JP6353266B2 - 冷却装置、及び、基板処理装置 - Google Patents
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るためのノズルと、前記ノズルを前記ブロックに固定するための固定構造と、を備え、前記固定構造は、前記ノズルを嵌め込んで固定するための嵌め込み穴が形成された固定ベースと、前記嵌め込み穴に前記ノズルが嵌め込まれた状態で前記固定ベースを前記ブロックに固定するための固定部材と、を有する、ことを特徴とする。
。
図1は本発明の一実施形態に係る基板処理装置の全体構成を示す平面図である。図1に示すように、このCMP装置は、略矩形状のハウジング1を備えており、ハウジング1の内部は隔壁1a,1bによってロード/アンロードユニット2と研磨ユニット3と洗浄ユニット4とに区画されている。ロード/アンロードユニット2、研磨ユニット3、及び洗浄ユニット4は、それぞれ独立に組み立てられ、独立に排気される。また、洗浄ユニット4は、基板処理動作を制御する制御装置5を有している。
ロード/アンロードユニット2は、多数のウェハ(基板)をストックするウェハカセットが載置される2つ以上(本実施形態では4つ)のフロントロード部20を備えている。これらのフロントロード部20はハウジング1に隣接して配置され、基板処理装置の幅方向(長手方向と垂直な方向)に沿って配列されている。フロントロード部20には、オープンカセット、SMIF(Standard Manufacturing Interface)ポッド、またはFOUP(Front Opening Unified Pod)などの、ウェハを格納するためのキャリアを搭載することができるようになっている。ここで、SMIF、FOUPは、内部にウェハカセットを収納し、隔壁で覆うことにより、外部空間とは独立した環境を保つことができる密閉容器である。
研磨ユニット3は、ウェハを研磨パッドに押圧させ、ウェハと研磨パッドとを相対運動させることによってウェハを研磨する。研磨ユニット3は、第1研磨ユニット3A、第2研磨ユニット3B、第3研磨ユニット3C、第4研磨ユニット3Dを備えている。これらの第1研磨ユニット3A、第2研磨ユニット3B、第3研磨ユニット3C、及び第4研磨ユニット3Dは、図1に示すように、基板処理装置の長手方向に沿って配列されている。
けられた研磨テーブル30Aと、ウェハを保持しかつウェハを研磨テーブル30A上の研磨パッド10に押圧しながら研磨するためのトップリング31Aと、研磨パッド10に研磨液やドレッシング液(例えば、純水)を供給するための研磨液供給ノズル32Aと、研磨パッド10の研磨面のドレッシングを行うためのドレッサ33Aと、液体(例えば純水)と気体(例えば窒素ガス)の混合流体または液体(例えば純水)を霧状にして研磨面に噴射するアトマイザ34Aと、研磨パッド10に流体を吹き付けることによって研磨パッド10を冷却する冷却装置35Aと、を備えている。
より研磨位置と第2搬送位置TP2との間を移動する。したがって、トップリング31Aへのウェハの受け渡しは第2搬送位置TP2で行われる。同様に、第2研磨ユニット3Bのトップリング31Bは研磨位置と第3搬送位置TP3との間を移動し、トップリング31Bへのウェハの受け渡しは第3搬送位置TP3で行われる。第3研磨ユニット3Cのトップリング31Cは研磨位置と第6搬送位置TP6との間を移動し、トップリング31Cへのウェハの受け渡しは第6搬送位置TP6で行われる。第4研磨ユニット3Dのトップリング31Dは研磨位置と第7搬送位置TP7との間を移動し、トップリング31Dへのウェハの受け渡しは第7搬送位置TP7で行われる。
図3は、洗浄ユニット4の構成を示す図である。図3Aは洗浄ユニット4を示す平面図であり、図3Bは洗浄ユニット4を示す側面図である。図3A及び図3Bに示すように、洗浄ユニット4は、第1洗浄室190と、第1搬送室191と、第2洗浄室192と、第2搬送室193と、乾燥室194とに区画されている。第1洗浄室190内には、縦方向に沿って配列された上側一次洗浄モジュール201A及び下側一次洗浄モジュール201Bが配置されている。上側一次洗浄モジュール201Aは下側一次洗浄モジュール201Bの上方に配置されている。同様に、第2洗浄室192内には、縦方向に沿って配列された上側二次洗浄モジュール202A及び下側二次洗浄モジュール202Bが配置されている。上側二次洗浄モジュール202Aは下側二次洗浄モジュール202Bの上方に配置されている。一次及び二次洗浄モジュール201A,201B,202A,202Bは、洗浄液を用いてウェハを洗浄する洗浄機である。これらの一次及び二次洗浄モジュール201A,201B,202A,202Bは垂直方向に沿って配列されているので、フットプリント面積が小さいという利点が得られる。
、第2搬送室193には、上下動可能な第2搬送ロボット210が配置されている。第1搬送ロボット209及び第2搬送ロボット210は、縦方向に延びる支持軸211,212にそれぞれ移動自在に支持されている。第1搬送ロボット209及び第2搬送ロボット210は、その内部にモータなどの駆動機構を有しており、支持軸211,212に沿って上下に移動自在となっている。第1搬送ロボット209は、搬送ロボット22と同様に、上下二段のハンドを有している。第1搬送ロボット209は、図3Aの点線が示すように、その下側のハンドが上述した仮置き台180にアクセス可能な位置に配置されている。第1搬送ロボット209の下側のハンドが仮置き台180にアクセスするときには、隔壁1bに設けられているシャッタ(図示せず)が開くようになっている。
次に、冷却装置35の構成について説明する。まず、従来の冷却装置の構造について説明する。図4は、従来の冷却装置の構造を示す図である。図4に示すように、従来の冷却装置3500は、研磨パッドに対向して配置され、研磨パッドを冷却するための流体が通流可能な流路が内部に形成されたブロックマニホールド3510と、流路内の流体を研磨パッド10へ吹き付けるためのノズル3520と、を備える。ここで、ノズル3520には、流体を研磨パッド10へ吹き付けるためのノズル開口3540と、ノズル3520をブロックマニホールド3510へ固定するためのねじ構造3530と、が形成される。図4に示すように、ノズル3520は、ねじ構造3530をブロックマニホールド3510へねじ込むことによってブロックマニホールド3510へ固定される。
図5,6は、本実施形態の冷却装置35の構造を示す斜視図である。図7は、本実施形態の冷却装置35の構造を示す平面図である。図7A,図7B,図7C,図7Dはそれぞれ、冷却装置35の正面図,上面図,底面図,側面図である。
を冷却するための流体が通流可能な流路354が内部に形成されている。流体には、冷却水などの液体、又は冷却ガスなどの気体が含まれる。ブロックマニホールド352は、所定の方向へ延在して配置され、流路354はブロックマニホールド352の延在方向に沿って延在する。また、ブロックマニホールド352には、固定構造370によってノズル360をブロックマニホールド352に固定するための固定穴356が形成されている。また、ブロックマニホールド352には、流路354へ流体を供給するための配管380が接続されている。
込み穴374と、端部から5番麺の嵌め込み穴374の2箇所にそれぞれ、ノズル360が嵌め込まれている例を示すが、これには限られない。なお、ボルト378は、2個の嵌め込み穴374それぞれにノズル360が嵌め込まれた状態で固定プレート372をブロックマニホールド352に固定する。
以上説明したように、本発明は以下の形態を有する。
[形態1]
研磨対象物を研磨するための研磨パッドに対向して配置され、前記研磨パッドを冷却するための流体が通流可能な流路が内部に形成されたブロックと、
前記流路内の流体を前記研磨パッドへ吹き付けるためのノズルと、
前記ノズルを前記ブロックに固定するための固定構造と、を備え、
前記固定構造は、前記ノズルを嵌め込んで固定するための嵌め込み穴が形成された固定ベースと、前記嵌め込み穴に前記ノズルが嵌め込まれた状態で前記固定ベースを前記ブロックに固定するための固定部材と、を有する、
ことを特徴とする冷却装置。
[形態2]
形態1の冷却装置において、
前記嵌め込み穴は、前記ノズルが前記固定ベースに対して所定の角度に固定されるように、前記ノズルの外形に対応する形状を有する、
ことを特徴とする冷却装置。
[形態3]
形態1又は2の冷却装置において、
前記ノズルは、前記流路の延在方向に沿って複数設けられ、
前記固定ベースは、前記複数のノズルそれぞれを嵌め込んで固定するための複数の嵌め込み穴が形成され、
前記固定部材は、前記複数の嵌め込み穴それぞれに前記ノズルが嵌め込まれた状態で前記固定ベースを前記ブロックに固定する、
ことを特徴とする冷却装置。
[形態4]
形態1〜3のいずれか1項の冷却装置において、
前記嵌め込み穴は、前記固定ベースの前記ブロックに対向する対向面側から前記ノズルを嵌め込んで前記ノズルの流体吹き出し開口を前記対向面の反対面側へ突出させて固定するよう形成され、
前記固定部材は、前記固定ベースを、前記ブロックの前記研磨パッドに対向する対向面に固定する、
ことを特徴とする冷却装置。
[形態5]
形態1〜4のいずれか1項の冷却装置において、
前記ノズルは、前記流路に連通する筒体と、前記筒体に形成された流体吹き出し開口と、を備え、
前記筒体の外形には、筒体の周方向に沿って、平面部分と曲面部分とが形成され、
前記嵌め込み穴の内壁には、前記筒体の平面部分と曲面部分とに対応する平面部分と曲面部分とが形成される、
ことを特徴とする冷却装置。
[形態6]
研磨対象物を研磨するための研磨パッドが貼り付けられた研磨テーブルと、
前記研磨テーブルを回転させる第1の駆動部と、
前記研磨対象物を保持して前記研磨パッドに押圧させる保持部と、
前記保持部を回転させる第2の駆動部と、
前記研磨パッドに対向して配置される、形態1〜5のいずれか1項の冷却装置と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
37 第1の電動モータ(第1の駆動部)
38 第2の電動モータ(第2の駆動部)
352 ブロックマニホールド
352a 対向面
354 流路
356 固定穴
360 ノズル
362 筒体
362a 平面部分
362b 曲面部分
364 流体吹き出し開口
370 固定構造
372 固定プレート
372a 対向面
372b 反対面
374 嵌め込み穴
374b 曲面部分
374a 平面部分
376 固定穴
378 ボルト
380 配管
Claims (7)
- 研磨対象物を研磨するための研磨パッドに対向して配置され、前記研磨パッドを冷却するための流体が通流可能な流路が内部に形成されたブロックと、
前記流路内の流体を前記研磨パッドへ吹き付けるためのノズルと、
前記ノズルを前記ブロックに固定するための固定構造と、を備え、
前記固定構造は、前記ノズルを嵌め込んで固定するための嵌め込み穴が形成された固定ベースと、前記嵌め込み穴に前記ノズルが嵌め込まれた状態で前記固定ベースを前記ブロックに固定するための固定部材と、を有し、
前記ノズルは、前記固定ベースの長手方向に沿って複数設けられ、
前記固定部材は、複数設けられ、
隣接する前記固定部材を結ぶ直線の方向は、前記固定ベースの長手方向と異なり、かつ、前記固定ベースの長手方向に直交する方向と異なる、
ことを特徴とする冷却装置。 - 研磨対象物を研磨するための研磨パッドに対向して配置され、前記研磨パッドを冷却するための流体が通流可能な流路が内部に形成されたブロックと、
前記流路内の流体を前記研磨パッドへ吹き付けるためのノズルと、
前記ノズルを前記ブロックに固定するための固定構造と、を備え、
前記固定構造は、前記ノズルを嵌め込んで固定するための嵌め込み穴が形成された固定ベースと、前記嵌め込み穴に前記ノズルが嵌め込まれた状態で前記固定ベースを前記ブロックに固定するための固定部材と、を有し、
前記ノズルは、前記固定ベースの長手方向に沿って複数設けられ、
前記固定部材は、少なくとも3個設けられ、
隣接する前記固定部材を結ぶ線分は、全体としてジグザグ形状を構成する、
ことを特徴とする冷却装置。 - 請求項1又は2の冷却装置において、
前記嵌め込み穴は、前記ノズルが前記固定ベースに対して所定の角度に固定されるように、前記ノズルの外形に対応する形状を有する、
ことを特徴とする冷却装置。 - 請求項1〜3のいずれか1項の冷却装置において、
前記ノズルは、前記流路の延在方向に沿って複数設けられ、
前記固定ベースは、前記複数のノズルそれぞれを嵌め込んで固定するための複数の嵌め込み穴が形成され、
前記固定部材は、前記複数の嵌め込み穴それぞれに前記ノズルが嵌め込まれた状態で前記固定ベースを前記ブロックに固定する、
ことを特徴とする冷却装置。 - 請求項1〜4のいずれか1項の冷却装置において、
前記嵌め込み穴は、前記固定ベースの前記ブロックに対向する対向面側から前記ノズルを嵌め込んで前記ノズルの流体吹き出し開口を前記対向面の反対面側へ突出させて固定するよう形成され、
前記固定部材は、前記固定ベースを、前記ブロックの前記研磨パッドに対向する対向面に固定する、
ことを特徴とする冷却装置。 - 請求項1〜5のいずれか1項の冷却装置において、
前記ノズルは、前記流路に連通する筒体と、前記筒体に形成された流体吹き出し開口と、を備え、
前記筒体の外形には、筒体の周方向に沿って、平面部分と曲面部分とが形成され、
前記嵌め込み穴の内壁には、前記筒体の平面部分と曲面部分とに対応する平面部分と曲面部分とが形成される、
ことを特徴とする冷却装置。 - 研磨対象物を研磨するための研磨パッドが貼り付けられた研磨テーブルと、
前記研磨テーブルを回転させる第1の駆動部と、
前記研磨対象物を保持して前記研磨パッドに押圧させる保持部と、
前記保持部を回転させる第2の駆動部と、
前記研磨パッドに対向して配置される、請求項1〜6のいずれか1項の冷却装置と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2014085592A JP6353266B2 (ja) | 2014-04-17 | 2014-04-17 | 冷却装置、及び、基板処理装置 |
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JP2014085592A JP6353266B2 (ja) | 2014-04-17 | 2014-04-17 | 冷却装置、及び、基板処理装置 |
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JP2015205355A JP2015205355A (ja) | 2015-11-19 |
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Family Applications (1)
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2014
- 2014-04-17 JP JP2014085592A patent/JP6353266B2/ja active Active
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