘプチルシクロへキシル）フェノキシメチル〕ベンゼン
Ａ３：１，３−ジアミノ−４−{４−〔トランス−４−（トランス−４−ｎ−ペンチルシクロへキシル）シクロへキシル〕フェノキシ}ベンゼン
Ａ４：下記の式［Ａ４］で示されるジアミン化合物
Ａ５：１，３−ジアミノ−４−オクタデシルオキシベンゼン

（第２のジアミン化合物）
Ｂ１：３，５−ジアミノ安息香酸
Ｂ２：下記の式［Ｂ２］で示されるジアミン化合物

（その他ジアミン化合物）
Ｃ１：ｐ−フェニレンジアミン
Ｃ２：ｍ−フェニレンジアミン

（テトラカルボン酸成分）
Ｄ１：１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物
Ｄ２：ビシクロ［３，３，０］オクタン−２，４，６，８−テトラカルボン酸二無水物 Ｄ３：下記の式［Ｄ３］で示されるテトラカルボン酸二無水物
Ｄ４：下記の式［Ｄ４］で示されるテトラカルボン酸二無水物

（アルコキシシラン）
Ｅ１：下記の式［Ｅ１］で示されるアルコキシシラン
Ｅ２：オクタデシルトリエトキシシラン
Ｅ３：３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
Ｅ４：３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン
Ｅ５：テトラエトキシシラン

（特定発生剤）
Ｓ１：下記の式［Ｓ１］で示される光ラジカル発生剤
Ｓ２：下記の式［Ｓ２］で示される光ラジカル発生剤

（密着性化合物）
Ｍ１：下記の式［Ｍ１］で示される化合物
Ｍ２：下記の式［Ｍ２］で示される化合物
Ｍ３：下記の式［Ｍ３］で示される化合物

（架橋性化合物）
Ｋ１：下記の式［Ｋ１］で示される化合物

（溶媒）
ＮＭＰ：Ｎ−メチル−２−ピロリドン
ＮＥＰ：Ｎ−エチル−２−ピロリドン
γ−ＢＬ：γ−ブチロラクトン
ＰＧＭＥ：プロピレングリコールモノメチルエーテル
ＥＣＳ：エチレングリコールモノエチルエーテル
ＢＣＳ：エチレングリコールモノブチルエーテル
ＰＢ：プロピレングリコールモノブチルエーテル
ＥＣ：ジエチレングリコールモノエチルエーテル

「ポリイミド系重合体の分子量の測定方法」
ポリイミド前駆体及びポリイミドの分子量は、常温ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（ＧＰＣ−１０１）（昭和電工社製）、カラム（ＫＤ−８０３，ＫＤ−８０５）（Ｓｈｏｄｅｘ社製）を用いて、以下のようにして測定した。
カラム温度：５０℃
溶離液：Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（添加剤として、臭化リチウム−水和物（ＬｉＢｒ・Ｈ_２Ｏ）が３０ｍｍｏｌ／Ｌ（リットル）、リン酸・無水結晶（ｏ−リン酸）が３０ｍｍｏｌ／Ｌ、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）が１０ｍｌ／Ｌ）
流速：１．０ｍｌ／分
検量線作成用標準サンプル：ＴＳＫ 標準ポリエチレンオキサイド（分子量；約９００,０００、１５０,０００、１００,０００及び３０,０００）（東ソー社製）及びポリエチレングリコール（分子量；約１２,０００、４,０００及び１,０００）（ポリマーラボラトリー社製）。

「ポリイミドのイミド化率の測定方法」
ポリイミド粉末２０ｍｇをＮＭＲ（核磁気共鳴）サンプル管（ＮＭＲサンプリングチューブスタンダード，φ５（草野科学社製））に入れ、重水素化ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ−ｄ６，０．０５質量％ＴＭＳ（テトラメチルシラン）混合品）（０.５３ｍｌ）を添加し、超音波をかけて完全に溶解させた。この溶液をＮＭＲ測定機（ＪＮＷ−ＥＣＡ５００）（日本電子データム社製）にて５００ＭＨｚのプロトンＮＭＲを測定した。イミド化率は、イミド化前後で変化しない構造に由来するプロトンを基準プロトンとして決め、このプロトンのピーク積算値と、９.５〜１０.０ｐｐｍ付近に現れるアミド酸のＮＨ基に由来するプロトンピーク積算値とを用い以下の式によって求めた。
イミド化率（％）＝（１−α・ｘ／ｙ）×１００
上記式において、ｘはアミド酸のＮＨ基由来のプロトンピーク積算値、ｙは基準プロトンのピーク積算値、αはポリアミド酸（イミド化率が０％）の場合におけるアミド酸のＮＨ基プロトン１個に対する基準プロトンの個数割合である。

＜合成例１＞
Ｄ１（２．９６ｇ，１５．１ｍｍｏｌ）、Ａ１（２．９１ｇ，７．６５ｍｍｏｌ）、Ｂ１（０．９３ｇ，６．１１ｍｍｏｌ）及びＣ２（０．１７ｇ，１．５７ｍｍｏｌ）をＮＥＰ（２１．０ｇ）中で混合し、４０℃で８時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（１）を得た。このポリアミド酸の数平均分子量は、２３，６００、重量平均分子量は、７１，８００であった。

＜合成例２＞
Ｄ２（３．８３ｇ，１５．３ｍｍｏｌ）、Ａ２（６．０４ｇ，１５．３ｍｍｏｌ）及びＢ１（２．３３ｇ，１５．３ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２６．４ｇ）中で混合し、５０℃で２時間反応させた後、Ｄ１（２．９４ｇ，１５．０ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（２３．８ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（２）を得た。このポリアミド酸の数平均分子量は、２２，５００、重量平均分子量は、６７，１００であった。

＜合成例３＞
合成例２で得られたポリアミド酸溶液（２）（３０．０ｇ）に、ＮＭＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（３．９０ｇ）及びピリジン（２．４０ｇ）を加え、７０℃で２時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（３）を得た。このポリイミドのイミド化率は６０％であり、数平均分子量は２０，１００、重量平均分子量は５７，１００であった。

＜合成例４＞
Ｄ２（２．６４ｇ，１０．６ｍｍｏｌ）、Ａ３（４．５６ｇ，１０．５ｍｍｏｌ）、Ｂ１（１．６０ｇ，１０．５ｍｍｏｌ）及びＢ２（１．０７ｇ，５．２６ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２１．９ｇ）中で混合し、８０℃で５時間反応させた。その後、Ｄ１（３．０２ｇ，１５．８ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（１７．２ｇ）を加え、４０℃で８時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。
得られたポリアミド酸溶液（３０．０ｇ）に、ＮＭＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（３．８５ｇ）及びピリジン（２．４２ｇ）を加え、５０℃で２時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（４）を得た。このポリイミドのイミド化率は５６％であり、数平均分子量は１８，５００、重量平均分子量は５４，０００であった。

＜合成例５＞
Ｄ２（２．５０ｇ，１０．０ｍｍｏｌ）、Ａ４（２．９６ｇ，６．００ｍｍｏｌ）、Ｂ１（１．５２ｇ，１０．０ｍｍｏｌ）、Ｂ２（０．４１ｇ，２．００ｍｍｏｌ）及びＣ１（０．２２ｇ，２．００ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（１９．０ｇ）中で混合し、８０℃で５時間反応させた後、Ｄ１（１．９２ｇ，９．８０ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（９．５０ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。
得られたポリアミド酸溶液（３０．０ｇ）に、ＮＭＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（４．００ｇ）及びピリジン（２．５０ｇ）を加え、５０℃で２時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（５）を得た。このポリイミドのイミド化率は４９％であり、数平均分子量は１６，１００、重量平均分子量は４９，８００であった。

＜合成例６＞
Ｄ３（５．４５ｇ，２４．３ｍｍｏｌ）、Ａ２（５．８１ｇ，１４．７ｍｍｏｌ）、Ｂ１（１．１２ｇ，７．３６ｍｍｏｌ）及びＢ２（０．５０ｇ，２．４６ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（３８．６ｇ）中で混合し、４０℃で１０時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。
得られたポリアミド酸溶液（３０．０ｇ）にＮＭＰを加え、６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（４．００ｇ）及びピリジン（２．４８ｇ）を加え、７０℃で２時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（６）を得た。このポリイミドのイミド化率は６３％であり、数平均分子量は１７，２００、重量平均分子量は４９，１００であった。

＜合成例７＞
Ｄ３（５．４５ｇ，２４．３ｍｍｏｌ）、Ａ４（３．６３ｇ，７．３７ｍｍｏｌ）及びＢ１（２．６１ｇ，１７．２ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（３５．１ｇ）中で混合し、４０℃で５時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。
得られたポリアミド酸溶液（３０．０ｇ）にＮＭＰを加え、６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（８．００ｇ）及びピリジン（２．５０ｇ）を加え、５０℃で３時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（７）を得た。このポリイミドのイミド化率は５４％であり、数平均分子量は１７，４００、重量平均分子量は４７，８００であった。

＜合成例８＞
Ｄ４（４．５９ｇ，１５．３ｍｍｏｌ）、Ａ３（６．６２ｇ，１５．３ｍｍｏｌ）、Ｂ１（１．８６ｇ，１２．２ｍｍｏｌ）及びＢ２（０．６２ｇ，３．０５ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２７．６ｇ）中で混合し、４０℃で８時間反応させた後、Ｄ１（２．９４ｇ，１５．０ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（２２．３ｇ）を加え、２５℃で１０時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。
得られたポリアミド酸溶液（３０．０ｇ）に、ＮＭＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（７．２５ｇ）及びピリジン（２．２２ｇ）を加え、４０℃で１．５時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（８）を得た。このポリイミドのイミド化率は７１％であり、数平均分子量は１７，１００、重量平均分子量は３８，８００であった。

＜合成例９＞
Ｄ２（３．８３ｇ，１５．３ｍｍｏｌ）、Ａ５（５．７６ｇ，１５．３ｍｍｏｌ）及びＢ１（２．３３ｇ，１５．３ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２６．４ｇ）中で混合し、５０℃で２時間反応させた後、Ｄ１（２．９４ｇ，１５．０ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（２３．８ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液を得た。
得られたポリアミド酸溶液（３０．０ｇ）に、ＮＭＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（３．９０ｇ）及びピリジン（２．４０ｇ）を加え、７０℃で２時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（９）を得た。このポリイミドのイミド化率は６１％であり、数平均分子量は１９，０００、重量平均分子量は５８，１００であった。

＜合成例１０＞
Ｄ２（３．８３ｇ，１５．３ｍｍｏｌ）及びＢ１（４．６６ｇ，３０．６ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（３７．５ｇ）中で混合し、５０℃で２時間反応させた後、Ｄ１（２．９４ｇ，１５．０ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（１２．８ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（１０）を得た。このポリアミド酸の数平均分子量は２５，９００、重量平均分子量は７９，１００であった。

＜合成例１１＞
合成例１０で得られたポリアミド酸溶液（１０）（３０．０ｇ）に、ＮＭＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（３．８５ｇ）及びピリジン（２．４０ｇ）を加え、７０℃で２時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（１１）を得た。このポリイミドのイミド化率は５９％であり、数平均分子量は２１，２００、重量平均分子量は６０，１００であった。
ポリイミド系重合体を表１に示す。

＊１：ポリアミド酸。

「ポリシロキサン系重合体の合成」
＜合成例１２＞
温度計及び還流管を備え付けた２００ｍｌの四つ口反応フラスコ中で、ＥＣＳ（２８．３ｇ）、Ｅ１（４．１０ｇ）、Ｅ３（７．４５ｇ）及びＥ５（３２．５ｇ）を混合して、アルコキシシランモノマーの溶液を調製した。この溶液に、あらかじめＥＣＳ（１４．２ｇ）、水（１０．８ｇ）、及び触媒として蓚酸（０．７０ｇ）を混合して調製しておいた溶液を、２５℃にて３０分かけて滴下し、さらに２５℃にて３０分間撹拌した。その後、オイルバスを用いて加熱して３０分間還流させた後、あらかじめ調製しておいたＥ４の含有量が９２質量％のメタノール溶液（１．２０ｇ）とＥＣＳ（０．９０ｇ）の混合溶液を加えた。さらに３０分間還流させた後、放冷してＳｉＯ_２換算濃度が１２質量％のポリシロキサン溶液（１）を得た。

＜合成例１３＞
温度計及び還流管を備え付けた２００ｍｌの四つ口反応フラスコ中で、ＥＣ（２５．４ｇ）、Ｅ１（８．２０ｇ）、Ｅ３（１９．９ｇ）及びＥ５（２０．０ｇ）を混合して、アルコキシシランモノマーの溶液を調製した。この溶液に、あらかじめＥＣ（１２．７ｇ）、水（１０．８ｇ）、及び触媒として蓚酸（１．１０ｇ）を混合して調製しておいた溶液を、２５℃にて３０分かけて滴下し、さらに２５℃にて３０分間撹拌した。その後、オイルバスを用いて加熱して３０分間還流させた後、あらかじめ調製しておいたＥ４の含有量９２質量％のメタノール溶液（１．２０ｇ）とＥＣ（０．９０ｇ）の混合溶液を加えた。さらに３０分間還流させた後、放冷してＳｉＯ_２換算濃度が１２質量％のポリシロキサン溶液（２）を得た。

＜合成例１４＞
温度計及び還流管を備え付けた２００ｍｌの四つ口反応フラスコ中で、ＥＣＳ（２９．２ｇ）、Ｅ１（４．１０ｇ）及びＥ５（３８．８ｇ）を混合して、アルコキシシランモノマーの溶液を調製した。この溶液に、あらかじめＥＣＳ（１４．６ｇ）、水（１０．８ｇ）、及び触媒として蓚酸（０．５０ｇ）を混合して調製しておいた溶液を、２５℃にて３０分かけて滴下し、さらに２５℃にて３０分間撹拌した。その後、オイルバスを用いて加熱して３０分間還流させた後、あらかじめ調製しておいたＥ４の含有量９２質量％のメタノール溶液（１．２０ｇ）とＥＣＳ（０．９０ｇ）の混合溶液を加えた。さらに３０分間還流させた後、放冷してＳｉＯ_２換算濃度が１２質量％のポリシロキサン溶液（３）を得た。

＜合成例１５＞
温度計及び還流管を備え付けた２００ｍｌの四つ口反応フラスコ中で、ＥＣ（２８．３ｇ）、Ｅ２（４．０７ｇ）、Ｅ３（７．４５ｇ）及びＥ５（３２．５ｇ）を混合して、アルコキシシランモノマーの溶液を調製した。この溶液に、あらかじめＥＣ（１４．２ｇ）、水（１０．８ｇ）、及び触媒として蓚酸（０．７０ｇ）を混合して調製しておいた溶液を、２５℃にて３０分かけて滴下し、さらに２５℃にて３０分間撹拌した。その後、オイルバスを用いて加熱して３０分間還流させた後、あらかじめ調製しておいたＥ４の含有量が９２質量％のメタノール溶液（１．２０ｇ）とＥＣ（０．９０ｇ）の混合溶液を加えた。さらに３０分間還流させた後、放冷してＳｉＯ_２換算濃度が１２質量％のポリシロキサン溶液（４）を得た。
ポリシロキサン系重合体（ポリシロキサン溶液）を表２に示す。

「液晶組成物の作製」
（液晶組成物（１）の作製）
Ｌ１（１１．５ｇ）、Ｒ１（１．７３ｇ）及びＰ１（０．１２ｇ）を混合し、それを加熱(１００℃)後、２５℃まで冷却すると液晶性を示す均一な液晶組成物（１）を得た。
（液晶組成物（２）の作製）
Ｌ１（１２．０ｇ）、Ｒ１（２．４０ｇ）及びＰ１（０．１２ｇ）を混合し、それを加熱後、２５℃まで冷却すると液晶性を示す均一な液晶組成物（２）を得た。

「液晶表示素子の作製（ガラス基板）」
後記する実施例又は比較例の液晶配向処理剤を、細孔径１μｍのメンブランフィルタで加圧濾過し、液晶表示素子の作製を行った。具体的には、この溶液を純水及びＩＰＡ（イソプロピルアルコール）で洗浄した１００×１００ｍｍのＩＴＯ電極付きガラス基板（縦：１００ｍｍ、横：１００ｍｍ、厚さ：０．７ｍｍ）のＩＴＯ面上にスピンコートし、ホットプレート上にて１００℃で２分間、熱循環型クリーンオーブンにて２１０℃で１０分間加熱処理をして、膜厚が１００ｎｍの垂直液晶配向膜付きのＩＴＯ基板を得た。得られた垂直液晶配向膜付きのＩＴＯ基板を２枚用意し、その一方の基板の垂直液晶配向膜面に、６μｍのスペーサーを塗布した。その後、その基板のスペーサーを塗布した垂直液晶配向膜面に、ＯＤＦ（Ｏｎｅ Ｄｒｏｐ Ｆｉｌｌｉｎｇ）法にて前記液晶組成物を滴下し、次いで、他方の基板の垂直液晶配向膜界面が向き合うように貼り合わせを行い、処理前の液晶表示素子を得た。
得られた処理前の液晶表示素子に、照度６０ｍＷのメタルハライドランプを用いて、３５０ｎｍ以下の波長をカットし、３６５ｎｍ換算で７Ｊ／ｃｍ^２の紫外線照射を行い、液晶表示素子を得た。液晶セルに紫外線を照射している際の照射装置内の温度は、２５℃に制御した。

「液晶表示素子の作製（プラスチック基板）」
後記する実施例又は比較例の液晶配向処理剤を、細孔径１μｍのメンブランフィルタで加圧濾過し、液晶表示素子の作製を行った。具体的には、この溶液を純水で洗浄した１５０×１５０ｍｍのＩＴＯ電極付きＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）基板（縦：１５０ｍｍ、横：１５０ｍｍ、厚さ：０．２ｍｍ）のＩＴＯ面上にバーコーターにて塗布をし、ホットプレート上にて１００℃で２分間、熱循環型クリーンオーブンにて１５０℃で１分間加熱処理をして、膜厚が１００ｎｍの垂直液晶配向膜付きのＩＴＯ基板を得た。得られた垂直液晶配向膜付きのＩＴＯ基板を２枚用意し、その一方の基板の垂直液晶配向膜面に、６μｍのスペーサーを塗布した。その後、その基板のスペーサーを塗布した垂直液晶配向膜面に、ＯＤＦ法にて前記液晶組成物を滴下し、次いで、他方の基板の垂直液晶配向膜界面が向き合うように貼り合わせを行い、処理前の液晶表示素子を得た。
得られた処理前の液晶表示素子に、照度６０ｍＷのメタルハライドランプを用いて、３５０ｎｍ以下の波長をカットし、３６５ｎｍ換算で７Ｊ／ｃｍ^２の紫外線照射を行い、液晶表示素子を得た。液晶セルに紫外線を照射している際の照射装置内の温度は、２５℃に制御した。

「液晶配向性の評価（ガラス基板）」
上記手法で得られた液晶表示素子（ガラス基板）を用いて、液晶配向性の評価を行った。液晶配向性は、本素子を偏光顕微鏡（ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００ＷＰＯＬ）（ニコン社製）で観察し、液晶が垂直に配向しているかどうかを確認した。具体的には、液晶が垂直に配向しているものを、本評価に優れるとした（表８〜表１２中に、良好と示した）。
上記液晶配向性の評価が終了した液晶表示素子（ガラス基板）を、温度１００℃の高温槽内に２４０時間保管した。その後、上記と同様の条件で、液晶配向性の評価を行った。具体的には、液晶配向性に乱れが見られず、均一に液晶が配向しているものを、本評価に優れるとした（表８〜表１２中の良好表示）。

「液晶配向性の評価（プラスチック基板」
上記手法で得られた液晶表示素子（プラスチック基板）を用いて、液晶配向性の評価を行った。液晶配向性は、本素子を偏光顕微鏡（ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００ＷＰＯＬ）（ニコン社製）で観察し、液晶が垂直に配向しているかどうかを確認した。具体的には、液晶が垂直に配向しているものを、本評価に優れるとした（表８〜表１１中の良好表示）。
次いで、上記液晶配向性の評価が終了した液晶表示素子（プラスチック基板）を、温度１００℃の高温槽内に２４０時間保管した。その後、上記と同様の条件で、液晶配向性の評価を行った。具体的には、液晶配向性に乱れが見られず、均一に液晶が配向しているものを、本評価に優れるとした（表８〜表１１中の良好表示）。

「光学特性（透明性と散乱特性）の評価（ガラス基板）」
上記手法で得られた液晶表示素子（ガラス基板）を用いて、光学特性（透明性と散乱特性）の評価を行った。
電圧無印加時の透明性は、電圧無印加状態での液晶表示素子（ガラス基板）の透過率を測定することで行った。具体的には、測定装置にＵＶ−３６００（島津製作所社製）を用い、温度２５℃、リファレンスに上記ＩＴＯ電極付きガラス基板、スキャン波長を３００〜８００ｎｍの条件で透過率を測定した。評価は、４５０ｎｍの波長の透過率で行い、透過率が高いものほど、本評価に優れるとした（表１３〜表１７中に、透過率の値を示した）。
電圧印加時の散乱特性は、液晶表示素子（ガラス基板）に、交流駆動で４０Ｖを印加し、液晶の配向状態を目視観察することで行った。具体的には、本素子が白濁したもの、すなわち、散乱特性が得られたものを、本評価に優れるとした（表１３〜表１７中の良好表示）。

「光学特性（透明性と散乱特性）の評価（プラスチック基板）」
上記手法で得られた液晶表示素子（プラスチック基板）を用いて、光学特性（透明性と散乱特性）の評価を行った。
電圧無印加時の透明性は、電圧無印加状態での液晶表示素子（プラスチック基板）の透過率を測定することで行った。具体的には、測定装置にＵＶ−３６００（島津製作所社製）を用い、温度２５℃、リファレンスに上記ＩＴＯ電極付きＰＥＴ基板、スキャン波長を３００〜８００ｎｍの条件で透過率を測定した。評価は、４５０ｎｍの波長の透過率で行い、透過率が高いものほど、本評価に優れるとした（表１３〜表１６中に、透過率の値を示した）。
電圧印加時の散乱特性は、液晶表示素子（プラスチック基板）に、交流駆動で４０Ｖを印加し、液晶の配向状態を目視観察することで行った。具体的には、本素子が白濁したもの、すなわち、散乱特性が得られたものを、本評価に優れるとした（表１３〜表１６中の良好表示）。

「密着性（液晶層と垂直液晶配向膜との密着性）の評価（ガラス基板）」
上記光学特性の評価を行った液晶表示素子（ガラス基板）を用いて、液晶層と垂直液晶配向膜との密着性の評価を行った。具体的には、液晶表示素子（ガラス基板）を、温度８０℃、湿度９０％ＲＨの高温高湿槽内に４８時間保管し、本素子内の気泡の有無及び素子の剥離を確認した。その際、本素子内に気泡が見られずに素子の剥離（液晶層と垂直液晶配向膜とが剥がれている状態）が起こっていないものを、本評価に優れるとした（表１３〜表１７中の良好表示）。

「密着性（液晶層と垂直液晶配向膜との密着性）の評価（プラスチック基板）」
上記光学特性の評価を行った液晶表示素子（プラスチック基板）を用いて、液晶層と垂直液晶配向膜との密着性の評価を行った。具体的には、液晶表示素子（プラスチック基板）を、温度８０℃、湿度９０％ＲＨの高温高湿槽内に４８時間保管し、本素子内の気泡の有無及び素子の剥離を確認した。その際、本素子内に気泡が見られずに素子の剥離（液晶層と垂直液晶配向膜とが剥がれている状態）が起こっていないものを、本評価に優れるとした（表１３〜表１６中の良好表示）。

＜実施例１＞
合成例１で得られた樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（１）（１０．５ｇ）に、ＮＥＰ（１６．８ｇ）、ＢＣＳ（１６．５ｇ）、Ｓ１（０．２６３ｇ）、Ｍ２（０．２６３ｇ）及びＫ１（０．１３２ｇ）を加え、２５℃で５時間攪拌して、液晶配向処理剤（１）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（１）と液晶組成物（１）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜実施例２＞
合成例２で得られた樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（２）（１０．０ｇ）に、ＮＭＰ（１６．０ｇ）、ＢＣＳ（１５．７ｇ）及びＳ２（０．１２５ｇ）を加え、２５℃で５時間攪拌して、液晶配向処理剤（２）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（２）と液晶組成物（１）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜実施例３＞
実施例２で得られた液晶配向処理剤（２）と液晶組成物（２）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜実施例４＞
合成例３で得られたポリイミド粉末（３）（１．７０ｇ）に、ＮＭＰ（１６．０ｇ）及びＢＣＳ（１０．７ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、Ｓ２（０．０８５ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌して、液晶配向処理剤（３）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（３）と液晶組成物（１）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜実施例５＞
実施例４で得られた液晶配向処理剤（３）と液晶組成物（２）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜実施例６＞
合成例３で得られたポリイミド粉末（３）（１．７０ｇ）に、ＮＥＰ（１６．２ｇ）及びＰＢ（１０．８ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、Ｓ２（０．０８５ｇ）、Ｍ２（０．５１ｇ）及びＫ１（０．１７ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌して、液晶配向処理剤（４）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（４）と液晶組成物（１）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜実施例７＞
合成例３で得られたポリイミド粉末（３）（１．８０ｇ）に、γ−ＢＬ（４．２０ｇ）及びＰＧＭＥ（２４．０ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、Ｓ２（０．０９ｇ）、Ｍ２（０．３６ｇ）及びＫ１（０．１８ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌して、液晶配向処理剤（５）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（５）と液晶組成物（１）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板、プラスチック基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板、プラスチック基板）、光学特性の評価（ガラス基板、プラスチック基板）、及び密着性の評価（ガラス基板、プラスチック基板）を行った。

＜実施例８＞
合成例４で得られたポリイミド粉末（４）（１．７５ｇ）に、ＮＥＰ（１５．１ｇ）、ＢＣＳ（２．７０ｇ）及びＰＢ（９．６０ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、Ｓ１（０．０８８ｇ）、Ｍ２（０．３５ｇ）及びＫ１（０．０８８ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌して、液晶配向処理剤（６）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（６）と液晶組成物（１）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜実施例９＞
実施例８で得られた液晶配向処理剤（６）と液晶組成物（２）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜実施例１０＞
合成例４で得られたポリイミド粉末（４）（１．８０ｇ）に、γ−ＢＬ（４．２０ｇ）、ＰＧＭＥ（２１．２ｇ）及びＥＣＳ（２．８０ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、Ｓ２（０．１２６ｇ）、Ｍ２（０．２７ｇ）及びＫ１（０．１８ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌して、液晶配向処理剤（７）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（７）と液晶組成物（１）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板、プラスチック基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板、プラスチック基板）、光学特性の評価（ガラス基板、プラスチック基板）、及び密着性の評価（ガラス基板、プラスチック基板）を行った。

＜実施例１１＞
合成例４で得られたポリイミド粉末（４）（１．６５ｇ）に、γ−ＢＬ（１．３０ｇ）、ＰＧＭＥ（２２．０ｇ）及びＥＣ（２．６０ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、Ｓ２（０．０８３ｇ）及びＭ２（０．３３ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌して、液晶配向処理剤（８）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（８）と液晶組成物（１）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜実施例１２＞
合成例５で得られたポリイミド粉末（５）（１．８０ｇ）に、γ−ＢＬ（２．８０ｇ）、ＰＧＭＥ（２４．０ｇ）及びＥＣ（２．６０ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、Ｓ２（０．２７ｇ）及びＫ１（０．２７ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌して、液晶配向処理剤（９）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（９）と液晶組成物（２）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板、プラスチック基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板、プラスチック基板）、光学特性の評価（ガラス基板、プラスチック基板）、及び密着性の評価（ガラス基板、プラスチック基板）を行った。

＜実施例１３＞
合成例５で得られたポリイミド粉末（５）（１．８０ｇ）に、ＮＭＰ（１６．９ｇ）、ＢＣＳ（５．６０ｇ）及びＰＢ（５．６０ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、Ｓ２（０．０１８ｇ）及びＭ３（０．０９ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌して、液晶配向処理剤（１０）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（１０）と液晶組成物（１）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜実施例１４＞
合成例５で得られたポリイミド粉末（５）（１．８０ｇ）に、γ−ＢＬ（２．８０ｇ）及びＰＧＭＥ（２５．４ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、Ｓ１（０．０９ｇ）、Ｍ２（０．５４ｇ）及びＫ１（０．０９ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌して、液晶配向処理剤（１１）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（１１）と液晶組成物（１）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜実施例１５＞
合成例５で得られたポリイミド粉末（５）（１．７５ｇ）に、ＮＭＰ（１６．５ｇ）及びＰＢ（１１．０ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、Ｓ１（０．２６３ｇ）及びＭ１（０．７０ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌して、液晶配向処理剤（１２）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（１２）と液晶組成物（２）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜実施例１６＞
合成例６で得られたポリイミド粉末（６）（１．８０ｇ）に、γ−ＢＬ（５．６０ｇ）、ＰＧＭＥ（１９．７ｇ）及びＥＣＳ（２．８０ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、Ｓ１（０．１２６ｇ）、Ｍ２（０．５４ｇ）及びＫ１（０．０９ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌して、液晶配向処理剤（１３）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（１３）と液晶組成物（２）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板、プラスチック基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板、プラスチック基板）、光学特性の評価（ガラス基板、プラスチック基板）、及び密着性の評価（ガラス基板、プラスチック基板）を行った。

＜実施例１７＞
合成例６で得られたポリイミド粉末（６）（１．８０ｇ）に、γ−ＢＬ（２．８０ｇ）、ＰＧＭＥ（２２．６ｇ）及びＥＣ（２．８０ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、Ｓ２（０．０９ｇ）、Ｍ２（０．２７ｇ）及びＫ１（０．０９ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌して、液晶配向処理剤（１４）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（１４）と液晶組成物（１）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板、プラスチック基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板、プラスチック基板）、光学特性の評価（ガラス基板、プラスチック基板）、及び密着性の評価（ガラス基板、プラスチック基板）を行った。

＜実施例１８＞
合成例６で得られたポリイミド粉末（６）（１．６５ｇ）に、ＮＥＰ（１６．８ｇ）及びＰＢ（９．００ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、Ｓ２（０．０１７ｇ）及びＭ３（０．２４８ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌して、液晶配向処理剤（１５）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（１５）と液晶組成物（１）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜実施例１９＞
合成例７で得られたポリイミド粉末（７）（１．７０ｇ）に、γ−ＢＬ（６．７０ｇ）及びＰＧＭＥ（２０．０ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、Ｓ１（０．３４ｇ）及びＭ２（０．２５５ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌して、液晶配向処理剤（１６）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（１６）と液晶組成物（１）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜実施例２０＞
合成例７で得られたポリイミド粉末（７）（１．７０ｇ）に、γ−ＢＬ（６．７０ｇ）及びＰＧＭＥ（２０．０ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、Ｓ２（０．０５１ｇ）、Ｍ１（０．４２５ｇ）及びＫ１（０．０８５ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌して、液晶配向処理剤（１７）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（１７）と液晶組成物（２）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜実施例２１＞
合成例８で得られたポリイミド粉末（８）（１．７０ｇ）に、ＮＥＰ（１６．０ｇ）及びＰＢ（１０．７ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、Ｓ２（０．０８５ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌して、液晶配向処理剤（１８）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（１８）と液晶組成物（１）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜実施例２２＞
合成例８で得られたポリイミド粉末（８）（１．８０ｇ）に、γ−ＢＬ（２．８０ｇ）、ＰＧＭＥ（２２．６ｇ）及びＥＣＳ（２．８０ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、Ｓ２（０．１２６ｇ），Ｍ２（０．５４ｇ）及びＫ１（０．１８ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌して、液晶配向処理剤（１９）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（１９）と液晶組成物（１）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板、プラスチック基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板、プラスチック基板）、光学特性の評価（ガラス基板、プラスチック基板）、及び密着性の評価（ガラス基板、プラスチック基板）を行った。

＜実施例２３＞
合成例８で得られたポリイミド粉末（８）（１．７５ｇ）に、ＮＥＰ（１６．５ｇ）、ＢＣＳ（５．５０ｇ）及びＰＢ（５．５０ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、Ｓ１（０．０８８ｇ），Ｍ２（０．３５ｇ）及びＫ１（０．０８８ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌して、液晶配向処理剤（２０）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（２０）と液晶組成物（１）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜実施例２４＞
合成例９で得られたポリイミド粉末（９）（１．７０ｇ）に、ＮＥＰ（１４．６ｇ）及びＢＣＳ（１２．０ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、Ｓ２（０．１７ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌して、液晶配向処理剤（２１）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（２１）と液晶組成物（１）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜実施例２５＞
合成例９で得られたポリイミド粉末（９）（１．７０ｇ）に、γ−ＢＬ（１．３０ｇ）、ＰＧＭＥ（２４．０ｇ）及びＥＣ（１．３０ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に、Ｓ１（０．０８５ｇ）、Ｍ２（０．５１ｇ）及びＫ１（０．１７ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌して、液晶配向処理剤（２２）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（２２）と液晶組成物（１）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜実施例２６＞
合成例１２で得られたポリシロキサン溶液（１）（１５．０ｇ）に、ＥＣＳ（１０．８ｇ）、ＢＣＳ（４．２０ｇ）及びＳ２（０．０９ｇ）を加え、２５℃で５時間攪拌して、液晶配向処理剤（２３）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（２３）と液晶組成物（１）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板、プラスチック基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板、プラスチック基板）、光学特性の評価（ガラス基板、プラスチック基板）、及び密着性の評価（ガラス基板、プラスチック基板）を行った。

＜実施例２７＞
実施例２６で得られた液晶配向処理剤（２３）と液晶組成物（２）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜実施例２８＞
合成例１３で得られたポリシロキサン溶液（２）（１５．０ｇ）に、ＥＣ（３．７０ｇ）、ＰＢ（１１．３ｇ）及びＳ２（０．０９ｇ）を加え、２５℃で５時間攪拌して、液晶配向処理剤（２４）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（２４）と液晶組成物（１）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜実施例２９＞
実施例２８で得られた液晶配向処理剤（２４）と液晶組成物（２）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜実施例３０＞
合成例１４で得られたポリシロキサン溶液（３）（１６．０ｇ）に、ＥＣＳ（１３．０ｇ）、ＰＢ（３．００ｇ）、Ｓ２（０．１９２ｇ）及びＭ２（０．３８４ｇ）を加え、２５℃で５時間攪拌して、液晶配向処理剤（２５）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（２５）と液晶組成物（２）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板、プラスチック基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板、プラスチック基板）、光学特性の評価（ガラス基板、プラスチック基板）、及び密着性の評価（ガラス基板、プラスチック基板）を行った。

＜実施例３１＞
合成例１４で得られたポリシロキサン溶液（３）（１５．０ｇ）に、ＥＣＳ（６．５０ｇ）、ＰＧＭＥ（２．８０ｇ）、ＢＣＳ（５．６０ｇ）、Ｓ１（０．０９ｇ）及びＭ２（０．５４ｇ）を加え、２５℃で５時間攪拌して、液晶配向処理剤（２６）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（２６）と液晶組成物（１）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜実施例３２＞
合成例１５で得られたポリシロキサン溶液（４）（１５．０ｇ）に、ＥＣ（９．４０ｇ）、ＢＣＳ（５．６０ｇ）、Ｓ１（０．０１８ｇ）及びＭ２（０．１８ｇ）を加え、２５℃で５時間攪拌して、液晶配向処理剤（２７）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（２７）と液晶組成物（１）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜比較例１＞
合成例１０で得られた樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（１０）（１０．５ｇ）に、ＮＭＰ（１６．８ｇ）及びＢＣＳ（１６．５ｇ）を加え、２５℃で５時間攪拌して、液晶配向処理剤（２８）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（２８）と液晶組成物（１）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜比較例２＞
合成例１１で得られたポリイミド粉末（１１）（１．５０ｇ）に、ＮＭＰ（１４．１ｇ）及びＢＣＳ（９．４０ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して、液晶配向処理剤（２９）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（２９）と液晶組成物（１）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜比較例３＞
合成例２で得られた樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（２）（１０．０ｇ）に、ＮＭＰ（１６．０ｇ）及びＢＣＳ（１５．７ｇ）を加え、２５℃で５時間攪拌して、液晶配向処理剤（３０）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（３０）と液晶組成物（１）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜比較例４＞
比較例３で得られた液晶配向処理剤（３０）と液晶組成物（２）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜比較例５＞
合成例３で得られたポリイミド粉末（３）（１．５０ｇ）に、ＮＭＰ（１４．１ｇ）及びＢＣＳ（９．４０ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して、液晶配向処理剤（３１）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（３１）と液晶組成物（１）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜比較例６＞
比較例５で得られた液晶配向処理剤（３１）と液晶組成物（２）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜比較例７＞
合成例１３で得られたポリシロキサン溶液（２）（１５．０ｇ）に、ＥＣ（９．４０ｇ）及びＰＢ（１１．３ｇ）を加え、２５℃で５時間攪拌して、液晶配向処理剤（３２）を得た。この液晶配向処理剤に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
液晶配向処理剤（３２）と液晶組成物（１）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＜比較例８＞
比較例７で得られた液晶配向処理剤（３２）と液晶組成物（２）を用いて、液晶表示素子の作製（ガラス基板）、液晶配向性の評価（ガラス基板）、光学特性の評価（ガラス基板）及び密着性の評価（ガラス基板）を行った。

＊１：液晶が垂直に配向していなかった。
＊２：液晶配向性に乱れが見られた。
＊３：液晶が垂直に配向していないため、測定できなかった。
＊４：素子が、液晶層と垂直液晶配向膜との間で剥離した。
＊５：素子内に、気泡が見られた。

上記の結果からわかるように、実施例の液晶表示素子（リバース型素子）は、比較例の液晶表示素子に比べて、液晶層と垂直液晶配向膜との密着性が高く、さらに、液晶の垂直配向性が高く、良好な光学特性、すなわち、電圧無印加時の透明性と電圧印加時の散乱特性が良好であった。
一方で、比較例の液晶表示素子は、液晶層と垂直配向膜との密着性が悪く、高温槽に保管した後、液晶配向性に乱れが発生したり、高温高湿槽に保管した後に、素子内に気泡が見られたり、あるいは、液晶層と垂直配向膜との間で剥離が起こった。
具体的には、同一の特定重合体を用い、（Ｂ）成分であるラジカル発生剤を含んだ実施例と含まない比較例、すなわち、実施例２と比較例３、実施例３と比較例４、実施例４と比較例５、実施例５と比較例６、実施例２８と比較例７、及び実施例２９と比較例８との比較では、明確な差が認められた。

本発明の液晶表示素子は、液晶層と垂直液晶配向膜との密着性が高く、さらには、液晶の垂直配向性も高く、良好な光学特性、すなわち、電圧無印加時の透明性と電圧印加時の散乱特性が良好であり、リバース型素子として、好適に用いることができる。
特に、表示を目的とする液晶ディスプレイ、光の透過と遮断を制御する調光窓や光シャッター素子等として有用であり、素子をフィルム基板などのプラスチック基板で作製した場合は、支持体であるガラスや窓ガラスに張って使用することも可能である。
なお、２０１３年４月１６日に出願された日本特許出願２０１３−０８５９１８号の明細書、特許請求の範囲、及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims (15)

1. 電極を備えた一対の基板の間に液晶層を有し、前記一対の基板の間に活性エネルギー線及び熱の少なくとも一方により重合する重合性化合物を含む液晶組成物を配置し、さらに、基板の少なくとも一方が液晶を垂直に配向させる液晶配向膜を有し、液晶組成物の一部又は全体が液晶性を示す状態で前記液晶組成物の硬化を行い、液晶と重合性化合物の硬化物複合体を形成させてなり、かつ電圧無印加時に透明状態となり、電圧印加時に散乱状態となる透過散乱型の液晶表示素子であり、前記液晶配向膜が、下記の（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を含む液晶配向処理剤から得られる液晶配向膜であることを特徴とする液晶表示素子。
   （Ａ）成分：下記の式［１−１］及び式［１−２］で示される構造からなる群から選ばれる少なくとも１種の構造を有する重合体
   （Ｂ）成分：光ラジカル発生剤、光酸発生剤及び光塩基発生剤からなる群から選ばれる少なくとも１つの発生剤
   

   

   （Ｙ^１は単結合、−（ＣＨ_２）_ａ−（ａは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−及び−ＯＣＯ−からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合基を示す。Ｙ^２は単結合又は−（ＣＨ_２）_ｂ−（ｂは１〜１５の整数である）を示す。Ｙ^３は単結合、−（ＣＨ_２）_ｃ−（ｃは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−及び−ＯＣＯ−からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合基を示す。Ｙ^４はベンゼン環、シクロヘキサン環及び複素環からなる群から選ばれる少なくとも１種の２価の環状基、又はステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の２価の有機基を示し、前記環状基上の任意の水素原子は、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシル基又はフッ素原子で置換されていてもよい。Ｙ^５はベンゼン環、シクロヘキサン環及び複素環からなる群から選ばれる２価の環状基を示し、これらの環状基上の任意の水素原子は、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシル基又はフッ素原子で置換されていてもよい。ｎは０〜４の整数を示す。Ｙ^６は炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル基及び炭素数１〜１８のフッ素含有アルコキシル基からなる群から選ばれる少なくとも１種を示す。）
   

   

   （Ｙ^７は単結合、−Ｏ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−、−Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ−、−ＣＯＯ−及び−ＯＣＯ−からなる群から選ばれる少なくとも１種の結合基を示す。Ｙ^８は炭素数８〜２２のアルキル基又は炭素数６〜１８のフッ素含有アルキル基を示す。）
2. 前記（Ａ）成分の重合体が、アクリルポリマー、メタクリルポリマー、ノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル、セルロース及びポリシロキサンからなる群から選ばれる少なくとも１つである請求項１に記載の液晶表示素子。
3. 前記重合体が、前記式［１−１］の構造の側鎖を有するジアミン化合物及び式［１−２］の構造の側鎖を有するジアミン化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種のジアミン化合物を原料の一部に用いて得られるポリイミド前駆体及びポリイミドからなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項２に記載の液晶表示素子。
4. 前記ジアミン化合物が、下記の式［１ａ］で示されるジアミン化合物である請求項３に記載の液晶表示素子。
   

   

   （Ｙは前記式［１−１］及び式［１−２］で示される構造からなる群から選ばれる少なくとも１種を示す。ｎは１〜４の整数を示す。）
5. 前記（Ａ）成分の重合体が、下記の式［３］で示されるテトラカルボン酸成分を原料の一部に用いて得られるポリイミド前駆体及びポリイミドからなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項２〜４のいずれか一項に記載の液晶表示素子。
   

   

   （Ｚ^１は下記の式［３ａ］〜式［３ｊ］から選ばれる構造を示す。）
   

   

   （Ｚ^２〜Ｚ^５は水素原子、メチル基、塩素原子又はベンゼン環を示し、それぞれ同じであっても異なってもよい。Ｚ^６及びＺ^７は水素原子又はメチル基を示し、それぞれ同じであっても異なってもよい。）
6. 前記重合体がポリイミドである請求項３〜５のいずれか一項に記載の液晶表示素子。
7. 前記（Ａ）成分の重合体が、下記の式［Ａ１］で示されるアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサン、又は、式［Ａ１］と、下記の式［Ａ２］及び式［Ａ３］で示されるアルコキシシランからなる群から選ばれる少なくとも１種のアルコキシシランとを重縮合させて得られるポリシロキサンである請求項２に記載の液晶表示素子。
   

   

   （Ａ^１は前記式［１−１］及び式［１−２］で示される構造からなる群から選ばれる少なくとも１種を示す。Ａ^２はそれぞれ水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を示す。Ａ^３はそれぞれ炭素数１〜５のアルキル基を示す。ｍは１又は２の整数を示す。ｎは０〜２の整数を示す。ｐは０〜３の整数を示す。ただし、ｍ＋ｎ＋ｐは４である。）
   

   

   （Ｂ^１はそれぞれビニル基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、イソシアネート基、メタクリル基、アクリル基、ウレイド基及びシンナモイル基からなる群から選ばれる少なくとも１種を有する炭素数２〜１２の有機基を示す。Ｂ^２はそれぞれ水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を示す。Ｂ^３はそれぞれ炭素数１〜５のアルキル基を示す。ｍは１又は２の整数を示す。ｎは０〜２の整数を示す。ｐは０〜３の整数を示す。ただし、ｍ＋ｎ＋ｐは４である。）
   

   

   （Ｄ^１はそれぞれ水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を示す。Ｄ^２は炭素数１〜５のアルキル基を示す。ｎは０〜３の整数を示す。）
8. 前記（Ｂ）成分の発生剤が、光ラジカル発生剤である請求項１〜７のいずれか一項に記載の液晶表示素子。
9. 前記液晶配向処理剤中に、１−ヘキサノール、シクロヘキサノール、１，２−エタンジオール、１，２−プロパンジオール、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、下記の式［Ｄ１］、式［Ｄ２］及び式［Ｄ３］で示される溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１つの溶媒を含有する請求項１〜８のいずれか一項に記載の液晶表示素子。
   

   

   （Ｄ^１は炭素数１〜３のアルキル基を示す。Ｄ^２は炭素数１〜３のアルキル基を示す。Ｄ^３は炭素数１〜４のアルキル基を示す。）
10. 前記液晶配向処理剤中に、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン及びγ−ブチロラクトンからなる群から選ばれる少なくとも１つの溶媒を含有する請求項１〜９のいずれか一項に記載の液晶表示素子。
11. 前記液晶配向処理剤に、下記の式［Ｂ１］〜式［Ｂ７］で示される構造を有する化合物からなる群から選ばれる少なくとも１つの化合物を含有する請求項１〜１０のいずれか一項に記載の液晶表示素子。
    

    

    （Ｗ^１は水素原子又はベンゼン環を示す。Ｗ^２はベンゼン環、シクロへキサン環及び複素環よりなる群から選ばれる２価の環状基を示す。Ｗ^３は炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル基及び炭素数１〜１８のフッ素含有アルコキシル基からなる群から選ばれる少なくとも１種を示す。）
12. 前記液晶表示素子の基板が、ガラス基板又はプラスチック基板である請求項１〜１１のいずれか一項に記載の液晶表示素子。
13. 請求項１〜１２のいずれか一項に記載の液晶表示素子に用いる液晶配向膜。
14. 膜厚が５〜３００ｎｍである請求項１３に記載の液晶配向膜。
15. 請求項１３又は１４に記載の液晶配向膜を形成するための液晶配向処理剤。