JP6371846B2 - 2,3,3,3−テトラフルオロプロペンの製造方法 - Google Patents
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Description
(a) 反応器Iにヘキサフルオロプロペン及び水素を供給し、触媒の存在下で、かつ、ヘキサフルオロプロペンと水素とのモル比を1:0.95〜0.99、空間速度を200〜1000h-1、反応温度を50〜400°Cとする条件下で反応させることで、1,1,1,2,3- ペンタフルオロプロペン、1,1,1,2,3,3-ヘキサフルオロプロパン、フッ化水素及び少量のヘキサフルオロプロペンを含有する第一混合物を得る工程;
(b)上述工程(a)で得られた第一混合物をアルカリ洗浄、乾燥して第一精留塔に供給し、第一精留塔の釜部に1,1,1,2,3,3-ヘキサフルオロプロパンを得て反応器Iに循環させ、また、第一精留塔の頂部に1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロペンと少量のヘキサフルオロプロペンを得、その後、第二精留塔に1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロペン及び少量のヘキサフルオロプロペンを供給し、第二精留塔の頂部にヘキサフルオロプロペンを得て反応器Iに循環させ、第二精留塔の釜部に1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロペンを得る工程 ;
(c) 反応器IIに上述工程(b)で得られた1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロペンを供給しながら水素を導入し、触媒の存在下で、かつ、水素と1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロペンとのモル比を1:0.95〜0.99、空間速度を300〜2000h-1、 反応温度を80〜500°Cとするという条件で反応させることで、1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロパン、2,3,3,3-テトラフルオロプロペン、HF及び少量のH2を含有する第二混合物を得る工程;
(d) 上述工程(c)で得られた第二混合物をアルカリ洗浄、乾燥した後、第三精留塔に供給して、釜部に1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロパンを得て反応器IIに循環させ、塔頂に生成物である2,3,3,3-テトラフルオロプロペンを得る工程。
1.製造プロセスが二つの気相ステップからなり、プロセスが簡単で、かつ三廃(排ガス、排水、固体廃棄物)が少ない;
2.転化率及び選択性が高く、ヘキサフルオロプロペンの転化率が99%より高く、HFO-1225yeの転化率が100%であり、HFC-236ea 及び HFC-245ebの選択性 が100%である;
3.反応器Iにおける H2及び反応器IIにおけるHFO-1225yeが完全に転化されるため、未反応のH2と HFO-1225yeとの分離問題が解決される;
4.脱HF反応では水素化反応による熱が充分に利用されるため、熱が総合的に利用され、エネルギー消費が低下される。
温度350°Cで、200mlのCr2O3触媒にHFを導入し30時間フッ素化することで、活性化されたCr2O3触媒を得た。その後、反応器I(断熱型;反応器材質:炭素鋼)の下段に上記の通り活性化されたCr2O3触媒を仕込んだ。また、温度350°C、 H2:N2 のモル比1:19、空間速度1200ml g-1 (catal.)h-1という条件で、150ml のPd/C触媒(質量パーセントで、Pdの含有量が0.1%である)を15時間予備処理した後、反応器I上段に仕込んだ。次いで、反応器I上段の温度を50°Cに、下段の温度を300°Cに昇温した後、ヘキサフルオロプロペンとH2とのモル比を1:0.95、かつ空間速度を300h-1とするように、反応器Iにヘキサフルオロプロペン及びH2を仕込んだ。反応器I出口でアルカリ洗浄してからサンプリングして分析を行った。その結果を表1に示す。
実施例1と同様にしてCr2O3触媒の活性化及びPd/C触媒の予備処理を行った。反応器I(断熱型、反応器材質:炭素鋼)の下段に、200mlの活性化されたCr2O3触媒を仕込み、反応器Iの上段に、150mlの予備処理されたPd/C触媒(質量パーセントで、Pdの含有量が0.3%である)を仕込んだ。反応器I上段の温度を80°Cに、下段の温度を280°Cに昇温した後、ヘキサフルオロプロペンとH2とのモル比を1:0.95、空間速度を200h-1とするように、反応器Iの中にヘキサフルオロプロペン及びH2を導入した。反応器I出口でアルカリ洗浄してからサンプリングして分析を行った。その結果を表3に示す。
実施例1と同様にしてCr2O3触媒の活性化及びPd/C触媒の予備処理を行った。反応器I(断熱型;反応器材質:炭素鋼)の下段に、200mlの活性化されたCr2O3触媒を仕込み、反応器Iの上段に、150mlの予備処理されたPd/C催化剤(質量パーセントで、Pdの含有量が0.5%である)を仕込んだ。次いで、反応器I上段の温度を100°Cに、下段の温度を320°Cに昇温した後、ヘキサフルオロプロペンとH2とのモル比を1:0.97、空間速度 を800h-1とするように、反応器Iの中にヘキサフルオロプロペン及びH2を導入した。反応器I出口でアルカリ洗浄してからサンプリングして分析を行った。その結果を表5に示す。
実施例1と同様にしてCr2O3触媒の活性化及びPd/C触媒の予備処理を行った。反応器I(断熱型;反応器材質:ステンレス)の下段に、200mlの活性化されたCr2O3触媒を仕込み、その上段に、150mlの予備処理されたPd/C 触媒(質量パーセントで、Pdの含有量が0.8%である)を仕込んだ。次いで、反応器I上段の温度を120°Cに、下段の温度を310°Cに昇温した後、ヘキサフルオロプロペンとH2とのモル比を1:0.97、空速を600h-1とするように、反応器Iの中にヘキサフルオロプロペン及びH2を導入した。反応器I出口でアルカリ洗浄してからサンプリングして分析を行った。その結果を表7に示す。
実施例1と同様にしてCr2O3触媒の活性化及びPd/C触媒の予備処理を行った。反応器I(断熱型;反応器材質:ステンレス)の下段に、200mlの活性化されたCr2O3触媒を仕込み、その上段に、150mlの予備処理されたPd/C 触媒(質量パーセントで、Pdの含有量が1.0%である)を仕込んだ。次いで、反応器I上段の温度を150°Cに、下段の温度を330°Cに昇温した後、ヘキサフルオロプロペンとH2とのモル比を1:0.98、空間速度を1000h-1とするように、反応器Iの中にヘキサフルオロプロペン及びH2を導入した。反応器I出口でアルカリ洗浄してからサンプリングして分析を行った。その結果を表9に示す。
実施例1と同様にしてCr2O3触媒の活性化及びPd/C触媒の予備処理を行った。反応器I(断熱型;反応器材質:ステンレス)の下段に、200mlの活性化されたCr2O3触媒 を仕込み、その上段に、150mlの予備処理されたPd/C触媒(質量パーセントで、Pdの含有量が1.0%である)を仕込んだ。次いで、反応器I上段の温度を130°C に、下段の温度を400°Cに昇温した後、ヘキサフルオロプロペンとH2とのモル比を1:0.98、空間速度を500 h-1とするように、反応器Iの中にヘキサフルオロプロペン及びH2を導入した。反応器I出口でアルカリ洗浄してからサンプリングして分析を行った。その結果を表11に示す。
実施例1と同様にしてCr2O3触媒の活性化及びPd/C触媒の予備処理を行った。反応器I(断熱型;反応器材質:ステンレス)の下段に、200mlの活性化されたCr2O3触媒を仕込み、その上段に、150mlの予備処理されたPd/C触媒(質量パーセントで、Pdの含有量が0.3%である)を仕込んだ。次いで、反応器I上段の温度を100°Cに、下段の温度を300°Cに加熱した後、ヘキサフルオロプロペンとH2とのモル比を1:0.99、空間速度を300 h-1とするように、反応器Iの中にヘキサフルオロプロペン及びH2を導入した。反応器I出口でアルカリ洗浄してからサンプリングして分析を行った。その結果を表13に示す。
実施例1と同様にしてCr2O3触媒の活性化及びPd/C触媒の予備処理を行った。反応器I(断熱型;反応器材質:ステンレス)の下段に、200mlの活性化されたCr2O3触媒を仕込み、その上段に、150mlの予備処理されたPd/C 触媒(質量パーセントで、Pdの含有量が0.3%である)を仕込んだ。次いで、反応器I上段の温度を120°Cに、下段の温度を250°Cに昇温した後、ヘキサフルオロプロペンとH2とのモル比を1:0.99、空間速度を500 h-1とするように、反応器Iの中にヘキサフルオロプロペン及びH2を導入した。反応器I出口でアルカリ洗浄してからサンプリングして分析を行った。その結果を表15に示す。
実施例1と同様にしてCr2O3触媒の活性化及びPd/C触媒の予備処理を行った。反応器I (断熱型;反応器材質:ステンレス)の下段に、200mlの活性化されたCr2O3触媒を仕込み、その上段に、150mlの予備処理されたPd/C触媒(質量パーセントで、Pdの含有量が0.3%である)を仕込んだ。次いで、反応器I上段の温度を80°Cに、下段の温度を320°Cに昇温した後、ヘキサフルオロプロペンとH2とのモル比を1:0.99、空間速度を500h-1とするように、反応器Iの中にヘキサフルオロプロペン及びH2を導入した。反応器I出口でアルカリ洗浄してからサンプリングして分析を行った。その結果を表17に示す。
2 第一アルカリ洗浄塔
3 第一乾燥塔
4 第一精留塔
5 第二精留塔
6 反応器II
7 第二アルカリ洗浄塔
8 第二乾燥塔
9 第三精留塔
10〜21 ライン
Claims (4)
- (a)反応器Iにヘキサフルオロプロペン及び水素を供給し、触媒の存在下で、かつ、前記ヘキサフルオロプロペンと前記水素とのモル比を1:0.95〜0.99、空間速度を200〜1000h-1、反応温度を50〜400°Cとするという条件で反応させることで、1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロペン、1,1,1,2,3,3-ヘキサフルオロプロパン、フッ化水素及び少量のヘキサフルオロプロペンを含有する第一混合物を得る工程;
(b)前記工程(a)で得られた第一混合物をアルカリ洗浄、乾燥して第一精留塔に供給し、前記第一精留塔の釜部に前記1,1,1,2,3,3-ヘキサフルオロプロパンを得て反応器Iに循環させ、また、前記第一精留塔の頂部に前記1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロペンと少量の前記ヘキサフルオロプロペンを得、その後、第二精留塔に前記1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロペン及び少量の前記ヘキサフルオロプロペンを供給し、前記第二精留塔の頂部に前記ヘキサフルオロプロペンを得て前記反応器Iに循環させ、前記第二精留塔の釜部に前記1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロペンを得る工程;
(c)反応器IIに前記工程(b)において前記第二精留塔の釜部で得られた前記1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロペンを供給しながら水素を導入し、触媒の存在下で、かつ前記水素と前記1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロペンとのモル比を1:0.95〜0.99、空間速度を300〜2000h-1、反応温度を80〜500°Cとするという条件で反応させることで、1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロパン、2,3,3,3-テトラフルオロプロペン、HF及び少量のH2を含有する第二混合物を得る工程;及び
(d)前記工程(c)で得られた第二混合物をアルカリ洗浄、乾燥した後、第三精留塔に供給して、釜部に前記1,1,1,2,3-ペンタフルオロプロパンを得て前記反応器IIに循環させ、塔頂に生成物である前記2,3,3,3-テトラフルオロプロペンを得る工程
を含むこと、
前記反応器Iが上段と下段という二段に分かれて、二段にそれぞれ触媒を充填して、上段触媒がPd/Cであり、Pdの含有量が質量パーセントで0.1〜1%であり、下段触媒が酸化クロムであること、
前記反応器IIが上段と下段という二段に分かれて、二段にそれぞれ触媒を充填して、上段触媒がPd/Al2O3であり、Pdの含有量が質量パーセントで0.2〜1.5%であり、下段触媒が質量パーセントで酸化クロム80〜90%、酸化亜鉛10〜 20%という組成とするものであることを特徴とする、2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法。 - 前記工程(a)において、前記空間速度が400〜800 h-1であり、前記反応温度が100〜300°Cであることを特徴とする請求項1に記載の2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法。
- 前記工程(c)において、前記空間速度が600〜1500h-1であり、前記反応温度が120〜400°Cであることを特徴とする請求項1に記載の2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法。
- 前記反応器I及び前記反応器IIが断熱反応器であることを特徴とする請求項1に記載の2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法。
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