JP6369656B2

JP6369656B2 - ２−ヒドラジノベンゾチアゾール誘導体の製造方法

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Publication number: JP6369656B2
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Inventors: 雅弘堀口; 純一間宮
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Description

本発明は２−ヒドラジノベンゾチアゾール誘導体の製造方法、当該２−ヒドラジノベンゾチアゾール誘導体を使用した化合物の製造方法、当該化合物を含有する重合性組成物、重合性液晶組成物及び当該重合性液晶組成物を用いた光学異方体に関する。

液晶ディスプレイの視野角を向上させるために、位相差フィルムの複屈折率の波長分散性を小さく、若しくは逆にすることが求められている。そのための材料として、逆波長分散性若しくは低波長分散性を有する化合物が種々開発されてきた。そのような化合物として、窒素原子上にアルキル基等の置換基を導入したヒドラゾン部位と、ベンゾチアゾール部位とを有する化合物が知られている。当該化合物を製造する際の鍵中間体として、窒素原子上にアルキル基等の置換基を有する２−ヒドラジノベンゾチアゾール誘導体が挙げられる。当該鍵中間体の製造において、従来、炭酸カリウム、炭酸セシウム又はリチウムビス（トリメチルシリル）アミド存在下、２−ヒドラジノベンゾチアゾールとハロゲン化アルキル等とを反応させる方法が用いられていた（特許文献１から特許文献３）。しかしながら、従来の方法では目的物の単離収率は必ずしも十分ではなかった。

ＷＯ２０１４／０１０３２５Ａ１号公報ＷＯ２０１３／０４６７８１Ａ１号公報ＷＯ２０１２／１４７９０４Ａ１号公報

２−ヒドラジノベンゾチアゾール誘導体の従来の製造方法は、単離収率が低いばかりか、得られる目的化合物に２−ヒドラジノベンゾチアゾールのアニオンに由来する着色を生じやすいという問題もあった。

本発明は、上記問題を解決できる２−ヒドラジノベンゾチアゾール誘導体の製造方法を提供する。また、当該製造方法により得られた２−ヒドラジノベンゾチアゾール誘導体を使用した化合物の製造方法、当該化合物を含有する組成物を提供する。また、長期間紫外光を照射した際に、変色及び配向性の低下が生じにくいフィルム状の重合物の製造に有用である、当該製造方法により得られた化合物を含有する重合性組成物を提供する。

本発明者らは、上記課題を解決すべく、鋭意研究を行った結果、２−ヒドラジノベンゾチアゾール誘導体の新規な製造方法の開発に至った。すなわち、本願発明は、金属アミド、金属ヒドリド、金属アルコキシド及び有機アルカリ金属からなる群から選択される少なくとも一種の化合物の存在下、一般式（Ｉ−Ｂ）で表される化合物と一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物とを反応させる工程を含む、一般式（Ｉ−Ｃ）で表される化合物の製造方法を提供し、併せて、当該一般式（Ｉ−Ｃ）で表される化合物を前駆体とする化合物の製造方法、当該化合物を含有する重合性組成物、当該化合物を用いた樹脂、樹脂添加剤、オイル、フィルター、接着剤、粘着剤、油脂、インキ、医薬品、化粧品、洗剤、建築材料、包装材、液晶材料、有機ＥＬ材料、有機半導体材料、電子材料、表示素子、電子デバイス、通信機器、自動車部品、航空機部品、機械部品、農薬及び食品並びにそれらを使用した製品、重合性液晶組成物、当該重合性液晶組成物を重合させることにより得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。

本願発明の製造方法によって、２−ヒドラジノベンゾチアゾール誘導体を高収率かつ着色を抑えて製造することが可能である。本願発明の製造方法によって得られた化合物は着色が抑えられるので、軽度の着色や変色でも許容されない製品の原料として特に有用である。本願発明の製造方法によって得られた化合物を原料に用いて光学材料等を作製すると、着色や変色等を生じにくく、高い透明性が確保される。さらに、本願発明の製造方法によって製造した化合物を含有する重合性液晶組成物から得られる光学異方体は、長期間紫外光を照射した場合に変色が生じにくく、配向性の低下が生じにくいことから、本願発明の製造方法によって製造した化合物は光学補償フィルム等の光学材料の用途に有用である。

本発明は２−ヒドラジノベンゾチアゾール誘導体の製造方法、当該２−ヒドラジノベンゾチアゾール誘導体を使用した化合物の製造方法、当該化合物を含有する重合性組成物、当該化合物を用いた樹脂、樹脂添加剤、オイル、フィルター、接着剤、粘着剤、油脂、インキ、医薬品、化粧品、洗剤、建築材料、包装材、液晶材料、有機ＥＬ材料、有機半導体材料、電子材料、表示素子、電子デバイス、通信機器、自動車部品、航空機部品、機械部品、農薬及び食品並びにそれらを使用した製品、重合性液晶組成物、当該重合性液晶組成物を重合させることにより得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。

一般式（Ｉ−Ｂ）で表される化合物と一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物とを反応させる工程において、収率、反応速度、入手容易さ及び取り扱いの容易さの観点から、金属アミドとしては、アルカリ金属アミド及びアルカリ土類金属アミドから選ばれることが好ましく、リチウムアミド、ナトリウムアミド、マグネシウムアミド、カリウムアミド、カルシウムアミド、セシウムアミド及びリチウムジイソプロピルアミドから選ばれることがより好ましく、特に取り扱いの容易さの観点から、リチウムアミド、ナトリウムアミド及びカリウムアミドから選ばれることがさらにより好ましく、金属ヒドリドとしては、アルカリ金属ヒドリド及びアルカリ土類金属ヒドリドから選ばれることが好ましく、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化マグネシウム、水素化カリウム、水素化カルシウム、水素化セシウム、水素化リチウムアルミニウム及び水素化ホウ素リチウムから選ばれることがより好ましく、特に取り扱いの容易さの観点から、水素化リチウム、水素化ナトリウム及び水素化カリウムから選ばれることがさらにより好ましく、金属アルコキシドとしては、アルカリ金属アルコキシド、アルカリ土類金属アルコキシド、金属メトキシド、金属エトキシド、金属プロポキシド、金属イソプロポキシド、金属ブトキシド及び金属ｔｅｒｔ−ブトキシドから選ばれることが好ましく、リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、マグネシウムメトキシド、カリウムメトキシド、カルシウムメトキシド、セシウムメトキシド、リチウムエトキシド、ナトリウムエトキシド、マグネシウムエトキシド、カリウムエトキシド、カルシウムエトキシドセシウムエトキシド、リチウムプロポキシド、ナトリウムプロポキシド、マグネシウムプロポキシド、カリウムプロポキシド、カルシウムプロポキシド、セシウムプロポキシド、リチウムイソプロポキシド、ナトリウムイソプロポキシド、マグネシウムイソプロポキシド、カリウムイソプロポキシド、カルシウムイソプロポキシド、セシウムイソプロポキシド、リチウムブトキシド、ナトリウムブトキシド、マグネシウムブトキシド、カリウムブトキシド、カルシウムブトキシド、セシウムブトキシド、リチウムｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、マグネシウムｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、カルシウムｔｅｒｔ−ブトキシド及びセシウムｔｅｒｔ−ブトキシドから選ばれることがより好ましく、特に取り扱いの容易さの観点から、リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、リチウムエトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、リチウムｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド及びカリウムｔｅｒｔ−ブトキシドから選ばれることがさらにより好ましく、有機アルカリ金属としては、アルキルアルカリ金属、アリールアルカリ金属、水素化リチウムトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルミニウム、リチウムトリ−ｓｅｃ−ブチルボロヒドリド、リチウムトリエチルボロヒドリド及びリチウムビス（フルオロスルホニル）イミドから選ばれることが好ましく、アルキルリチウム、アリールリチウム、水素化リチウムトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルミニウム、リチウムトリ−ｓｅｃ−ブチルボロヒドリド、リチウムトリエチルボロヒドリド及びリチウムビス（フルオロスルホニル）イミドから選ばれることがより好ましく、炭素原子数が１からの８のアルキルリチウム及び炭素原子数が６〜１２のアリールリチウムから選ばれることがさらにより好ましく、メチルリチウム、エチルリチウム、プロピルリチウム、ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、ペンチルリチウム、ヘキシルリチウム及びフェニルリチウムから選ばれることがさらにより好ましく、特に取り扱いの容易さの観点から、メチルリチウム、ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム及びフェニルリチウムから選ばれることが特に好ましい。有機アルカリ金属は、構成原子としてＣ、Ｏ、Ｎ、Ｈのみからなる有機基がアルカリ金属に結合したものが好ましく、収率の観点からは、炭素−アルカリ金属結合を有する化合物であることが好ましい。

一般式（Ｉ−Ａ）においてＷ^２は基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基、若しくは、Ｗ^２はＰ^Ｗ−（Ｓｐ^Ｗ−Ｘ^Ｗ）_ｋＷ−で表される基を表す。原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、Ｗ^２は基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基、若しくは、Ｐ^Ｗ−（Ｓｐ^Ｗ−Ｘ^Ｗ）_ｋＷ−で表される基を表すことが好ましく、Ｗ^２は基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基、若しくは、Ｐ^Ｗ−（Ｓｐ^Ｗ−Ｘ^Ｗ）_ｋＷ−で表される基を表すことがより好ましく、Ｗ^２は基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状アルキル基を表すことがさらに好ましく、Ｗ^２は１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状アルキル基を表すことが特に好ましい。より具体的には、一般式（Ｉ−Ａ）において、Ｗ^２で表される基が下記の式（Ｗ２−ａ−１）から式（Ｗ２−ａ−６）

（式中、ｋ２ａは２から２０の整数を表し、ｋ２ｂは１から６の整数を表し、ｋ２ｃは３から２０の整数を表し、ｋ２ｄは１から６の整数を表す。）から選ばれる化合物を表すことが好ましい。液晶性、逆波長分散性及び溶媒への溶解性の観点から、上記の式（Ｗ２−ａ−１）において、ｋ２ａは４から１２の整数を表すことがより好ましく、４から８の整数を表すことがさらに好ましく、６を表すことが特に好ましい。上記の式（Ｗ２−ａ−２）において、ｋ２ｂは１から４の整数を表すことがより好ましく、１から３の整数を表すことがさらに好ましく、２を表すことが特に好ましい。上記の式（Ｗ２−ａ−３）において、ｋ２ｂは１から４の整数を表すことがより好ましく、１から３の整数を表すことがさらに好ましく、１又は２を表すことが特に好ましい。上記の式（Ｗ２−ａ−４）において、ｋ２ｃは３から１２の整数を表すことがより好ましく、３から８の整数を表すことがさらに好ましく、３から８の整数を表すことがさらに好ましく、４から６の整数を表すことが特に好ましい。上記の式（Ｗ２−ａ−５）及び式（Ｗ２−ａ−６）において、ｋ２ｄは１から４の整数を表すことがより好ましく、１から３の整数を表すことがさらに好ましく、２を表すことが特に好ましい。上記の式（Ｗ２−ａ−１）から式（Ｗ２−ａ−６）において、式（Ｗ２−ａ−１）、式（Ｗ２−ａ−３）、式（Ｗ２−ａ−４）又は式（Ｗ２−ａ−６）で表される基がより好ましい。

また、Ｗ^２がＰ^Ｗ−（Ｓｐ^Ｗ−Ｘ^Ｗ）_ｋＷ−で表される基を表す場合、Ｐ^Ｗは重合性基を表し、好ましくはラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合及びアニオン重合により重合する基を表し、好ましい重合性基は下記Ｐ^１と同一のものを表し、Ｓｐ^Ｗはスペーサー基を表すが、好ましいスペーサー基は下記Ｓｐ^１と同一のものを表し、Ｓｐ^Ｗが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^Ｗは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^Ｗが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、Ｘ^Ｗは複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがより好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが特に好ましい。ｋＷは０から１０の整数を表すが、溶媒への溶解性、液晶組成物に添加する場合には液晶性の観点から、０から５の整数を表すことが好ましく、１から３の整数を表すことがより好ましく、１を表すことが特に好ましい。

Ｗ^２がＰ^Ｗ−（Ｓｐ^Ｗ−Ｘ^Ｗ）_ｋＷ−で表される基を表す場合、下記の式（Ｐ３−１）、式（Ｐ３−２）又は式（Ｐ３−３）

（式中、Ｐ^３は重合性基を表し、好ましくはラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合及びアニオン重合により重合する基を表し、好ましい重合性基は下記Ｐ^１と同一のものを表し、ｋ３ａは２から２０の整数を表し、ｋ３ｂは１から６の整数を表す。）から選ばれる基を表すことが好ましい。式（Ｐ３−１）において、ｋ３ａは液晶性の観点から、２から１２の整数を表すことがより好ましく、２から８の整数を表すことが特に好ましい。式（Ｐ３−２）及び式（Ｐ３−３）において、ｋ３ｂは液晶性の観点から、１から３の整数を表すことがより好ましく、１又は２を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ−Ａ）においてＬＧ^２は脱離する基を表す。ここで、上記ＬＧ^２は、一般式（Ｉ−Ｂ）で表される化合物と一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物との反応により脱離する基であれば特に限定されないが、合成の容易さ、原料の入手容易さ、反応性の観点から、ＬＧ^２はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、カルボニルオキシ基、アルコキシ基、スルホニルオキシ基又はジアゾニウム基から選ばれる基を表すことが好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、アルキルジアゾニウム基又はアリールジアゾニウム基から選ばれる基を表すことがより好ましく、収率及び反応速度の観点から塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基又はアリールスルホニルオキシ基から選ばれる基を表すことがさらに好ましく、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、アルキルスルホニルオキシ基又はアリールスルホニルオキシ基から選ばれる基を表すことが特に好ましい。さらに具体的には、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表すことがより好ましく、コストの観点から塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ−Ｂ）においてＬ^Ｗ１はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、又は、基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表す。合成の容易さ、原料の入手容易さの観点から、Ｌ^Ｗ１はフッ素原子、塩素原子、ニトロ基、シアノ基、ジメチルアミノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−又は−Ｓ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状アルキル基を表すことが好ましく、フッ素原子、塩素原子、ニトロ基、シアノ基、ジメチルアミノ基、メチル基又はメトキシ基を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ−Ｂ）において、ｒは０から４の整数を表す。合成の容易さ、原料の入手容易さの観点から、ｒは０から２の整数を表すことが好ましく、０又は１を表すことがより好ましく、０を表すことが特に好ましい。

副生成物の少なさ及び精製の容易さの観点から、一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物は一般式（Ｉ−Ｂ）で表される化合物に対して０．０１モル当量から１００モル当量用いることが好ましく、０．１モル当量から１０モル当量用いることがより好ましく、０．５モル当量から3モル当量用いることがさらに好ましく、０．８モル当量から１．５モル当量用いることが特に好ましい。また、塩基は一般式（Ｉ−Ｂ）で表される化合物に対して０．０１モル当量から１００モル当量用いることが好ましく、０．１モル当量から１０モル当量用いることがより好ましく、０．５モル当量から３モル当量用いることがさらに好ましく、０．８モル当量から１．５モル当量用いることが特に好ましい。

化合物の添加順序としては、一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物と塩基との反応性が高い場合、一般式（Ｉ−Ｂ）で表される化合物と塩基とを混合した後に一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物を添加することが好ましい。その場合、一般式（Ｉ−Ｂ）で表される化合物に対して塩基を加えても、塩基に対して一般式（Ｉ−Ｂ）で表される化合物を加えても良い。一方、一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物と塩基との反応性が低い場合、化合物の添加順序に特に制限は無い。

反応温度は、−１００℃から２００℃であることが好ましく、収率及び反応速度の観点から、−５０℃から１５０℃であることがより好ましく、−２０℃から１２０℃であることがさらに好ましく、０℃から１００℃であることがさらにより好ましい。

反応溶媒としては有機溶媒、水、イオン液体、超臨界流体を単独で用いても良く、複数を混合して用いても良く、二相系であっても良く、若しくは無溶媒反応であっても良い。収率の観点から、金属アミド、金属ヒドリド、金属アルコキシド又は有機アルカリ金属と反応性の低い反応溶媒であることが好ましい。有機溶媒としては例えば、エーテル、脂肪族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、アルコール、エステル等が挙げられる。より具体的にはクロロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、アセトン、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、シクロヘキサノン、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、ピリジン、１−メチル−２−ピロリジノン、トルエン、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン、シクロペンタン、ヘプタン、ベンゼン、メチルイソブチルケトン、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、メチルエチルケトン等が挙げられる。

有機溶媒及び水の二相系で反応を行う場合、相間移動触媒を添加することも可能である。相間移動触媒としては、例えば、塩化ベンザルコニウム、ベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、ポリオキシエチレン（１０）オクチルフェニルエーテル［ＴｒｉｔｏｎＸ−１００］、ポリオキシエチレン（２０）ソルビタンモノラウラート［Ｔｗｅｅｎ２０］、ポリオキシエチレン（２０）ソルビタンモノパルミタート［Ｔｗｅｅｎ４０］、ポリオキシエチレン（２０）ソルビタンモノステアラート［Ｔｗｅｅｎ６０］ポリオキシエチレン（２３）ラウリルエーテル［Ｂｒｉｊ３５］、ソルビタンモノパルミタート［Ｓｐａｎ４０］等が挙げられる。

反応溶媒の量は、反応によって生じる反応熱を十分に逃がすことのできる量であれば特に制限は無いが、溶媒の量が少なすぎると反応熱が反応系に蓄積し副生成物を生じやすくなってしまう。一方、溶媒の量が多すぎると反応物の濃度が低下し、反応速度が著しく低下してしまう。以上の観点から、一般式（Ｉ−Ｂ）で表される化合物１グラムに対し、溶媒の量が０．０１ミリリットルから１リットルであることが好ましく、一般式（Ｉ−Ｂ）で表される化合物１グラムに対し、溶媒の量が０．１ミリリットルから１００ミリリットルであることがより好ましく、一般式（Ｉ−Ｂ）で表される化合物１グラムに対し、溶媒の量が１ミリリットルから２０ミリリットルであることがさら好ましく、一般式（Ｉ−Ｂ）で表される化合物１グラムに対し、溶媒の量が２ミリリットルから１０ミリリットルであることが特に好ましい。

本願発明の製造方法によれば、原料である一般式（Ｉ−Ｂ）で表される化合物の物質量に対して、一般式（Ｉ−Ｃ）で表される化合物の収率を７０％以上とすることができ、さらに８０％以上とすることができ、さらに９０％以上とすることができる。また、反応後の反応液の着色度合いは、通常、一般式（Ｉ−Ｂ）で表される化合物と一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物との反応に伴う副生成物に由来すると推定されるため、本発明によれば生成物の収率を高くでき、反応液の着色を抑えることが可能である。本発明の製造方法によれば、生成物の精製工程を簡略化ないし省略することができるので、製造工程の生産性を向上することができる。

一般式（Ｉ−Ｃ）で表される化合物から誘導される化合物としては、一般式（Ｉ）で表される化合物であることが好ましい。一般式（Ｉ）においてＲ^１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、又は、基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基、若しくはＲ^１はＰ^１−（Ｓｐ^１−Ｘ^１）_ｋ１−で表される基を表す。Ｒ^１がＰ^１−（Ｓｐ^１−Ｘ^１）_ｋ１−で表される基以外の基を表す場合、液晶性及び合成の容易さの観点から、Ｒ^１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、若しくは、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖又は分岐アルキル基を表すことがより好ましく、水素原子、フッ素原子、塩素原子、若しくは、炭素原子数１から１２の直鎖アルキル基又は直鎖アルコキシ基を表すことがさらに好ましく、炭素原子数１から１２の直鎖アルキル基又は直鎖アルコキシ基を表すことが特に好ましい。

また、Ｒ^１がＰ^１−（Ｓｐ^１−Ｘ^１）_ｋ１−で表される基を表す場合、Ｒ^１に存在するＰ^１は重合性基を表すが、好ましくはラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合及びアニオン重合により重合する基を表し、下記の式（Ｐ−１）から式（Ｐ−２０）

から選ばれる基を表すことがより好ましい。特に重合方法として紫外線重合を行う場合には、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−３）、式（Ｐ−４）、式（Ｐ−５）、式（Ｐ−７）、式（Ｐ−１１）、式（Ｐ−１３）、式（Ｐ−１５）又は式（Ｐ−１８）が好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−３）、式（Ｐ−７）、式（Ｐ−１１）又は式（Ｐ−１３）がより好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）又は式（Ｐ−３）がさらに好ましく、式（Ｐ−１）又は式（Ｐ−２）が特に好ましい。

Ｒ^１に存在するＳｐ^１はスペーサー基を表すが、Ｓｐ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。スペーサー基としては、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０のアルキレン基を表すことが好ましい。Ｓｐ^１は原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０のアルキレン基を表すことが好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から１０のアルキレン基を表すことがより好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して炭素原子数１から１０のアルキレン基を表すことがさらに好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く各々独立して炭素原子数２から８のアルキレン基を表すことが特に好ましい。

Ｒ^１に存在するＸ^１は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、Ｘ^１は複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがより好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが特に好ましい。

Ｒ^１に存在するｋ１は０から１０の整数を表すが、溶媒への溶解性、液晶組成物に添加する場合には液晶性の観点から、０から５の整数を表すことが好ましく、１から３の整数を表すことがより好ましく、１を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）においてＲ^２は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、又は、基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基、若しくはＲ^２は−（Ｘ^２−Ｓｐ^２）_ｋ２−Ｐ^２で表される基を表す。Ｒ^１がＰ^１−（Ｓｐ^１−Ｘ^１）_ｋ１−で表される基以外の基を表す場合、Ｒ^２の好ましい構造はＲ^１の好ましい構造と同様である。また、Ｒ^２が−（Ｘ^２−Ｓｐ^２）_ｋ２−Ｐ^２で表される基を表す場合、Ｒ^２に存在するＰ^２、Ｓｐ^２、Ｘ^２及びｋ２の好ましい構造は各々Ｐ^１、Ｓｐ^１、Ｘ^１及びｋ１の好ましい構造と同様である。

一般式（Ｉ）において、Ａ^１及びＡ^２は各々独立して１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良く、Ａ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。液晶性、合成の容易さ、原料の入手容易さの観点から、Ａ^１及びＡ^２は、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良い１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基を表すことが好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して下記の式（Ａ−１）から式（Ａ−１１）

から選ばれる基を表すことがより好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して式（Ａ−１）から式（Ａ−８）から選ばれる基を表すことがさらに好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して式（Ａ−１）から式（Ａ−４）から選ばれる基を表すことがさらにより好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して式（Ａ−１）又は式（Ａ−２）を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ｌは各々独立して、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、若しくは、ＬはＰ^Ｌ−（Ｓｐ^Ｌ−Ｘ^Ｌ）_ｋＬ−で表される基を表しても良く、ここでＰ^Ｌは重合性基を表し、好ましくはラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合及びアニオン重合により重合する基を表し、Ｓｐ^Ｌは１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−によって置換されても良い炭素原子数１から１０の直鎖状アルキレン基又は単結合を表すが、Ｓｐ^Ｌが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^Ｌは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^Ｌが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く（ただし、Ｐ^Ｌ−（Ｓｐ^Ｌ−Ｘ^Ｌ）_ｋＬ−には−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。）、ｋＬは０から１０の整数を表すが、化合物内にｋＬが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。液晶性、合成の容易さの観点から、Ｌは、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、フッ素原子、塩素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−から選択される基によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことが好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、フッ素原子、塩素原子、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−から選択される基によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことがより好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、フッ素原子、塩素原子、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基若しくはアルコキシ基を表すことがさらに好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、フッ素原子、塩素原子、又は、炭素原子数１から８の直鎖アルキル基若しくは直鎖アルコキシ基を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ｚ^１及びＺ^２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｚ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。液晶性、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、Ｚ^１及びＺ^２は、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すことが好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−又は単結合を表すことがより好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが特に好ましい。また、Ｍに直接結合するＺ^１及びＺ^２は各々独立して−ＯＣＨ_２−又は−ＣＨ_２Ｏ−を表し、Ｍに直接結合しないＺ^１及びＺ^２は各々独立して−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、ｍ１及びｍ２は各々独立して０から６の整数を表すが、ｍ１＋ｍ２は０から６の整数を表す。溶媒への溶解性、液晶性、紫外光を照射した場合の変色及び配向性の観点から、ｍ１及びｍ２は各々独立して１から３の整数を表すことが好ましく、各々独立して１又は２を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ｍは置換されていても良い３価の芳香族基を表す。合成の容易さ、原料の入手容易さの観点から、Ｍは下記の式（Ｍ−１）から式（Ｍ−６）

（式中、左方及び右方の結合手に各々Ｚ^１及びＺ^２で表される基が結合し、上方の結合手に残りの基が結合し、これらの基は無置換又は１つ以上の置換基Ｌ^Ｍによって置換されても良く、任意の−ＣＨ＝は各々独立して−Ｎ＝に置き換えられても良い。）から選ばれる基を表すことが好ましく、無置換又は１つ以上の置換基Ｌ^Ｍによって置換されても良い式（Ｍ−１）、式（Ｍ−２）、式（Ｍ−５）又は式（Ｍ−６）から選ばれる基を表すことがより好ましく、無置換又は１つ以上の置換基Ｌ^Ｍによって置換されても良い式（Ｍ−１）又は式（Ｍ−２）から選ばれる基を表すことがさらに好ましく、無置換の式（Ｍ−１）又は式（Ｍ−２）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ｌ^Ｍはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、若しくは、Ｌ^ＭはＰ^ＬＭ−（Ｓｐ^ＬＭ−Ｘ^ＬＭ）_ｋＬＭ−で表される基を表しても良く、ここでＰ^ＬＭは重合性基を表し、好ましくはラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合及びアニオン重合により重合する基を表し、Ｓｐ^ＬＭはスペーサー基を表すが、好ましいスペーサー基は上記Ｓｐ^１と同一のものを表し、Ｓｐ^ＬＭが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^ＬＭは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^ＬＭが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く（ただし、Ｐ^ＬＭ−（Ｓｐ^ＬＭ−Ｘ^ＬＭ）_ｋＬＭ−には−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。）、ｋＬＭは０から１０の整数を表すが、化合物内にＬ^Ｍが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。液晶性、合成の容易さの観点から、Ｌ^Ｍは、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、フッ素原子、塩素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−から選択される基によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことが好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、フッ素原子、塩素原子、ニトロ基、シアノ基、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−から選択される基によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことがより好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、フッ素原子、塩素原子、ニトロ基、シアノ基、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基若しくはアルコキシ基を表すことがさらに好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、フッ素原子、塩素原子、ニトロ基、シアノ基、メチル基又はメトキシ基を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ｙは水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基又は１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い。液晶性及び合成の容易さの観点からＹは水素原子、又は、基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことがより好ましく、Ｙは水素原子又は炭素原子数１から１２の直鎖状アルキル基を表すことがさらに好ましく、Ｙは水素原子を表すことが特に好ましい。

なお、一般式（Ｉ）で表される化合物には−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。

一般式（Ｉ）で表される化合物は重合性化合物であっても非重合性化合物であっても良いが、光学フィルム原料に使用する場合は、一般式（Ｉ）で表される化合物は重合性化合物であることが好ましい。その場合、Ｒ^１及びＲ^２の少なくとも一方にＰ^１又はＰ^２で表される基が存在することがより好ましく、Ｒ^１及びＲ^２の両方にＰ^１又はＰ^２で表される基が存在することが特に好ましい。

一般式（Ｉ）で表される化合物としてより具体的には下記の一般式（Ｉ−ｉａ）、一般式（Ｉ−ｉｂ）及び一般式（Ｉ−ｉｉ）

（式中、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｓｐ^１、Ｓｐ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、ｋ１、ｋ２、Ｍ、Ｙ、Ｗ^２、Ｌ^Ｗ１及びｒは一般式（Ｉ）と同じ意味を表し、Ｒ^２１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、若しくは、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖又は分岐アルキル基を表し、Ａ^１１、Ａ^２１、Ａ^１３、Ａ^２２、Ａ^２３、Ａ^１５及びＡ^２５は各々独立して１，４−フェニレン基又は１，４−シクロヘキシレン基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌ^１によって置換されても良く、Ａ^１２、Ａ^１４、Ａ^１６及びＡ^２４は各々独立して１，４−シクロヘキシレン基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌ^２によって置換されても良く、Ｌ^１及びＬ^２は各々独立して一般式（Ｉ）におけるＬと同じ意味を表すが、化合物内にＬ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、化合物内にＬ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ^１１、Ｚ^２１、Ｚ^１３、Ｚ^２２、Ｚ^２３、Ｚ^１５及びＺ^２５は各々独立して−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−又は単結合を表し、Ｚ^１２、Ｚ^１４、Ｚ^１６及びＺ^２４は各々独立して−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−又は−ＯＣＦ_２−を表す。）で表される化合物であることが好ましい。

一般式（Ｉ）で表される化合物としてより具体的には下記の一般式（Ｉ−ｉａ−ｉ）、一般式（Ｉ−ｉｂ−ｉ）及び一般式（Ｉ−ｉｉ−ｉ）

（式中、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｓｐ^１、Ｓｐ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、ｋ１、ｋ２、Ｗ^２、Ｌ^Ｗ１及びｒは一般式（Ｉ）と同じ意味を表し、Ｒ^２１１は炭素原子数１から１２の直鎖アルキル基又は直鎖アルコキシ基を表し、Ａ^１１１、Ａ^１３１、Ａ^１５１及びＡ^２５１は１，４−フェニレン基を表すが、当該基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌ^１１によって置換されても良く、Ａ^１２１、Ａ^１４１、Ａ^２２１、Ａ^２３１、Ａ^１６１及びＡ^２４１は１，４−シクロヘキシレン基を表し、Ａ^２１１は１，４−フェニレン基又は１，４−シクロヘキシレン基を表すが、当該１，４−フェニレン基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌ^１１によって置換されても良く、Ｌ^１１はフッ素原子、塩素原子、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、化合物内にＬ^１１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ^１１１、Ｚ^１２１、Ｚ^１３１、Ｚ^１４１、Ｚ^１５１、Ｚ^１６１、Ｚ^２４１及びＺ^２５１は各々独立して−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ｚ^２１１、Ｚ^２２１及びＺ^２３１は各々単結合を表し、Ｍ^１は下記の式（Ｍ−１−１）又は式（Ｍ−２−１）

から選ばれる基を表し、Ｙ^１は水素原子を表す。）で表される化合物であることが好ましい。

一般式（Ｉ）で表される化合物としては、下記の式（Ｉ−ｉａ−ｉ−１）から式（Ｉ−ｉｉ−ｉ−２）

（式中、Ｗ^１１１及びＷ^１２１は水素原子又はメチル基を表し、Ｓｐ^１１１及びＳｐ^１２１は２から８のアルキレン基を表し、Ｒ^２１２は炭素原子数１から８の直鎖アルキル基又は直鎖アルコキシ基を表し、Ｗ^２は一般式（Ｉ）と同じ意味を表す。）で表される化合物を表すことが好ましい。

一般式（Ｉ）で表される化合物としては、下記の式（Ｉ−ｉａ−ｉ−１−１）から式（Ｉ−ｉｉ−ｉ−２−２）

（式中、Ｗ^１１１及びＷ^１２１は水素原子又はメチル基を表し、Ｓｐ^１１１及びＳｐ^１２１は２から８のアルキレン基を表し、Ｒ^２１２は炭素原子数１から８の直鎖アルキル基又は直鎖アルコキシ基を表し、ｋ２ａ１は２から１０の整数を表し、ｋ２ｂ１は１又は２を表し、ｋ２ｃ１は３から８の整数を表し、ｋ２ｄ１は１又は２を表す。）で表される化合物を表すことがより好ましい。

一般式（Ｉ）で表される化合物を中間体として、一般式（ＩＩ）で表される化合物を製造することが可能である。重合性化合物（ＩＩ）としては下記の式（ＩＩ−ｉｉ−ｉ−２−１）又は式（ＩＩ−ｉｉ−ｉ−２−２）

（式中、Ｗ^１１１、Ｗ^１２１及びＷ^１３１は水素原子又はメチル基を表し、Ｓｐ^１１１及びＳｐ^１２１は２から８のアルキレン基を表し、ｋ２ｃ１は３から８の整数を表し、ｋ２ｄ１は１又は２を表す。）で表される化合物を表すことが好ましい。

一般式（Ｉ）で表される化合物は、上記の一般式（Ｉ−Ｃ）で表される化合物と下記の一般式（Ｉ−Ｄ）

（式中、Ｒ^１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、又は、基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基、若しくはＲ^１はＰ^１−（Ｓｐ^１−Ｘ^１）_ｋ１−で表される基（式中、Ｐ^１は重合性基を表し、好ましくはラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合及びアニオン重合により重合する基を表し、Ｓｐ^１はスペーサー基を表すが、Ｓｐ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^１は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｋ１は０から１０の整数を表す。）を表し、
Ｒ^２は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、又は、基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基、若しくはＲ^２は−（Ｘ^２−Ｓｐ^２）_ｋ２−Ｐ^２で表される基（式中、Ｐ^２は重合性基を表し、好ましくはラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合及びアニオン重合により重合する基を表し、Ｓｐ^２はスペーサー基を表すが、Ｓｐ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^２は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｋ２は０から１０の整数を表す。）を表し、
Ａ^１及びＡ^２は各々独立して１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良く、Ａ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、若しくは、ＬはＰ^Ｌ−（Ｓｐ^Ｌ−Ｘ^Ｌ）_ｋＬ−で表される基を表しても良く、ここでＰ^Ｌは重合性基を表し、好ましくはラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合及びアニオン重合により重合する基を表し、Ｓｐ^Ｌはスペーサー基を表すが、好ましいスペーサー基は上記Ｓｐ^１と同一のものを表し、Ｓｐ^Ｌが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^Ｌは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^Ｌが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｋＬは０から１０の整数を表すが、化合物内にｋＬが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、
Ｚ^１及びＺ^２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｚ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｍ１及びｍ２は各々独立して０から６の整数を表すが、ｍ１＋ｍ２は０から６の整数を表し、Ｍは置換されていても良い三価の芳香族基を表し、Ｙは水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基又は１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良いが、ただし、一般式（Ｉ−Ｄ）で表される化合物には−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。）で表される化合物との反応によって製造されることが好ましい。

すなわち、一般式（Ｉ）で表される化合物は、本願発明の製造方法により一般式（Ｉ−Ｃ）で表される化合物を得る第１工程と、得られた一般式（Ｉ−Ｃ）で表される化合物と一般式（Ｉ−Ｄ）で表される化合物とを反応させて一般式（Ｉ）で表される化合物を得る第２工程とを含む製造方法によって製造されることが好ましい。当該製造方法によって得られた一般式（Ｉ）で表される化合物は、第１工程に由来する着色度合いと不純物含有量が低いため、特に光学異方体製品の原料として好ましい。

一般式（Ｉ−Ｄ）で表される化合物は、重合性化合物であっても非重合性化合物であっても良いが、一般式（Ｉ−Ｄ）で表される化合物は重合性化合物であることが好ましい。その場合、Ｒ^１及びＲ^２の少なくとも一方にＰ^１又はＰ^２で表される基が存在することがより好ましく、Ｒ^１及びＲ^２の両方にＰ^１又はＰ^２で表される基が存在することが特に好ましい。

また、上記一般式（Ｉ−ｉａ）、一般式（Ｉ−ｉｂ）及び一般式（Ｉ−ｉｉ）で表される化合物は、上記の一般式（Ｉ−Ｃ）で表される化合物と下記の一般式（Ｉ−Ｄ−ｉａ）、一般式（Ｉ−Ｄ−ｉｂ）及び一般式（Ｉ−Ｄ−ｉｉ）

（式中、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｓｐ^１、Ｓｐ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、ｋ１、ｋ２、Ｍ及びＹは一般式（Ｉ）と同じ意味を表し、Ｒ^２１、Ａ^１１、Ａ^１２、Ａ^１３、Ａ^１４、Ａ^１５、Ａ^１６、Ａ^２１、Ａ^２２、Ａ^２３、Ａ^２４、Ａ^２５、Ｚ^１１、Ｚ^１２、Ｚ^１３、Ｚ^１４、Ｚ^１５、Ｚ^１６、Ｚ^２１、Ｚ^２２、Ｚ^２３、Ｚ^２４及びＺ^２５は一般式（Ｉ−ｉａ）、一般式（Ｉ−ｉｂ）及び一般式（Ｉ−ｉｉ）におけるＲ^２１、Ａ^１１、Ａ^１２、Ａ^１３、Ａ^１４、Ａ^１５、Ａ^１６、Ａ^２１、Ａ^２２、Ａ^２３、Ａ^２４、Ａ^２５、Ｚ^１１、Ｚ^１２、Ｚ^１３、Ｚ^１４、Ｚ^１５、Ｚ^１６、Ｚ^２１、Ｚ^２２、Ｚ^２３、Ｚ^２４及びＺ^２５と各々同じ意味を表す。）で表される化合物との反応によって製造されることが好ましく、上記一般式（Ｉ−ｉａ−ｉ）、一般式（Ｉ−ｉｂ−ｉ）及び一般式（Ｉ−ｉｉ−ｉ）で表される化合物は、上記の一般式（Ｉ−Ｃ）で表される化合物と下記の一般式（Ｉ−Ｄ−ｉａ−ｉ）、一般式（Ｉ−Ｄ−ｉｂ−ｉ）及び一般式（Ｉ−Ｄ−ｉｉ−ｉ）

（式中、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｓｐ^１、Ｓｐ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、ｋ１及びｋ２は一般式（Ｉ）と同じ意味を表し、Ｒ^２１１、Ａ^１１１、Ａ^１２１、Ａ^１３１、Ａ^１４１、Ａ^１５１、Ａ^１６１、Ａ^２１１、Ａ^２２１、Ａ^２３１、Ａ^２４１、Ａ^２５１、Ｚ^１１１、Ｚ^１２１、Ｚ^１３１、Ｚ^１４１、Ｚ^１５１、Ｚ^１６１、Ｚ^２１１、Ｚ^２２１、Ｚ^２３１、Ｚ^２４１、Ｚ^２５１、Ｍ^１及びＹ^１は一般式（Ｉ−Ｄ−ｉａ−ｉ）、一般式（Ｉ−Ｄ−ｉｂ−ｉ）及び一般式（Ｉ−Ｄ−ｉｉ−ｉ）におけるＲ^２１１、Ａ^１１１、Ａ^１２１、Ａ^１３１、Ａ^１４１、Ａ^１５１、Ａ^１６１、Ａ^２１１、Ａ^２２１、Ａ^２３１、Ａ^２４１、Ａ^２５１、Ｚ^１１１、Ｚ^１２１、Ｚ^１３１、Ｚ^１４１、Ｚ^１５１、Ｚ^１６１、Ｚ^２１１、Ｚ^２２１、Ｚ^２３１、Ｚ^２４１、Ｚ^２５１、Ｍ^１及びＹ^１と同じ意味を表す。）で表される化合物との反応によって製造されることが好ましく、上記式（Ｉ−ｉａ−ｉ−１）から式（Ｉ−ｉｉ−ｉ−２）で表される化合物は、下記の一般式（Ｉ−Ｃ−ｉ）

（式中、Ｗ^２は一般式（Ｉ−Ｃ）におけるＷ^２と同じ意味を表す。）で表される化合物と下記の式（Ｉ−Ｄ−ｉａ−ｉ−１）から式（Ｉ−Ｄ−ｉｉ−ｉ−２）

（式中、Ｗ^１１１、Ｗ^１２１、Ｓｐ^１１１、Ｓｐ^１２１及びＲ^２１２は式（Ｉ−ｉａ−ｉ−１）から式（Ｉ−ｉｉ−ｉ−２）におけるＷ^１１１、Ｗ^１２１、Ｓｐ^１１１、Ｓｐ^１２１及びＲ^２１２と同じ意味を表す。）で表される化合物との反応によって製造されることが好ましく、上記式（Ｉ−ｉａ−ｉ−１−１）から式（Ｉ−ｉｉ−ｉ−２−２）で表される化合物は、下記の一般式（Ｉ−Ｃ−ａ−３）、一般式（Ｉ−Ｃ−ａ−１）、一般式（Ｉ−Ｃ−ａ−１）又は一般式（Ｉ−Ｃ−ａ−６）

（式中、ｋ２ａ１、ｋ２ｂ１、ｋ２ｃ１及びｋ２ｄ１は式（Ｉ−ｉａ−ｉ−１−１）から式（Ｉ−ｉｉ−ｉ−２−２）におけるｋ２ａ１、ｋ２ｂ１、ｋ２ｃ１及びｋ２ｄ１と同じ意味を表す。）で表される化合物と下記の式（Ｉ−Ｄ−ｉａ−ｉ−１−１）から式（Ｉ−Ｄ−ｉｉ−ｉ−２−２）

（式中、Ｗ^１１１、Ｗ^１２１、Ｓｐ^１１１、Ｓｐ^１２１及びＲ^２１２は式（Ｉ−ｉａ−ｉ−１−１）から式（Ｉ−ｉｉ−ｉ−２−２）におけるＷ^１１１、Ｗ^１２１、Ｓｐ^１１１、Ｓｐ^１２１及びＲ^２１２と同じ意味を表す。）で表される化合物との反応によって製造されることが好ましい。

一般式（Ｉ−Ｃ）で表される化合物と一般式（Ｉ−Ｄ）で表される化合物との反応において、反応速度の観点から、酸を添加することが好ましい。酸としては、無機酸であっても有機酸であっても良い。無機酸としては、塩酸、硫酸、硝酸等が挙げられる。有機酸としては、酢酸、ギ酸、シュウ酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム、（±）−１０−カンファースルホン酸等が挙げられる。精製の容易さの観点から、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム、（±）−１０−カンファースルホン酸等が好ましい。酸の添加量としては、一般式（Ｉ−Ｄ）で表される化合物に対して０．００１当量から１０当量であることが好ましく、０．００１当量から１当量であることがより好ましく、０．０１当量から０．５当量であることが特に好ましい。

上記反応における反応温度は、−１００℃から２００℃であることが好ましく、収率及び反応速度の観点から、−５０℃から１５０℃であることがより好ましく、−２０℃から１２０℃であることがさらに好ましく、０℃から８０℃であることがさらにより好ましく、室温から５０℃であることが特に好ましい。

反応溶媒としてはアルコール又はエーテルを用いることが好ましく、アルコールとエーテルとの混合溶媒を用いることがより好ましい。より具体的には前記のものが挙げられる。

また、反応後必要に応じて反応生成物の精製を行うことができる。精製方法としてはクロマトグラフィー、濾過、再結晶、蒸留、昇華、再沈殿、吸着、遠心分離、分液処理、分散洗浄等が挙げられる。精製剤を用いる場合、精製剤としてシリカゲル、アルミナ、活性炭、活性白土、セライト、ゼオライト、メソポーラスシリカ、カーボンナノチューブ、カーボンナノホーン、備長炭、木炭、グラフェン、イオン交換樹脂、酸性白土、二酸化ケイ素、珪藻土、パーライト、セルロース、有機ポリマー、多孔質ゲル等が挙げられる。

上記各工程において酸素及び／又は水分に不安定な物質を取り扱う際は、窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガス中で作業を行うことが好ましい。

以下、実施例を挙げて本発明を更に記述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。また、以下の実施例及び比較例の組成物における「％」は『質量％』を意味する。なお、各工程において酸素及び／又は水分に不安定な物質を取り扱う際は、窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガス中で作業を行った。
（ＧＣ分析条件）
カラム：ＡｇｉｌｅｎｔＴｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ，Ｊ＆ＷＣｏｌｕｍｎＤＢ−１ＨＴ，１５ｍ×０．２５ｍｍ×０．１０μｍ
温度プログラム：１００℃（１分間）−（２０℃／分間）−２５０℃−（１０℃／分間）−３８０℃−（７℃／分間）−４００℃（２．６４分間）
注入口温度：３５０℃
検出器温度：４００℃
（ＵＰＬＣ分析条件）
カラム：ＷａｔｅｒｓＡＣＱＵＩＴＹＵＰＬＣＢＥＨＣ_１８，２．１×１００ｍｍ，１．７μｍ
溶出溶媒：アセトニトリル／水（９０：１０）、アセトニトリル／水（８５：１５）、０．１％ギ酸−アセトニトリル／水（９０：１０）又は０．１％ギ酸−アセトニトリル／水（７０：３０）
流速：０．４ｍＬ／ｍｉｎ
検出器：ＵＶ（ＰＤＡ）
カラムオーブン：４０℃
（実施例１）式（Ｃ−１）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｃ−１−１）で表される化合物２．００ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍＬを加えた。氷冷しながらカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド１．４９ｇを加え、２時間撹拌した。式（Ｃ−１−２）で表される化合物２．８２ｇをテトラヒドロフラン３ｍＬに溶解させた溶液を滴下した。室温で５時間撹拌した後、ジクロロメタン１００ｍＬで希釈し水に注いだ。有機層を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル（７５：２５））により精製を行い、式（Ｃ−１）で表される化合物２．３５ｇを得た。式（Ｃ−１−１）で表される化合物からの収率は７８％であった。反応後の反応液は薄い着色を呈した。
（比較例１）特許文献３に記載の方法による式（Ｃ−１Ｒ）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下反応容器に式（Ｃ−１Ｒ−１）で表される化合物２．００ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍＬ、炭酸カリウム８．３６ｇ、式（Ｃ−１Ｒ−２）で表される化合物３．０８ｇを加え５０℃で７時間撹拌した。冷却後、水２００ｍＬに注ぎ酢酸エチル３００ｍＬで抽出した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル（７５：２５））により精製を行い、式（Ｃ−１Ｒ）で表される化合物２．１０ｇを得た。式（Ｃ−１Ｒ−１）で表される化合物からの収率は７０％であった。反応後の反応液は濃い着色を呈した。
（実施例２）式（Ｃ−２）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｃ−２−１）で表される化合物２．００ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍＬを加えた。氷冷しながらナトリウムアミド０．５２ｇを加え、室温で２時間撹拌した。式（Ｃ−２−２）で表される化合物２．４５ｇをテトラヒドロフラン５ｍＬに溶解させた溶液を滴下した。室温で５時間撹拌した後、ジクロロメタン１００ｍＬで希釈し水に注いだ。有機層を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／ヘキサン）を行うことにより、式（Ｃ−２）で表される化合物２．４９ｇを得た。式（Ｃ−２−１）で表される化合物からの収率は９３％であった。反応後の反応液は薄い着色を呈した。
（比較例２）特許文献３に記載の方法による式（Ｃ−２Ｒ）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下反応容器に式（Ｃ−２Ｒ−１）で表される化合物２．００ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍＬ、炭酸カリウム８．３６ｇ、式（Ｃ−２Ｒ−２）で表される化合物２．６７ｇを加え５０℃で７時間撹拌した。冷却後、水２００ｍＬに注ぎ酢酸エチル３００ｍＬで抽出した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル（７５：２５））により精製を行い、式（Ｃ−２Ｒ）で表される化合物２．３４ｇを得た。式（Ｃ−２Ｒ−１）で表される化合物からの収率は８７％であった。反応後の反応液は濃い着色を呈した。
（実施例３）式（Ｃ−３）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｃ−３−１）で表される化合物２．００ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍＬを加えた。氷冷しながらナトリウムメトキシド０．６９ｇを加え、室温で２時間撹拌した。式（Ｃ−３−２）で表される化合物３．１７ｇをテトラヒドロフラン５ｍＬに溶解させた溶液を滴下した。室温で５時間撹拌した後、ジクロロメタン１００ｍＬで希釈し水に注いだ。有機層を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／ヘキサン）を行うことにより、式（Ｃ−３）で表される化合物２．６７ｇを得た。式（Ｃ−３−１）で表される化合物からの収率は８０％であった。反応後の反応液は薄い着色を呈した。
（比較例３）特許文献３に記載の方法による式（Ｃ−３Ｒ）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下反応容器に式（Ｃ−３Ｒ−１）で表される化合物１．４５ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍＬ、炭酸カリウム３．６３ｇ、式（Ｃ−３Ｒ−２）で表される化合物２．５０ｇを加え８０℃で８時間撹拌した。冷却後、水２００ｍＬに注ぎ酢酸エチル３００ｍＬで抽出した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル（８５：１５））により精製を行い、式（Ｃ−３Ｒ）で表される化合物０．９６ｇを得た。式（Ｃ−３Ｒ−１）で表される化合物からの収率は４０％であった。反応後の反応液は濃い着色を呈した。
（実施例４）式（Ｃ−４）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｃ−４−１）で表される化合物２．００ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍＬを加えた。−７０℃に冷却しブチルリチウム（１．６ｍｏｌ／Ｌヘキサン溶液）８．３ｍＬを滴下し、−１０℃に昇温し１時間撹拌した。式（Ｃ−４−２）で表される化合物２．５２ｇをテトラヒドロフラン５ｍＬに溶解させた溶液を滴下した。室温で５時間撹拌した後、ジクロロメタン１００ｍＬで希釈し水に注いだ。有機層を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル（７５：２５））により精製を行い、式（Ｃ−４）で表される化合物１．９９ｇを得た。式（Ｃ−４−１）で表される化合物からの収率は７０％であった。反応後の反応液は薄い着色を呈した。
（比較例４）特許文献３に記載の方法による式（Ｃ−４Ｒ）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下反応容器に式（Ｃ−４Ｒ−１）で表される化合物３．００ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍＬを加えた。０℃でリチウムビス（トリメチルシリル）アミド（２６％テトラヒドロフラン溶液）１１．４ｍＬを滴下し３０分間撹拌した。式（Ｃ−４Ｒ−２）で表される化合物２．９ｍＬを加え２５℃で６時間撹拌した。水１００ｍＬに注ぎ酢酸エチル１５０ｍＬで抽出した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル（７５：２５））により精製を行い、式（Ｃ−４Ｒ）で表される化合物２．０７ｇを得た。式（Ｃ−４Ｒ−１）で表される化合物からの収率は４８％であった。反応後の反応液は濃い着色を呈した。
（実施例５）式（Ｃ−５）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｃ−５−１）で表される化合物２．００ｇ、式（Ｃ−５−２）で表される化合物３．０１ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍＬを加えた。氷冷しながらナトリウムアミド０．５０ｇを加え、室温で５時間撹拌した。ジクロロメタン１００ｍＬで希釈し水に注いだ。有機層を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／ヘキサン）を行うことにより、式（Ｃ−５）で表される化合物３．００ｇを得た。式（Ｃ−５−１）で表される化合物からの収率は９４％であった。反応後の反応液は薄い着色を呈した。
（比較例５）特許文献１に記載の方法による式（Ｃ−５Ｒ）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下反応容器に式（Ｃ−５Ｒ−１）で表される化合物２．００ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍＬ、炭酸セシウム７．８８ｇを加えた。０℃で式（Ｃ−５Ｒ−２）で表される化合物３．２８ｇを滴下し２５℃で３時間撹拌した。水２００ｍＬに注ぎ酢酸エチル１００ｍＬで２回抽出した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル（８５：１５））により精製を行い、式（Ｃ−５Ｒ）で表される化合物１．８１ｇを得た。式（Ｃ−５Ｒ−１）で表される化合物からの収率は５７％であった。反応後の反応液は濃い着色を呈した。
（実施例６）式（Ｃ−６）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器にリチウムジイソプロピルアミド（１．５ｍｏｌ／Ｌテトラヒドロフラン／エチルベンゼン／ヘプタン溶液）９．７ｍＬを加えた。−２０℃に冷却し式（Ｃ−６−１）で表される化合物２．００ｇをテトラヒドロフラン２０ｍＬに溶解させた溶液を滴下し１時間撹拌した。式（Ｃ−６−２）で表される化合物３．９４ｇをテトラヒドロフラン８ｍＬに溶解させた溶液を滴下した。室温で５時間撹拌した後、ジクロロメタン１００ｍＬで希釈し水に注いだ。有機層を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ、ジクロロメタン）により精製を行い、式（Ｃ−６）で表される化合物２．９５ｇを得た。式（Ｃ−６−１）で表される化合物からの収率は７３％であった。反応後の反応液は薄い着色を呈した。
（比較例６）特許文献１に記載の方法による式（Ｃ−６Ｒ）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下反応容器に式（Ｃ−６Ｒ−１）で表される化合物３．００ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４５ｍＬ、炭酸セシウム１１．９ｇ、式（Ｃ−６Ｒ−２）で表される化合物６．４５ｇを加え２５℃で２０時間撹拌した。水２００ｍＬに注ぎ酢酸エチル３００ｍＬで抽出した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、トルエン／酢酸エチル（９５：５））により精製を行い、式（Ｃ−６Ｒ）で表される化合物２．９３ｇを得た。式（Ｃ−６Ｒ−１）で表される化合物からの収率は４８％であった。反応後の反応液は濃い着色を呈した。
（実施例７）式（Ｃ−７）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｃ−７−１）で表される化合物２．００ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍＬを加えた。氷冷しながらカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド１．４９ｇを加え、室温で１時間撹拌した。氷冷しながら式（Ｃ−７−２）で表される化合物２．４４ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３ｍＬに溶解させた溶液を滴下した。室温で５時間撹拌した後、ジクロロメタン１００ｍＬで希釈し水に注いだ。有機層を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／ヘキサン）を行うことにより、式（Ｃ−７）で表される化合物３．０４ｇを得た。式（Ｃ−７−１）で表される化合物からの収率は９４％であった。反応後の反応液は薄い着色を呈した。
（実施例８）式（Ｃ−８）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｃ−８−１）で表される化合物２．００ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍＬを加えた。氷冷しながらナトリウムメトキシド０．８５ｇを加え、室温で１時間撹拌した。氷冷しながら式（Ｃ−８−２）で表される化合物１．９８ｇをテトラヒドロフラン３ｍＬに溶解させた溶液を滴下した。室温で５時間撹拌した後、ジクロロメタン１００ｍＬで希釈し水に注いだ。有機層を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／ヘキサン）を行うことにより、式（Ｃ−８）で表される化合物２．７３ｇを得た。式（Ｃ−８−１）で表される化合物からの収率は８５％であった。反応後の反応液は薄い着色を呈した。
（実施例９）式（Ｃ−９）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｃ−９−１）で表される化合物２．００ｇ、式（Ｃ−９−２）で表される化合物２．４５ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍＬを加えた。氷冷しながらカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド１．４９ｇのテトラヒドロフラン溶液を滴下した。室温で５時間撹拌した後、ジクロロメタン１００ｍＬで希釈し水に注いだ。有機層を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去することにより、式（Ｃ−９）で表される化合物３．２４ｇを得た。式（Ｃ−９−１）で表される化合物からの収率は９０％であった。反応後の反応液は薄い着色を呈した。
（実施例１０）式（Ｃ−１０）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｃ−１０−１）で表される化合物２．００ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍＬを加えた。氷冷しながら水素化ナトリウム０．３２ｇを加え、室温で１時間撹拌した。氷冷しながら式（Ｃ−１０−２）で表される化合物（式中、ＭｓＯはメタンスルホニルオキシ基を表す）２．６４ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３ｍＬに溶解させた溶液を滴下した。室温で５時間撹拌した後、ジクロロメタン１００ｍＬで希釈し水に注いだ。有機層を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／ヘキサン）を行うことにより、式（Ｃ−１０）で表される化合物２．９５ｇを得た。式（Ｃ−７−１）で表される化合物からの収率は９１％であった。反応後の反応液は薄い着色を呈した。

前記と同様の方法によって下記の式（Ｃ−１１）から式（Ｃ−２２）で表される化合物を製造した。

（実施例１１）式（Ｃ−２３）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｃ−２３−１）で表される化合物２．００ｇ、式（Ｃ−２３−２）で表される化合物１．８１ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍＬを加えた。氷冷しながらカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド１．４９ｇのテトラヒドロフラン溶液を滴下した。室温で５時間撹拌した後、ジクロロメタン１００ｍＬで希釈し水に注いだ。有機層を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去することにより、式（Ｃ−２３）で表される化合物２．７９ｇを得た。式（Ｃ−２３−１）で表される化合物からの収率は９１％であった。反応後の反応液は薄い着色を呈した。
（実施例１２）式（Ｉ−１）で表される化合物の製造

ＷＯ２０１２／１４７９０４Ａ１号公報に記載の方法によって、式（Ｉ−１−１）で表される化合物を製造した。反応容器に式（Ｉ−１−１）で表される化合物３．００ｇ、実施例２において製造した式（Ｃ−２）で表される化合物０．９７ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物０．１０ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍＬ、２−プロパノール１０ｍＬを加え５０℃で６時間加熱撹拌した。ジクロロメタン１００ｍＬで希釈し食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−１）で表される化合物２．３３ｇを得た。
（比較例７）式（Ｉ−１Ｒ）で表される化合物の製造

実施例１２と同じ方法で、比較例２において製造した式（Ｃ−２Ｒ）で表される化合物を用いて式（Ｉ−１Ｒ）で表される化合物を製造した。

前記と同様にして、実施例１において製造した式（Ｃ−１）で表される化合物、実施例３において製造した式（Ｃ−３）で表される化合物及び実施例４において製造した式（Ｃ−４）で表される化合物を用いて、各々下記の式（Ｉ−２）、式（Ｉ−３）及び式（Ｉ−４）で表される化合物を製造した。

前記と同様にして、比較例１において製造した式（Ｃ−１Ｒ）で表される化合物、比較例３において製造した式（Ｃ−３Ｒ）で表される化合物及び比較例４において製造した式（Ｃ−４Ｒ）で表される化合物を用いて、各々下記の式（Ｉ−２Ｒ）、式（Ｉ−３Ｒ）及び式（Ｉ−４Ｒ）で表される化合物を製造した。

（実施例１３）式（Ｉ−５）で表される化合物の製造

ＷＯ２０１４／０１０３２５Ａ１号公報に記載の方法によって式（Ｉ−５−１）で表される化合物を製造した。窒素置換した反応容器に式（Ｉ−５−１）で表される化合物３．０ｇ、実施例１において製造した式（Ｃ−１）で表される化合物０．８ｇ、（±）−１０−カンファースルホン酸０．５ｇ、テトラヒドロフラン３０ｍＬ、エタノール１５ｍＬを加え５０℃で加熱撹拌した。溶媒を留去した後、メタノールを加え析出した固体を濾過した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−５）で表される化合物２．６ｇを得た。
（比較例８）式（Ｉ−５Ｒ）で表される化合物の製造

実施例１３と同じ方法によって、比較例１において製造した式（Ｃ−１Ｒ）で表される化合物を用いて式（Ｉ−５Ｒ）で表される化合物を製造した。

前記と同様にして、実施例５において製造した式（Ｃ−５）で表される化合物、実施例６において製造した式（Ｃ−６）で表される化合物及び実施例３において製造した式（Ｃ−３）で表される化合物を用いて、各々下記の式（Ｉ−６）、式（Ｉ−７）及び式（Ｉ−８）で表される化合物を製造した。

前記と同様にして、比較例５において製造した式（Ｃ−５Ｒ）で表される化合物、比較例６において製造した式（Ｃ−６Ｒ）で表される化合物及び比較例３において製造した式（Ｃ−３Ｒ）で表される化合物を用いて、各々下記の式（Ｉ−６Ｒ）、式（Ｉ−７Ｒ）及び式（Ｉ−８Ｒ）で表される化合物を製造した。

（実施例１４）式（Ｉ−９）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−９−１）で表される化合物２０．０ｇ、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール９．６ｇ、４−ジメチルアミノピリジン０．７ｇ、ジクロロメタン１６０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１６．３ｇを滴下し室温で８時間撹拌した。析出物を濾過により除去し、５％塩酸及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン／ヘキサン）により精製を行い、式（Ｉ−９−２）で表される化合物２４．７ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−９−２）で表される化合物２４．７ｇ、メタノール２００ｍＬ、２５％水酸化ナトリウム水溶液３３ｍＬを加え、室温で８時間撹拌した。５％塩酸で中和した後、酢酸エチルで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥させることにより、式（Ｉ−９−３）で表される化合物２２．１ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−９−３）で表される化合物２０．０ｇ、テトラヒドロフラン１２０ｍＬを加えた。氷冷しながらボラン−テトラヒドロフラン錯体（１ｍｏｌ／Ｌ）１０５ｍＬを滴下し２時間撹拌した。５％塩酸１００ｍＬを滴下した後、酢酸エチル２００ｍＬで分液処理した。硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を留去することにより式（Ｉ−９−４）で表される化合物１６．９ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−９−４）で表される化合物１６．９ｇ、ピリジン７．５ｇ、ジクロロメタン１００ｍＬを加えた。氷冷しながらメタンスルホニルクロリド１０．８ｇを滴下し室温で２４時間撹拌した。５％塩酸に注いだ後、分液処理した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）により精製を行い、式（Ｉ−９−５）で表される化合物２０．７ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−９−６）で表される化合物２０．０ｇ、４８％臭化水素酸６０ｍＬ、酢酸６０ｍＬを加え６時間加熱還流させた。冷却した後、酢酸エチル２００ｍＬで分液処理した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ、酢酸エチル）により精製を行い式（Ｉ−９−７）で表される化合物１４．６ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−９−７）で表される化合物１．０ｇ、式（Ｉ−９−５）で表される化合物４．２ｇ、リン酸カリウム３．８ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍＬを加え９０℃で８時間加熱撹拌した。反応液を水１００ｍＬに注いだ後、析出した固体を濾過し、水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−９−８）で表される化合物３．１ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−９−８）で表される化合物３．１ｇ、ジクロロメタン３０ｍＬ、ギ酸３０ｍＬを加え４０℃で８時間加熱撹拌した。溶媒を留去した後、ジイソプロピルエーテル３０ｍＬを加え撹拌し、析出物を濾過した。得られた固体をジイソプロピルエーテルで洗浄することにより式（Ｉ−９−９）で表される化合物２．２ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−９−１０）で表される化合物１０．０ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム０．７ｇ、ジクロロメタン１００ｍＬを加えた。氷冷しながら３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン４．６ｇを滴下し、室温で７時間撹拌した。５％炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（アルミナ、ジクロロメタン）により精製を行い、式（Ｉ−９−９）で表される化合物１３．５ｇを得た。

耐圧容器に式（Ｉ−９−９）で表される化合物１３．５ｇ、５％パラジウム炭素０．１ｇ、テトラヒドロフラン５０ｍＬ、エタノール５０ｍＬを加えた。水素圧０．５ＭＰａ、５０℃で８時間加熱撹拌した。触媒を濾過した後、溶媒を留去することにより、式（Ｉ−９−１２）で表される化合物８．８ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−９−１２）で表される化合物１５．０ｇ、式（Ｉ−９−１３）で表される化合物１７．７ｇ、炭酸カリウム１６．０ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド９０ｍＬを加え９０℃で２０時間加熱撹拌した。ジクロロメタン１５０ｍＬを加え分液処理した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）により精製を行い、式（Ｉ−９−１４）で表される化合物２４．２ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−９−１４）で表される化合物２４．２ｇ、テトラヒドロフラン８０ｍＬ、メタノール８０ｍＬを加えた。濃塩酸１ｍＬを加え室温で１０時間撹拌した。溶媒を留去した後、酢酸エチル１５０ｍＬで分液処理した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ、酢酸エチル）及び再結晶（酢酸エチル／ヘキサン）により精製を行い式（Ｉ−９−１５）で表される化合物１７．４ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−９−９）で表される化合物１．９ｇ、式（Ｉ−９−１５）で表される化合物２．４ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．０６ｇ、ジクロロメタン２０ｍＬを加えた。氷冷しながら１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩２．２ｇを加え、室温で８時間撹拌した。反応液を５％塩酸及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−９−１６）で表される化合物３．３ｇを得た。

窒素置換した反応容器に式（Ｉ−９−１６）で表される化合物３．３ｇ、実施例７において製造した式（Ｃ−７）で表される化合物１．０ｇ、（±）−１０−カンファースルホン酸０．５ｇ、テトラヒドロフラン３０ｍＬ、エタノール１５ｍＬを加え５０℃で８時間加熱撹拌した。溶媒を留去した後、メタノールを加え結晶化させ濾過した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−９）で表される化合物２．９ｇを得た。
転移温度（昇温５℃／分）：Ｃ８５Ｎ１２８Ｉ
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．２２−１．２８（ｍ，４Ｈ），１．４４−１．４７（ｍ，８Ｈ），１．６０−１．８２（ｍ，１２Ｈ），１．９０（ｍ，２Ｈ），２．０７（ｔ，４Ｈ），２．２４（ｄ，４Ｈ），２．５３（ｍ，２Ｈ），３．３０（ｓ，３Ｈ），３．５０（ｔ，２Ｈ），３．６６（ｔ，２Ｈ），３．８５−３．８９（ｍ，６Ｈ），３．９３（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），４．５３（ｔ，２Ｈ），５．８２（ｄ，２Ｈ），６．１３（ｑ，２Ｈ），６．４０（ｄ，２Ｈ），６．８３−６．９０（ｍ，６Ｈ），６．９５−６．９８（ｍ，４Ｈ），７．１４（ｔ，１Ｈ），７．３２（ｔ，１Ｈ），７．５２（ｔ，１Ｈ），７．６７（ｔ，２Ｈ），８．３３（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
（実施例１５）式（Ｉ−１０）で表される化合物の製造

ディーンスターク装置を備えた反応容器に式（Ｉ−１０−１）で表される化合物２０．０ｇ、アクリル酸１５．８ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物２．８ｇ、トルエン１５０ｍＬを加え、脱水しながら８時間加熱還流させた。冷却した後、５％炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、トルエン）により精製を行い、式（Ｉ−１０−２）で表される化合物２５．１ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−１０−２）で表される化合物１０．０ｇ、ヒドロキノン２８．９ｇ、炭酸カリウム１８．１ｇ、アセトン８０ｍＬを加え６時間加熱還流させた。冷却した後、固形物を濾過し溶媒を留去した。酢酸エチル１５０ｍＬを加え、５％塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、酢酸エチル）及び再結晶（酢酸エチル／ヘキサン）により精製を行い、式（Ｉ−１０−３）で表される化合物９．７ｇを得た。

ＷＯ２０１１／０６８１３８Ａ１号公報に記載の方法によって式（Ｉ−１０−４）で表される化合物を製造した。窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−１０−３）で表される化合物５．０ｇ、式（Ｉ−１０−４）で表される化合物４．４ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．２ｇ、ジクロロメタン４０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド２．９ｇを滴下し撹拌した。析出物を濾過した後、濾液を５％塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い式（Ｉ−１０−５）で表される化合物７．２ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−１０−５）で表される化合物７．２ｇ、テトラヒドロフラン３０ｍＬ、メタノール３０ｍＬ、濃塩酸１ｍＬを加え室温で７時間撹拌した。酢酸エチル１５０ｍＬで希釈し、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ、酢酸エチル）及び分散洗浄（ヘキサン）により精製を行い式（Ｉ−１０−６）で表される化合物６．０ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−１０−６）で表される化合物４．０ｇ、式（Ｉ−１０−７）で表される化合物０．７ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン４０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１．５ｇを滴下し室温で８時間撹拌した。固形物を濾過した後、濾液を５％塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い式（Ｉ−１０−８）で表される化合物３．３ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−１０−８）で表される化合物３．３ｇ、実施例８において製造した式（Ｃ−８）で表される化合物０．９ｇ、（±）−１０−カンファースルホン酸０．５ｇ、テトラヒドロフラン３０ｍＬ、エタノール１５ｍＬを加え５０℃で加熱撹拌した。溶媒を留去した後、メタノールを加え結晶化させ濾過した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−１０）で表される化合物２．３ｇを得た。
ＬＣＭＳ：１１８６［Ｍ＋１］
（実施例１６）式（Ｉ−１１）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−１１−１）で表される化合物３．０ｇ、ジイソプロピルエチルアミン０．５ｇ、ジクロロメタン３０ｍＬを加えた。氷冷しながら塩化アクリロイル０．３ｇを滴下し室温で５時間撹拌した。１％塩酸、食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−１１）で表される化合物２．２ｇを得た。
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．２４（ｍ，４Ｈ），１．４８−１．９３（ｍ，３０Ｈ），２．０８（ｔ，４Ｈ），２．２３（ｍ，４Ｈ），２．５４（ｍ，２Ｈ），３．８６（ｄｄ，４Ｈ），３．９４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），４．５３（ｔ，２Ｈ），４．６５（ｔ，２Ｈ），５．８２（ｄｄ，３Ｈ），６．１２（ｄｄ，３Ｈ），６．４０（ｄｄ，３Ｈ），６．８８（ｍ，６Ｈ），６．９７（ｄｄ，４Ｈ），７．１６（ｔ，１Ｈ），７．３４（ｔ，１Ｈ），７．５４（ｄ，１Ｈ），７．６６（ｄ，１Ｈ），７．７０（ｄ，１Ｈ），８．３６（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
ＬＣＭＳ：１２１２［Ｍ＋１］
（実施例１７）式（Ｉ−１２）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−１２−１）で表される化合物３．０ｇ、実施例９において製造した式（Ｃ−９）で表される化合物１．０ｇ、（±）−１０−カンファースルホン酸０．５ｇ、テトラヒドロフラン３０ｍＬ、エタノール１５ｍＬを加え５０℃で加熱撹拌した。溶媒を留去した後、メタノールを加え結晶化させ濾過した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−１２）で表される化合物２．７ｇを得た。
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．０７（ｑ，２Ｈ），１．２４（ｑ，２Ｈ），１．４７−１．９０（ｍ，２４Ｈ），２．０９（ｍ，４Ｈ），２．２２（ｄ，２Ｈ），２．３９（ｔ，１Ｈ），２．５３（ｔ，１Ｈ），３．５６（ｔ，２Ｈ），３．６０−３．６６（ｍ，４Ｈ），３．７３（ｔ，２Ｈ），３．７４（ｄ，２Ｈ），３．８５（ｄ，２Ｈ），３．９０（ｔ，２Ｈ），３．９４（ｔｄ，４Ｈ），４．００（ｔ，２Ｈ），４．１７（ｔｄ，４Ｈ），５．８２（ｄ，２Ｈ），６．１３（ｄｄ，２Ｈ），６．４０（ｄ，２Ｈ），６．８０−６．９９（ｍ，６Ｈ），６．９８（ｄ，４Ｈ），７．１６（ｔ，１Ｈ），７．３３（ｔ，１Ｈ），７．５５（ｍ，２Ｈ），７．６７（ｄ，１Ｈ），８．４０（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
ＬＣＭＳ：１１９０［Ｍ＋１］
（実施例１８）式（Ｉ−１３）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−１３−１）で表される化合物３．０ｇ、ジイソプロピルエチルアミン０．５ｇ、ジクロロメタン３０ｍＬを加えた。氷冷しながら塩化アクリロイル０．３ｇを滴下し室温で５時間撹拌した。１％塩酸、食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−１３）で表される化合物２．６ｇを得た。
転移温度（昇温速度５℃／分）Ｃ７１Ｎ１１５Ｉ
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．１９−１．２９（ｍ，４Ｈ），１．４１−１．８２（ｍ，２２Ｈ），１．９１（ｍ，２Ｈ），２．０８（ｍ，４Ｈ），２．２４（ｍ，４Ｈ），２．５３（ｍ，２Ｈ），３．６２（ｍ，３Ｈ），３．６７（ｍ，２Ｈ），３．８４−３．９０（ｍ，５Ｈ），３．９４（ｔ，４Ｈ），４．１５−４．１９（ｍ，６Ｈ），４．５３（ｔ，２Ｈ），５．７６（ｄｄ，１Ｈ），５．８２（ｄｄ，２Ｈ），６．０８（ｄｄ，１Ｈ），６．１２（ｄｄ，２Ｈ），６．３７（ｄｄ，１Ｈ），６．４０（ｄｄ，２Ｈ），６．８４−６．９０（ｍ，６Ｈ），６．９５−６．９８（ｍ，４Ｈ），７．１４（ｔ，１Ｈ），７．３２（ｔ，１Ｈ），７．５３（ｄ，１Ｈ），７．６５（ｄ，１Ｈ），７．６９（ｄ，１Ｈ），８．３４（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
ＬＣＭＳ：１２４４［Ｍ＋１］
（実施例１９）式（Ｉ−１４）で表される化合物の製造

実施例１４において式（Ｉ−９−１３）で表される化合物を式（Ｉ−１４−２）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって、実施例７において製造した式（Ｃ−７）で表される化合物を用いて、式（Ｉ−１４）で表される化合物を製造した。
転移温度（昇温５℃／分）：Ｃ８９−９５Ｎ１４５Ｉ
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．２４（ｍ，４Ｈ），１．６５（ｍ，４Ｈ），１．９１（ｍ，２Ｈ），２．０５−２．２５（ｍ，１２Ｈ），２．５５（ｍ，２Ｈ），３．３０（ｓ，３Ｈ），３．５１（ｍ，２Ｈ），３．６７（ｍ，２Ｈ），３．８４−３．８９（ｍ，６Ｈ），４．０５（ｔ，４Ｈ），４．３６（ｔ，４Ｈ），４．５４（ｔ，２Ｈ），５．８４（ｄｄ，２Ｈ），６．１３（ｄｄ，２Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．８４−６．８９（ｍ，６Ｈ），６．９７−７．００（ｍ，４Ｈ），７．１４（ｔ，１Ｈ），７．３３（ｔ，１Ｈ），７．５２（ｄ，１Ｈ），７．６７（ｄｄ，２Ｈ），８．３４（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
（実施例２０）式（Ｉ−１５）で表される化合物の製造

反応容器に式（Ｉ−１５−１）で表される化合物５．００ｇ、塩化マグネシウム３．２７ｇ、パラホルムアルデヒド２．０６ｇ、トリエチルアミン２０ｍＬ、アセトニトリル８０ｍＬを加えた。６０℃で撹拌しながら適宜パラホルムアルデヒドを追加した。酢酸エチルで希釈し塩酸及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル）により精製を行い、式（Ｉ−１５−２）で表される化合物５．３６ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−１５−２）で表される化合物２．０ｇ、式（Ｉ−１５−３）で表される化合物３．４ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．４ｇ、ジクロロメタン３０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１．３ｇを滴下し室温で撹拌した。析出物を濾過した後、濾液を５％塩酸、水及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−１５−４）で表される化合物３．７ｇを得た。

反応容器に実施例１において製造した式（Ｃ−１）で表される化合物１．０ｇ、式（Ｉ−１５−４）で表される化合物２．６ｇ、（±）−１０−カンファースルホン酸０．６ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍＬ、エタノール１０ｍＬを加えた。５０℃で加熱撹拌した後、溶媒を留去しメタノールで分散洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−１５）で表される化合物２．５ｇを得た。
転移温度（昇温５℃／分）：Ｃ１１７−１２２Ｎ１４６Ｉ
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ０．９１（ｍ，６Ｈ），１．１０（ｑ，２Ｈ），１．２３−１．５６（ｍ，１８Ｈ），１．６８−１．８１（ｍ，９Ｈ），１．９４（ｔ，４Ｈ），２．３２（ｍ，４Ｈ），２．５６−２．７０（ｍ，３Ｈ），３．９４（ｔ，２Ｈ），４．１８（ｔ，２Ｈ），４．２９（ｔ，２Ｈ），５．８２（ｄｄ，１Ｈ），６．１３（ｄｄ，１Ｈ），６．４０（ｄｄ，１Ｈ），６．８９（ｄ，２Ｈ），６．９９（ｍ，３Ｈ），７．１６（ｔ，１Ｈ），７．２３（ｄｄ，１Ｈ），７．３４（ｔ，１Ｈ），７．６６−７．７２（ｍ，３Ｈ），７．９０（ｄ，１Ｈ）ｐｐｍ．
ＭＳ（ｍ／ｚ）：８７８［Ｍ^＋＋１］
（実施例２１）式（Ｉ−１６）で表される化合物の製造

反応容器に式（Ｉ−１６−１）で表される化合物２．５ｇ、実施例７において製造した式（Ｃ−７）で表される化合物１．０ｇ、（±）−１０−カンファースルホン酸０．５ｇ、テトラヒドロフラン１０ｍＬ、エタノール１０ｍＬを加えた。５０℃で加熱撹拌した後、溶媒を留去しメタノールで分散洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−１６）で表される化合物２．０ｇを得た。
転移温度（昇温５℃／分）：Ｃ１０６Ｎ１２５Ｉ
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ０．９２（ｔ，３Ｈ），１．０５−１．８３（ｍ，２２Ｈ），１．９３（ｔ，５Ｈ），２．３３（ｍ，４Ｈ），２．５５（ｍ，２Ｈ），２．７１（ｍ、１Ｈ），３．３０（ｓ，３Ｈ），３．６２（ｍ，２Ｈ），３．８５（ｔ，２Ｈ），３．９４（ｔ，２Ｈ），４．１７（ｔ，２Ｈ），４．４８（ｔ，２Ｈ），５．８２（ｄｄ，１Ｈ），６．１２（ｄｄ，１Ｈ），６．４０（ｄｄ，１Ｈ），６．８８（ｄ，２Ｈ），６．９９（ｍ，３Ｈ），７．１７（ｔ，１Ｈ），７．２３（ｄｄ，１Ｈ），７．３４（ｔ，１Ｈ），７．６６（ｄ，１Ｈ），７．７１（ｄ，１Ｈ），７．８９（ｄ，１Ｈ），８．０２（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
（実施例２２）式（Ｉ−１７）で表される化合物の製造

実施例２０において、式（Ｉ−１５−１）で表される化合物を式（Ｉ−１７−１）で表される化合物に、式（Ｃ−１）で表される化合物を実施例７において製造した式（Ｃ−７）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって、式（Ｉ−１７）で表される化合物を製造した。
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ０．９２（ｔ，３Ｈ），１．０５−１．８３（ｍ，３２Ｈ），１．９３（ｔ，５Ｈ），２．３３（ｍ，４Ｈ），２．５５（ｍ，２Ｈ），２．７１（ｍ、１Ｈ），３．３０（ｓ，３Ｈ），３．６２（ｍ，２Ｈ），３．８５（ｔ，２Ｈ），３．９４（ｔ，２Ｈ），４．１７（ｔ，２Ｈ），４．４８（ｔ，２Ｈ），５．８２（ｄｄ，１Ｈ），６．１２（ｄｄ，１Ｈ），６．４０（ｄｄ，１Ｈ），６．８８（ｄ，２Ｈ），６．９９（ｍ，３Ｈ），７．１７（ｔ，１Ｈ），７．２３（ｄｄ，１Ｈ），７．３４（ｔ，１Ｈ），７．６６（ｄ，１Ｈ），７．７１（ｄ，１Ｈ），７．８９（ｄ，１Ｈ），８．０２（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
ＭＳ（ｍ／ｚ）：９７８［Ｍ^＋＋１］
（実施例２３）式（Ｉ−１８）で表される化合物の製造

実施例１５において式（Ｉ−１０−１）で表される化合物を式（Ｉ−１８−１）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって式（Ｉ−１８−６）で表される化合物を製造した。

実施例２０において式（Ｉ−１５−４）で表される化合物を式（Ｉ−１８−８）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって、実施例１において製造した式（Ｃ−１）で表される化合物を用いて、式（Ｉ−１８）で表される化合物を製造した。
転移温度（昇温５℃／分）：Ｃ１３１Ｉ
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ０．８８−０．９４（ｍ，６Ｈ），１．１０（ｍ，２Ｈ），１．２２−１．５２（ｍ，１３Ｈ），１．７２（ｍ，６Ｈ），１．９４（ｔ，４Ｈ），２．３２（ｍ，４Ｈ），２．５３−２．６２（ｍ，３Ｈ），３．６９−３．７７（ｍ，６Ｈ），３．８６（ｔ，２Ｈ），４．１２（ｔ，２Ｈ），４．２７−４．３４（ｍ，４Ｈ），５．８３（ｄｄ，１Ｈ），６．１６（ｄｄ，１Ｈ），６．４３（ｄｄ，１Ｈ），６．９１（ｄ，２Ｈ），６．９７−７．０２（ｍ，３Ｈ），７．１６（ｔ，１Ｈ），７．２３（ｄｄ，１Ｈ），７．３３（ｔ，１Ｈ），６．６６−７．７２（ｍ，３Ｈ），７．９０（ｄ，１Ｈ）ｐｐｍ．
ＬＣＭＳ：９１０［Ｍ＋１］
（実施例２４）式（Ｉ−１９）で表される化合物の製造

実施例２３において、式（Ｉ−１８−７）で表される化合物を式（Ｉ−１９−１）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって、実施例１において製造した式（Ｃ−１）で表される化合物を用いて、式（Ｉ−１９）で表される化合物を製造した。
転移温度（昇温５℃／分）：Ｃ９０Ｓ２１８Ｎ２６５Ｉ
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ０．８８（ｍ，６Ｈ），１．０１−１．１９（ｍ，８Ｈ），１．３２−１．４５（ｍ，６Ｈ），１．７１−１．７６（ｍ，６Ｈ），１．８８−１．９９（ｍ，３Ｈ），２．１７（ｍ，１２Ｈ），２．３１（ｍ，４Ｈ），２．５３（ｍ，２Ｈ），２．６７（ｍ，１Ｈ），３．７０−３．７６（ｍ，６Ｈ），３．８５（ｔ，２Ｈ），４．１１（ｔ，２Ｈ），４．３１（ｍ，４Ｈ），５．８２（ｄ，２Ｈ），６．１５（ｑ，２Ｈ），６．４３（ｄ，２Ｈ），６．９２（ｍ，５Ｈ），７．１４−７．２６（ｍ，２Ｈ），７．３３（ｔ，１Ｈ），７．６８（ｍ，３Ｈ），７．８８（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
（実施例２５）式（Ｉ−２０）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−２０−１）で表される化合物２０．０ｇ、テトラヒドロフラン１２０ｍＬを加えた。氷冷しながらボラン−テトラヒドロフラン錯体（０．９ｍｏｌ／Ｌ）１４３ｍＬを滴下し２時間撹拌した。５％塩酸２００ｍＬに注いだ後、酢酸エチル２００ｍＬで分液処理した。硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を留去することにより式（Ｉ−２０−２）で表される化合物１７．６ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−２０−２）で表される化合物１７．６ｇ、ピリジン１２．１ｇ、ジクロロメタン１００ｍＬを加えた。氷冷しながらメタンスルホニルクロリド１２．９ｇを滴下し室温で８時間撹拌した。５％塩酸に注いだ後、分液処理した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）により精製を行い、式（Ｉ−２０−３）で表される化合物２３．０ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−２０−３）で表される化合物４．０ｇ、式（Ｉ−２０−４）で表される化合物３．９ｇ、炭酸カリウム３．５ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍＬを加え９０℃で１２時間加熱撹拌した。ジクロロメタンで希釈し水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−２０−５）で表される化合物５．１ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−２０−５）で表される化合物５．１ｇ、テトラヒドロフラン３０ｍＬ、メタノール３０ｍＬ、２５％水酸化ナトリウム水溶液１０ｍＬを加え６０℃で撹拌した。塩酸を加え溶媒を留去した。水で洗浄し乾燥させることにより式（Ｉ−２０−６）で表される化合物４．９ｇを得た。

窒素雰囲気下反応容器に式（Ｉ−２０−６）で表される化合物４．９ｇ、式（Ｉ−２０−７）で表される化合物３．４ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン４０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１．６ｇを滴下し撹拌した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−２０−８）で表される化合物５．７ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−２０−８）で表される化合物２．５ｇ、実施例７において製造した式（Ｃ−７）で表される化合物１．１ｇ、（±）−１０−カンファースルホン酸０．５ｇ、テトラヒドロフラン１０ｍＬ、エタノール１０ｍＬを加えた。５０℃で加熱撹拌した後、溶媒を留去しメタノールで分散洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−２０）で表される化合物２．１ｇを得た。
転移温度（昇温５℃／分、降温５℃／分）：Ｃ１０１−１０５（Ｎ８２）Ｉ
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ０．９２（ｔ，３Ｈ），１．０８−１．９１（ｍ，２６Ｈ），２．０６（ｄ，２Ｈ），２．２４（ｄ，２Ｈ），２．５１（ｍ，２Ｈ），３．３０（ｓ，３Ｈ），３．５１（ｄｄ，２Ｈ），３．６７（ｄｄ，２Ｈ），３．８７（ｑｕｉｎ，４Ｈ），３．９４（ｔ，２Ｈ），４．１７（ｔ，２Ｈ），４．５４（ｔ，２Ｈ），５．８２（ｄｄ，１Ｈ），６．１２（ｄｄ，１Ｈ），６．４０（ｄｄ，１Ｈ），６．８６（ｍ，３Ｈ），６．９７（ｍ，２Ｈ），７．１６（ｍ，２Ｈ），７．３２（ｔ，１Ｈ），７．６５（ｄ，１Ｈ），７．７０（ｄ，１Ｈ），７．８２（ｄ，１Ｈ），８．３６（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
（実施例２６）式（Ｉ−２１）で表される化合物の製造

反応容器に（Ｉ−２１−１）で表される化合物５．０ｇ、式（Ｉ−２１−２）で表される化合物４．１ｇ、炭酸カリウム５．２ｇ、エタノール５０ｍＬを加えた。反応容器を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．３ｇを加え加熱還流させた。酢酸エチルで希釈し５％塩酸及び食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、酢酸エチル）により精製を行い、式（Ｉ−２１−３）で表される化合物４．８ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−２１−３）で表される化合物４．０ｇ、式（Ｉ−２１−４）で表される化合物４．２ｇ、炭酸カリウム３．５ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍＬを加え９０℃で１２時間加熱撹拌した。ジクロロメタンで希釈し水及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−２１−５）で表される化合物４．６ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−２１−５）で表される化合物４．６ｇ、テトラヒドロフラン３０ｍＬ、メタノール３０ｍＬ、２５％水酸化ナトリウム水溶液１０ｍＬを加え６０℃で撹拌した。塩酸を加え溶媒を留去した。水で洗浄し乾燥させることにより式（Ｉ−２１−６）で表される化合物４．４ｇを得た。

窒素雰囲気下反応容器に式（Ｉ−２１−６）で表される化合物４．４ｇ、式（Ｉ−２１−７）で表される化合物３．１ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン４０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１．８ｇを滴下し撹拌した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−２１−８）で表される化合物５．１ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−２１−８）で表される化合物２．５ｇ、実施例７に記載の方法によって製造した式（Ｃ−７）で表される化合物１．１ｇ、（±）−１０−カンファースルホン酸０．５ｇ、テトラヒドロフラン１０ｍＬ、エタノール１０ｍＬを加えた。５０℃で加熱撹拌した後、溶媒を留去しメタノールで分散洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−２１）で表される化合物１．８ｇを得た。
転移温度（昇温５℃／分）：Ｃ６７−１００Ｉ
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．００（ｔ，３Ｈ），１．２８（ｍ，２Ｈ），１．４５−１．８１（ｍ，１２Ｈ），１．９７（ｂｒ，１Ｈ），２．１３（ｍ，２Ｈ），２．２６（ｍ，２Ｈ），２．５７（ｔｔ，１Ｈ），２．６５（ｔ，２Ｈ），３．２７（ｓ，３Ｈ），３．３７（ｍ，２Ｈ），３．５０（ｍ，２Ｈ），３．７０（ｔ，２Ｈ），３．９５（ｑ，４Ｈ），４．１７（ｔ，２Ｈ），４．３３（ｔ，２Ｈ），５．８２（ｄｄ，１Ｈ），６．１２（ｄｄ，１Ｈ），６．４０（ｄｄ，１Ｈ），６．８７（ｄ，２Ｈ），６．９８（ｍ，３Ｈ），７．１５（ｔ，１Ｈ），７．２５（ｍ，５Ｈ），７．３２（ｔ，１Ｈ），７．６４（ｍ，２Ｈ），７．６９（ｄ，１Ｈ），７．９１（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
（実施例２７）式（Ｉ−２２）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−２２−１）で表される化合物３．０ｇ、実施例１０において製造した式（Ｃ−２３）で表される化合物０．９ｇ、（±）−１０−カンファースルホン酸０．５ｇ、テトラヒドロフラン３０ｍＬ、エタノール１５ｍＬを加え５０℃で加熱撹拌した。溶媒を留去した後、メタノールを加え結晶化させ濾過した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−２２）で表される化合物３．５ｇを得た。
ＬＣＭＳ：１０６２［Ｍ＋１］
（実施例２８）式（Ｉ−２３）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−２３−１）で表される化合物３．０ｇ、トリエチルアミン０．３ｇ、ジクロロメタン３０ｍＬを加えた。氷冷しながら塩化アクリロイル０．３ｇを滴下し室温で５時間撹拌した。１％塩酸、食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−２３）で表される化合物２．５ｇを得た。
ＬＣＭＳ：１１１６［Ｍ＋１］
（実施例２９）式（Ｉ−２４）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−２４−１）で表される化合物３．０ｇ、実施例１０において製造した式（Ｃ−２３）で表される化合物０．８ｇ、（±）−１０−カンファースルホン酸０．５ｇ、テトラヒドロフラン３０ｍＬ、エタノール１５ｍＬを加え５０℃で加熱撹拌した。溶媒を留去した後、メタノールを加え結晶化させ濾過した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−２４）で表される化合物３．２ｇを得た。
ＬＣＭＳ：１１４６［Ｍ＋１］
（実施例３０）式（Ｉ−２５）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−２５−１）で表される化合物３．０ｇ、トリエチルアミン０．３ｇ、ジクロロメタン３０ｍＬを加えた。氷冷しながら塩化アクリロイル０．３ｇを滴下し室温で５時間撹拌した。１％塩酸、食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−２５）で表される化合物２．５ｇを得た。
転移温度（昇温５℃／分）：Ｃ６３Ｎ１１２Ｉ
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．２４（ｍ，４Ｈ），１．４２−１．８３（ｍ，２０Ｈ），１．９１（ｍ，２Ｈ），２．０８（ｍ，４Ｈ），２．２４（ｍ，４Ｈ），２．５３（ｍ，２Ｈ），３．７４（ｔ，２Ｈ），３．８５（ｄｄ，４Ｈ），３．９１−３．９６（ｍ，６Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），４．２５（ｔ，２Ｈ），４．５３（ｔ，２Ｈ），５．６７（ｄｄ，１Ｈ），５．８２（ｄｄ，２Ｈ），５．９５（ｄｄ，１Ｈ），６．１２（ｄｄ，２Ｈ），６．２９（ｄｄ，１Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．８２−６．９０（ｍ，６Ｈ），６．９６−６．９９（ｍ，４Ｈ），７．１５（ｔ，１Ｈ），７．３３（ｔ，１Ｈ），７．５３（ｄ，１Ｈ），７．６７（ｄｄ，２Ｈ），８．３８（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
ＬＣＭＳ：１２００［Ｍ＋１］（実施例３１〜実施例５５及び比較例９〜比較例１６）フィルムの作製
フィルムを作製するために、ＷＯ２０１２／００２１４０Ａ１号公報記載の化合物（Ｘ−１）：２０％、特表２００２−５４２２１９号公報記載の化合物（Ｘ−２）：２０％及び特開２００５−０１５４７３号公報記載の化合物（Ｘ−３）：６０％からなる液晶組成物を母体液晶（Ｘ）とした。

配向膜用ポリイミド溶液を厚さ０．７ｍｍのガラス基材にスピンコート法を用いて塗布し、１００℃で１０分乾燥した後、２００℃で６０分焼成することにより塗膜を得た。得られた塗膜をラビング処理した。ラビング処理は、市販のラビング装置を用いて行った。

母体液晶（Ｘ）に評価対象となる化合物を３０％添加することにより調製した組成物各々に対し、光重合開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７（ＢＡＳＦ社製）を１％、４−メトキシフェノールを０．１％及びクロロホルムを８０％添加し塗布液を調製した。この塗布液をラビングしたガラス基材にスピンコート法により塗布した。８０℃で１分間乾燥させた後、さらに１２０℃で１分間乾燥した。その後、高圧水銀ランプを用いて、紫外線を４０ｍＷ／ｃｍ^２の強度で２５秒間照射することにより、評価対象のフィルムを作製した。

作製した各フィルムに対し、キセノンランプ照射テスト機（アトラス社製サンテストＸＬＳ）を用い、５０ｍＷ／ｃｍ^２、２５℃で１００Ｊの光照射を行った。得られた各フィルムについて、変色及び配向性の変化を各々評価した。評価結果を下表に示す。
〈変色〉
光照射前と光照射後のフィルムの黄色度（ＹＩ）を各々測定し、黄変度（ΔＹＩ）を求めた。黄色度はＪＡＳＣＯＵＶ／ＶＩＳＳｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒＶ−５６０で重合体の吸収スペクトルを測定し、付属のカラー診断プログラムで黄色度（ＹＩ）を計算した。計算式は、
ＹＩ＝１００（１．２８Ｘ−１．０６Ｚ）／Ｙ
（式中、ＹＩは黄色度、Ｘ、Ｙ、ＺはＸＹＺ表色系における三刺激値を表す（ＪＩＳＫ７３７３）。）である。また、黄変度（ΔＹＩ）は光照射前の黄色度と光照射後の黄色度との差を意味する。
〈配向性の変化〉
偏光顕微鏡観察によって配向性を評価した。具体的には、各フィルムの表面において１０ｍｍ×１０ｍｍの領域を任意に選択し、当該領域内において、欠陥が全く認められないフィルムをＡ、最も多く欠陥が認められたフィルムをＥとし、配向欠陥の程度に準じてＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅの５段階で評価した。ここで、Ｂは欠陥がごく僅か、Ｃは欠陥が少しあり、Ｄは欠陥がやや多い、ということができる。

表より、実施例３１から実施例５５の本願発明の製造方法によって製造した化合物を含有するフィルムは、比較例の製造方法によって製造した化合物を含有するフィルムと比較し、長時間紫外光を照射した後も変色及び配向性の変化が起こりにくいことがわかる。中間体である窒素原子上にアルキル基等の置換基を有する２−ヒドラジノベンゾチアゾール誘導体を比較例の製造方法によって製造した場合、Ｎ−アルキル化反応の工程において、反応中の反応液の色が褐色〜濃青色の濃い着色を呈することから、共役系の大きな副生成物が生じたと考えられる。そのような副生成物が、その後の工程において除去しきれず残留したか若しくはより高分子量の不純物へと誘導され、目的の重合性化合物に微量混入したため、変色や配向性に悪影響を及ぼしたと考えられる。一方で、本願発明の製造方法において、反応中の反応液の色は淡黄色〜淡青色の薄い着色を呈したのみであったことから、上記のような副生成物の生成は抑制され、得られた中間体を使用して重合性化合物を製造しフィルムにした場合に悪影響が少なかったと考えられる。

以上の結果から、本願発明の製造方法によって製造した化合物は重合性組成物の構成部材として有用である。また、本願発明の化合物を含有する組成物を用いた光学異方体は光学フィルム等の用途に有用である。

Claims

リチウムアミド、ナトリウムアミド、マグネシウムアミド、カリウムアミド、カルシウムアミド、セシウムアミド及びリチウムジイソプロピルアミドから選ばれる金属アミド、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化マグネシウム、水素化カリウム、水素化カルシウム、水素化セシウム、水素化リチウムアルミニウム及び水素化ホウ素リチウムから選ばれる金属ヒドリド、リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、マグネシウムメトキシド、カリウムメトキシド、カルシウムメトキシド、セシウムメトキシド、リチウムエトキシド、ナトリウムエトキシド、マグネシウムエトキシド、カリウムエトキシド、カルシウムエトキシド、セシウムエトキシド、リチウムプロポキシド、ナトリウムプロポキシド、マグネシウムプロポキシド、カリウムプロポキシド、カルシウムプロポキシド、セシウムプロポキシド、リチウムイソプロポキシド、ナトリウムイソプロポキシド、マグネシウムイソプロポキシド、カリウムイソプロポキシド、カルシウムイソプロポキシド、セシウムイソプロポキシド、リチウムブトキシド、ナトリウムブトキシド、マグネシウムブトキシド、カリウムブトキシド、カルシウムブトキシド、セシウムブトキシド、リチウムｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、マグネシウムｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、カルシウムｔｅｒｔ−ブトキシド及びセシウムｔｅｒｔ−ブトキシドから選ばれる金属アルコキシド、及びメチルリチウム、エチルリチウム、プロピルリチウム、ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、ペンチルリチウム、ヘキシルリチウム及びフェニルリチウムから選ばれる有機アルカリ金属からなる群から選択される少なくとも一種の化合物の存在下、下記一般式（Ｉ−Ｂ）

（式中、ｒは０から４の整数を表し、Ｌ^Ｗ１はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、Ｌ^Ｗ１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。）で表される化合物と、
下記一般式（Ｉ−Ａ）

（式中、Ｗ^２は式（Ｗ２−ａ−１）から式（Ｗ２−ａ−６）

（式中、ｋ２ａは２から２０の整数を表し、ｋ２ｂは１から６の整数を表し、ｋ２ｃは３から２０の整数を表し、ｋ２ｄは１から６の整数を表す。）
から選ばれる基を表し、
ＬＧ^２は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、アルキルスルホニルオキシ基又はアリールスルホニルオキシ基から選ばれる基を表す。）で表される化合物とを反応させる工程を含む、下記一般式（Ｉ−Ｃ）

（式中、Ｗ^２、ｒ、Ｌ^Ｗ１は前記と同じ意味を表す。）で表される化合物を得る第１工程と、
第１工程で得られた一般式（Ｉ−Ｃ）で表される化合物と下記一般式（Ｉ−Ｄ）

（式中、Ｒ^１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、又は、基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基、若しくはＲ^１はＰ^１−（Ｓｐ^１−Ｘ^１）_ｋ１−で表される基（式中、Ｐ^１は下記の式（Ｐ−１）から式（Ｐ−３）

から選ばれる重合性基を表し、Ｓｐ^１は１個の−ＣＨ _２ −又は隣接していない２個以上の−ＣＨ _２ −が各々独立して−Ｏ−に置き換えられても良い炭素原子数１から１０のアルキレン基を表すが、Ｓｐ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^１は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｋ１は０から１０の整数を表す。）を表し、
Ｒ^２は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、又は、基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基、若しくはＲ^２は−（Ｘ^２−Ｓｐ^２）_ｋ２−Ｐ^２で表される基（式中、Ｐ^２は下記の式（Ｐ−１）から式（Ｐ−３）

から選ばれる重合性基を表し、Ｓｐ^２は１個の−ＣＨ _２ −又は隣接していない２個以上の−ＣＨ _２ −が各々独立して−Ｏ−に置き換えられても良い炭素原子数１から１０のアルキレン基を表すが、Ｓｐ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^２は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｋ２は０から１０の整数を表す。）を表し、
Ａ^１及びＡ^２は各々独立して１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良く、Ａ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、
Ｚ^１及びＺ^２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｚ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｍ１及びｍ２は各々独立して１から６の整数を表すが、ｍ１＋ｍ２は２から６の整数を表し、Ｍは置換されていても良い三価の芳香族基を表し、Ｙは水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基又は１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良いが、ただし、一般式（Ｉ−Ｄ）で表される化合物には−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。）とを反応させて下記一般式（Ｉ）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ａ^１、Ａ^２、Ｚ^１、Ｚ^２、ｍ１、ｍ２、Ｍ、Ｙ、Ｗ^２、ｒ、Ｌ^Ｗ１は前記一般式（Ｉ−Ｃ）又は上記一般式（Ｉ−Ｄ）と同じ意味を表す。）で表される化合物を得る第２工程とを含む、
一般式（Ｉ）で表される化合物の製造方法。
一般式（Ｉ）において、Ｍが下記の式（Ｍ−１）から式（Ｍ−６）

（式中、左方及び右方の結合手に各々Ｚ^１及びＺ^２で表される基が結合し、上方の結合手に残りの基が結合し、これらの基は無置換又は１つ以上の置換基Ｌ^Ｍ（Ｌ^Ｍはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、化合物内にＬ^Ｍが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。）によって置換されても良く、任意の−ＣＨ＝は各々独立して−Ｎ＝に置き換えられても良い。）から選ばれる基を表す、請求項１に記載の製造方法。
一般式（Ｉ）で表される化合物が下記の一般式（Ｉ−ｉａ）、一般式（Ｉ−ｉｂ）及び一般式（Ｉ−ｉｉ）

（式中、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｓｐ^１、Ｓｐ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、ｋ１、ｋ２、Ｍ、Ｙ、Ｗ^２、Ｌ^Ｗ１及びｒは一般式（Ｉ）と同じ意味を表し、Ｒ^２１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、若しくは、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖又は分岐アルキル基を表し、Ａ^１１、Ａ^２１、Ａ^１３、Ａ^２２、Ａ^２３、Ａ^１５及びＡ^２５は各々独立して１，４−フェニレン基又は１，４−シクロヘキシレン基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌ^１によって置換されても良く、Ａ^１２、Ａ^１４、Ａ^１６及びＡ^２４は各々独立して１，４−シクロヘキシレン基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌ^２によって置換されても良く、Ｌ^１及びＬ^２は各々独立して一般式（Ｉ）におけるＬと同じ意味を表すが、化合物内にＬ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、化合物内にＬ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ^１１、Ｚ^２１、Ｚ^１３、Ｚ^２２、Ｚ^２３、Ｚ^１５及びＺ^２５は各々独立して−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−又は単結合を表し、Ｚ^１２、Ｚ^１４、Ｚ^１６及びＺ^２４は各々独立して−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−又は−ＯＣＦ_２−を表す。）で表される化合物である請求項１又は請求項２に記載の製造方法。