JP6371143B2 - SiCウェハの製造方法、SiC半導体の製造方法及び黒鉛炭化珪素複合基板 - Google Patents
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Description
また、SiCは、より薄い厚さでも高い耐電圧が得られるため、薄く構成することにより、ON抵抗が小さく、低損失の半導体が得られることが特徴である。
特許文献1には、炭化珪素基板の製造方法であって、少なくとも、マイクロパイプの密度が30個/cm2以下の単結晶炭化珪素基板と多結晶炭化珪素基板を準備し、単結晶炭化珪素基板と前記多結晶炭化珪素基板とを貼り合わせる工程を行い、その後、単結晶炭化珪素基板を薄膜化する工程を行い、多結晶基板上に単結晶層を形成した基板を製造することが記載されている。
このような方法により、1つのSiCの単結晶のインゴットからより多くのSiCウェハが得られるようになった。
つまり、製造工程において基板の損傷を防ぐためには多結晶SiC基板を厚くすることが好ましく、得られるSiC半導体のON抵抗を小さくするためには薄い多結晶SiC基板が好ましい。
(1)前記黒鉛炭化珪素複合基板は円盤であってその縁に方向を示すマーキングを有するともに、前記単結晶SiC基板は円盤であってその縁に方向を示すマーキングを有し、
前記接合工程は前記黒鉛炭化珪素複合基板と前記単結晶SiC基板とを、方向を示すマーキングを合わせて接合する。
一般の半導体製造装置は、オリエンテーションフラットまたは切り欠きによって結晶方向を確認しパターン形性、ダイシングなどの半導体製造工程が行われている。このため本発明のSiCウェハがオリエンテーションフラットまたは切り欠きを有していることにより、広く普及する半導体製造装置を用いてSiC半導体を製造することができる。
イオン注入層と、CVD−SiC層は、熱処理工程によって互いに拡散し合いより強固に接合することができる。
CVD−SiC層の厚さが、50μm以上であると、SiCウェハから得られるSiC半導体に十分な機械的な強度を付与することができる。CVD−SiC層の厚さが、1000μm以下であると、SiCウェハから得られるSiC半導体のON抵抗を小さくすることができる。
黒鉛炭化珪素複合基板の側壁または縁にガラス状炭素層の無い領域を有し、ガラス状炭素層の無い領域ではCVD−SiC層が黒鉛基材と接していることにより、SiC半導体の得られるSiCウェハの中央部分は黒鉛基材から剥離しやすく、周辺部分は黒鉛基材から剥離しにくくすることができる。黒鉛基材を露出させる面積、領域を適宜設定することにより単結晶被覆基板からSiCウェハの剥離しやすさを容易に制御することができる。
(6)前記マーキングは、オリエンテーションフラットまたは切り欠きである。
一般の半導体製造装置は、オリエンテーションフラットまたは切り欠きによって結晶方位を確認しパターン形性、ダイシングなどの半導体製造プロセスが行われている。このため本発明のSiCウェハがオリエンテーションフラットまたは切り欠きを有していることにより、広く普及する半導体製造装置を用いてSiC半導体を製造することができる。
CVD−SiC層の厚さが、50μm以上であると、SiCウェハから得られるSiC半導体に十分な機械的な強度を付与することができる。CVD−SiC層の厚さが、1000μm以下であると、SiCウェハから得られるSiC半導体のON抵抗を小さくすることができる。
第1剥離工程は、接合体を加熱することにより剥離することができる。イオン注入層は、水素イオンが内部に侵入しているので、脆くなっている。接合体を加熱すると、単結晶SiC基板と、黒鉛炭化珪素複合基板との熱膨張差で、脆くなったイオン注入層部分で剥離する。イオン注入層の表面の1〜10μm程度がCVD−SiC層に貼り付き、黒鉛炭化珪素複合基板のCVD―SiC層にイオン注入層の一部が貼り付いた単結晶被覆基板が得られる。つまり、剥離した面は、いずれの側もイオン注入層が露出している。
一般の半導体製造装置は、オリエンテーションフラットまたは切り欠きによって結晶方位を確認し半導体の形成、ダイシングが行われている。このため本発明のSiCウェハがオリエンテーションフラットまたは切り欠きを有していることにより、広く普及する半導体製造装置を用いてSiC半導体を製造することができる。
CVD−SiC層の厚さが、50μm以上であると、SiCウェハから得られるSiC半導体に十分な機械的な強度を付与することができる。CVD−SiC層の厚さが、1000μm以下であると、SiCウェハから得られるSiC半導体のON抵抗を小さくすることができる。
次に本発明に係る実施例1について説明する。図1は、本発明のSiCウェハの製造方法の製造工程を示し、S1は接合工程、S2は第1剥離工程、S3は第2剥離工程である。図2は、本発明の製造方法に記載された黒鉛炭化珪素複合基板の一実施形態であり、(a)はオリエンテーションフラット8aを有し、(b)はその変形例である切り欠き(ノッチ)8bを有している。図3は、本発明の製造方法に記載された黒鉛炭化珪素複合基板の一実施形態であり、(a)は、縁にガラス状炭素層の無い領域を有し、(b)は、側壁にガラス状炭素層の無い領域を有する変形例である。図3(a)は、黒鉛基材よりも直径の小さなガラス状炭素層を有し、ガラス状炭素層の外側では、黒鉛基材とCVD−SiC層とが接している。図3(b)は、黒鉛基材と同じ直径のガラス状炭素層を有しているが、黒鉛基材の側面には、ガラス状炭素層が形成されておらず、側面では、黒鉛基材とCVD−SiC層とが接している。
黒鉛炭化珪素複合基板6の黒鉛基材1は、直径φ150mm厚さ2mmの円盤状であり、縁にマーキングとなるオリエンテーションフラット8aが備えられている。オリエンテーションフラット8aの辺の長さは2cmである。黒鉛基材1の表面には、厚さが40μm、直径φ149mmのガラス状炭素層2が備えられている。すなわち、縁0.5mmはガラス状炭素層がなく、黒鉛基材がCVD−SiC層3と接している。すなわち、ガラス状炭素層2の外側はガラス状炭素層の無い領域9である。ガラス状炭素層の上に500μmの厚さのCVD−SiC層3が備えられている。すなわち、CVD−SiC層3の縁0.5mmは、ガラス状炭素層を介在することなく直接黒鉛基材上に形成されている。CVD−SiC層3の表面は研磨されたのち、RCA洗浄が行われている。RCA洗浄は市販のRCA洗浄液により行うことができる。
得られた接合体7を加熱することにより、イオン注入層4aで分離する。イオン注入層4aは、水素イオンが注入されることにより脆くなっているので、イオン注入層4aの表面部分を剥離させることができる。図1において単結晶SiC基板側に残ったイオン注入層は4c、黒鉛炭化珪素複合基板側に移動したイオン注入層は4bである。加熱の温度は特に限定されないが、400℃である。接合体は、接合体内部に発生する熱膨張差によって、イオン注入層部分で分離する。
黒鉛基材1とガラス状炭素層2とCVD−SiC層3とイオン注入層4bとからなる単結晶被覆基板5を熱処理する。熱処理は1200℃で10分間行う。この処理により、CVD−SiC層3とイオン注入層4bとの接合を強固にすることができる。
熱処理された単結晶被覆基板のオリエンテーションフラット部分から単結晶SiCウェハを剥離する。オリエンテーションフラット部分は、黒鉛基材1とCVD−SiC層3との間にとガラス状炭素層2があるので容易に剥離することができる。
次に本発明に係る実施例2について説明する。
実施例2は、SiC半導体の製造方法であり、実施例1の熱処理工程と第2剥離工程との間に、半導体形成工程を有している。
2 ガラス状炭素層
3 CVD−SiC層
4 単結晶SiC基板
4a、4b、4c イオン注入層
5 単結晶被覆基板
6 黒鉛炭化珪素複合基板
7 接合体
8a オリエンテーションフラット
8b 切り欠き(ノッチ)
9 ガラス状炭素層の無い領域
Claims (11)
- 黒鉛基材の表面にガラス状炭素層および前記ガラス状炭素層の上にCVD−SiC層を有する黒鉛炭化珪素複合基板と、表面に水素イオンが注入されたイオン注入層を有する単結晶SiC基板とを準備する工程と、
前記黒鉛炭化珪素複合基板のCVD−SiC層と前記単結晶SiC基板のイオン注入層とを貼り合せ接合体を得る接合工程と、
前記接合体を加熱し、前記イオン注入層を単結晶SiC基板から剥離し、単結晶被覆基板を得る第1剥離工程と、
前記単結晶被覆基板のガラス状炭素層とCVD−SiC層とを剥離しSiCウェハを得る第2剥離工程と、
からなるSiCウェハの製造方法。 - 前記黒鉛炭化珪素複合基板は円盤であってその縁に方向を示すマーキングを有するともに、前記単結晶SiC基板は円盤であってその縁に方向を示すマーキングを有し、
前記接合工程は前記黒鉛炭化珪素複合基板と前記単結晶SiC基板とを、方向を示すマーキングを合わせて接合することを特徴とする請求項1に記載のSiCウェハの製造方法。 - 前記マーキングは、オリエンテーションフラットまたは切り欠きであることを特徴とする請求項2に記載のSiCウェハの製造方法。
- 前記SiCウェハの製造方法は、第1剥離工程のあとに、熱処理工程を更に有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のSiCウェハの製造方法。
- 前記CVD−SiC層の厚さは50〜1000μmであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載のSiCウェハの製造方法。
- 前記黒鉛炭化珪素複合基板の側壁または縁にガラス状炭素層の無い領域を有し、前記ガラス状炭素層の無い領域ではCVD−SiC層が黒鉛基材と接していることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載のSiCウェハの製造方法。
- 請求項4に記載のSiCウェハの製造方法と、半導体形成工程とからなるSiC半導体の製造方法であって、前記半導体形成工程は、前記熱処理工程の後、前記第2剥離工程の前であるSiC半導体の製造方法。
- 縁にマーキングを有する円盤である黒鉛基材の表面に、順にガラス状炭素層、CVD−SiC層が積層されていることを特徴とする黒鉛炭化珪素複合基板。
- 前記マーキングは、オリエンテーションフラットまたは切り欠きであることを特徴とする請求項8に記載の黒鉛炭化珪素複合基板。
- 前記CVD−SiC層の厚さは50〜1000μmであることを特徴とする請求項8または9に記載の黒鉛炭化珪素複合基板。
- 前記黒鉛炭化珪素複合基板の側壁または縁にガラス状炭素層の無い領域を有し、前記ガラス状炭素層の無い領域ではCVD−SiC層が黒鉛基材と接していることを特徴とする請求項8〜10のいずれか一項に記載の黒鉛炭化珪素複合基板。
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