JP6391294B2 - ウェーハ、及びウェーハの製造方法、並びにデバイスチップの製造方法 - Google Patents
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Description
13 基板
13a 溝
13b 分割溝
15 ストリート(分割予定ライン)
17a デバイス
17b TEG
18 拡散防止膜
19 バリア部
19a バリア部材
21 配線層
23 パッシベーション
25 保護膜
31 デバイスチップ
Claims (6)
- ウェーハであって、
基板と、
該基板上の複数の分割予定ラインで区画された領域に形成された複数のデバイスと、
該基板上に形成され該デバイスの配線を含む配線層と、を備え、
該基板には、
該デバイスをそれぞれ囲繞するように該基板の上面側から形成され、該基板を分割して得られるデバイスチップの仕上げ厚みに対応する深さの複数のテーパー形状の溝と、
該溝の表面を被覆し、不純物となる金属の拡散を防ぐ拡散防止膜と、
該溝の内部に充填され、該仕上げ厚みに対応する深さのバリア部と、が設けられており、
互いに隣接する2個の該デバイスをそれぞれ囲繞する2つの該溝の間の該バリア部が設けられていない領域に該分割予定ラインが位置していることを特徴とするウェーハ。 - 互いに隣接する第一デバイスと第二デバイスの間には、該第一デバイスを囲繞する第一バリア部と、該第二デバイスを囲繞する第二バリア部との間において該基板上にTEGが形成されていることを特徴とする請求項1に記載のウェーハ。
- ウェーハの製造方法であって、
基板上の複数の分割予定ラインで区画された領域に複数のデバイスを形成するデバイス形成ステップと、
該デバイス形成ステップを実施した後、該デバイスをそれぞれ囲繞するように該基板の上面側から複数のテーパー形状の溝を形成する溝形成ステップと、
該溝形成ステップで形成された該溝の表面を、不純物となる金属の拡散を防ぐ拡散防止膜で被覆してから、該溝の内部にバリア部材を充填してバリア部を形成するバリア部形成ステップと、
該バリア部形成ステップを実施した後、該基板の上面側に該デバイスの配線を含む配線層を形成する配線層形成ステップと、を備え、
該溝形成ステップでは、互いに隣接する2個の該デバイスをそれぞれ囲繞する2つの該溝の間の該バリア部が形成されない領域に該分割予定ラインが位置するように、該基板を分割して得られるデバイスチップの仕上げ厚みに対応する深さの該溝を形成し、
該バリア部形成ステップでは、該仕上げ厚みに対応する深さの該バリア部を形成することを特徴とするウェーハの製造方法。 - 該デバイス形成ステップでは、第一デバイスを囲繞する該溝形成ステップで形成される第一溝と、第二デバイスを囲繞する該溝形成ステップで形成される第二溝との間において該基板上にTEGを形成することを特徴とする請求項3に記載のウェーハの製造方法。
- 請求項3又は請求項4に記載のウェーハの製造方法を用いるデバイスチップの製造方法であって、
該配線層形成ステップを実施した後、該基板を個々の該デバイスと該デバイスをそれぞれ囲繞するバリア部とを備えた該デバイスチップへと分割する分割ステップと、を備えたことを特徴とするデバイスチップの製造方法。 - 該基板を該仕上げ厚みに薄化する薄化ステップを更に備えたことを特徴とする請求項5に記載のデバイスチップの製造方法。
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