JP6341347B2

JP6341347B2 - 蒸着用メタルマスク

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Publication number: JP6341347B2
Application number: JP2018503608A
Authority: JP
Inventors: 宏平石渡; 剛広西
Original assignee: Toppan Inc
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Priority date: 2016-04-15
Filing date: 2017-04-13
Publication date: 2018-06-13
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Description

本発明は、蒸着用メタルマスクに関する。

蒸着法を用いて製造される表示デバイスの１つとして有機ＥＬディスプレイが知られている。有機ＥＬディスプレイが備える有機層は、蒸着工程において昇華された有機分子の堆積物である。蒸着工程にて用いられるメタルマスクは複数のマスク孔を有し、各マスク孔は、昇華された有機分子が通る通路である。

各マスク孔は、メタルマスクを厚さ方向に沿って貫通している。複数のマスク孔が開口した面と対向する平面視において、各マスク孔は長方形状の領域を区画し、複数のマスク孔は、例えば千鳥配列状に並んでいる（例えば、特許文献１参照）。

特開２００４−２８１３３９号公報

ところで、互いに隣り合うマスク孔間の幅は、マスク孔の延在方向と、その延在方向と交差する方向とにおいて、相互に異なる大きさを有する場合がある。マスク孔間の幅の中で相対的に小さい部分は、メタルマスクにおける他の部分と比べて、強度の低い脆弱部である。厚さが１ｍｍにも満たないメタルマスクにおいて、こうした脆弱部とマスク孔とが１つの方向に沿って１つずつ交互に繰り返されると、脆弱部の並ぶ方向に沿って連なる折れがメタルマスクにおいて生じる場合がある。

こうした事項は、有機ＥＬディスプレイを含む表示デバイスの製造に用いられる蒸着用メタルマスクに限らず、各種のデバイスが備える配線の形成や、各種のデバイスが備える機能層などの蒸着に用いられる蒸着用メタルマスクにも共通している。また、こうした事項は、複数のマスク孔が開口する１つの面と対向する平面視において、複数のマスク孔が格子状に並ぶメタルマスクや、各マスク孔の開口がほぼ正方形状を有する構成においても共通している。
本発明は、マスク孔の並ぶ方向に沿って連なる折れを抑えることを可能にした蒸着用メタルマスクを提供することを目的とする。

上記課題を解決するための蒸着用メタルマスクは、第１方向と、前記第１方向と直交する第２方向とに沿って並ぶ複数のマスク孔を備える蒸着用メタルマスクである。前記蒸着用メタルマスクは、第１面と第２面とを備え、前記各マスク孔は、前記第１面に開口した第１開口と、前記第２面に開口した第２開口とを有する。前記各マスク孔を区画する前記蒸着用メタルマスクの要素は、前記第１方向において互いに対向する２つの第１マスク要素と、前記第２方向において互いに対向する２つの第２マスク要素とから構成される。前記第１マスク要素と前記マスク孔とが、前記第１方向に沿って１つずつ交互に繰り返され、かつ、前記第２マスク要素と前記マスク孔とが、前記第２方向に沿って１つずつ交互に繰り返される。前記第１マスク要素が前記第１方向に沿って有する幅は、前記第２マスク要素が前記第２方向に沿って有する幅よりも小さい。前記第１方向と直交する断面において、前記第２マスク要素の厚さにおける極大値に対する前記第１マスク要素の厚さにおける極小値の比が、７０％以上である。前記各マスク孔において、前記第１方向と直交する断面における前記マスク孔の幅がマスク孔幅であり、前記第１開口での前記マスク孔幅が、前記第２開口での前記マスク孔幅よりも小さい。前記第１開口から前記第２開口までの間における前記マスク孔幅の最小値に対する前記第２マスク要素の厚さにおける前記極大値の比が、４１％以上である。

上記構成によれば、第１方向と直交する断面において、第２マスク要素の厚さにおける極大値と、第１マスク要素の厚さにおける極小値との差が３０％よりも小さくなるように、蒸着用メタルマスク内での厚さのばらつきが抑えられる。そのため、第１マスク要素の連なる部分において折れが生じることが抑えられる程度に、蒸着用メタルマスクの中で、第１マスク要素の連なる部分と、それ以外の部分とにおける強度の差が抑えられる。

また、蒸着用メタルマスクにおいて、マスク孔幅が大きいほど、第２方向に沿う第１マスク要素の長さが大きくなる。一方で、第１マスク要素の厚さは、第２方向において第１マスク要素を挟む第２マスク要素の厚さにおける極大値によっておおよそ決まり、極大値が大きいほど、第１マスク要素の厚さが大きくなる。

この点で、上記構成によれば、マスク孔幅の最小値に対する第２マスク要素の厚さにおける極大値の比が４１％以上であるため、各第１マスク要素の強度が、蒸着用メタルマスクにおける他の部分に比べて、第１マスク要素に折れが集中しない大きさになる。

結果として、マスク孔の並ぶ方向に沿って連なる折れが蒸着用メタルマスクに生じることが抑えられる。

上記蒸着用メタルマスクにおいて、複数の前記マスク孔は、前記第１方向に沿って一定のピッチで並び、前記ピッチに対する極大値の比が６％以上であり、当該極大値は、前記第２方向と直交する断面における前記第１マスク要素の厚さにおける極大値であることが好ましい。

第１方向に沿うピッチは、蒸着用メタルマスクを構成する要素、すなわち第１マスク要素と空間との最小単位である。このうち、第１マスク要素は、蒸着用メタルマスクによって形成する有機層の大きさに関わらず、ほぼ所定の大きさに維持される部分である。第１マスク要素の大きさは、例えば、周辺回路などの大きさによって決まり、有機ＥＬディスプレイでの発光の効率を高める上では、最小限の大きさとされる部分である。一方で、ピッチに含まれる空間は、有機ＥＬディスプレイに求められる解像度などによって大きさが変わる部分である。

この点で、蒸着用メタルマスクでは、ピッチの大きさが変わっても、すなわち、ピッチに含まれる空間の大きさが変わっても、第１マスク要素の厚さにおける極大値が所定の大きさ以上に維持される。そのため、蒸着用メタルマスクのうち、第１マスク要素における折れの発生が抑えられる。

上記蒸着用メタルマスクにおいて、前記マスク孔幅が前記第２方向に沿うマスク孔幅である第２マスク孔幅であり、前記第２方向と直交する断面における前記マスク孔の幅が前記第１方向に沿うマスク孔幅である第１マスク孔幅であり、前記第１開口での前記第１マスク孔幅が、前記第２開口での前記第１マスク孔幅よりも小さく、前記第１開口から前記第２開口までの間における前記第１マスク孔幅の最小値に対する前記第１マスク要素の厚さにおける極大値の比が、７％以上であることが好ましい。

蒸着用メタルマスクにおいて、第１方向に沿って延びる空間であるマスク孔の幅に対して、第１方向においてマスク孔を区画する第１マスク要素の厚さにおける極大値が大きいほど、蒸着用メタルマスクの強度が高まる。
この点で、上記構成によれば、第１マスク孔幅の最小値に対する第１マスク要素の厚さにおける極大値の比が７％以上であるため、各第１マスク要素の強度が、蒸着用メタルマスクにおける他の部位に比べて、第１マスク要素に折れがより集中しない大きさになる。

上記蒸着用メタルマスクにおいて、前記蒸着用メタルマスクが広がる方向と直交する方向から見て、複数の前記マスク孔は千鳥配列状に並んでいてもよい。

上記構成によれば、複数のマスク孔が千鳥配列状に並んでいる蒸着用メタルマスクにおいて、マスク孔が並ぶ方向に沿って連なる折れを抑えることができる。

本発明によれば、マスク孔の並ぶ方向に沿って連なる折れを抑えることができる。

本発明の蒸着用メタルマスクを具体化した一実施形態における一部斜視構造を示す部分斜視図。第１面と対向する平面視における蒸着用メタルマスクの一部平面構造を示す部分平面図。第１方向と直交する断面の一部を模式的に示す部分断面図。第１方向と直交する断面の一部を模式的に示す部分断面図。第２方向と直交する断面の一部を模式的に示す部分断面図。蒸着用メタルマスクの製造方法におけるレジスト層の形成工程を説明するための工程図。蒸着用メタルマスクの製造方法におけるレジスト層のパターニング工程を説明するための工程図。メタルマスク用基材の第１面と対向する平面視におけるレジストパターンの一部平面構造を示す部分平面図。メタルマスク用基材の第２面と対向する平面視におけるレジストパターンの一部平面構造を示す部分平面図。蒸着用メタルマスクの製造方法におけるメタルマスク用基材を第１面からエッチングする工程を説明するための工程図。蒸着用メタルマスクの製造方法におけるメタルマスク用基材を第２面からエッチングする工程を説明するための工程図。実施例１から実施例３における第１方向と直交する断面の一部を模式的に示す部分断面図。比較例１，３，５における第１方向と直交する断面の一部を模式的に示す部分断面図。比較例２，４，６における第１方向と直交する断面の一部を模式的に示す部分断面図。変形例の蒸着用メタルマスクにおける第１面と対向する方向から見た平面構造を示す平面図。

図１から図１４を参照して、本発明の蒸着用メタルマスクを具体化した一実施形態を説明する。以下では、蒸着用メタルマスクの構成、蒸着用メタルマスクの製造方法、および、実施例を順に説明する。なお、以下に説明する蒸着用メタルマスクは、複数の有機層を備える有機ＥＬディスプレイの製造に用いられる蒸着用メタルマスクである。

［蒸着用メタルマスクの構成］
図１から図５を参照して、蒸着用メタルマスクの構成を説明する。
図１が示すように、蒸着用メタルマスク１０は、第１面１０ａと第２面１０ｂとを備えている。蒸着用メタルマスク１０は、第１方向Ｄ１に沿って延び、第１方向Ｄ１と直交する第２方向Ｄ２に沿って所定の幅を有する板状を有している。

蒸着用メタルマスク１０は、第１方向Ｄ１と第２方向Ｄ２とに沿って並ぶ複数のマスク孔１１を備えている。第１面１０ａと対向する方向から見て、第１面１０ａには、複数のマスク孔１１が形成された領域であるマスク領域Ｒ１と、マスク領域Ｒ１を囲む周辺領域Ｒ２とが区画されている。マスク領域Ｒ１は、複数のマスク孔１１を形成するための加工が施された領域であり、周辺領域Ｒ２は、この加工が施されていない領域である。

第１面１０ａには、第１方向Ｄ１に沿って所定の間隔を空けて複数のマスク領域Ｒ１が区画されてもよいし、第１方向Ｄ１と第２方向Ｄ２との各々に沿って所定の間隔を空けて複数のマスク領域Ｒ１が区画されてもよい。

蒸着用メタルマスク１０は金属製であり、インバー製であることが好ましい。なお、蒸着用メタルマスク１０の形成材料は、インバー以外の金属であってもよい。蒸着用メタルマスク１０のうち、周辺領域Ｒ２における厚さＴは、例えば、２０μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましい。

図２は、第１面１０ａと対向する方向から見た蒸着用メタルマスク１０の平面構造を示している。

図２が示すように、蒸着用メタルマスク１０において、各マスク孔１１を区画する蒸着用メタルマスク１０の要素は、第１方向Ｄ１において互いに対向する２つの第１マスク要素２１と、第２方向Ｄ２において互いに対向する２つの第２マスク要素２２とから構成されている。

蒸着用メタルマスク１０では、第１マスク要素２１とマスク孔１１とが、第１方向Ｄ１に沿って１つずつ交互に繰り返され、かつ、第２マスク要素２２とマスク孔１１とが、第２方向Ｄ２に沿って１つずつ交互に繰り返されている。

第１マスク要素２１が第１方向Ｄ１に沿って有する幅が第１幅Ｗ１であり、第２マスク要素２２が第２方向Ｄ２に沿って有する幅が第２幅Ｗ２である。第１マスク要素２１の第１幅Ｗ１は、第２マスク要素２２の第２幅Ｗ２よりも小さい。

蒸着用メタルマスク１０は第１方向Ｄ１と第２方向Ｄ２とによって規定される平面に沿って広がり、蒸着用メタルマスク１０が広がる方向と直交する方向から見て、複数のマスク孔１１は千鳥配列状に並んでいる。言い換えれば、第１面１０ａと対向する方向から見て、複数のマスク孔１１は千鳥配列状に並んでいる。

第１面１０ａと対向する平面視において、各マスク孔１１は矩形状の領域を区画し、各マスク孔１１が第１方向Ｄ１に沿って有する幅は、そのマスク孔１１が第２方向Ｄ２に沿って有する幅よりも大きい。複数のマスク孔１１は、第１方向Ｄ１に沿って一定の第１ピッチＰ１で並んでいる。

複数のマスク孔１１では、第１方向Ｄ１に沿って並ぶ複数のマスク孔１１が、１つの列を構成している。各列を構成する複数のマスク孔１１において、第１方向Ｄ１における位置が１列おきに互いに重なる。一方で、第２方向Ｄ２において互いに隣り合う列では、一方の列を構成する複数のマスク孔１１における第１方向Ｄ１での位置に対して、他方の列を構成する複数のマスク孔１１における第１方向Ｄ１での位置が、１／２ピッチずれている。複数のマスク孔１１のうち、第１方向Ｄ１における位置が重なるマスク孔１１は、第２方向Ｄ２に沿って、一定の第２ピッチＰ２で並んでいる。第２ピッチＰ２は第１ピッチＰ１に等しい値である。第１ピッチＰ１と第２ピッチＰ２とは、一般に、画素形状に倣って互いに等しい値とされている。

千鳥配列状に並ぶ複数のマスク孔１１では、第１方向Ｄ１において隣り合う２つのマスク孔１１の間に位置する１つの第１マスク要素２１が、２つのマスク孔１１の各々を区画する蒸着用メタルマスク１０の要素として機能する。また、第２方向Ｄ２において隣り合う２つのマスク孔１１の間では、蒸着用メタルマスク１０のうち、一方のマスク孔１１に対する第２マスク要素２２として機能する部分の一部と、他方のマスク孔１１に対する第２マスク要素２２として機能する部分の一部とが互いに重なっている。

なお、千鳥配列状に並ぶ複数のマスク孔１１では、第２方向Ｄ２において互いに隣り合う列において、マスク孔１１における第１方向Ｄ１での位置のずれが、１／２ピッチよりも小さくてもよいし、１／２ピッチよりも大きくてもよい。また、各マスク孔１１において、第１方向Ｄ１に沿って有する幅と、第２方向Ｄ２に沿って有する幅とが互いに等しくてもよい。

図３は、蒸着用メタルマスク１０において、第１方向Ｄ１と直交する断面の構造であって、第１方向Ｄ１における第１マスク要素２１の中央を通る断面の構造を示している。図３は、図２のＩ−Ｉ線に沿う断面構造を示している。

図３が示すように、第１方向Ｄ１と直交する断面において、第１マスク要素２１の厚さは極小値Ｔ１ｍを有し、第２マスク要素２２の厚さは極大値Ｔ２Ｍを有している。

第１方向Ｄ１と直交する断面において、第１マスク要素２１の厚さにおける極小値Ｔ１ｍが、１２．５μｍ以上であることが好ましい。第２マスク要素２２の厚さにおける極大値Ｔ２Ｍに対する第１マスク要素２１の厚さにおける極小値Ｔ１ｍの比が、７０％以上である。すなわち、第１マスク要素２１の厚さにおける極小値Ｔ１ｍと、第２マスク要素２２の厚さにおける極大値Ｔ２Ｍとは、以下の式（１）を満たす。
Ｔ１ｍ／Ｔ２Ｍ × １００ ≧ ７０ … 式（１）

こうした蒸着用メタルマスク１０によれば、第１方向Ｄ１と直交する断面において、第１マスク要素２１の厚さが、１２．５μｍ以上に確保される。そのため、第１マスク要素２１の連なる部分における折れが生じることが抑えられる程度に、蒸着用メタルマスク１０の中で、第１マスク要素２１の連なる部分と、それ以外の部分とにおける強度の差がより抑えられる。

さらに、第２マスク要素２２の厚さにおける極大値Ｔ２Ｍと、第１マスク要素２１の厚さにおける極小値Ｔ１ｍとの差が３０％よりも小さくなるように、蒸着用メタルマスク１０内での厚さのばらつきが抑えられる。

そのため、第１マスク要素２１の連なる部分において折れが生じることが抑えられる程度に、蒸着用メタルマスク１０の中で、第１マスク要素２１の連なる部分と、それ以外の部分とにおける強度の差が抑えられる。結果として、マスク孔１１の並ぶ方向に沿って連なる折れ、特に、第１マスク要素２１が並ぶ方向に沿って連なる折れが蒸着用メタルマスク１０に生じることが抑えられる。

各マスク孔１１は、第１面１０ａに開口した第１開口１１ａと、第２面１０ｂに開口した第２開口１１ｂとを有している。各マスク孔１１は、第１開口１１ａを含む第１孔要素１１ｃと、第２開口１１ｂを含む第２孔要素１１ｄとから構成され、第１孔要素１１ｃと第２孔要素１１ｄとは、蒸着用メタルマスク１０の厚さ方向において連なっている。第１孔要素１１ｃと第２孔要素１１ｄとが連なる部分が、連続要素１１ｅである。

各マスク孔１１において、第１方向Ｄ１と直交する断面におけるマスク孔１１の幅であって、第２方向Ｄ２に沿うマスク孔１１の幅が第２マスク孔幅Ｗｍ２である。第１開口１１ａでの第２マスク孔幅Ｗｍ２が、第２開口１１ｂでの第２マスク孔幅Ｗｍ２よりも小さい。

第１孔要素１１ｃにおける第２マスク孔幅Ｗｍ２は、第１開口１１ａにおいて最も大きく、連続要素１１ｅに向けて次第に小さくなり、第２孔要素１１ｄにおける第２マスク孔幅Ｗｍ２は、第２開口１１ｂにおいて最も大きく、連続要素１１ｅに向けて次第に小さくなる。すなわち、各マスク孔１１において、連続要素１１ｅにおける第２マスク孔幅Ｗｍ２が最も小さい。また、第１孔要素１１ｃにおける蒸着用メタルマスク１０の厚さ方向に沿う長さは、第２孔要素１１ｄにおける蒸着用メタルマスク１０の厚さ方向に沿う長さよりも小さい。

第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２に対する第２マスク要素２２の厚さにおける極大値Ｔ２Ｍの比が４１％以上である。すなわち、第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２と、第２マスク要素２２の厚さにおける極大値Ｔ２Ｍとは、以下の式（２）を満たす。
Ｔ２Ｍ／Ｗｍｍ２ × １００ ≧ ４１ … 式（２）

蒸着用メタルマスク１０において、第２マスク孔幅Ｗｍ２が大きいほど、第２方向Ｄ２に沿う第１マスク要素２１の長さが大きくなる。一方で、第１マスク要素２１の厚さは、第２方向Ｄ２において第１マスク要素２１を挟む第２マスク要素２２の厚さにおける極大値Ｔ２Ｍによっておおよそ決まり、極大値Ｔ２Ｍが大きいほど、第１マスク要素２１の厚さが大きくなる。

この点で、上述した蒸着用メタルマスク１０では、第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２に対する第２マスク要素２２の厚さにおける極大値Ｔ２Ｍの比が４１％以上であるため、各第１マスク要素２１の強度が、蒸着用メタルマスク１０における他の部分に比べて、第１マスク要素２１に折れが集中しない大きさになる。

図４が示すように、第２孔要素１１ｄを区画する面が第２内周面１１ｄｐであり、第１方向Ｄ１と直交する断面において、第２内周面１１ｄｐは、第１弧状要素ｄｐ１、第２弧状要素ｄｐ２、および、変曲要素ｄｐ３を有している。第２内周面１１ｄｐにおいて、２つの第１弧状要素ｄｐ１が第２方向Ｄ２において対向し、２つの第２弧状要素ｄｐ２が第２方向Ｄ２において対向し、かつ、２つの変曲要素ｄｐ３が第２方向Ｄ２において対向している。

第１弧状要素ｄｐ１は、連続要素１１ｅを含み、第２弧状要素ｄｐ２は、第２開口１１ｂを含んでいる。第１弧状要素ｄｐ１の曲率半径と、第２弧状要素ｄｐ２の曲率半径とは互いに異なり、第１弧状要素ｄｐ１の曲率半径が、第２弧状要素ｄｐ２の曲率半径よりも大きい。変曲要素ｄｐ３は、第１弧状要素ｄｐ１と第２弧状要素ｄｐ２とが繋がる部分である。第１弧状要素ｄｐ１と第２弧状要素ｄｐ２との各々は、各弧状要素における曲率の中心が、蒸着用メタルマスク１０の外側に位置するような曲率を有している。

第１孔要素１１ｃを区画する面が第１内周面１１ｃｐであり、第１方向Ｄ１と直交する断面において、第１内周面１１ｃｐは、第１開口１１ａと連続要素１１ｅとを含む第１弧状要素ｃｐ１を有している。第１内周面１１ｃｐにおいて、２つの第１弧状要素ｃｐ１が第２方向Ｄ２において対向している。第１弧状要素ｃｐ１は、第１弧状要素ｃｐ１における曲率の中心が、蒸着用メタルマスク１０の外側に位置するような曲率を有している。

図５は、蒸着用メタルマスク１０において、第２方向Ｄ２と直交する断面の構造であって、第２方向Ｄ２における第１マスク要素２１の中央を通る断面の構造を示している。図５は、図２のＩＩ−ＩＩ線に沿う断面構造を示している。

図５が示すように、第２方向Ｄ２と直交する断面において、第１マスク要素２１は極大値Ｔ１Ｍを有している。上述した第１方向Ｄ１に沿う第１ピッチＰ１に対する第１マスク要素２１の厚さにおける極大値Ｔ１Ｍの比が６％以上である。すなわち、第１方向Ｄ１に沿う第１ピッチＰ１と、第１マスク要素２１の極大値Ｔ１Ｍとは、以下の式（３）を満たす。
Ｔ１Ｍ／Ｐ１ × １００ ≧ ６ … 式（３）

第１方向Ｄ１に沿う第１ピッチＰ１は、蒸着用メタルマスク１０を構成する要素、すなわち第１マスク要素２１と空間との最小単位である。このうち、第１マスク要素２１は、蒸着用メタルマスク１０によって形成する有機層の大きさに関わらず、ほぼ所定の大きさに維持される部分である。第１マスク要素２１の大きさは、例えば、周辺回路などの大きさによって決まり、有機ＥＬディスプレイでの発光の効率を高める上では、最小限の大きさとされる部分である。一方で、第１ピッチＰ１に含まれる空間は、有機ＥＬディスプレイに求められる解像度などによって大きさが変わる部分である。

この点で、蒸着用メタルマスク１０では、第１ピッチＰ１の大きさが変わっても、すなわち、第１ピッチＰ１に含まれる空間の大きさが変わっても、第１マスク要素２１の厚さにおける極大値Ｔ１Ｍが所定の大きさ以上に維持される。そのため、蒸着用メタルマスク１０のうち、第１マスク要素２１における折れの発生が抑えられる。

第２方向Ｄ２と直交する断面において、第１マスク要素２１は、略五角形形状を有している。そのため、第１マスク要素２１は、第１面１０ａに沿う辺からの距離が最も大きい頂点において、厚さにおける極大値Ｔ１Ｍを有する。

各マスク孔１１において、第２方向Ｄ２と直交する断面におけるマスク孔１１の幅であって、第１方向Ｄ１に沿うマスク孔１１の幅が第１マスク孔幅Ｗｍ１である。第１開口１１ａでの第１マスク孔幅Ｗｍ１が、第２開口１１ｂでの第１マスク孔幅Ｗｍ１よりも小さい。

第１マスク孔幅Ｗｍ１は、第１開口１１ａから第２開口１１ｂに向かう方向の途中において、最小値Ｗｍｍ１を有する。第１マスク孔幅Ｗｍ１の最小値Ｗｍｍ１に対する第１マスク要素２１の厚さにおける極大値Ｔ１Ｍの比が７％以上である。すなわち、第１マスク孔幅Ｗｍ１の最小値Ｗｍｍ１と、第１マスク要素２１の厚さにおける極大値Ｔ１Ｍとは、以下の式（４）を満たす。
Ｔ１Ｍ／Ｗｍｍ１ × １００ ≧ ７ …式（４）

蒸着用メタルマスク１０において、第１方向Ｄ１に沿って延びる空間であるマスク孔１１の幅に対して、第１方向Ｄ１においてマスク孔１１を区画する第１マスク要素２１の厚さにおける極大値Ｔ１Ｍが大きいほど、蒸着用メタルマスク１０の強度が高まる。

この点で、蒸着用メタルマスク１０では、第１マスク孔幅Ｗｍ１の最小値Ｗｍｍ１に対する第１マスク要素２１の厚さにおける極大値Ｔ１Ｍの比が７％以上であるため、各第１マスク要素２１の強度が、蒸着用メタルマスク１０における他の部位に比べて、第１マスク要素２１に折れがより集中しない大きさになる。

なお、こうした蒸着用メタルマスク１０を用いた成膜対象に対する有機層の形成は、以下のように行われる。以下では、蒸着用メタルマスク１０における第１方向Ｄ１および第２方向Ｄ２を、成膜後の成膜対象における第１方向Ｄ１および第２方向Ｄ２に対応させて説明する。

例えば、有機層を形成するときには、まず、蒸着用メタルマスク１０を用いて、青色の有機層が成膜対象に形成される。次いで、他の蒸着用メタルマスクを用いて、第２方向Ｄ２における青色の有機層間であって、かつ、第２方向Ｄ２において、１つの青色の有機層と隣り合う部位に、緑色の有機層と赤色の有機層とが、第１方向Ｄ１に沿って並ぶように形成される。

また例えば、まず、蒸着用メタルマスク１０を用いて青色の有機層が成膜対象に形成される。次いで、他の蒸着用メタルマスクを用いて、第２方向Ｄ２における青色の有機層間であって、かつ、第２方向Ｄ２において、１つの青色の有機層と隣り合う部位に、緑色の有機層と赤色の有機層とが、第２方向Ｄ２に沿って並ぶように形成される。

［蒸着用メタルマスクの製造方法］
図６から図１１を参照して、蒸着用メタルマスク１０の製造方法を説明する。なお、図６から図１１の各々には、図２のＩ−Ｉ線に沿う断面に相当する断面構造であって、各製造工程に対応する断面構造が示されている。

図６が示すように、蒸着用メタルマスク１０を製造する際には、まず、蒸着用メタルマスク１０を形成するためのメタルマスク用基材３１を準備する。メタルマスク用基材３１は、インバー製であることが好ましく、メタルマスク用基材３１の有する厚さは、例えば、２０μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましい。

メタルマスク用基材３１は第１面３１ａと、第１面３１ａとは反対側の面である第２面３１ｂとを有している。メタルマスク用基材３１の第１面３１ａは、蒸着用メタルマスク１０の第１面１０ａに相当し、メタルマスク用基材３１の第２面３１ｂは、蒸着用メタルマスク１０の第２面１０ｂに相当する。

メタルマスク用基材３１の第１面３１ａに第１レジスト層３２を形成し、第２面３１ｂに第２レジスト層３３を形成する。各レジスト層は、ドライフィルムレジストを貼り付けることによって、メタルマスク用基材３１に形成されてもよいし、レジスト層の形成材料を含む塗液が表面に塗布されることによって形成されてもよい。レジスト層の形成材料は、ネガ型のレジスト材料であることが好ましいが、ポジ型のレジスト材料であってもよい。

図７が示すように、第１レジスト層３２の一部をメタルマスク用基材３１の第１面３１ａから取り除くことによって、第１レジストパターン３４を形成する。また、第２レジスト層３３の一部をメタルマスク用基材３１の第２面３１ｂから取り除くことによって、第２レジストパターン３５を形成する。各レジストパターンを形成するときには、ネガ型のレジスト層であれば、レジスト層のうち、レジストパターンとしてメタルマスク用基材３１上に残す部分のみを露光する。そして、露光後のレジスト層を現像する。なお、ポジ型のレジスト層であれば、レジスト層のうち、メタルマスク用基材３１から取り除く部分のみを露光すればよい。

なお、第１レジスト層３２の露光と第２レジスト層３３の露光とは同時に行ってもよいし、個別に行ってもよい。また、第１レジスト層３２の現像と第２レジスト層３３の現像とは、同時に行ってもよいし、個別に行ってもよい。

第１レジストパターン３４は、複数の第１パターン要素３４ａと、複数の第２パターン要素３４ｂとを有している。第１レジストパターン３４は、複数のマスク孔１１における第１孔要素１１ｃをメタルマスク用基材３１に形成するためのレジストパターンである。このうち、各第１パターン要素３４ａは、メタルマスク用基材３１に第１マスク要素２１を区画するためのパターン要素であり、各第２パターン要素３４ｂは、メタルマスク用基材３１に第２マスク要素２２を区画するためのパターン要素である。

第２レジストパターン３５は、複数の第１パターン要素３５ａと、複数の第２パターン要素３５ｂとを有している。第２レジストパターン３５は、複数のマスク孔１１における第２孔要素１１ｄをメタルマスク用基材３１に形成するためのレジストパターンである。第１レジストパターン３４と同様、各第１パターン要素３５ａは、メタルマスク用基材３１に第１マスク要素２１を区画するためのパターン要素であり、各第２パターン要素３５ｂは、メタルマスク用基材３１に第２マスク要素２２を区画するためのパターン要素である。

図８は、メタルマスク用基材３１の第１面３１ａと対向する平面視における第１レジストパターン３４の平面構造を示している。なお、図８では、第１レジストパターン３４の形状を把握しやすくする便宜上、第１レジストパターン３４にドットが付されている。

図８が示すように、メタルマスク用基材３１の第１面３１ａと対向する平面視において、第１パターン要素３４ａは、第２方向Ｄ２に沿って延び、第１方向Ｄ１に沿って一定の間隔を空けて並んでいる。第１方向Ｄ１において、第１パターン要素３４ａの繰り返されるピッチは、蒸着用メタルマスク１０において、第１マスク要素２１が第１方向Ｄ１に沿って繰り返されるピッチにほぼ等しい。

第２パターン要素３４ｂは、第１方向Ｄ１に沿って延び、第２方向Ｄ２において隣り合う２つの第２パターン要素３４ｂは、第１パターン要素３４ａの長さの分だけ互いから離れて位置している。第１方向Ｄ１に沿って第１パターン要素３４ａが有する幅Ｗ３４ａは、第２方向Ｄ２に沿って第２パターン要素３４ｂが有する幅Ｗ３４ｂよりも小さい。

図９は、メタルマスク用基材３１の第２面３１ｂと対向する平面視における第２レジストパターン３５の平面構造を示している。なお、図９では、第２レジストパターン３５の形状を把握しやすくする便宜上、第２レジストパターン３５にドットが付されている。

図９が示すように、メタルマスク用基材３１の第２面３１ｂと対向する平面視において、第１パターン要素３５ａは第２方向Ｄ２に沿って延び、第１方向Ｄ１に沿って一定の間隔を空けて並んでいる。第１方向Ｄ１において、第１パターン要素３５ａの繰り返されるピッチは、蒸着用メタルマスク１０において、第１マスク要素２１が第１方向Ｄ１に沿って繰り返されるピッチにほぼ等しい。

第２パターン要素３５ｂは、第１方向Ｄ１に沿って延び、第２方向Ｄ２において隣り合う２つの第２パターン要素３５ｂは、第１パターン要素３５ａの長さの分だけ互いから離れて位置している。第２パターン要素３５ｂは、第１方向Ｄ１に沿って延びる隙間３５ｃを有し、隙間３５ｃは、各第２パターン要素３５ｂにおける第２方向Ｄ２の中央に位置している。

第２方向Ｄ２に沿って隙間３５ｃが有する幅Ｗ３５ｃは、第２方向Ｄ２における２つの第２パターン要素３５ｂ間の距離、すなわち、第２方向Ｄ２に沿って第１パターン要素３５ａが有する幅Ｗ３５ａ２よりも小さい。また、第１方向Ｄ１に沿って第１パターン要素３５ａが有する幅Ｗ３５ａ１は、第２方向Ｄ２に沿って第２パターン要素３５ｂが有する幅Ｗ３５ｂよりも小さい。

第１パターン要素３５ａは、第２方向Ｄ２に沿って隣り合う第２パターン要素３５ｂの間に位置し、第２方向Ｄ２において、第１パターン要素３５ａを挟む２つの第２パターン要素３５ｂに接続している。

図１０が示すように、第１レジストパターン３４を用いてメタルマスク用基材３１を第１面３１ａからエッチングする。なお、図１０は、メタルマスク用基材３１を第１面３１ａからエッチングしている途中におけるメタルマスク用基材３１の状態を示している。メタルマスク用基材３１がインバー製であれば、メタルマスク用基材３１のエッチング溶液として、例えば塩化第二鉄液を用いることができる。

なお、メタルマスク用基材３１を第１面３１ａからエッチングするときには、メタルマスク用基材３１のエッチングを開始する前に、第２レジストパターン３５のうち、メタルマスク用基材３１に接する面とは反対側の面に、第２保護層３６を形成する。

第２保護層３６は、メタルマスク用基材３１を第１面３１ａからエッチングするときに、メタルマスク用基材３１が第２面３１ｂからエッチングされることを防ぐための層である。第２保護層３６の形成材料は、メタルマスク用基材３１のエッチング溶液に対する耐性を有する材料であればよい。

第１レジストパターン３４を用いたメタルマスク用基材３１のエッチングが終了した後、第２レジストパターン３５から第２保護層３６を剥がし、メタルマスク用基材３１の第１面３１ａから第１レジストパターン３４を剥がす。

図１１が示すように、第２レジストパターン３５を用いてメタルマスク用基材３１を第２面３１ｂからエッチングする。なお、図１１は、メタルマスク用基材３１を第２面３１ｂからエッチングしている途中におけるメタルマスク用基材３１の状態を示している。メタルマスク用基材３１がインバー製であれば、メタルマスク用基材３１のエッチング溶液として、例えば塩化第二鉄液を用いることができる。

なお、メタルマスク用基材３１を第２面３１ｂからエッチングするときには、メタルマスク用基材３１のエッチングを開始する前に、メタルマスク用基材３１の第１面３１ａに、第１保護層３７を形成する。

第１保護層３７は、メタルマスク用基材３１を第２面３１ｂからエッチングするときに、メタルマスク用基材３１が第１面３１ａからエッチングされることを防ぐための層である。第１保護層３７の形成材料は、メタルマスク用基材３１のエッチング溶液に対する耐性を有する材料であればよい。

第２レジストパターン３５を用いたメタルマスク用基材３１のエッチングが終了した後、メタルマスク用基材３１の第１面３１ａから第１保護層３７を剥がし、第２面３１ｂから第２レジストパターン３５を剥がす。これにより、蒸着用メタルマスク１０を得ることができる。

メタルマスク用基材３１が第２面３１ｂからエッチングされるとき、メタルマスク用基材３１のうち、第２レジストパターン３５から露出する面積が大きい部分ほどエッチングされる速度が高い。そのため、メタルマスク用基材３１の厚さ方向において、メタルマスク用基材３１のうち、第２パターン要素３５ｂの隙間３５ｃと重なる部分でのエッチング速度よりも、第２パターン要素３５ｂ間に位置する部分でのエッチング速度が高い。

これにより、メタルマスク用基材３１には、エッチング量の大きい部分と、エッチング量の小さい部分とが形成される。結果として、第１方向Ｄ１と直交する断面において、第２マスク要素２２の厚さにおける極大値Ｔ２Ｍに対する第１マスク要素２１の厚さにおける極小値Ｔ１ｍの比が７０％以上であり、かつ、第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２に対する第２マスク要素２２の厚さにおける極大値Ｔ２Ｍの比が４１％以上である蒸着用メタルマスク１０を得ることができる。

［実施例］
図１２から図１４を参照して、実施例および比較例を説明する。なお、以下に説明する実施例１から実施例３では、各実施例の蒸着用メタルマスクの製造に用いるメタルマスク用基材の厚さが互いに異なる。ただし、各蒸着用メタルマスクにおける極大値Ｔ２Ｍに対する極小値Ｔ１ｍの比、第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２に対する極大値Ｔ２Ｍの比、第１ピッチＰ１に対する極大値Ｔ１Ｍの比、および、第１マスク孔幅Ｗｍ１の最小値Ｗｍｍ１に対する極大値Ｔ１Ｍの比は、実施例間においてほぼ等しい値である。そのため、実施例１から実施例３の蒸着用メタルマスクを、便宜上、１つの図を参照して説明する。

また、比較例１，３，５では、各比較例の蒸着用メタルマスクの製造に用いるメタルマスク用基材の厚さが互いに異なる。ただし、各蒸着用メタルマスクにおける極大値Ｔ２Ｍに対する極小値Ｔ１ｍの比、第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２に対する極大値Ｔ２Ｍの比、第１ピッチＰ１に対する極大値Ｔ１Ｍの比、および、第１マスク孔幅Ｗｍ１の最小値Ｗｍｍ１に対する極大値Ｔ１Ｍの比は、比較例間においてほぼ等しい値である。そのため、比較例１，３，５の蒸着用メタルマスクを、便宜上、１つの図を参照して説明する。

また、比較例２，４，６では、各比較例の蒸着用メタルマスクの製造に用いるメタルマスク用基材の厚さが互いに異なる。ただし、各蒸着用メタルマスクにおける極大値Ｔ２Ｍに対する極小値Ｔ１ｍの比、第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２に対する極大値Ｔ２Ｍの比、第１ピッチＰ１に対する極大値Ｔ１Ｍの比、および、第１マスク孔幅Ｗｍ１の最小値Ｗｍｍ１に対する極大値Ｔ１Ｍの比は、比較例間においてほぼ等しい値である。そのため、比較例２，４，６の蒸着用メタルマスクを、便宜上、１つの図を参照して説明する。

［実施例１］
インバー製であり、かつ、３０μｍの厚さを有するメタルマスク用基材を準備した。ネガ型のドライフィルムレジストをメタルマスク用基材の第１面に貼り付けることによって、メタルマスク用基材の第１面に第１レジスト層を形成し、ネガ型のドライフィルムレジストをメタルマスク用基材の第２面に貼り付けることによって、メタルマスク用基材の第２面に第２レジスト層を形成した。

第１レジスト層をパターニングして、以下の形状を有した第１レジストパターンを形成した。第１レジストパターンにおいて、第１方向に沿う第１パターン要素の位置するピッチが１９５μｍであり、第１方向に沿う第１パターン要素の長さが３０．０μｍであり、第２方向に沿う第１パターン要素の長さが３３．５μｍであった。また、第１レジストパターンにおいて、第２方向に沿う第２パターン要素の長さが６４．０μｍであった。

第２レジスト層をパターニングして、以下の形状を有した第２レジストパターンを形成した。第２レジストパターンにおいて、第１方向に沿う第１パターン要素の位置するピッチが１９５μｍであり、第１方向に沿う第１パターン要素の長さが１６．５μｍであり、第２方向に沿う第１パターン要素の長さが５８．３μｍであった。また、第２レジストパターンにおいて、第２方向に沿う第２パターン要素の長さが３９．１μｍであり、第２パターン要素が有する隙間の長さが１０．３μｍであった。すなわち、第２パターン要素のうち、第２方向に沿って隙間を空けて位置する２つの部分の各々において、第２方向に沿う長さが１４．４μｍであった。

そして、塩化第二鉄液を用いてメタルマスク用基材をエッチングすることによって、実施例１の蒸着用メタルマスクを得た。第１面と対向する平面視において、第１方向に沿って複数のマスク孔の位置する第１ピッチＰ１、および、第２方向に沿って複数のマスク孔の位置する第２ピッチＰ２は１９５μｍであった。

図１２が示すように、第１方向Ｄ１と直交する断面において、第１マスク要素２１の厚さが極小値Ｔ１ｍを有し、かつ、第２マスク要素２２の厚さが極大値Ｔ２Ｍを有することが認められ、極小値Ｔ１ｍが１２．５μｍであり、極大値Ｔ２Ｍが１７．７μｍであることが認められた。つまり、極大値Ｔ２Ｍに対する極小値Ｔ１ｍの比が７０．６％であることが認められた。さらに、第２ピッチＰ２に対する極小値Ｔ１ｍの比が６．４％であることが認められた。

また、第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２が４２．６μｍであり、第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２に対する極大値Ｔ２Ｍの比が、４１．５％であることが認められた。

実施例１では、図５を用いて先に説明したように、第２方向Ｄ２と直交する断面において、第１マスク要素２１が略五角形形状を有することが認められた。また、第１マスク要素２１が極大値Ｔ１Ｍを有することが認められ、極大値Ｔ１Ｍは１２．５μｍであること認められた。上述したように、第１方向Ｄ１に沿って複数のマスク孔が並ぶ第１ピッチＰ１は１９５μｍであるため、第１ピッチＰ１に対する極大値Ｔ１Ｍの比が、６．４％であることが認められた。

さらに、第２方向Ｄ２と直交する断面において、第１マスク孔幅Ｗｍ１の最小値Ｗｍｍ１は、１６７．９μｍであることが認められ、第１マスク孔幅Ｗｍ１の最小値Ｗｍｍ１に対する極大値Ｔ１Ｍの比が、７．４％であることが認められた。

［実施例２］
インバー製であり、かつ、２５μｍの厚さを有するメタルマスク用基材を準備した。また、第１レジストパターンの寸法、および、第２レジストパターンの寸法を以下のように変更した以外は、実施例１と同じ方法で実施例２の蒸着用メタルマスクを得た。第１面と対向する平面視において、第１方向に沿って複数のマスク孔の位置する第１ピッチＰ１、および、第２方向に沿って複数のマスク孔の位置する第２ピッチＰ２は１６２．５μｍであった。

第１レジストパターンにおいて、第１方向に沿う第１パターン要素の位置するピッチが１６２．５μｍであり、第１方向に沿う第１パターン要素の長さが２５μｍであり、第２方向に沿う第１パターン要素の長さが２７．９μｍであった。また、第１レジストパターンにおいて、第２方向に沿う第２パターン要素の長さが５３．３μｍであった。

第２レジストパターンにおいて、第１方向に沿う第１パターン要素の位置するピッチが１６２．５μｍであり、第１方向に沿う第１パターン要素の長さが１３．８μｍであり、第２方向に沿う第１パターン要素の長さが４８．６μｍであった。また、第２レジストパターンにおいて、第２方向に沿う第２パターン要素の長さが３２．６μｍであり、第２パターン要素が有する隙間の長さが８．６μｍであった。すなわち、第２パターン要素のうち、第２方向に沿って隙間を空けて位置する２つの部分の各々において、第２方向に沿う長さが１２．０μｍであった。

図１２が示すように、実施例２の蒸着用メタルマスク１０では、第１方向Ｄ１と直交する断面において、第１マスク要素２１の厚さにおける極小値Ｔ１ｍが１０．４μｍであり、第２マスク要素２２の厚さにおける極大値Ｔ２Ｍが１４．８μｍであることが認められた。つまり、極大値Ｔ２Ｍに対する極小値Ｔ１ｍの比が７０．３％であることが認められた。さらに、第２ピッチＰ２に対する極小値Ｔ１ｍの比が、６．４％であることが認められた。

また、第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２が３５．８μｍであり、第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２に対する極大値Ｔ２Ｍの比が、４１．３％であることが認められた。

さらに、実施例２の蒸着用メタルマスク１０では、第２方向Ｄ２と直交する断面において、第１マスク要素２１の厚さにおける極大値Ｔ１Ｍが、１０．４μｍであることが認められた。第１方向Ｄ１に沿って複数のマスク孔１１が並ぶ第１ピッチＰ１は１６２．５μｍであるため、第１ピッチＰ１に対する極大値Ｔ１Ｍの比が、６．４％であることが認められた。

また、第２方向Ｄ２と直交する断面において、第１マスク孔幅Ｗｍ１の最小値Ｗｍｍ１は、１３９．０μｍであることが認められ、第１マスク孔幅Ｗｍ１の最小値Ｗｍｍ１に対する極大値Ｔ１Ｍの比が、７．５％であることが認められた。

［実施例３］
インバー製であり、かつ、２０μｍの厚さを有するメタルマスク用基材を準備した。また、第１レジストパターンの寸法、および、第２レジストパターンの寸法を以下のように変更した以外は、実施例１と同じ方法で実施例３の蒸着用メタルマスクを得た。第１面と対向する平面視において、第１方向に沿って複数のマスク孔の位置する第１ピッチＰ１、および、第２方向に沿って複数のマスク孔の位置する第２ピッチＰ２は１３０μｍであった。

第１レジストパターンにおいて、第１方向に沿う第１パターン要素の位置するピッチが１３０μｍであり、第１方向に沿う第１パターン要素の長さが２０μｍであり、第２方向に沿う第１パターン要素の長さが２２．３μｍであった。また、第１レジストパターンにおいて、第２方向に沿う第２パターン要素の長さが４２．７μｍであった。

第２レジストパターンにおいて、第１方向に沿う第１パターン要素の位置するピッチが１３０μｍであり、第１方向に沿う第１パターン要素の長さが１１μｍであり、第２方向に沿う第１パターン要素の長さが３８．９μｍであった。また、第２レジストパターンにおいて、第２方向に沿う第２パターン要素の長さが２６．１μｍであり、第２パターン要素が有する隙間の長さが６．９μｍであった。すなわち、第２パターン要素のうち、第２方向に沿って隙間を空けて位置する２つの部分の各々において、第２方向に沿う長さが９．６μｍであった。

図１２が示すように、実施例３の蒸着用メタルマスク１０では、第１方向Ｄ１と直交する断面において、第１マスク要素２１の厚さにおける極小値Ｔ１ｍが８．８μｍであり、第２マスク要素２２の厚さにおける極大値Ｔ２Ｍが１１．９μｍであることが認められた。つまり、極大値Ｔ２Ｍに対する極小値Ｔ１ｍの比が７３．９％であることが認められた。さらに、第２ピッチＰ２に対する極小値Ｔ１ｍの比が６．８％であることが認められた。

また、第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２が２８．４μｍであり、第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２に対する極大値Ｔ２Ｍの比が、４１．９％であることが認められた。

さらに、実施例３の蒸着用メタルマスク１０では、第２方向Ｄ２と直交する断面において、第１マスク要素２１の厚さにおける極大値Ｔ１Ｍが、８．８μｍであることが認められた。第１方向Ｄ１に沿って複数のマスク孔１１が並ぶ第１ピッチＰ１は１３０μｍであるため、第１ピッチＰ１に対する極大値Ｔ２Ｍの比が、６．８％であることが認められた。

また、第２方向Ｄ２と直交する断面において、第１マスク孔幅Ｗｍ１の最小値Ｗｍｍ１は、１１２．２μｍであることが認められ、第１マスク孔幅Ｗｍ１の最小値Ｗｍｍ１に対する極大値Ｔ１Ｍの比が、７．８％であることが認められた。

［比較例１］
インバー製であり、かつ、３０μｍの厚さを有するメタルマスク用基材を準備した。また、第１レジストパターンの寸法、および、第２レジストパターンの寸法を以下のように変更し、かつ、第２パターン要素として隙間を有しないパターン要素を有する第２レジストパターンを形成した以外は、実施例１と同じ方法で比較例１の蒸着用メタルマスクを得た。第１面と対向する平面視において、第１方向に沿って複数のマスク孔の位置する第１ピッチＰ１、および、第２方向に沿って複数のマスク孔の位置する第２ピッチＰ２は１９５μｍであった。

第１レジストパターンにおいて、第１方向に沿う第１パターン要素の位置するピッチが１９５μｍであり、第１方向に沿う第１パターン要素の長さが２７．９μｍであり、第２方向に沿う第１パターン要素の長さが３６．６μｍであった。また、第１レジストパターンにおいて、第２方向に沿う第２パターン要素の長さが６０．９μｍであった。

第２レジストパターンにおいて、第１方向に沿う第１パターン要素の位置するピッチが１９５μｍであり、第１方向に沿う第１パターン要素の長さが５．２μｍであり、第２方向に沿う第１パターン要素の長さが７６．９μｍであった。また、第２レジストパターンにおいて、第２方向に沿う第２パターン要素の長さが２０．６μｍであった。

図１３が示すように、比較例１の蒸着用メタルマスク４０では、第１方向Ｄ１と直交する断面において、第１マスク要素４１の厚さが極小値Ｔ１ｍを有し、かつ、第２マスク要素４２の厚さが極大値Ｔ２Ｍを有することが認められ、極小値Ｔ１ｍが９．７μｍであり、極大値Ｔ２Ｍが２０．８μｍであることが認められた。つまり、極大値Ｔ２Ｍに対する極小値Ｔ１ｍの比が４６．６％であることが認められた。さらに、第２ピッチＰ２に対する極小値Ｔ１ｍの比が５．０％であることが認められた。

また、第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２が４２．３μｍであり、第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２に対する極大値Ｔ２Ｍの比が、４９．２％であることが認められた。

比較例１では、実施例１と同様、第２方向Ｄ２と直交する断面において、第１マスク要素４１が略五角形形状を有することが認められた。また、第１マスク要素４１が極大値Ｔ１Ｍを有することが認められ、極大値Ｔ１Ｍは９．７μｍであること認められた。上述したように、第１方向Ｄ１に沿って複数のマスク孔が並ぶ第１ピッチＰ１は１９５μｍであるため、第１ピッチＰ１に対する極大値Ｔ１Ｍの比が、５．０％であることが認められた。

さらに、第２方向Ｄ２と直交する断面において、第１マスク孔幅Ｗｍ１の最小値Ｗｍｍ１は、１６５．９μｍであることが認められ、第１マスク孔幅Ｗｍ１の最小値Ｗｍｍ１に対する極大値Ｔ１Ｍの比が、５．８％であることが認められた。

［比較例２］
インバー製であり、かつ、３０μｍの厚さを有するメタルマスク用基材を準備した。また、第２レジストパターンの寸法を以下のように変更した以外は、実施例１と同じ方法で比較例２の蒸着用メタルマスクを得た。第１面と対向する平面視において、第１方向に沿って複数のマスク孔の位置する第１ピッチＰ１、および、第２方向に沿って複数のマスク孔の位置する第２ピッチＰ２は１９５μｍであった。

すなわち、第２レジストパターンにおいて、第１方向に沿う第１パターン要素の位置するピッチが１９５μｍであり、第１方向に沿う第１パターン要素の長さが１６．５μｍであり、第２方向に沿う第１パターン要素の長さが５８．３μｍであった。また、第２レジストパターンにおいて、第２方向に沿う第２パターン要素の長さが３９．２μｍであり、第２パターン要素が有する隙間の長さが１４．４μｍであった。すなわち、第２パターン要素のうち、第２方向に沿って隙間を空けて位置する２つの部分の各々において、第２方向に沿う長さが１２．４μｍであった。

図１４が示すように、比較例２の蒸着用メタルマスク５０では、第１方向Ｄ１と直交する断面において、第１マスク要素５１の厚さが極小値Ｔ１ｍを有し、かつ、第２マスク要素５２の厚さが極大値Ｔ２Ｍを有することが認められ、極小値Ｔ１ｍが１０．４μｍであり、極大値Ｔ２Ｍが１２．７μｍであることが認められた。つまり、極大値Ｔ２Ｍに対する極小値Ｔ１ｍの比が８１．９％であることが認められた。さらに、第２ピッチＰ２に対する極小値Ｔ１ｍの比が５．３％であることが認められた。

また、第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２が４２．６μｍであり、第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２に対する極大値Ｔ２Ｍの比が、２９．８％であることが認められた。

比較例２では、実施例１と同様、第２方向Ｄ２と直交する断面において、第１マスク要素５１が略五角形形状を有することが認められた。また、第１マスク要素５１が極大値Ｔ１Ｍを有することが認められ、極大値Ｔ１Ｍは１０．４μｍであること認められた。上述したように、第１方向Ｄ１に沿って複数のマスク孔が並ぶ第１ピッチＰ１は１９５μｍであるため、第１ピッチＰ１に対する極大値Ｔ１Ｍの比が、５．３％であることが認められた。

また、第２方向Ｄ２と直交する断面において、第１マスク孔幅Ｗｍ１の最小値Ｗｍｍ１は、１６５．６μｍであり、第１マスク孔幅Ｗｍ１の最小値Ｗｍｍ１に対する極大値Ｔ１Ｍの比が、６．３％であることが認められた。

［比較例３］
インバー製であり、かつ、２５μｍの厚さを有するメタルマスク用基材を準備した。また、第１レジストパターンの寸法、および、第２レジストパターンの寸法を以下のように変更し、かつ、第２パターン要素として隙間を有しないパターン要素を有する第２レジストパターンを形成した以外は、実施例２と同じ方法で比較例３の蒸着用メタルマスクを得た。第１面と対向する平面視において、第１方向に沿って複数のマスク孔の位置する第１ピッチＰ１、および、第２方向に沿って複数のマスク孔の位置する第２ピッチＰ２は１６２．５μｍであった。

第１レジストパターンにおいて、第１方向に沿う第１パターン要素の位置するピッチが１６２．５μｍであり、第１方向に沿う第１パターン要素の長さが２５μｍであり、第２方向に沿う第１パターン要素の長さが３０．５μｍであった。また、第１レジストパターンにおいて、第２方向に沿う第２パターン要素の長さが５０．８μｍであった。

第２レジストパターンにおいて、第１方向に沿う第１パターン要素の位置するピッチが１６２．５μｍであり、第１方向に沿う第１パターン要素の長さが４．３μｍであり、第２方向に沿う第１パターン要素の長さが６４．１μｍであった。また、第２レジストパターンにおいて、第２方向に沿う第２パターン要素の長さが１７．２μｍであった。

図１３が示すように、比較例３の蒸着用メタルマスク４０では、第１方向Ｄ１と直交する断面において、第１マスク要素４１の厚さにおける極小値Ｔ１ｍが８．０μｍであり、第２マスク要素４２の厚さにおける極大値Ｔ２Ｍが１７．４μｍであることが認められた。つまり、極大値Ｔ２Ｍに対する極小値Ｔ１ｍの比が４６．０％であることが認められた。さらに、第２ピッチＰ２に対する極小値Ｔ１ｍの比が４．９％であることが認められた。

また、第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２が３５．１μｍであり、第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２に対する極大値Ｔ２Ｍの比が、４９．６％であることが認められた。

さらに、比較例３の蒸着用メタルマスク４０では、第２方向Ｄ２と直交する断面において、第１マスク要素４１の厚さにおける極大値Ｔ１Ｍが、８．０μｍであることが認められた。第１方向Ｄ１に沿って複数のマスク孔４３が並ぶ第１ピッチＰ１は、１６２．５μｍであるため、第１ピッチＰ１に対する極大値Ｔ１Ｍの比が、４．９％であることが認められた。

また、第２方向Ｄ２と直交する断面において、第１マスク孔幅Ｗｍ１の最小値Ｗｍｍ１は、１３８．５μｍであることが認められ、第１マスク孔幅Ｗｍ１の最小値Ｗｍｍ１に対する極大値Ｔ１Ｍの比が、５．８％であることが認められた。

［比較例４］
インバー製であり、かつ、２５μｍの厚さを有するメタルマスク用基材を準備した。また、第２レジストパターンの寸法を以下のように変更した以外は、実施例２と同じ方法で比較例４の蒸着用メタルマスクを得た。第１面と対向する平面視において、第１方向に沿って複数のマスク孔の位置する第１ピッチＰ１、および、第２方向に沿って複数のマスク孔の位置する第２ピッチＰ２は１６２．５μｍであった。

すなわち、第２レジストパターンにおいて、第１方向に沿う第１パターン要素の位置するピッチが１６２．５μｍであり、第１方向に沿う第１パターン要素の長さが１３．８μｍであり、第２方向に沿う第１パターン要素の長さが４８．６μｍであった。また、第２レジストパターンにおいて、第２方向に沿う第２パターン要素の長さが３２．７μｍであり、第２パターン要素が有する隙間の長さが１２．０μｍであった。すなわち、第２パターン要素のうち、第２方向に沿って隙間を空けて位置する２つの部分の各々において、第２方向に沿う長さが１０．３μｍであった。

図１４が示すように、比較例４の蒸着用メタルマスク５０では、第１方向Ｄ１と直交する断面において、第１マスク要素５１の厚さにおける極小値Ｔ１ｍが８．３μｍであり、第２マスク要素５２の厚さにおける極大値Ｔ２Ｍが１０．４μｍであることが認められた。つまり、極大値Ｔ２Ｍに対する極小値Ｔ１ｍの比が７９．８％であることが認められた。さらに、第２ピッチＰ２に対する極小値Ｔ１ｍの比が５．１％であることが認められた。

また、第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２が３５．２μｍであり、第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２に対する極大値Ｔ１Ｍの比が、２９．５％であることが認められた。

さらに、比較例４の蒸着用メタルマスク５０では、第２方向Ｄ２と直交する断面において、第１マスク要素５１の厚さにおける極大値Ｔ１Ｍが、８．３μｍであることが認められた。第１方向Ｄ１に沿って複数のマスク孔５３が並ぶ第１ピッチＰ１は１６２．５μｍであるため、第１ピッチＰ１に対する極大値Ｔ１Ｍの比が、５．１％であることが認められた。

また、第２方向Ｄ２と直交する断面において、第１マスク孔幅Ｗｍ１の最小値Ｗｍｍ１は、１３８．０μｍであることが認められ、第１マスク孔幅Ｗｍ１の最小値Ｗｍｍ１に対する極大値Ｔ１Ｍの比が、６．０％であることが認められた。

［比較例５］
インバー製であり、かつ、２０μｍの厚さを有するメタルマスク用基材を準備した。また、第１レジストパターンの寸法、および、第２レジストパターンの寸法を以下のように変更し、かつ、第２パターン要素として隙間を有しないパターン要素を有する第２レジストパターンを形成した以外は、実施例３と同じ方法で比較例５の蒸着用メタルマスクを得た。第１面と対向する平面視において、第１方向に沿って複数のマスク孔の位置する第１ピッチＰ１、および、第２方向に沿って複数のマスク孔の位置する第２ピッチＰ２は１３０μｍであった。

第１レジストパターンにおいて、第１方向に沿う第１パターン要素の位置するピッチが１３０μｍであり、第１方向に沿う第１パターン要素の長さが２０μｍであり、第２方向に沿う第１パターン要素の長さが２４．４μｍであった。また、第１レジストパターンにおいて、第２方向に沿う第２パターン要素の長さが４０．６μｍであった。

第２レジストパターンにおいて、第１方向に沿う第１パターン要素の位置するピッチが１３０μｍであり、第１方向に沿う第１パターン要素の長さが３．５μｍであり、第２方向に沿う第１パターン要素の長さが５１．３μｍであった。また、第２レジストパターンにおいて、第２方向に沿う第２パターン要素の長さが１７．２μｍであった。

図１３が示すように、比較例５の蒸着用メタルマスク４０では、第１方向Ｄ１と直交する断面において、第１マスク要素４１の厚さにおける極小値Ｔ１ｍが７．０μｍであり、第２マスク要素４２の厚さにおける極大値Ｔ２Ｍが１３．７μｍであることが認められた。つまり、極大値Ｔ２Ｍに対する極小値Ｔ１ｍの比が５１．１％であることが認められた。さらに、第２ピッチＰ２に対する極小値Ｔ１ｍの比が、５．４％であることが認められた。

また、第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２が２７．７μｍであり、第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２に対する極大値Ｔ２Ｍの比が、４９．５％であることが認められた。

さらに、実施例５の蒸着用メタルマスク４０では、第２方向Ｄ２と直交する断面において、第１マスク要素４１の厚さにおける極大値Ｔ１Ｍが、７．０μｍであることが認められた。第１方向Ｄ１に沿って複数のマスク孔４３が並ぶ第１ピッチＰ１は、１３０μｍであるため、第１ピッチＰ１に対する極大値Ｔ１Ｍの比が、５．４％であることが認められた。

また、第２方向Ｄ２と直交する断面において、第１マスク孔幅Ｗｍ１の最小値Ｗｍｍ１は、１１０．６μｍであることが認められ、第１マスク孔幅Ｗｍ１の最小値Ｗｍｍ１に対する極大値Ｔ１Ｍの比が、６．３％であることが認められた。

［比較例６］
インバー製であり、かつ、２０μｍの厚さを有するメタルマスク用基材を準備した。また、第２レジストパターンの寸法を以下のように変更した以外は、実施例３と同じ方法で比較例６の蒸着用メタルマスクを得た。第１面と対向する平面視において、第１方向に沿って複数のマスク孔の位置する第１ピッチＰ１、および、第２方向に沿って複数のマスク孔の位置する第２ピッチＰ２は１３０μｍであった。

すなわち、第２レジストパターンにおいて、第１方向に沿う第１パターン要素の位置するピッチが１３０μｍであり、第１方向に沿う第１パターン要素の長さが１１．０μｍであり、第２方向に沿う第１パターン要素の長さが３８．９μｍであった。また、第２レジストパターンにおいて、第２方向に沿う第２パターン要素の長さが２６．１μｍであり、第２パターン要素が有する隙間の長さが９．６μｍであった。すなわち、第２パターン要素のうち、第２方向に沿って隙間を空けて位置する２つの部分の各々において、第２方向に沿う長さが８．３μｍであった。

図１４が示すように、比較例６の蒸着用メタルマスク５０では、第１方向Ｄ１と直交する断面において、第１マスク要素５１の厚さにおける極小値Ｔ１ｍが７．３μｍであり、第２マスク要素５２の厚さにおける極大値Ｔ２Ｍが８．２μｍであることが認められた。つまり、極大値Ｔ２Ｍに対する極小値Ｔ１ｍの比が８９．０％であることが認められた。さらに、第２ピッチＰ２に対する極小値Ｔ１ｍの比が５．６％であることが認められた。

また、第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２が２８．１μｍであり、第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２に対する極大値Ｔ１Ｍの比が、２９．２％であることが認められた。

さらに、比較例６の蒸着用メタルマスク５０では、第２方向Ｄ２と直交する断面において、第２マスク要素５２の極大値Ｔ１Ｍが、７．３μｍであることが認められた。第１方向Ｄ１に沿って複数のマスク孔５３が並ぶ第１ピッチＰ１は１３０μｍであるため、第１ピッチＰ１に対する極大値Ｔ１Ｍの比が、５．６％であることが認められた。

また、第２方向Ｄ２と直交する断面において、第１マスク孔幅Ｗｍ１の最小値Ｗｍｍ１は、１１０．０μｍであることが認められ、第１マスク孔幅Ｗｍ１の最小値Ｗｍｍ１に対する極大値Ｔ１Ｍの比が、６．６％であることが認められた。

［評価］
各蒸着用メタルマスクが製造された直後において、第１マスク要素が連なる方向での折れが蒸着用メタルマスクに生じているか否かを評価した。上述したように、各実施例および各比較例において、第１方向Ｄ１に直交する方向の断面における極大値Ｔ２Ｍ、極小値Ｔ１ｍ、極大値Ｔ２Ｍに対する極小値Ｔ１ｍの比、第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２、第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２に対する極大値Ｔ２Ｍの比、および、第２ピッチＰ２に対する極小値Ｔ１ｍの比は、以下の表１に示す値であった。また、各実施例および各比較例において、第２方向Ｄ２と直交する断面における極大値Ｔ１Ｍ、第１ピッチＰ１に対する極大値Ｔ１Ｍの比、第１マスク孔幅Ｗｍ１の最小値Ｗｍｍ１、および、第１マスク孔幅Ｗｍ１の最小値Ｗｍｍ１に対する極大値Ｔ１Ｍの比は、以下の表１に示す値であった。

実施例１から実施例３の蒸着用メタルマスク１０では、第１マスク要素２１が連なる方向での折れが生じていないことが認められた。一方で、比較例１の蒸着用メタルマスク４０、比較例３の蒸着用メタルマスク４０、および、比較例５の蒸着用メタルマスク４０では、第１マスク要素４１が連なる方向での折れが、蒸着用メタルマスク４０のほぼ全体において生じていることが認められた。また、比較例２の蒸着用メタルマスク５０、比較例４の蒸着用メタルマスク５０、および、比較例６の蒸着用メタルマスク５０では、第１マスク要素５１が連なる方向での折れが、蒸着用メタルマスク５０の一部において生じていることが認められた。

このように、各実施例の蒸着用メタルマスク１０において、極大値Ｔ２Ｍに対する極小値Ｔ１ｍの比が７０％以上であり、かつ、第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２に対する極大値Ｔ２Ｍの比が４１％以上であれば、第１マスク要素２１の連なる方向での折れが抑えられることが認められた。

これに対して、比較例１の蒸着用メタルマスク４０、比較例３の蒸着用メタルマスク４０、および、比較例５の蒸着用メタルマスク４０では、第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２に対する極大値Ｔ２Ｍの比が４１％以上であるものの、極大値Ｔ２Ｍに対する極小値Ｔ１ｍの比が７０％よりも小さい。そのため、各蒸着用メタルマスク４０において、第１マスク要素４１が連なる部分での強度が、他の部分の強度に比べて、第１マスク要素４１の連なる部分に折れが集中する程度に小さくなり、結果として、蒸着用メタルマスク４０の全体において折れが生じたと考えられる。

また、比較例２の蒸着用メタルマスク５０、比較例４の蒸着用メタルマスク５０、および、比較例６の蒸着用メタルマスク５０では、極大値Ｔ２Ｍに対に対する極小値Ｔ１ｍの比が７０％以上であって、第１方向Ｄ１と直交する断面における厚さのばらつきが抑えられているものの、第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２に対する極大値Ｔ２Ｍの比が４１％よりも小さい。そのため、各蒸着用メタルマスク５０において、第１マスク要素５１が連なる部分での強度が、他の部分の強度に比べて、第１マスク要素５１が連なる部分の一部にて折れが集中する程度に小さくなり、結果として、蒸着用メタルマスク５０の一部において折れが生じたと考えられる。

以上説明したように、蒸着用メタルマスクの一実施形態によれば、以下に列挙する効果を得ることができる。
（１）蒸着用メタルマスク１０内での厚さのばらつきが抑えられるため、第１マスク要素２１の連なる部分において折れが生じることが抑えられる程度に、蒸着用メタルマスク１０の中で、第１マスク要素２１の連なる部分と、それ以外の部分とにおける強度の差が抑えられる。そのため、マスク孔１１の並ぶ方向に沿って連なる折れが蒸着用メタルマスク１０に生じることが抑えられる。

（２）第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２に対する第２マスク要素２２の厚さにおける極大値Ｔ２Ｍの比が４１％以上であるため、各第１マスク要素２１の強度が、蒸着用メタルマスク１０における他の部分に比べて、第１マスク要素２１に折れが集中しない大きさになる。

（３）第１ピッチＰ１の大きさが変わっても、すなわち、第１ピッチＰ１に含まれる空間の大きさが変わっても、第１マスク要素２１の厚さにおける極大値Ｔ１Ｍが所定の大きさ以上に維持される。そのため、蒸着用メタルマスク１０のうち、第１マスク要素２１における折れの発生が抑えられる。

（４）第１マスク要素２１の厚さが１２．５μｍ以上に確保される構成では、第１マスク要素２１の連なる部分における折れが生じることが抑えられる程度に、蒸着用メタルマスク１０の中で、第１マスク要素２１の連なる部分と、それ以外の部分とにおける強度の差がより抑えられる。

（５）第１マスク孔幅Ｗｍ１の最小値Ｗｍｍ１に対する第１マスク要素２１の厚さにおける極大値Ｔ１Ｍの比が７％以上であるため、各第１マスク要素２１の強度が、蒸着用メタルマスク１０における他の部位に比べて、第１マスク要素２１に折れがより集中しない大きさになる。

（６）複数のマスク孔１１が千鳥配列状に並んでいる蒸着用メタルマスク１０において、マスク孔１１が並ぶ方向に沿って連なる折れを抑えることができる。

なお、上述した実施形態は、以下のように適宜変更して実施することもできる。
・図１５が示すように、蒸着用メタルマスク６０では、第１面６０ａと対向する平面視において、複数のマスク孔６１は、第１方向Ｄ１および第２方向Ｄ２に沿って一定のピッチで並び、かつ、各列を構成する複数のマスク孔６１の第１方向Ｄ１における位置が、全ての列において同じであってもよい。すなわち、複数のマスク孔６１は、四方格子状に並んでもよい。

こうした構成であっても、第１マスク要素６２における第１幅Ｗ１が、第２マスク要素６３における第２幅Ｗ２よりも小さければよい。そして、第１方向Ｄ１と直交する断面において、第２マスク要素６３の厚さにおける極大値Ｔ２Ｍに対する第１マスク要素６２の厚さにおける極小値Ｔ１ｍの比が７０％以上であり、かつ、第１開口１１ａでの第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２に対する第２マスク要素６３の厚さにおける極大値Ｔ２Ｍの比が４１％以上であればよい。こうした蒸着用メタルマスク６０によれば、上述した（１）および（２）と同等の効果を得ることはできる。

・第２方向Ｄ２と直交する断面において、第１マスク孔幅Ｗｍ１の最小値Ｗｍｍ１に対する第１マスク要素２１の厚さにおける極大値Ｔ１Ｍの比が７％よりも小さくてもよい。こうした構成であっても、第１方向Ｄ１と直交する断面において、第２マスク要素２２の極大値Ｔ２Ｍに対する第１マスク要素２１の極小値Ｔ１ｍの比が７０％以上であり、かつ、第１開口１１ａでの第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２に対する第２マスク要素２２の厚さにおける極大値Ｔ２Ｍの比が４１％以上であればよい。これにより、上述した（１）および（２）と同等の効果を得ることはできる。

・第１方向Ｄ１と直交する断面において、第１ピッチＰ１に対する第２方向Ｄ２と直交する断面における第１マスク要素２１の厚さにおける極大値Ｔ２Ｍの比が６％よりも小さくてもよい。こうした構成であっても、第１方向Ｄ１と直交する断面において、第２マスク要素２２の極大値Ｔ２Ｍに対する第１マスク要素２１の極小値Ｔ１ｍの比が７０％以上であり、かつ、第１開口１１ａでの第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２に対する第２マスク要素２２の厚さにおける極大値Ｔ２Ｍの比が４１％以上であればよい。これにより、上述した（１）および（２）と同等の効果を得ることはできる。

・第１方向Ｄ１と直交する断面において、第１マスク要素２１の厚さにおける極小値Ｔ１ｍは１２．５μｍよりも小さくてもよい。こうした構成であっても、第１方向Ｄ１と直交する断面において、第２マスク要素２２の極大値Ｔ２Ｍに対する第１マスク要素２１の極小値Ｔ１ｍの比が７０％以上であり、かつ、第１開口１１ａでの第２マスク孔幅Ｗｍ２の最小値Ｗｍｍ２に対する第２マスク要素２２の厚さにおける極大値Ｔ２Ｍの比が４１％以上であればよい。これにより、上述した（１）および（２）と同等の効果を得ることはできる。

・マスク孔１１を構成する第２孔要素１１ｄを形成する工程は、第２レジストパターン３５を用いて、変曲要素ｄｐ３にて連なる第１弧状要素ｄｐ１と第２弧状要素ｄｐ２が同時に形成される工程に限らず、以下の工程から構成されてもよい。例えば、第２孔要素１１ｄを形成する工程では、まず、１つの第１弧状要素ｄｐ１を挟む２つの第２弧状要素ｄｐ２を形成するためのレジストパターンをメタルマスク用基材３１に位置させた後に、このレジストパターンを用いてメタルマスク用基材３１をエッチングする。次いで、エッチングに用いたレジストパターンをメタルマスク用基材３１から剥離した後に、第１弧状要素ｄｐ１を形成するためのレジストパターンをメタルマスク用基材３１に位置させ、このレジストパターンを用いてメタルマスク用基材３１をエッチングする。これにより、第２孔要素１１ｄを形成することができる。このように、レジストパターンの形成とメタルマスク用基材３１のエッチングとを２回繰り返すことによって第２孔要素１１ｄを形成することが可能である。

・マスク孔１１を構成する第２孔要素１１ｄは、レジストパターンの形成とメタルマスク用基材３１のエッチングとを３回以上繰り返すことによって形成することも可能である。例えば、１つの第２孔要素１１ｄを構成する１つの第１弧状要素ｄｐ１および２つの第２弧状要素ｄｐ２の各々を各別のレジストパターンを用いて形成することが可能である。この場合には、レジストパターンの形成とメタルマスク用基材３１のエッチングとが３回繰り返されることによって、第２孔要素１１ｄを形成することができる。

・メタルマスク用基材３１の厚さは、２０μｍよりも薄くてもよく、例えば、１０μｍ以上２０μｍ未満であってもよい。こうしたメタルマスク用基材３１を用いた場合には、メタルマスク用基材３１を第２面３１ｂからエッチングするのみで、所望の形状を有したマスク孔を形成することが可能である。なお、１０μｍ以上２０μｍ未満の厚さを有したメタルマスク用基材３１は、２０μｍ以上の厚さを有したメタルマスク用基材３１によって形成することが可能な蒸着用メタルマスク１０よりも高精細な蒸着用メタルマスク１０を製造する上で好ましい基材である。

こうしたメタルマスク用基材３１を用いた場合には、上述した蒸着用メタルマスク１０の製造方法から、メタルマスク用基材３１の第１面３１ａに第１レジスト層３２を形成すること、第１レジスト層３２から第１レジストパターン３４を形成することを省略することができる。また、この場合には、第１レジストパターン３４を用いてメタルマスク用基材３１をエッチングすることを省略することもでき、これにより、第２保護層３６を形成すること、および、第１保護層３７を形成することも省略することができる。

このように、１０μｍ以上２０μｍ未満の厚さを有するメタルマスク用基材３１を用いた場合には、以下の工程を経ることによって、蒸着用メタルマスク１０を得ることができる。すなわち、メタルマスク用基材３１の第２面３１ｂにレジスト層を形成すること、レジスト層からレジストパターンを形成すること、および、レジストパターンを用いてメタルマスク用基材をエッチングすることによって、蒸着用メタルマスク１０を製造することができる。なお、メタルマスク用基材３１を蒸着用メタルマスク１０に加工する途中では、メタルマスク用基材３１を支持するための支持部材をメタルマスク用基材３１に貼り合わせてもよい。

こうした工程を経て製造された蒸着用メタルマスク１０では、第１方向Ｄ１と直交する断面において、第２開口における第２マスク孔幅が最も大きく、第１開口における第２マスク孔幅が最も小さい。そして、第２マスク孔幅は、第２開口から第１開口に向けて次第に小さくなる。そのため、第１開口における第２マスク孔幅に対する第２マスク要素２２の厚さにおける極大値Ｔ２Ｍの比が４１％以上であればよい。

・蒸着用メタルマスクは、有機ＥＬディスプレイの製造に用いられる蒸着用メタルマスクに限らず、他の表示デバイスの製造に用いられる蒸着用メタルマスク、各種のデバイスが備える配線の形成や、各種のデバイスが備える機能層などの蒸着に用いられる蒸着用メタルマスクであってもよい。

１０，４０，５０，６０…蒸着用メタルマスク、１０ａ，３１ａ，６０ａ…第１面、１０ｂ，３１ｂ…第２面、１１，４３，５３，６１…マスク孔、１１ａ…第１開口、１１ｂ…第２開口、１１ｃ…第１孔要素、１１ｃｐ…第１内周面、１１ｄ…第２孔要素、１１ｄｐ…第２内周面、１１ｅ…連続要素、２１，４１，５１，６２…第１マスク要素、２２，４２，５２，６３…第２マスク要素、３１…メタルマスク用基材、３２…第１レジスト層、３３…第２レジスト層、３４…第１レジストパターン、３４ａ，３５ａ…第１パターン要素、３４ｂ，３５ｂ…第２パターン要素、３５…第２レジストパターン、３５ｃ…隙間、３６…第２保護層、３７…第１保護層、ｃｐ１，ｄｐ１…第１弧状要素、ｄｐ２…第２弧状要素、ｄｐ３…変曲要素、Ｒ１…マスク領域、Ｒ２…周辺領域。

Claims

第１方向と、前記第１方向と直交する第２方向とに沿って並ぶ複数のマスク孔を備える蒸着用メタルマスクであって、
前記蒸着用メタルマスクは、第１面と第２面とを備え、
前記各マスク孔は、前記第１面に開口した第１開口と、前記第２面に開口した第２開口とを有し、
前記各マスク孔を区画する前記蒸着用メタルマスクの要素は、
前記第１方向において互いに対向する２つの第１マスク要素と、前記第２方向において互いに対向する２つの第２マスク要素とから構成され、
前記第１マスク要素と前記マスク孔とが、前記第１方向に沿って１つずつ交互に繰り返され、かつ、前記第２マスク要素と前記マスク孔とが、前記第２方向に沿って１つずつ交互に繰り返され、
前記第１マスク要素が前記第１方向に沿って有する幅は、前記第２マスク要素が前記第２方向に沿って有する幅よりも小さく、
前記第１方向と直交する断面において、前記第２マスク要素の厚さにおける極大値に対する前記第１マスク要素の厚さにおける極小値の比が、７０％以上であり、
前記各マスク孔において、前記第１方向と直交する断面における前記マスク孔の幅がマスク孔幅であり、前記第１開口での前記マスク孔幅が、前記第２開口での前記マスク孔幅よりも小さく、
前記第１開口から前記第２開口までの間における前記マスク孔幅の最小値に対する前記第２マスク要素の厚さにおける前記極大値の比が、４１％以上であり、
複数の前記マスク孔は、前記第１方向に沿って一定のピッチで並び、
前記ピッチに対する極大値の比が６％以上であり、当該極大値は、前記第２方向と直交する断面における前記第１マスク要素の厚さにおける極大値である
蒸着用メタルマスク。
第１方向と、前記第１方向と直交する第２方向とに沿って並ぶ複数のマスク孔を備える蒸着用メタルマスクであって、
前記蒸着用メタルマスクは、第１面と第２面とを備え、
前記各マスク孔は、前記第１面に開口した第１開口を含む第１孔要素と、前記第２面に開口した第２開口を含む第２孔要素とを有し、
前記各マスク孔を区画する前記蒸着用メタルマスクの要素は、
前記第１方向において互いに対向する２つの第１マスク要素と、前記第２方向において互いに対向する２つの第２マスク要素とから構成され、
前記第１マスク要素と前記マスク孔とが、前記第１方向に沿って１つずつ交互に繰り返され、かつ、前記第２マスク要素と前記マスク孔とが、前記第２方向に沿って１つずつ交互に繰り返され、
前記第１マスク要素が前記第１方向に沿って有する幅は、前記第２マスク要素が前記第２方向に沿って有する幅よりも小さく、
前記各マスク孔において、前記第１方向と直交する断面における前記マスク孔の幅がマスク孔幅であり、前記第１開口での前記マスク孔幅が、前記第２開口での前記マスク孔幅よりも小さく、
前記第１孔要素と前記第２孔要素とが連なる部分が連続要素であり、前記第１孔要素における前記マスク孔幅は、前記第１開口において最も大きく、前記連続要素に向けて次第に小さくなり、かつ、前記第２孔要素における前記マスク孔幅は、前記第２開口において最も大きく、前記連続要素に向けて次第に小さくなり、
前記第２孔要素を区画する面が第２内周面であり、前記第１方向と直交する断面において、前記第２内周面のなかで、前記各第２マスク要素に属する部分は、第１弧状要素と、第２弧状要素と、前記第１弧状要素と前記第２弧状要素とが繋がる変曲要素とから構成され、
前記第１弧状要素と前記第２弧状要素とは、各弧状要素における曲率の中心が前記蒸着用メタルマスクの外側に位置するような曲率を有し、
前記第１方向と直交する断面において、前記第２マスク要素の厚さにおける極大値に対する前記第１マスク要素の厚さにおける極小値の比が、７０％以上であり、
前記第１開口から前記第２開口までの間における前記マスク孔幅の最小値に対する前記第２マスク要素の厚さにおける前記極大値の比が、４１％以上である
蒸着用メタルマスク。
複数の前記マスク孔は、前記第１方向に沿って一定のピッチで並び、
前記ピッチに対する極大値の比が６％以上であり、当該極大値は、前記第２方向と直交する断面における前記第１マスク要素の厚さにおける極大値である
請求項２に記載の蒸着用メタルマスク。
前記マスク孔において、前記マスク孔幅が前記第２方向に沿うマスク孔幅である第２マスク孔幅であり、前記第２方向と直交する断面における前記マスク孔の幅が前記第１方向に沿うマスク孔幅である第１マスク孔幅であり、前記第１開口での前記第１マスク孔幅が、前記第２開口での前記第１マスク孔幅よりも小さく、
前記第１開口から前記第２開口までの間における前記第１マスク孔幅の最小値に対する前記第１マスク要素の厚さにおける極大値の比が、７％以上である
請求項１から３のいずれか一項に記載の蒸着用メタルマスク。
前記蒸着用メタルマスクが広がる方向と直交する方向から見て、複数の前記マスク孔は千鳥配列状に並んでいる
請求項１から４のいずれか一項に記載の蒸着用メタルマスク。