CN109072404A - 蒸镀用金属掩模 - Google Patents

Abstract

一种蒸镀用金属掩模，对各掩模孔进行划分的蒸镀用金属掩模的要素由在第一方向上相互对置的2个第一掩模要素以及在第二方向上相互对置的2个第二掩模要素构成。在与第一方向正交的截面中，第一掩模要素的厚度的极小值与第二掩模要素的厚度的极大值之比为70％以上。在各掩模孔中，与第一方向正交的截面中的掩模孔的宽度为掩模孔宽度，第二掩模要素的厚度的极大值与从第一开口到第二开口之间的掩模孔宽度的最小值之比为41％以上。

Description

蒸镀用金属掩模

技术领域

本实用新型涉及一种蒸镀用金属掩模。

背景技术

作为使用蒸镀法制造的显示器件之一，已知有机EL显示器。有机EL显示器所具备的有机层，是在蒸镀工序中升华的有机分子的堆积物。在蒸镀工序中使用的金属掩模具有多个掩模孔，各掩模孔是供升华了的有机分子通过的通路。

各掩模孔沿着厚度方向贯通金属掩模。在与多个掩模孔所开口的面对置的俯视中，各掩模孔划分出长方形的区域，多个掩模孔例如排列为交错阵列状(例如，参照专利文献1)。

专利文献1：日本特开2004－281339号公报

然而，相互相邻的掩模孔间的宽度，有时在掩模孔的延伸方向以及与该延伸方向交叉的方向上具有相互不同的大小。与金属掩模中的其他部分相比，掩模孔间的宽度相对较小的部分是强度较低的脆弱部。在厚度不足1mm的金属掩模中，当这样的脆弱部与掩模孔沿着一个方向各一个地交替反复时，有时在金属掩模中产生沿着脆弱部的排列方向相连的弯折。

这样的情况，不限定于在包括有机EL显示器的显示器件的制造中使用的蒸镀用金属掩模，对于在各种器件所具备的布线的形成、各种器件所具备的功能层等的蒸镀中使用的蒸镀用金属掩模也是共通的。此外，这样的情况，对于在与多个掩模孔所开口的一个面对置的俯视中多个掩模孔排列为格子状的金属掩模、各掩模孔的开口具有大致正方形的结构中也是共通的。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种蒸镀用金属掩模，能够抑制沿着掩模孔的排列方向相连的弯折。

用于解决上述课题的蒸镀用金属掩模为，具备沿着第一方向、以及与上述第一方向正交的第二方向排列的多个掩模孔。上述蒸镀用金属掩模具备第一面和第二面，各上述掩模孔具有在上述第一面上开口的第一开口、以及在上述第二面上开口的第二开口。对各上述掩模孔进行划分的上述蒸镀用金属掩模的要素，由在上述第一方向上相互对置的2个第一掩模要素、以及在上述第二方向上相互对置的2个第二掩模要素构成。上述第一掩模要素与上述掩模孔沿着上述第一方向各一个地交替反复，并且，上述第二掩模要素与上述掩模孔沿着上述第二方向各一个地交替反复。上述第一掩模要素沿着上述第一方向具有的宽度，小于上述第二掩模要素沿着上述第二方向具有的宽度。在与上述第一方向正交的截面中，上述第一掩模要素的厚度的极小值与上述第二掩模要素的厚度的极大值之比为70％以上。在各上述掩模孔中，与上述第一方向正交的截面中的上述掩模孔的宽度为掩模孔宽度，上述第一开口的上述掩模孔宽度小于上述第二开口的上述掩模孔宽度。上述第二掩模要素的厚度的上述极大值与从上述第一开口到上述第二开口之间的上述掩模孔宽度的最小值之比为41％以上。

根据上述构成，在与第一方向正交的截面中，蒸镀用金属掩模内的厚度的偏差被抑制为，第二掩模要素的厚度的极大值与第一掩模要素的厚度的极小值之差变得小于30％。因此，在蒸镀用金属掩模中，第一掩模要素相连的部分与其以外的部分的强度之差被抑制为在第一掩模要素相连的部分产生弯折的情况得到抑制的程度。

此外，在蒸镀用金属掩模中，掩模孔宽度越大，则沿着第二方向的第一掩模要素的长度越大。另一方面，第一掩模要素的厚度由在第二方向上夹着第一掩模要素的第二掩模要素的厚度的极大值来大体决定，极大值越大，则第一掩模要素的厚度越大。

在这一方面，根据上述构成，由于第二掩模要素的厚度的极大值与掩模孔宽度的最小值之比为41％以上，因此与蒸镀用金属掩模的其他部分相比，各第一掩模要素的强度成为弯折不集中于第一掩模要素的大小。

结果，能够抑制在蒸镀用金属掩模上产生沿着掩模孔的排列方向相连的弯折。

在上述蒸镀用金属掩模中优选为，多个上述掩模孔沿着上述第一方向以一定的间距排列，在与上述第二方向正交的截面中的上述第一掩模要素的厚度的极大值与上述间距之比为6％以上。

沿着第一方向的间距，是构成蒸镀用金属掩模的要素、即第一掩模要素以及空间的最小单位。其中，第一掩模要素是与通过蒸镀用金属掩模形成的有机层的大小无关、几乎被维持为规定的大小的部分。第一掩模要素的大小例如由周边电路等的大小来决定，在提高有机EL显示器的发光效率的方面，该第一掩模要素是被设为最小限度的大小的部分。另一方面，间距所包含的空间是大小根据有机EL显示器所要求的分辨率等而改变的部分。

在这一方面，在蒸镀用金属掩模中，即使间距的大小改变，即，即使间距所包含的空间的大小改变，第一掩模要素的厚度的极大值也被维持为规定的大小以上。因此，能够抑制蒸镀用金属掩模中第一掩模要素的弯折的产生。

在上述蒸镀用金属掩模中优选为，上述掩模孔宽度为沿着上述第二方向的掩模孔宽度即第二掩模孔宽度，与上述第二方向正交的截面中的上述掩模孔的宽度为沿着上述第一方向的掩模孔宽度即第一掩模孔宽度，在上述第一开口处的上述第一掩模孔宽度小于在上述第二开口处的上述第一掩模孔宽度，上述第一掩模要素的厚度的极大值与从上述第一开口到上述第二开口之间的上述第一掩模孔宽度的最小值之比为7％以上。

在蒸镀用金属掩模中，相对于沿着上述第一方向延伸的空间即掩模孔的宽度，在第一方向上对掩模孔进行划分的第一掩模要素的厚度的极大值越大，则蒸镀用金属掩模的强度越高。

在这一方面，根据上述构成，第一掩模要素的厚度的极大值与第一掩模孔宽度的最小值之比为7％以上，因此与蒸镀用金属掩模的其他部位相比，各第一掩模要素的强度成为弯折不进一步集中于第一掩模要素的大小。

在上述蒸镀用金属掩模中，从与上述蒸镀用金属掩模扩展的方向正交的方向观察，多个上述掩模孔也可以排列为交错阵列状。

根据上述构成，在多个掩模孔排列为交错阵列状的蒸镀用金属掩模中，能够抑制沿着掩模孔排列的方向相连的弯折。

实用新型的效果

根据本实用新型，能够抑制沿着掩模孔的排列方向相连的弯折。

附图说明

图1是表示将本实用新型的蒸镀用金属掩模具体化了的一个实施方式的一部分立体构造的局部立体图。

图2是表示与第一面对置的俯视中的蒸镀用金属掩模的一部分平面构造的局部俯视图。

图3是示意地表示与第一方向正交的截面的一部分的局部截面图。

图4是示意地表示与第一方向正交的截面的一部分的局部截面图。

图5是示意地表示与第二方向正交的截面的一部分的局部截面图。

图6是用于说明蒸镀用金属掩模的制造方法中的抗蚀剂层的形成工序的工序图。

图7是用于说明蒸镀用金属掩模的制造方法中的抗蚀剂层的图案形成工序的工序图。

图8是表示与金属掩模用基材的第一面对置的俯视中的抗蚀剂图案的一部分平面构造的局部俯视图。

图9是表示与金属掩模用基材的第二面对置的俯视中的抗蚀剂图案的一部分平面构造的局部俯视图。

图10是用于说明蒸镀用金属掩模的制造方法中的从第一面对金属掩模用基材进行蚀刻的工序的工序图。

图11是用于说明蒸镀用金属掩模的制造方法中的从第二面对金属掩模用基材蚀刻的工序的工序图。

图12是示意地表示实施例1至实施例3中的与第一方向正交的截面的一部分的局部截面图。

图13是示意地表示比较例1、3、5中的与第一方向正交的截面的一部分的局部截面图。

图14是示意地表示比较例2、4、6中的与第一方向正交的截面的一部分的局部截面图。

图15是表示变形例的蒸镀用金属掩模的从与第一面对置的方向观察的平面构造的俯视图。

符号的说明

10、40、50、60…蒸镀用金属掩模，10a、31a、60a…第一面，10b、31b…第二面，11、43、53、61…掩模孔，11a…第一开口，11b…第二开口，11c…第一孔要素，11cp…第一内周面，11d…第二孔要素，11dp…第二内周面，11e…连续要素，21、41、51、62…第一掩模要素，22、42、52、63…第二掩模要素，31…金属掩模用基材，32…第一抗蚀剂层，33…第二抗蚀剂层，34…第一抗蚀剂图案，34a、35a…第一图案要素，34b、35b…第二图案要素，35…第二抗蚀剂图案，35c…间隙，36…第二保护层，37…第一保护层，cp1、dp1…第一弧状要素，dp2…第二弧状要素，dp3…拐点要素，R1…掩模区域，R2…周边区域。

具体实施方式

参照图1至图14，对将本实用新型的蒸镀用金属掩模具体化了的一个实施方式进行说明。以下，依次对蒸镀用金属掩模的构成、蒸镀用金属掩模的制造方法、以及实施例进行说明。此外，以下说明的蒸镀用金属掩模是在具备多个有机层的有机EL显示器的制造中使用的蒸镀用金属掩模。

[蒸镀用金属掩模的构成]

参照图1至图5对蒸镀用金属掩模的构成进行说明。

如图1所示那样，蒸镀用金属掩模10具备第一面10a和第二面10b。蒸镀用金属掩模10具有沿着第一方向D1延伸、并沿着与第一方向D1正交的第二方向D2具有规定的宽度的板状。

蒸镀用金属掩模10具有沿着第一方向D1和第二方向D2排列的多个掩模孔11。从与第一面10a对置的方向观察，第一面10a被划分为：形成有多个掩模孔11的区域即掩模区域R1；以及包围掩模区域R1的周边区域R2。掩模区域R1是被实施了用于形成多个掩模孔11的加工的区域，周边区域R2是未实施该加工的区域。

第一面10a也可以沿着第一方向D1隔开规定的间隔地划分出多个掩模区域R1，也可以沿着第一方向D1和第二方向D2分别隔开规定的间隔地划分出多个掩模区域R1。

蒸镀用金属掩模10为金属制，优选为因瓦合金制。此外，蒸镀用金属掩模10的形成材料也可以为因瓦合金以外的金属。蒸镀用金属掩模10中的、周边区域R2的厚度T例如优选为20μm以上50μm以下。

图2表示从与第一面10a对置的方向观察的蒸镀用金属掩模10的平面构造。

如图2所示那样，在蒸镀用金属掩模10中，对各掩模孔11进行划分的蒸镀用金属掩模10的要素，由在第一方向D1上相互对置的2个第一掩模要素21、以及在第二方向D2上相互对置的2个第二掩模要素22构成。

在蒸镀用金属掩模10中，第一掩模要素21与掩模孔11沿着第一方向D1各一个地交替反复，并且，第二掩模要素22与掩模孔11沿着第二方向D2各一个地交替反复。

第一掩模要素21沿着第一方向D1具有的宽度为第一宽度W1，第二掩模要素22沿着第二方向D2具有的宽度为第二宽度W2。第一掩模要素21的第一宽度W1小于第二掩模要素22的第二宽度W2。

蒸镀用金属掩模10沿着由第一方向D1和第二方向D2规定的平面扩展，从与蒸镀用金属掩模10扩展的方向正交的方向观察，多个掩模孔11排列为交错阵列状。换言之，从与第一面10a对置的方向观察，多个掩模孔11排列为交错阵列状。

在与第一面10a对置的俯视中，各掩模孔11划分出矩形状的区域，各掩模孔11沿着第一方向D1具有的宽度，大于该掩模孔11沿着第二方向D2具有的宽度。多个掩模孔11沿着第一方向D1按照一定的第一间距P1排列。

在多个掩模孔11中，沿着第一方向D1排列的多个掩模孔11构成一个列。在构成各列的多个掩模孔11中，第一方向D1的位置每隔1列而相互重叠。另一方面，在第二方向D2上相互相邻的列中，相对于构成一个列的多个掩模孔11在第一方向D1上的位置，构成另一个列的多个掩模孔11在第一方向D1上的位置偏移1/2间距。多个掩模孔11中在第一方向D1上的位置重叠的掩模孔11，沿着第二方向D2按照一定的第二间距P2排列。第二间距P2是与第一间距P1相等的值。第一间距P1与第二间距P2一般对像素形状进行仿形而成为相互相等的值。

在排列为交错阵列状的多个掩模孔11中，位于在第一方向D1上相邻的2个掩模孔11之间的一个第一掩模要素21，作为对2个掩模孔11的各自进行划分的蒸镀用金属掩模10的要素起作用。此外，在第二方向D2上相邻的2个掩模孔11之间，蒸镀用金属掩模10中的、作为对于一个掩模孔11的第二掩模要素22起作用的部分的一部分、与作为对于另一个掩模孔11的第二掩模要素22起作用的部分的一部分相互重叠。

此外，在排列为交错阵列状的多个掩模孔11中，在第二方向D2上相互相邻的列中，掩模孔11在第一方向D1上的位置的偏移，可以小于1/2间距、也可以大于1/2间距。此外，在各掩模孔11中，沿着第一方向D1具有的宽度与沿着第二方向D2具有的宽度也可以相互相等。

图3表示蒸镀用金属掩模10中与第一方向D1正交的截面的构造，且是通过第一方向D1的第一掩模要素21的中央的截面的构造。图3表示沿着图2的I－I线的截面构造。

如图3所示那样，在与第一方向D1正交的截面中，第一掩模要素21的厚度具有极小值T1m，第二掩模要素22的厚度具有极大值T2M。

在与第一方向D1正交的截面中，第一掩模要素21的厚度的极小值T1m优选为12.5μm以上。第一掩模要素21的厚度的极小值T1m与第二掩模要素22的厚度的极大值T2M之比为70％以上。即，第一掩模要素21的厚度的极小值T1m与第二掩模要素22的厚度的极大值T2M满足下面的式(1)。

T1m/T2M×100≥70…式(1)

根据这样的蒸镀用金属掩模10，在与第一方向D1正交的截面中，第一掩模要素21的厚度被确保为12.5μm以上。因此，在蒸镀用金属掩模10中，第一掩模要素21相连的部分与其以外的部分的强度之差被进一步抑制为，第一掩模要素21相连的部分产生弯折的情况得到抑制的程度。

并且，蒸镀用金属掩模10内的厚度的偏差被抑制为，第二掩模要素22的厚度的极大值T2M与第一掩模要素21的厚度的极小值T1m之差小于30％。

因此，在蒸镀用金属掩模10中，第一掩模要素21相连的部分与其以外的部分的强度之差被抑制为，在第一掩模要素21相连的部分产生弯折的情况得到抑制的程度。结果，能够抑制在蒸镀用金属掩模10上产生沿着掩模孔11的排列方向相连的弯折、特别是沿着第一掩模要素21排列的方向相连的弯折。

各掩模孔11具有在第一面10a上开口的第一开口11a以及在第二面10b上开口的第二开口11b。各掩模孔11由包括第一开口11a的第一孔要素11c以及包括第二开口11b的第二孔要素11d构成，第一孔要素11c与第二孔要素11d在蒸镀用金属掩模10的厚度方向上相连。第一孔要素11c与第二孔要素11d相连的部分为连续要素11e。

在各掩模孔11中，与第一方向D1正交的截面中的掩模孔11的宽度、且是沿着第二方向D2的掩模孔11的宽度为第二掩模孔宽度Wm2。第一开口11a的第二掩模孔宽度Wm2小于第二开口11b的第二掩模孔宽度Wm2。

第一孔要素11c的第二掩模孔宽度Wm2在第一开口11a中最大、随着朝向连续要素11e而逐渐变小，第二孔要素11d的第二掩模孔宽度Wm2在第二开口11b中最大、随着朝向连续要素11e而逐渐变小。即，在各掩模孔11中，连续要素11e的第二掩模孔宽度Wm2最小。此外，第一孔要素11c的沿着蒸镀用金属掩模10的厚度方向的长度，小于第二孔要素11d的沿着蒸镀用金属掩模10的厚度方向的长度。

第二掩模要素22的厚度的极大值T2M与第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2之比为41％以上。即，第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2以及第二掩模要素22的厚度的极大值T2M满足下面的式(2)。

T2M/Wmm2×100≥41…式(2)

在蒸镀用金属掩模10中，第二掩模孔宽度Wm2越大，则沿着第二方向D2的第一掩模要素21的长度越大。另一方面，第一掩模要素21的厚度，由在第二方向D2上夹着第一掩模要素21的第二掩模要素22的厚度的极大值T2M来大体决定，极大值T2M越大，则第一掩模要素21的厚度越大。

在这一方面，在上述的蒸镀用金属掩模10中，第二掩模要素22的厚度的极大值T2M与第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2之比为41％以上，因此与蒸镀用金属掩模10的其他部分相比，各第一掩模要素21的强度成为弯折不集中于第一掩模要素21的大小。

如图4所示那样，对第二孔要素11d进行划分的面为第二内周面11dp，在与第一方向D1正交的截面中，第二内周面11dp具有第一弧状要素dp1、第二弧状要素dp2以及拐点要素dp3。在第二内周面11dp中，2个第一弧状要素dp1在第二方向D2上对置，2个第二弧状要素dp2在第二方向D2上对置，并且，2个拐点要素dp3在第二方向D2上对置。

第一弧状要素dp1包括连续要素11e，第二弧状要素dp2包括第二开口11b。第一弧状要素dp1的曲率半径与第二弧状要素dp2的曲率半径相互不同，第一弧状要素dp1的曲率半径大于第二弧状要素dp2的曲率半径。拐点要素dp3是第一弧状要素dp1与第二弧状要素dp2相连接的部分。第一弧状要素dp1和第二弧状要素dp2分别具有各弧状要素的曲率的中心位于蒸镀用金属掩模10的外侧那样的曲率。

对第一孔要素11c进行划分的面为第一内周面11cp，在与第一方向D1正交的截面中，第一内周面11cp具有包括第一开口11a和连续要素11e的第一弧状要素cp1。在第一内周面11cp中，2个第一弧状要素cp1在第二方向D2上对置。第一弧状要素cp1具有第一弧状要素cp1的曲率的中心位于蒸镀用金属掩模10的外侧那样的曲率。

图5表示在蒸镀用金属掩模10中与第二方向D2正交的截面的构造，且是通过第二方向D2上的第一掩模要素21的中央的截面的构造。图5表示沿着图2的II－II线的截面构造。

如图5所示那样，在与第二方向D2正交的截面中，第一掩模要素21具有极大值T1M。第一掩模要素21的厚度的极大值T1M与上述的沿着第一方向D1的第一间距P1之比为6％以上。即，沿着第一方向D1的第一间距P1和第一掩模要素21的极大值T1M满足下面的式(3)。

T1M/P1×100≥6…式(3)

沿着第一方向D1的第一间距P1，是构成蒸镀用金属掩模10的要素、即第一掩模要素21以及空间的最小单位。其中，第一掩模要素21是与通过蒸镀用金属掩模10形成的有机层的大小无关、被大致维持为规定大小的部分。第一掩模要素21的大小例如由周边电路等的大小来决定，在提高有机EL显示器的发光效率的方面，该第一掩模要素21是被设为最小限度的大小的部分。另一方面，第一间距P1所包含的空间，是大小根据有机EL显示器所要求的分辨率等而改变的部分。

在这一方面，在蒸镀用金属掩模10中，即使第一间距P1的大小改变，即，即使第一间距P1所包含的空间的大小改变，第一掩模要素21的厚度的极大值T1M也被维持为规定大小以上。因此，能够抑制在蒸镀用金属掩模10中的第一掩模要素21处产生弯折。

在与第二方向D2正交的截面中，第一掩模要素21具有大致五边形形状。因此，第一掩模要素21在离沿着第一面10a的边的距离为最大的顶点，具有厚度的极大值T1M。

在各掩模孔11中，与第二方向D2正交的截面中的掩模孔11的宽度、且是沿着第一方向D1的掩模孔11的宽度为第一掩模孔宽度Wm1。第一开口11a的第一掩模孔宽度Wm1小于第二开口11b的第一掩模孔宽度Wm1。

第一掩模孔宽度Wm1为，在从第一开口11a朝向第二开口11b的方向的中途具有最小值Wmm1。第一掩模要素21的厚度的极大值T1M与第一掩模孔宽度Wm1的最小值Wmm1之比为7％以上。即，第一掩模孔宽度Wm1的最小值Wmm1和第一掩模要素21的厚度的极大值T1M，满足下面的式(4)。

T1M/Wmm1×100≥7…式(4)

在蒸镀用金属掩模10中，相对于沿着第一方向D1延伸的空间即掩模孔11的宽度，在第一方向D1上对掩模孔11进行划分的第一掩模要素21的厚度的极大值T1M越大，则蒸镀用金属掩模10的强度越高。

在这一方面，在蒸镀用金属掩模10中，第一掩模要素21的厚度的极大值T1M与第一掩模孔宽度Wm1的最小值Wmm1之比为7％以上，因此各第一掩模要素21的强度成为与蒸镀用金属掩模10的其他部位相比，弯折不进一步集中于第一掩模要素21的大小。

此外，对于使用了这样的蒸镀用金属掩模10的成膜对象，按照如下方式形成有机层。以下，使蒸镀用金属掩模10的第一方向D1以及第二方向D2与成膜后的成膜对象的第一方向D1以及第二方向D2对应而进行说明。

例如，在形成有机层时，首先，使用蒸镀用金属掩模10，在成膜对象上形成蓝色的有机层。接着，使用其他蒸镀用金属掩模，在第二方向D2上的蓝色的有机层之间、且在第二方向D2上与一个蓝色的有机层相邻的部位，以沿着第一方向D1排列的方式形成绿色的有机层和红色的有机层。

此外，例如，首先，使用蒸镀用金属掩模10在成膜对象上形成蓝色的有机层。接着，使用其他蒸镀用金属掩模，在第二方向D2上的蓝色的有机层之间、且在第二方向D2上与一个蓝色的有机层相邻的部位，以沿着第二方向D2排列的方式形成绿色的有机层和红色的有机层。

[蒸镀用金属掩模的制造方法]

参照图6至图11对蒸镀用金属掩模10的制造方法进行说明。此外，图6至图11分别表示出与沿着图2的I－I线的截面相当的截面构造，且是与各制造工序对应的截面构造。

如图6所示那样，在制造蒸镀用金属掩模10时，首先，准备用于形成蒸镀用金属掩模10的金属掩模用基材31。金属掩模用基材31优选为因瓦合金制，金属掩模用基材31所具有的厚度例如优选为20μm以上50μm以下。

金属掩模用基材31具有第一面31a以及与第一面31a相反侧的面即第二面31b。金属掩模用基材31的第一面31a相当于蒸镀用金属掩模10的第一面10a，金属掩模用基材31的第二面31b相当于蒸镀用金属掩模10的第二面10b。

在金属掩模用基材31的第一面31a上形成第一抗蚀剂层32，在第二面31b上形成第二抗蚀剂层33。各抗蚀剂层可以通过粘贴干膜抗蚀剂而形成在金属掩模用基材31上，也可以通过在表面上涂敷含有抗蚀剂层的形成材料的涂液来形成。抗蚀剂层的形成材料优选为负型的抗蚀剂材料，但也可以为正型的抗蚀剂材料。

如图7所示那样，通过从金属掩模用基材31的第一面31a除去第一抗蚀剂层32的一部分，由此形成第一抗蚀剂图案34。此外，通过从金属掩模用基材31的第二面31b除去第二抗蚀剂层33的一部分，由此形成第二抗蚀剂图案35。在形成各抗蚀剂图案时，如果为负型的抗蚀剂层，则仅对抗蚀剂层中、作为抗蚀剂图案而残留在金属掩模用基材31上的部分进行曝光。而且，对曝光后的抗蚀剂层进行显影。此外，如果为正型的抗蚀剂层，则仅对抗蚀剂层中、从金属掩模用基材31除去的部分进行曝光即可。

此外，第一抗蚀剂层32的曝光与第二抗蚀剂层33的曝光可以同时进行，也可以分别独立地进行。此外，第一抗蚀剂层32的显影与第二抗蚀剂层33的显影可以同时进行，也可以分别独立地进行。

第一抗蚀剂图案34具有多个第一图案要素34a以及多个第二图案要素34b。第一抗蚀剂图案34是用于在金属掩模用基材31上形成多个掩模孔11的第一孔要素11c的抗蚀剂图案。其中，各第一图案要素34a是用于在金属掩模用基材31上划分第一掩模要素21的图案要素，各第二图案要素34b是用于在金属掩模用基材31上划分第二掩模要素22的图案要素。

第二抗蚀剂图案35具有多个第一图案要素35a以及多个第二图案要素35b。第二抗蚀剂图案35是用于在金属掩模用基材31上形成多个掩模孔11的第二孔要素11d的抗蚀剂图案。与第一抗蚀剂图案34同样，各第一图案要素35a是用于在金属掩模用基材31上划分第一掩模要素21的图案要素，各第二图案要素35b是用于在金属掩模用基材31上划分第二掩模要素22的图案要素。

图8是表示在与金属掩模用基材31的第一面31a对置的俯视中的第一抗蚀剂图案34的平面构造。此外，在图8中，为了便于理解第一抗蚀剂图案34的形状，而对第一抗蚀剂图案34附加了点。

如图8所示那样，在与金属掩模用基材31的第一面31a对置的俯视中，第一图案要素34a沿着第二方向D2延伸，并沿着第一方向D1隔开一定间隔地排列。在第一方向D1上第一图案要素34a所反复设置的间距，与在蒸镀用金属掩模10中第一掩模要素21沿着第一方向D1反复设置的间距大致相等。

第二图案要素34b沿着第一方向D1延伸，在第二方向D2上相邻的2个第二图案要素34b，位于相互分离开第一图案要素34a的长度量的位置。第一图案要素34a沿着第一方向D1所具有的宽度W34a，小于第二图案要素34b沿着第二方向D2所具有的宽度W34b。

图9表示在与金属掩模用基材31的第二面31b对置的俯视中的第二抗蚀剂图案35的平面构造。此外，在图9中，为了便于理解第二抗蚀剂图案35的形状，而对第二抗蚀剂图案35附加了点。

如图9所示那样，在与金属掩模用基材31的第二面31b对置的俯视中，第一图案要素35a沿着第二方向D2延伸，并沿着第一方向D1隔开一定间隔地排列。在第一方向D1上第一图案要素35a所反复设置的间距，与在蒸镀用金属掩模10中第一掩模要素21沿着第一方向D1反复设置的间距大致相等。

第二图案要素35b沿着第一方向D1延伸，在第二方向D2上相邻的2个第二图案要素35b，位于相互分离第一图案要素35a的长度量的位置。第二图案要素35b具有沿着第一方向D1延伸的间隙35c，间隙35c位于各第二图案要素35b的第二方向D2的中央。

间隙35c沿着第二方向D2所具有的宽度W35c，小于第二方向D2上的2个第二图案要素35b之间的距离，即第一图案要素35a沿着第二方向D2所具有的宽度W35a2。此外，第一图案要素35a沿着第一方向D1所具有的宽度W35a1，小于第二图案要素35b沿着第二方向D2所具有的宽度W35b。

第一图案要素35a位于沿着第二方向D2相邻的第二图案要素35b之间，在第二方向D2上与夹着第一图案要素35a的2个第二图案要素35b连接。

如图10所示那样，使用第一抗蚀剂图案34从第一面31a对金属掩模用基材31进行蚀刻。此外，图10表示从第一面31a对金属掩模用基材31进行蚀刻的中途的金属掩模用基材31的状态。如果金属掩模用基材31为因瓦合金制，则作为金属掩模用基材31的蚀刻溶液，例如能够使用氯化铁液。

此外，在从第一面31a对金属掩模用基材31进行蚀刻时，在开始金属掩模用基材31的蚀刻之前，在第二抗蚀剂图案35中、与和金属掩模用基材31接触的面相反侧的面上，形成第二保护层36。

第二保护层36是在从第一面31a对金属掩模用基材31进行蚀刻时、用于防止金属掩模用基材31被从第二面31b蚀刻的层。第二保护层36的形成材料只要是相对于金属掩模用基材31的蚀刻溶液具有耐受性的材料即可。

在使用了第一抗蚀剂图案34的金属掩模用基材31的蚀刻结束之后，从第二抗蚀剂图案35剥离第二保护层36，并从金属掩模用基材31的第一面31a剥离第一抗蚀剂图案34。

如图11所示那样，使用第二抗蚀剂图案35从第二面31b对金属掩模用基材31进行蚀刻。此外，图11表示从第二面31b对金属掩模用基材31进行蚀刻的中途的金属掩模用基材31的状态。如果金属掩模用基材31为因瓦合金制，则作为金属掩模用基材31的蚀刻溶液，例如能够使用氯化铁液。

此外，在从第二面31b对金属掩模用基材31进行蚀刻时，在开始金属掩模用基材31的蚀刻之前，在金属掩模用基材31的第一面31a上形成第一保护层37。

第一保护层37是在从第二面31b对金属掩模用基材31进行蚀刻时、用于防止金属掩模用基材31被从第一面31a蚀刻的层。第一保护层37的形成材料只要是相对于金属掩模用基材31的蚀刻溶液具有耐受性的材料即可。

在使用了第二抗蚀剂图案35的金属掩模用基材31的蚀刻结束之后，从金属掩模用基材31的第一面31a剥离第一保护层37，并从第二面31b剥离第二抗蚀剂图案35。由此，能够得到蒸镀用金属掩模10。

在金属掩模用基材31被从第二面31b蚀刻时，金属掩模用基材31中、从第二抗蚀剂图案35露出的面积越大的部分，被蚀刻的速度越快。因此，在金属掩模用基材31的厚度方向上，与金属掩模用基材31中、与第二图案要素35b的间隙35c重叠的部分的蚀刻速度相比，位于第二图案要素35b之间的部分的蚀刻速度更快。

由此，在金属掩模用基材31中，形成有蚀刻量较大的部分以及蚀刻量较小的部分。结果，能够得到如下的蒸镀用金属掩模10：在与第一方向D1正交的截面中，第一掩模要素21的厚度的极小值T1m与第二掩模要素22的厚度的极大值T2M之比为70％以上，并且，第二掩模要素22的厚度的极大值T2M与第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2之比为41％以上。

[实施例]

参照图12至图14对实施例以及比较例进行说明。此外，在以下说明的实施例1至实施例3中，各实施例的蒸镀用金属掩模的制造中所使用的金属掩模用基材的厚度相互不同。但是，各蒸镀用金属掩模的极小值T1m与极大值T2M之比、极大值T2M与第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2之比、极大值T1M与第一间距P1之比、以及极大值T1M与第一掩模孔宽度Wm1的最小值Wmm1之比，在实施例之间为几乎相等的值。因此，为了方便，参照一个图对实施例1至实施例3的蒸镀用金属掩模进行说明。

此外，在比较例1、3、5中，在各比较例的蒸镀用金属掩模的制造中所使用的金属掩模用基材的厚度相互不同。但是，各蒸镀用金属掩模的极小值T1m与极大值T2M之比、极大值T2M与第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2之比、极大值T1M与第一间距P1之比、以及极大值T1M与第一掩模孔宽度Wm1的最小值Wmm1之比，在比较例之间为几乎相等的值。因此，为了方便，参照一个图对比较例1、3、5的蒸镀用金属掩模进行说明。

此外，在比较例2、4、6中，在各比较例的蒸镀用金属掩模的制造中所使用的金属掩模用基材的厚度相互不同。但是，各蒸镀用金属掩模的极小值T1m与极大值T2M之比、极大值T2M与第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2之比、极大值T1M与第一间距P1之比、以及极大值T1M与第一掩模孔宽度Wm1的最小值Wmm1之比，在比较例之间为几乎相等的值。因此，为了方便，参照一个图对比较例2、4、6的蒸镀用金属掩模进行说明。

[实施例1]

准备因瓦合金制、且具有30μm厚度的金属掩模用基材。通过将负型的干膜抗蚀剂粘贴到金属掩模用基材的第一面，由此在金属掩模用基材的第一面上形成第一抗蚀剂层，通过将负型的干膜抗蚀剂粘贴在金属掩模用基材的第二面上，由此在金属掩模用基材的第二面上形成第二抗蚀剂层。

对第一抗蚀剂层进行图案形成，形成具有以下的形状的第一抗蚀剂图案。在第一抗蚀剂图案中，沿着第一方向的第一图案要素定位的间距为195μm，沿着第一方向的第一图案要素的长度为30.0μm，沿着第二方向的第一图案要素的长度为33.5μm。此外，在第一抗蚀剂图案中，沿着第二方向的第二图案要素的长度为64.0μm。

对第二抗蚀剂层进行图案形成，形成具有以下的形状的第二抗蚀剂图案。在第二抗蚀剂图案中，沿着第一方向的第一图案要素定位的间距为195μm，沿着第一方向的第一图案要素的长度为16.5μm，沿着第二方向的第一图案要素的长度为58.3μm。此外，在第二抗蚀剂图案中，沿着第二方向的第二图案要素的长度为39.1μm，第二图案要素所具有的间隙的长度为10.3μm。即，在第二图案要素中、沿着第二方向隔开间隙地定位的2个部分的各自中，沿着第二方向的长度为14.4μm。

而且，通过使用氯化铁液对金属掩模用基材进行蚀刻，由此得到实施例1的蒸镀用金属掩模。在与第一面对置的俯视中，沿着第一方向多个掩模孔定位的第一间距P1、以及沿着第二方向多个掩模孔定位的第二间距P2为195μm。

如图12所示那样，能够确认，在与第一方向D1正交的截面中，第一掩模要素21的厚度具有极小值T1m，并且，第二掩模要素22的厚度具有极大值T2M，并能够确认极小值T1m为12.5μm，极大值T2M为17.7μm。即，能够确认极小值T1m与极大值T2M之比为70.6％。并且，能够确认极小值T1m与第二间距P2之比为6.4％。

此外，能够确认，第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2为42.6μm，极大值T2M与第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2之比为41.5％。

在实施例1中，如使用图5在之前说明了的那样，在与第二方向D2正交的截面中，能够确认第一掩模要素21具有大致五边形形状。此外，能够确认第一掩模要素21具有极大值T1M，并能够确认极大值T1M为12.5μm。如上所述，由于多个掩模孔沿着第一方向D1排列的第一间距P1为195μm，因此能够确认极大值T1M与第一间距P1之比为6.4％。

并且，能够确认，在与第二方向D2正交的截面中，第一掩模孔宽度Wm1的最小值Wmm1为167.9μm，并能够确认极大值T1M与第一掩模孔宽度Wm1的最小值Wmm1之比为7.4％。

[实施例2]

准备因瓦合金制、且具有25μm厚度的金属掩模用基材。此外，除了将第一抗蚀剂图案的尺寸以及第二抗蚀剂图案的尺寸如以下那样进行了变更以外，通过与实施例1相同的方法得到实施例2的蒸镀用金属掩模。在与第一面对置的俯视中，能够确认多个掩模孔沿着第一方向定位的第一间距P1、以及多个掩模孔沿着第二方向定位的第二间距P2为162.5μm。

在第一抗蚀剂图案中，沿着第一方向的第一图案要素定位的间距为162.5μm，沿着第一方向的第一图案要素的长度为25μm，沿着第二方向的第一图案要素的长度为27.9μm。此外，在第一抗蚀剂图案中，沿着第二方向的第二图案要素的长度为53.3μm。

在第二抗蚀剂图案中，沿着第一方向的第一图案要素定位的间距为162.5μm，沿着第一方向的第一图案要素的长度为13.8μm，沿着第二方向的第一图案要素的长度为48.6μm。此外，在第二抗蚀剂图案中，沿着第二方向的第二图案要素的长度为32.6μm，第二图案要素所具有的间隙的长度为8.6μm。即，在第二图案要素中、沿着第二方向隔开间隙地定位的2个部分的各自中，沿着第二方向的长度为12.0μm。

如图12所示那样，在实施例2的蒸镀用金属掩模10中，在与第一方向D1正交的截面中，能够确认第一掩模要素21的厚度的极小值T1m为10.4μm，第二掩模要素22的厚度的极大值T2M为14.8μm。即，能够确认极小值T1m与极大值T2M之比为70.3％。并且，能够确认极小值T1m与第二间距P2之比为6.4％。

此外，能够确认第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2为35.8μm，极大值T2M与第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2之比为41.3％。

并且，在实施例2的蒸镀用金属掩模10中，在与第二方向D2正交的截面中，能够确认第一掩模要素21的厚度的极大值T1M为10.4μm。由于多个掩模孔11沿着第一方向D1排列的第一间距P1为162.5μm，因此能够确认极大值T1M与第一间距P1之比为6.4％。

并且，能够确认，在与第二方向D2正交的截面中，第一掩模孔宽度Wm1的最小值Wmm1为139.0μm，并能够确认极大值T1M与第一掩模孔宽度Wm1的最小值Wmm1之比为7.5％。

[实施例3]

准备因瓦合金制、且具有20μm厚度的金属掩模用基材。此外，除了将第一抗蚀剂图案的尺寸以及第二抗蚀剂图案的尺寸如以下那样进行了变更以外，通过与实施例1相同的方法得到了实施例3的蒸镀用金属掩模。在与第一面对置的俯视中，多个掩模孔沿着第一方向定位的第一间距P1、以及多个掩模孔沿着第二方向定位的第二间距P2为130μm。

在第一抗蚀剂图案中，沿着第一方向的第一图案要素定位的间距为130μm，沿着第一方向的第一图案要素的长度为20μm，沿着第二方向的第一图案要素的长度为22.3μm。此外，在第一抗蚀剂图案中，沿着第二方向的第二图案要素的长度为42.7μm。

在第二抗蚀剂图案中，沿着第一方向的第一图案要素定位的间距为130μm，沿着第一方向的第一图案要素的长度为11μm，沿着第二方向的第一图案要素的长度为38.9μm。此外，在第二抗蚀剂图案中，沿着第二方向的第二图案要素的长度为26.1μm，第二图案要素所具有的间隙的长度为6.9μm。即，在第二图案要素中、沿着第二方向隔开间隙地定位的2个部分的各自中，沿着第二方向的长度为9.6μm。

如图12所示那样，在实施例3的蒸镀用金属掩模10中，在与第一方向D1正交的截面中，能够确认第一掩模要素21的厚度的极小值T1m为8.8μm，第二掩模要素22的厚度的极大值T2M为11.9μm。即，能够确认极小值T1m与极大值T2M之比为73.9％。并且，能够确认极小值T1m与第二间距P2之比为6.8％。

此外，能够确认第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2为28.4μm，极大值T2M与第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2之比为41.9％。

并且，在实施例3的蒸镀用金属掩模10中，在与第二方向D2正交的截面中，能够确认第一掩模要素21的厚度的极大值T1M为8.8μm。由于多个掩模孔11沿着第一方向D1排列的第一间距P1为130μm，因此能够确认极大值T2M与第一间距P1之比为6.8％。

并且，能够确认，在与第二方向D2正交的截面中，第一掩模孔宽度Wm1的最小值Wmm1为112.2μm，并能够确认极大值T1M与第一掩模孔宽度Wm1的最小值Wmm1之比为7.8％。

[比较例1]

准备因瓦合金制、且具有30μm厚度的金属掩模用基材。此外，除了将第一抗蚀剂图案的尺寸以及第二抗蚀剂图案的尺寸如以下那样进行了变更，并且形成了作为第二图案要素而具有不含间隙的图案要素的第二抗蚀剂图案以外，通过与实施例1相同的方法得到比较例1的蒸镀用金属掩模。与第一面对置的俯视中，多个掩模孔沿着第一方向定位的第一间距P1、以及多个掩模孔沿着第二方向定位的第二间距P2为195μm。

在第一抗蚀剂图案中，沿着第一方向的第一图案要素定位的间距为195μm，沿着第一方向的第一图案要素的长度为27.9μm，沿着第二方向的第一图案要素的长度为36.6μm。此外，在第一抗蚀剂图案中，沿着第二方向的第二图案要素的长度为60.9μm。

在第二抗蚀剂图案中，沿着第一方向的第一图案要素定位的间距为195μm，沿着第一方向的第一图案要素的长度为5.2μm，沿着第二方向的第一图案要素的长度为76.9μm。此外，在第二抗蚀剂图案中，沿着第二方向的第二图案要素的长度为20.6μm。

如图13所示那样，在比较例1的蒸镀用金属掩模40中，在与第一方向D1正交的截面中，能够确认第一掩模要素41的厚度具有极小值T1m，并且，第二掩模要素42的厚度具有极大值T2M，并能够确认极小值T1m为9.7μm，极大值T2M为20.8μm。即，极小值T1m与极大值T2M之比为46.6％。并且，能够确认极小值T1m与第二间距P2之比为5.0％。

此外，能够确认第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2为42.3μm，极大值T2M与第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2之比为49.2％。

在比较例1中，与实施例1同样，在与第二方向D2正交的截面中，能够确认第一掩模要素41具有大致五边形形状。此外，能够确认第一掩模要素41具有极大值T1M，并能够确认极大值T1M为9.7μm。如上所述，由于多个掩模孔沿着第一方向D1排列的第一间距P1为195μm，因此能够确认极大值T1M与第一间距P1之比为5.0％。

并且，能够确认，在与第二方向D2正交的截面中，第一掩模孔宽度Wm1的最小值Wmm1为165.9μm，并能够确认极大值T1M与第一掩模孔宽度Wm1的最小值Wmm1之比为5.8％。

[比较例2]

准备因瓦合金制、且具有30μm厚度的金属掩模用基材。并且，除了将第二抗蚀剂图案的尺寸如以下那样进行了变更以外，通过与实施例1相同的方法得到比较例2的蒸镀用金属掩模。在与第一面对置的俯视中，多个掩模孔沿着第一方向定位的第一间距P1、以及多个掩模孔沿着第二方向定位的第二间距P2为195μm。

即，在第二抗蚀剂图案中，能够确认沿着第一方向的第一图案要素定位的间距为195μm，沿着第一方向的第一图案要素的长度为16.5μm，沿着第二方向的第一图案要素的长度为58.3μm。此外，在第二抗蚀剂图案中，沿着第二方向的第二图案要素的长度为39.2μm，第二图案要素所具有的间隙的长度为14.4μm。即，在第二图案要素中、沿着第二方向隔开间隙地定位的2个部分的各自中，沿着第二方向的长度为12.4μm。

如图14所示那样，在比较例2的蒸镀用金属掩模50中，在与第一方向D1正交的截面中，能够确认第一掩模要素51的厚度具有极小值T1m，并且，第二掩模要素52的厚度具有极大值T2M，并能够确认极小值T1m为10.4μm，极大值T2M为12.7μm。即，能够确认极小值T1m与极大值T2M之比为81.9％。并且，能够确认极小值T1m与第二间距P2之比为5.3％。

此外，能够确认第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2为42.6μm，极大值T2M与第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2之比为29.8％。

在比较例2中，与实施例1同样，在与第二方向D2正交的截面中，能够确认第一掩模要素51具有大致五边形形状。此外，能够确认第一掩模要素51具有极大值T1M，并能够确认极大值T1M为10.4μm。如上所述，由于多个掩模孔沿着第一方向D1排列的第一间距P1为195μm，因此能够确认极大值T1M与第一间距P1之比为5.3％。

并且，能够确认，在与第二方向D2正交的截面中，第一掩模孔宽度Wm1的最小值Wmm1为165.6μm，并能够确认极大值T1M与第一掩模孔宽度Wm1的最小值Wmm1之比为6.3％。

[比较例3]

准备因瓦合金制、且具有25μm厚度的金属掩模用基材。此外，除了将第一抗蚀剂图案的尺寸以及第二抗蚀剂图案的尺寸如以下那样进行变更、并且形成了作为第二图案要素而具有不含间隙的图案要素的第二抗蚀剂图案以外，通过与实施例2相同的方法得到比较例3的蒸镀用金属掩模。在与第一面对置的俯视中，多个掩模孔沿着第一方向定位的第一间距P1、以及多个掩模孔沿着第二方向定位的第二间距P2为162.5μm。

在第一抗蚀剂图案中，沿着第一方向的第一图案要素定位的间距为162.5μm，沿着第一方向的第一图案要素的长度为25μm，沿着第二方向的第一图案要素的长度为30.5μm。此外，在第一抗蚀剂图案中，沿着第二方向的第二图案要素的长度为50.8μm。

在第二抗蚀剂图案中，沿着第一方向的第一图案要素定位的间距为162.5μm，沿着第一方向的第一图案要素的长度为4.3μm，沿着第二方向的第一图案要素的长度为64.1μm。此外，在第二抗蚀剂图案中，沿着第二方向的第二图案要素的长度为17.2μm。

如图13所示那样，在比较例3的蒸镀用金属掩模40中，在与第一方向D1正交的截面中，能够确认第一掩模要素41的厚度的极小值T1m为8.0μm，第二掩模要素42的厚度的极大值T2M为17.4μm。即，能够确认极小值T1m与极大值T2M之比为46.0％。并且，能够确认极小值T1m与第二间距P2之比为4.9％。

此外，能够确认第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2为35.1μm，极大值T2M与第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2之比为49.6％。

并且，在比较例3的蒸镀用金属掩模40中，在与第二方向D2正交的截面中，能够确认第一掩模要素41的厚度的极大值T1M为8.0μm。由于多个掩模孔43沿着第一方向D1排列的第一间距P1为162.5μm，因此能够确认极大值T1M与第一间距P1之比为4.9％。

并且，能够确认，在与第二方向D2正交的截面中，第一掩模孔宽度Wm1的最小值Wmm1为138.5μm，并能够确认极大值T1M与第一掩模孔宽度Wm1的最小值Wmm1之比为5.8％。

[比较例4]

准备因瓦合金制、且具有25μm厚度的金属掩模用基材。此外，除了将第二抗蚀剂图案的尺寸如以下那样进行了变更以外，通过与实施例2相同的方法得到比较例4的蒸镀用金属掩模。在与第一面对置的俯视中，多个掩模孔沿着第一方向定位的第一间距P1、以及多个掩模孔沿着第二方向定位的第二间距P2为162.5μm。

即，在第二抗蚀剂图案中，沿着第一方向的第一图案要素定位的间距为162.5μm，沿着第一方向的第一图案要素的长度为13.8μm，沿着第二方向的第一图案要素的长度为48.6μm。此外，在第二抗蚀剂图案中，沿着第二方向的第二图案要素的长度为32.7μm，第二图案要素所具有的间隙的长度为12.0μm。即，在第二图案要素中、沿着第二方向隔开间隙地定位的2个部分的各自中，沿着第二方向的长度为10.3μm。

如图14所示那样，在比较例4的蒸镀用金属掩模50中，在与第一方向D1正交的截面中，能够确认第一掩模要素51的厚度的极小值T1m为8.3μm，第二掩模要素52的厚度的极大值T2M为10.4μm。即，能够确认极小值T1m与极大值T2M之比为79.8％。并且，能够确认极小值T1m与第二间距P2之比为5.1％。

此外，能够确认第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2为35.2μm，极大值T1M与第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2之比为29.5％。

并且，在比较例4的蒸镀用金属掩模50中，在与第二方向D2正交的截面中，能够确认第一掩模要素51的厚度的极大值T1M为8.3μm。由于多个掩模孔53沿着第一方向D1排列的第一间距P1为162.5μm，因此能够确认极大值T1M与第一间距P1之比为5.1％。

并且，能够确认，在与第二方向D2正交的截面中，第一掩模孔宽度Wm1的最小值Wmm1为138.0μm，并能够确认极大值T1M与第一掩模孔宽度Wm1的最小值Wmm1之比为6.0％。

[比较例5]

准备因瓦合金制、且具有20μm厚度的金属掩模用基材。此外，除了将第一抗蚀剂图案的尺寸以及第二抗蚀剂图案的尺寸如以下那样进行变更、并且形成了作为第二图案要素而具有不含间隙的图案要素的第二抗蚀剂图案以外，通过与实施例3相同的方法得到了比较例5的蒸镀用金属掩模。在与第一面对置的俯视中，多个掩模孔沿着第一方向定位的第一间距P1、以及多个掩模孔沿着第二方向定位的第二间距P2为130μm。

在第一抗蚀剂图案中，沿着第一方向的第一图案要素定位的间距为130μm，沿着第一方向的第一图案要素的长度为20μm，沿着第二方向的第一图案要素的长度为24.4μm。此外，在第一抗蚀剂图案中，沿着第二方向的第二图案要素的长度为40.6μm。

在第二抗蚀剂图案中，沿着第一方向的第一图案要素定位的间距为130μm，沿着第一方向的第一图案要素的长度为3.5μm，沿着第二方向的第一图案要素的长度为51.3μm。此外，在第二抗蚀剂图案中，沿着第二方向的第二图案要素的长度为17.2μm。

如图13所示那样，在比较例5的蒸镀用金属掩模40中，在与第一方向D1正交的截面中，能够确认第一掩模要素41的厚度的极小值T1m为7.0μm，第二掩模要素42的厚度的极大值T2M为13.7μm。即，能够确认极小值T1m与极大值T2M之比为51.1％。并且，能够确认极小值T1m与第二间距P2之比为5.4％。

此外，能够确认第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2为27.7μm，极大值T2M与第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2之比为49.5％。

并且，在实施例5的蒸镀用金属掩模40中，在与第二方向D2正交的截面中，能够确认第一掩模要素41的厚度的极大值T1M为7.0μm。由于多个掩模孔43沿着第一方向D1排列的第一间距P1为130μm，因此极大值T1M与第一间距P1之比为5.4％。

并且，能够确认，在与第二方向D2正交的截面中，第一掩模孔宽度Wm1的最小值Wmm1为110.6μm，并能够确认极大值T1M与第一掩模孔宽度Wm1的最小值Wmm1之比为6.3％。

[比较例6]

准备因瓦合金制、且具有20μm厚度的金属掩模用基材。此外，除了将第二抗蚀剂图案的尺寸如以下那样进行了变更以外，通过与实施例3相同的方法得到了比较例6的蒸镀用金属掩模。在与第一面对置的俯视中，多个掩模孔沿着第一方向定位的第一间距P1、以及多个掩模孔沿着第二方向定位的第二间距P2为130μm。

即，在第二抗蚀剂图案中，沿着第一方向的第一图案要素定位的间距为130μm，沿着第一方向的第一图案要素的长度为11.0μm，沿着第二方向的第一图案要素的长度为38.9μm。此外，在第二抗蚀剂图案中，沿着第二方向的第二图案要素的长度为26.1μm，第二图案要素所具有的间隙的长度为9.6μm。即，在第二图案要素中、沿着第二方向隔开间隙地定位的2个部分的各自中，沿着第二方向的长度为8.3μm。

如图14所示那样，在比较例6的蒸镀用金属掩模50中，在与第一方向D1正交的截面中，能够确认第一掩模要素51的厚度的极小值T1m为7.3μm，第二掩模要素52的厚度的极大值T2M为8.2μm。即，能够确认极小值T1m与极大值T2M之比为89.0％。并且，能够确认极小值T1m与第二间距P2之比为5.6％。

此外，能够确认第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2为28.1μm，极大值T1M与第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2之比为29.2％。

并且，在比较例6的蒸镀用金属掩模50中，在与第二方向D2正交的截面中，能够确认第二掩模要素52的极大值T1M为7.3μm。由于多个掩模孔53沿着第一方向D1排列的第一间距P1为130μm，因此能够确认极大值T1M与第一间距P1之比为5.6％。

并且，能够确认，在与第二方向D2正交的截面中，第一掩模孔宽度Wm1的最小值Wmm1为110.0μm，并能够确认极大值T1M与第一掩模孔宽度Wm1的最小值Wmm1之比为6.6％。

[评价]

在制造了各蒸镀用金属掩模之后，对在蒸镀用金属掩模上是否产生了第一掩模要素相连的方向上的弯折进行了评价。如上所述，在各实施例以及各比较例中，与第一方向D1正交的方向的截面中的极大值T2M、极小值T1m、极小值T1m与极大值T2M之比、第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2、极大值T2M与第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2之比、以及极小值T1m与第二间距P2之比，为以下的表1所示的值。此外，在各实施例以及各比较例中，与第二方向D2正交的截面中的极大值T1M、极大值T1M与第一间距P1之比、第一掩模孔宽度Wm1的最小值Wmm1、以及极大值T1M与第一掩模孔宽度Wm1的最小值Wmm1之比，为以下的表1所示的值。

【表1】

在实施例1至实施例3的蒸镀用金属掩模10中，能够确认未产生第一掩模要素21相连的方向上的弯折。另一方面，在比较例1的蒸镀用金属掩模40、比较例3的蒸镀用金属掩模40、以及比较例5的蒸镀用金属掩模40中，能够确认在蒸镀用金属掩模40的几乎整体上产生第一掩模要素41相连的方向上的弯折。此外，在比较例2的蒸镀用金属掩模50、比较例4的蒸镀用金属掩模50、以及比较例6的蒸镀用金属掩模50中，能够确认在蒸镀用金属掩模50的一部分产生第一掩模要素51相连的方向上的弯折。

如此，能够确认，在各实施例的蒸镀用金属掩模10中，只要极小值T1m与极大值T2M之比为70％以上、并且极大值T2M与第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2之比为41％以上，则能够抑制第一掩模要素21相连的方向上的弯折。

与此相对，在比较例1的蒸镀用金属掩模40、比较例3的蒸镀用金属掩模40、以及比较例5的蒸镀用金属掩模40中，虽然极大值T2M与第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2之比为41％以上，但极小值T1m与极大值T2M之比小于70％。因此，可以认为，在各蒸镀用金属掩模40中，与其他部分的强度相比，第一掩模要素41相连的部分的强度变小到弯折集中于第一掩模要素41相连的部分的程度，结果，在蒸镀用金属掩模40的整体产生了弯折。

此外，在比较例2的蒸镀用金属掩模50、比较例4的蒸镀用金属掩模50、以及比较例6的蒸镀用金属掩模50中，虽然极小值T1m与极大值T2M之比为70％以上，且与第一方向D1正交的截面中的厚度的偏差得到抑制，但是极大值T2M与第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2之比小于41％。因此，可以认为，在各蒸镀用金属掩模50中，与其他部分的强度相比，第一掩模要素51相连的部分的强度变小到弯折集中于第一掩模要素51相连的部分的一部分上的程度，结果，在蒸镀用金属掩模50的一部分产生了弯折。

如以上说明的那样，根据蒸镀用金属掩模的一个实施方式，能够得到以下列举的效果。

(1)由于蒸镀用金属掩模10内的厚度的偏差得到抑制，因此，在蒸镀用金属掩模10中、第一掩模要素21相连的部分与其以外的部分的强度之差，被控制为在第一掩模要素21相连的部分产生弯折的情况得到抑制的程度。因此，能够抑制在蒸镀用金属掩模10上产生沿着掩模孔11的排列方向相连的弯折。

(2)由于第二掩模要素22的厚度的极大值T2M与第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2之比为41％以上，因此与蒸镀用金属掩模10的其他部分相比，各第一掩模要素21的强度成为弯折不集中于第一掩模要素21的大小。

(3)即使第一间距P1的大小改变，即、即使第一间距P1所包含的空间的大小改变，第一掩模要素21的厚度的极大值T1M也被维持为规定的大小以上。因此，能够抑制蒸镀用金属掩模10中、第一掩模要素21处产生弯折。

(4)在第一掩模要素21的厚度被确保为12.5μm以上的构成中，在蒸镀用金属掩模10中，第一掩模要素21相连的部分与其以外的部分的强度之差，进一步被控制为在第一掩模要素21相连的部分产生弯折的情况得到抑制的程度。

(5)由于第一掩模要素21的厚度的极大值T1M与第一掩模孔宽度Wm1的最小值Wmm1之比为7％以上，因此与蒸镀用金属掩模10的其他部位相比，各第一掩模要素21的强度成为弯折不进一步集中于第一掩模要素21的大小。

(6)在多个掩模孔11排列为交错阵列状的蒸镀用金属掩模10中，能够抑制沿着掩模孔11排列的方向相连的弯折。

此外，上述实施方式也能够如以下那样适当地变更并实施。

·也可以为，如图15所示那样，在蒸镀用金属掩模60中，在与第一面60a对置的俯视中，多个掩模孔61沿着第一方向D1以及第二方向D2按照一定的间距排列，并且，构成各列的多个掩模孔61在第一方向D1上的位置在全部列中都相同。即，多个掩模孔61也可以排列为四角格子状。

即使在这样的构成中，也是第一掩模要素62的第一宽度W1小于第二掩模要素63的第二宽度W2即可。而且，在与第一方向D1正交的截面中，第一掩模要素62的厚度的极小值T1m与第二掩模要素63的厚度的极大值T2M之比为70％以上，并且，第二掩模要素63的厚度的极大值T2M与第一开口11a的第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2之比为41％以上即可。根据这样的蒸镀用金属掩模60，能够得到与上述(1)以及(2)相同的效果。

·也可以为，在与第二方向D2正交的截面中，第一掩模要素21的厚度的极大值T1M与第一掩模孔宽度Wm1的最小值Wmm1之比小于7％。即使在这样的构成中，也是在与第一方向D1正交的截面中，第一掩模要素21的极小值T1m与第二掩模要素22的极大值T2M之比为70％以上，并且，第二掩模要素22的厚度的极大值T2M与第一开口11a的第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2之比为41％以上即可。由此，能够得到与上述(1)以及(2)相同的效果。

·也可以为，在与第一方向D1正交的截面中，与第二方向D2正交的截面中的第一掩模要素21的厚度的极大值T2M与第一间距P1之比小于6％。即使在这样的构成中，在与第一方向D1正交的截面中，也是第一掩模要素21的极小值T1m与第二掩模要素22的极大值T2M之比为70％以上，并且，第二掩模要素22的厚度的极大值T2M与第一开口11a的第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2之比为41％以上即可。由此，能够得到与上述(1)以及(2)相同的效果。

·也可以为，在与第一方向D1正交的截面中，第一掩模要素21的厚度的极小值T1m小于12.5μm。即使在这样的构成中，也是在与第一方向D1正交的截面中，第一掩模要素21的极小值T1m与第二掩模要素22的极大值T2M之比为70％以上，并且，第二掩模要素22的厚度的极大值T2M与第一开口11a的第二掩模孔宽度Wm2的最小值Wmm2之比为41％以上即可。由此，能够得到与上述(1)以及(2)相同的效果。

·形成构成掩模孔11的第二孔要素11d的工序，不限定于使用第二抗蚀剂图案35同时形成在拐点要素dp3相连的第一弧状要素dp1和第二弧状要素dp2的工序，也可以由以下的工序构成。例如，在形成第二孔要素11d的工序中，首先，在使用于形成夹着一个第一弧状要素dp1的2个第二弧状要素dp2的抗蚀剂图案定位于金属掩模用基材31之后，使用该抗蚀剂图案对金属掩模用基材31进行蚀刻。接着，在将蚀刻所使用的抗蚀剂图案从金属掩模用基材31剥离之后，使用于形成第一弧状要素dp1的抗蚀剂图案定位于金属掩模用基材31，使用该抗蚀剂图案对金属掩模用基材31进行蚀刻。由此，能够形成第二孔要素11d。如此，通过将抗蚀剂图案的形成和金属掩模用基材31的蚀刻反复进行两次，由此能够形成第二孔要素11d。

·构成掩模孔11的第二孔要素11d，还能够通过将抗蚀剂图案的形成和金属掩模用基材31的蚀刻反复进行3回以上来形成。例如，能够使用分别不同的抗蚀剂图案来形成构成一个第二孔要素11d的一个第一弧状要素dp1以及2个第二弧状要素dp2的各自。在该情况下，通过将抗蚀剂图案的形成和金属掩模用基材31的蚀刻反复进行3回以上，由此能够形成第二孔要素11d。

·金属掩模用基材31的厚度可以薄于20μm，例如，可以为10μm以上、低于20μm。在使用这样的金属掩模用基材31的情况下，仅通过从第二面31b对金属掩模用基材31进行蚀刻，就能够形成具有所希望的形状的掩模孔。此外，具有10μm以上、低于20μm的厚度的金属掩模用基材31，是在制造比能够通过具有20μm以上的厚度的金属掩模用基材31形成的蒸镀用金属掩模10更高精度的蒸镀用金属掩模10的方面更优选的基材。

在使用这样的金属掩模用基材31的情况下，能够从上述的蒸镀用金属掩模10的制造方法中，省略在金属掩模用基材31的第一面31a上形成第一抗蚀剂层32的工序、以及从第一抗蚀剂层32形成第一抗蚀剂图案34的工序。此外，在该情况下，还能够省略使用第一抗蚀剂图案34对金属掩模用基材31进行蚀刻的工序，由此，还能够省略形成第二保护层36的工序、以及形成第一保护层37的工序。

如此，在使用具有10μm以上、低于20μm的厚度的金属掩模用基材31的情况下，通过经过以下的工序，能够得到蒸镀用金属掩模10。即，通过在金属掩模用基材31的第二面31b形成抗蚀剂层、从抗蚀剂层形成抗蚀剂图案、以及使用抗蚀剂图案对金属掩模用基材进行蚀刻，由此能够制造蒸镀用金属掩模10。此外，也可以为，在将金属掩模用基材31加工为蒸镀用金属掩模10的中途，将用于支撑金属掩模用基材31的支撑部件粘贴于金属掩模用基材31。

在经过这样的工序制造的蒸镀用金属掩模10中，在与第一方向D1正交的截面中，第二开口的第二掩模孔宽度最大，第一开口的第二掩模孔宽度最小。而且，第二掩模孔宽度随着从第二开口朝向第一开口而逐渐变小。因此，第二掩模要素22的厚度的极大值T2M与第一开口的第二掩模孔宽度之比为41％以上即可。

·蒸镀用金属掩模不限定于在有机EL显示器的制造中使用的蒸镀用金属掩模，也可以是在其他显示器件的制造中使用的蒸镀用金属掩模、在各种器件所具备的布线的形成、各种器件所具备的功能层等的蒸镀中使用的蒸镀用金属掩模。

Claims (4)

1.一种蒸镀用金属掩模，具备沿着第一方向以及与上述第一方向正交的第二方向排列的多个掩模孔，其中，

上述蒸镀用金属掩模具备第一面和第二面，

各上述掩模孔具有在上述第一面上开口的第一开口以及在上述第二面上开口的第二开口，

对各上述掩模孔进行划分的上述蒸镀用金属掩模的要素，由在上述第一方向上相互对置的2个第一掩模要素以及在上述第二方向上相互对置的2个第二掩模要素构成，

上述第一掩模要素与上述掩模孔沿着上述第一方向各一个地交替反复，并且，上述第二掩模要素与上述掩模孔沿着上述第二方向各一个地交替反复，

上述第一掩模要素沿着上述第一方向具有的宽度，小于上述第二掩模要素沿着上述第二方向具有的宽度，

在与上述第一方向正交的截面中，上述第一掩模要素的厚度的极小值与上述第二掩模要素的厚度的极大值之比为70％以上，

在各上述掩模孔中，与上述第一方向正交的截面中的上述掩模孔的宽度为掩模孔宽度，在上述第一开口处的上述掩模孔宽度小于在上述第二开口处的上述掩模孔宽度，

上述第二掩模要素的厚度的上述极大值与从上述第一开口到上述第二开口之间的上述掩模孔宽度的最小值之比为41％以上。

2.如权利要求1所述的蒸镀用金属掩模，其中，

多个上述掩模孔沿着上述第一方向以一定的间距排列，

在与上述第二方向正交的截面中的上述第一掩模要素的厚度的极大值、与上述间距之比为6％以上。

3.如权利要求1所述的蒸镀用金属掩模，其中，

在上述掩模孔中，上述掩模孔宽度是沿着上述第二方向的掩模孔宽度即第二掩模孔宽度，与上述第二方向正交的截面中的上述掩模孔的宽度是沿着上述第一方向的掩模孔宽度即第一掩模孔宽度，在上述第一开口处的上述第一掩模孔宽度小于在上述第二开口处的上述第一掩模孔宽度，

上述第一掩模要素的厚度的极大值与从上述第一开口到上述第二开口之间的上述第一掩模孔宽度的最小值之比为7％以上。

4.如权利要求1至3任一项所述的蒸镀用金属掩模，其中，

从与上述蒸镀用金属掩模扩展的方向正交的方向观察，多个上述掩模孔排列为交错阵列状。