JP6394121B2 - エステル化合物ならびにそれを含む潤滑油および潤滑油基油 - Google Patents
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Description
これらの背景をもとに、本発明では、様々なヒンダードカルボン酸・カルボン酸エステルと温和な条件化で反応し、粘度指数・酸化安定性・色数に優れるヒンダードポリオールとそのエステルを提供するものである。
一般式(1)で示されるエステル化合物。
[2]
式(1)中、R1とR2がそれぞれ独立に、炭素数4〜15の2級または3級アルキル基である[1]記載のエステル化合物。
[3]
式(1)中R1とR2が等しく、炭素数4〜10のアルキル基である[1]または[2]記載のエステル化合物。
[4]
式(1)中R1とR2が等しく、炭素数4〜10の2級アルキル基または3級アルキル基である[1]乃至[3]のいずれか1つに記載のエステル化合物。
[5]
[1]乃至[4]のいずれか1つに記載のエステル化合物を含む潤滑油。
[6]
[1]1乃至[4]のいずれか一つに記載のエステル化合物を含む潤滑油基油。
[7]
一般式(2)で示されるジオールと、一般式(3)および(4)のカルボン酸との脱水縮合反応により、一般式(1)で示されるエステル化合物を得るエステル化合物の製造方法。
R2COOH (4)
ただし、一般式(2)中で、R3、R4はそれぞれが独立に炭素数1〜6の直鎖アルキル基および分岐アルキル基から選ばれ、一般式(3)および(4)式中でR1、R2はそれぞれが独立に炭素数1〜20の直鎖飽和アルキル基、分岐飽和アルキル基、直鎖不飽和アルキル基および分岐不飽和アルキル基から選ばれる。
[8]
脱水縮合反応での触媒が、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、硫酸、スルホン酸基を含有する固体酸触媒、塩酸、リン酸、チタニウムテトラメトキシド、チタニウムテトラエトキシド、チタニウムテトライソプロポキシド、チタニウムテトラブトキシド、ジオクチルスズオキシドおよびジブチルスズオキシドから選ばれる少なくとも一つである[7]記載のエステル化合物の製造方法
[9]
一般式(2)で示されるジオールと、一般式(5)および(6)のカルボン酸エステルとのエステル交換反応により、一般式(1)で示されるエステル化合物を得るエステル化合物の製造方法
R2COOR6 (6)
一般式(2)中で、R3、R4はそれぞれが独立に炭素数1〜6の直鎖アルキル基および分岐アルキル基から選ばれ、一般式(5)および(6)中でR1、R2はそれぞれが独立に炭素数1〜20の直鎖飽和アルキル基、分岐飽和アルキル基、直鎖不飽和アルキル基および分岐不飽和アルキル基から選ばれ、R5およびR6はそれぞれ独立に炭素数1〜4の飽和直鎖または飽和分岐アルキル基をあらわす。
[10]
エステル交換反応での触媒が硫酸、p−トルエンスルホン酸、チタン酸エステル、アセチルアセトン亜鉛、ジブチルスズオキシド、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよびナトリウムメトキシドから選ばれる少なくとも1つである[9]記載のエステル化合物の製造方法。
[11]
式(1)中R1とR2がそれぞれ独立に、炭素数4〜15の2級または3級アルキル基である[7]または[9]記載のエステル化合物の製造方法
[12]
式(1)中R1とR2が等しく、炭素数4〜15の2級アルキル基または3級アルキル基である[7]または[9]記載のエステル化合物の製造方法。
[13]
式(1)中R1とR2が等しく、炭素数4〜10の2級アルキル基または3級アルキル基である[7]または[9]記載のエステル化合物の製造方法。
R3、R4はそれぞれが独立に炭素数1〜6の直鎖アルキル基および分岐アルキル基から選ばれる。
また、一般式(1)中R1とR2が等しく、炭素数4〜10のアルキル基であるとより好ましい。
さらに、一般式(1)中R1とR2が等しく、炭素数4〜10の2級アルキル基または3級アルキル基であると一層好ましい。
各触媒を例示すると、アルカンスルホン酸としてはメタンスルホン酸およびトリフルオロメタンスルホン酸が上げられ、アリールスルホン酸としてはp−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸およびドデシルベンゼンスルホン酸が上げられ、無機酸としては、硫酸、塩酸およびリン酸が上げられ、ルイス酸としてはチタニウムテトラメトキシド、チタニウムテトラエトキシド、チタニウムテトライソプロポキシド、チタニウムテトラブトキシド、ジオクチルスズオキシドおよびジブチルスズオキシドなどが例として上げられる。また、触媒は上記から選ばれる2種以上を混合して用いることもできる。
特にp−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸などのPKa2以下であるスルホン酸触媒の場合に反応加速が顕著である。
生成物の同定は1H−NMRスペクトルによって行った。測定には日本電子社製JNM−ECA500を使用し、溶媒はCDCl3とし、内部標準にテトラメチルシランを用いた。
2−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−2−メチルプロパン−1−オールの合成
2,2−ジメチル−3−ヒドロキシ−プロピオンアルデヒド(ヒドロキシピバルアルデヒド、三菱瓦斯化学株式会社製、純度99.8%)131.3gと、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール136.0gと、ベンゼン705gと、粒状ナフィオン(商品名「NR−50」、シグマアルドリッチ社製)3.0gと、を2リットルの丸底フラスコに収容し、常圧下で生成する水をベンゼンと共沸させながらディーン・スターク・トラップを用いて系外へ抜き出して、水の留出が止まるまで反応させた。これを濾過したのちに濃縮及び冷却することにより再結晶させて、2−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−2−メチルプロパン−1−オールの結晶を得た。
金属成分の担体として用いた酸化ジルコニウムを下記の方法で調製した。
酸化ジルコニウム(ZrO2)換算で25質量%の濃度のオキシ硝酸ジルコニウム水溶液505gに、撹拌しながら28%アンモニア水15.5gを滴下することにより白色沈殿物を得た。これを濾過し、イオン交換水で洗浄した後に、110℃、10時間乾燥して含水酸化ジルコニウムを得た。これを磁製坩堝に収容し、電気炉を用いて空気中で400℃、3時間の焼成処理を行った後、メノウ乳鉢で粉砕して粉末状酸化ジルコニウム(以下、「担体A」と表記する。)を得た。担体AのBET比表面積(窒素吸着法により測定。)は102.7m2/gであった。
パラジウムを特定金属成分とする触媒を下記の方法で調製した。
50gの担体Aに0.66質量%塩化パラジウム−0.44質量%塩化ナトリウム水溶液を添加し、担体上に金属成分を吸着させた。そこにホルムアルデヒド−水酸化ナトリウム水溶液を注加して吸着した金属成分を瞬時に還元した。その後、イオン交換水により触媒を洗浄し、乾燥することにより1.0質量%パラジウム担持酸化ジルコニウム触媒(以下、「触媒A」と表記する。)を調製した。
4−オキサ−2,2,6,6−テトラメチルヘプタン−1,7−ジオールの合成
500mLのSUS製反応器内に、触媒A3.0g、2−(5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル)−2−メチルプロパン−1−オール60.0g、及び1,4−ジオキサン240gを入れ、反応器内を窒素ガスで置換した。その後、反応器内に水素ガスを8.5MPa充填し、反応温度である230℃へ昇温して水素圧を13MPaに保ちながら5時間反応させた。その後に冷却して反応器の内容物をろ過して触媒を分離した後に、再結晶精製をすることにより目的物を得た。
ジピバリン酸 4−オキサ−2,2,6,6−テトラメチルヘプタン−1,7−ジイルの合成の合成
4−オキサ−2,2,6,6−テトラメチルヘプタン−1,7−ジオール(20.09g,106mmol)とピバリン酸(24.78g,243mmol,2.3eq)のm−キシレン(20.27g)溶液に、室温でp−トルエンスルホン酸1水和物(598.9mg,3.14mmol,3mol%)を加えた。その後窒素下で内温が150−160℃になるように加熱し、m−キシレンとの共沸により水を系内より除去した。10時間加熱後冷却し、5%水酸化カリウム水溶液で洗浄後、洗浄液が中性になるまで水で洗浄した。残ったカルボン酸を減圧下で留去し、36.3g、収率96%で目的物を得た。APHAは33であった。また、反応の経時変化をGCで追跡した。
δ(ppm):0.92(s,12H,4XCH 3 ),1.21(s,18H,2XC(CH 3 ) 3 ),3.15(s,4H,2XOCH 2 ),3.86(s,4H,2XCH 2 OCO)
ビス(2−エチルへキサン酸) 4−オキサ−2,2,6,6−テトラメチルヘプタン−1,7−ジイルの合成
4−オキサ−2,2,6,6−テトラメチルヘプタン−1,7−ジオール(20.00g,105mmol)と2−エチルヘキサン酸(31.86g,219mmol,2.1eq)のm−キシレン(20.48g)溶液に、室温でp−トルエンスルホン酸1水和物(604.8mg,3.18mmol,3mol%)を加えた。その後窒素下で内温が160−170℃になるように加熱し、m−キシレンとの共沸により水を系内より除去した。7.5時間加熱後冷却し、5%水酸化カリウムで洗浄後、洗浄液が中性になるまで水で洗浄した。酸を減圧下で留去し、43.7g、収率94%で目的物を得た。また、反応の経時変化をGCで追跡した。
δ(ppm):0.86−0.91(m,12H,2XCH 3 CH2+2XCH 3 CH2),0.92(s,12H,4XCH 3 ),1.20−1.35(m,8H,2XCH3CH 2 CH 2 ),1.42−1.66(m,8H,2XCOCH(CH 2 CH3)CH 2 CH2),2.23−2.31(m,2H,2XOCOCH),3.14(s,4H,2XOCH 2 C),3.87(s,4H,2XCH 2 OCO)
ビス(3,5,5−トリメチルへキサン酸) 4−オキサ−2,2,6,6−テトラメチルヘプタン−1,7−ジイルの合成
4−オキサ−2,2,6,6−テトラメチルヘプタン−1,7−ジオール(20.0g,105mmol)と3,5,5−トリメチルヘキサン酸(34.98g,221mmol,2.1eq)のトルエン(20.0g)溶液に、室温でp−トルエンスルホン酸1水和物(601.1mg,3.16mmol,3mol%)を加えた。その後窒素下で内温が135℃になるように加熱し、トルエンとの共沸により水を系内より除去した。7.5時間加熱後冷却し、5%水酸化カリウムで洗浄後、洗浄液が中性になるまで水で洗浄した。酸を減圧下で留去し、収量47.29g,収率96%で目的物を得た。APHAは7であった。
δ(ppm):0.91(s,18H,2XC(CH 3 ) 3 ),0.92(s,12H,4XCH 3 ),0.98(d,6H,J=6.6Hz,2XCH 3 CH2),1.12(dd,2H,J=6.2,14.1Hz,2XCH 2 C(CH3)3の1H),1.25(dd,2H,J=4.3,14.1Hz,2XCH 2 C(CH3)3の1H),2.00−2.08(m,2H,2XCHCH3),2.13(dd,2H,J=8.3,14.2Hz,2XOCOCH 2 の1H),2.32(dd,2H,J=5.7,14.2Hz,2XOCOCH 2 の1H),3.14(s,4H,2XOCH 2 ),3.85(d,2H,J=10.8Hz,2XCH 2 OCOの1H),3.89(d,2H,J=10.8Hz,2XCH 2 OCOの1H)
ジオクタン酸 4−オキサ−2,2,6,6−テトラメチルヘプタン−1,7−ジイルの生成速度の追跡
4−オキサ−2,2,6,6−テトラメチルヘプタン−1,7−ジオール(25.03g,131.4mmol)とオクタン酸メチル(52.05g,329mmol,2.5eq)の混合溶液に、室温でオルトチタン酸テトライソプロポキシド(383.7mg,1.35mmol,1mol%)を加えた。その後窒素下で140〜145℃に加熱し、反応の経時変化をGCで追跡した。
ジピバリン酸 2,2−ジメチルプロパン−1,3−ジイルの合成
実施例1の4−オキサ−2,2,6,6−テトラメチルヘプタン−1,7−ジオールにかえて2,2−ジメチルプロパン−1,3−ジオールを用い、実施例1と同条件で反応を行い、m−キシレンとの共沸により水を系内より除去した。14時間加熱後冷却したところ、GC分析でジエステルが59.6Area%であった。5%水酸化カリウムで洗浄後、洗浄液が中性になるまで水で洗浄した。酸を減圧下で留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーでモノエステル等と分離精製することにより、目的物を得た。
δ(ppm):0.99(s,6H,2XCH 3 ),1.21(s,18H,2XC(CH 3 ) 3 ),3.88(s,4H,2XCH 2 OCO)
ビス(2−エチルへキサン酸) 2,2−ジメチルプロパン−1,3−ジイルの合成
実施例2の4−オキサ−2,2,6,6−テトラメチルヘプタン−1,7−ジオールにかえて2,2−ジメチルプロパン−1,3−ジオールを用い、実施例2と同条件で反応を行い、m−キシレンとの共沸により水を系内より除去した。9時間加熱後、GC分析でジエステルが60.8Area%であったので、その後200℃に昇温して15時間加熱後冷却し5%水酸化カリウムで洗浄後、洗浄液が中性になるまで水で洗浄した。酸を減圧下で留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製することにより、目的物を得た。
δ(ppm):0.86−0.91(m,12H,2XCH 3 CH2+2XCH 3 CH2),0.99(s,6H,2XCH 3 ),1.20−1.35(m,8H,2XCH3CH 2 CH 2 ),1.42−1.66(m,8H,2XCOCH(CH 2 CH3)CH 2 CH2),2.25−2.32(m,2H,2XOCOCH),3.894(s,2H,2XCH 2 OCOの1H),3.896(s,2H,2XCH 2 OCOの1H)
ビス(3,5,5−トリメチルへキサン酸) 2,2−ジメチルプロパン−1,3−ジイルの合成
実施例3の4−オキサ−2,2,6,6−テトラメチルヘプタン−1,7−ジオールにかえて2,2−ジメチルプロパン−1,3−ジオールを用い、実施例3と同様の条件で反応を行い、トルエンとの共沸により水を系内より除去した。5時間加熱後冷却し、5%水酸化カリウムで洗浄後、洗浄液が中性になるまで水で洗浄した。酸を減圧下で留去し、目的物を得た。
δ(ppm):0.91,(s,18H,2XC(CH 3 ) 3 ),0.98(s,6H,2XCH 3 ),0.98(d,6H,J=6.6Hz,2XCH 3 CH2),1.13(dd,2H,J=6.3,14.0Hz,2XCH 2 C(CH3)3の1H),1.24(dd,2H,J=4.0,14.0Hz,2XCH 2 C(CH3)3の1H),1.99−2.08(m,2H,2XCHCH3),2.14(dd,2H,J=8.3,14.5Hz,2XOCOCH 2 の1H),2.33(dd,2H,J=5.7,14.5Hz,2XOCOCH 2 の1H),3.861(d,1H,J=10.9Hz,CH 2 OCO),3.866(d,1H,J=10.9Hz,CH 2 OCO),3.899(d,1H,J=10.9Hz,CH 2 OCO),3.905(d,1H,J=10.9Hz,CH 2 OCO)
ジオクタン酸 2,2−ジメチルプロパン−1,3−ジイルの生成速度の追跡
実施例4の4−オキサ−2,2,6,6−テトラメチルヘプタン−1,7−ジオールにかえて2,2−ジメチルプロパン−1,3−ジオールを用い、実施例4と同様の条件で反応を行い、反応の経時変化をGCで追跡した。
実施例1及び比較例1のジピバリン酸エステル生成速度をガスクロマトグラフィーにより追跡し、10時間後のジエステルのGC面積比の比較を行った。なお、ジエステルの面積比は
100X(ジエステルの面積)/(ジエステルの面積+モノエステルの面積+ジオールの面積)
より求めた。
実施例2及び比較例2のビス(2−エチルへキサン酸)エステル生成速度をガスクロマトグラフィーにより追跡し、6時間後のジエステルのGC面積比の比較を行った。なお、ジエステルの面積比は
100X(ジエステルの面積)/(ジエステルの面積+モノエステルの面積+ジオールの面積)
より求めた。
実施例4及び比較例4のエステル交換反応におけるジオクタン酸エステル生成速度をガスクロマトグラフィーにより追跡し、11.5時間後のジエステルのGC面積比の比較を行った。なお、ジエステルの面積比は
100X(ジエステルの面積)/(ジエステルの面積+モノエステルの面積+ジオールの面積)
より求めた。
このように、ジネオペンチルグリコールはネオペンチルグリコールに比べて、酸触媒脱水縮合化反応やLewis酸触媒エステル交換反応において極めて温和な条件でエステル化反応が進行し、合成困難なヒンダードエステルも容易に合成できることがわかった。
動粘度:ウベローデ粘度計を用い、JIS K2283に従い動粘度を求めた。
粘度指数:40℃、100℃動粘度からJIS K2283に従い求めた。
実施例2及び比較例2で得られた2−エチルヘキサン酸のジエステルについて動粘度を測定し、粘度指数を求めた。
実施例3及び比較例3で得られた3,3,5−トリメチルへキサン酸のジエステルについて動粘度を測定し、粘度指数を求めた。
実施例1で得られたピバリン酸のジエステルについて動粘度を測定し、粘度指数を求めた。また、比較例1で得られたピバリン酸のジエステルについて動粘度を測定した。
そこで別の評価を行った。JISK2283には動粘度と温度の関係式
loglogZ=A−Blog(273.15+t)
の式が成り立つと記載されている。
A:切片を表す数値、B:勾配を表す数値、t:温度、Z:動粘度+補正値
勾配を表す定数であるBが小さいほど、温度に対する粘度変化が小さいことを示すものであり、そこでこの定数Bを求めて比較した。その結果、表6に示すように、実施例10の方が比較例10よりも定数Bが小さくなり、優れた粘度特性を示すことがわかった。
Claims (9)
- 一般式(1)で示されるエステル化合物。
R3、R4はそれぞれが独立に炭素数1〜6の直鎖アルキル基および分岐アルキル基から選ばれる。 - 前記R 1 、R 2 は、2−エチルへキサン酸に由来する、請求項1に記載のエステル化合物。
- 請求項1または2に記載のエステル化合物を含む潤滑油。
- 請求項1または2に記載のエステル化合物を含む潤滑油基油。
- 一般式(2)で示されるジオールと、一般式(3)および/または(4)のカルボン酸との脱水縮合反応により、一般式(1)で示されるエステル化合物を得るエステル化合物の製造方法。
R2COOH (4)
ただし、一般式(2)中で、R3、R4はそれぞれが独立に炭素数1〜6の直鎖アルキル基および分岐アルキル基から選ばれ、一般式(3)および(4)式中でR1、R2は同じ基であり、かつ、炭素数5〜10の2級アルキル基である。
R 3 、R 4 はそれぞれが独立に炭素数1〜6の直鎖アルキル基および分岐アルキル基から選ばれる。 - 脱水縮合反応での触媒が、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、硫酸、スルホン酸基を含有する固体酸触媒、塩酸、リン酸、チタニウムテトラメトキシド、チタニウムテトラエトキシド、チタニウムテトライソプロポキシド、チタニウムテトラブトキシド、ジオクチルスズオキシドおよびジブチルスズオキシドから選ばれる少なくとも一つである請求項5に記載のエステル化合物の製造方法。
- 一般式(2)で示されるジオールと、一般式(5)および/または(6)のカルボン酸エステルとのエステル交換反応により、一般式(1)で示されるエステル化合物を得るエステル化合物の製造方法。
R2COOR6 (6)
一般式(2)中で、R3、R4はそれぞれが独立に炭素数1〜6の直鎖アルキル基および分岐アルキル基から選ばれ、一般式(5)および(6)中でR1、R2は同じ基であり、かつ、炭素数5〜10の2級アルキル基であり、R5およびR6はそれぞれ独立に炭素数1〜4の飽和直鎖または飽和分岐アルキル基をあらわす。
R 3 、R 4 はそれぞれが独立に炭素数1〜6の直鎖アルキル基および分岐アルキル基から選ばれる。 - エステル交換反応での触媒が硫酸、p−トルエンスルホン酸、チタン酸エステル、アセチルアセトン亜鉛、ジブチルスズオキシド、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよびナトリウムメトキシドから選ばれる少なくとも1つである請求項7に記載のエステル化合物の製造方法。
- 前記R 1 、R 2 は、2−エチルへキサン酸に由来する、請求項5〜8のいずれか1項に記載のエステル化合物の製造方法。
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