KR960042532A - 박막 자기 헤드의 제조 방법 - Google Patents

박막 자기 헤드의 제조 방법 Download PDF

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KR960042532A
KR960042532A KR1019950013698A KR19950013698A KR960042532A KR 960042532 A KR960042532 A KR 960042532A KR 1019950013698 A KR1019950013698 A KR 1019950013698A KR 19950013698 A KR19950013698 A KR 19950013698A KR 960042532 A KR960042532 A KR 960042532A
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forming
magnetic pole
metal mask
plating
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KR1019950013698A
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박덕영
선우국현
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이형도
삼성전기 주식회사
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  • Manufacturing & Machinery (AREA)
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Abstract

본 발명은 자극층의 선폭 편차를 줄임으로써 수율을 향상시킬 수 있는 박막 자기 헤드 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명은 제조 방법은; 하부 자극층 위에 형성된 에칭 대상의 자기 형성층에 상부 자극층을 형성하는 단계; 상기 상부 자극층에 도금을 위한 금속성 종자층을 형성하는 단계; 상기 종자층 위의 도금될 영역을 제외한 부위에 절연층을 소정패턴을 형성하는 단계; 도금법에 의해 상기 종자층의 노출면에 금속마스크층을 형성한 단계; 상기 절연층을 제거하고 상기 금속마스크층에 덮여 있지 않은 자기 형성층의 노출부위를 소정 깊이로 에칭하는 단계; 를 포함한다. 이러한 본 발명에 의하면, 포토레지스트층의 형태에 의해서 금속 마스크층의 패턴을 손쉽게 정밀하게 변경할 수 있어서 제품마다의 공정상 오차에 따른 가공 치수 편차 발생을 줄임으로서 상부 자극층의 재현성을 극대화할 수 있다. 결과적으로 완성된 박막 자기 헤드의 불량률을 최소화할 수 있을 뿐 아니라 제품 간의 성능 차이를 줄일 수 있다.

Description

박막 자기 헤드의 제조 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제13도는 본 발명에 따른 박막 자기 헤드의 제조공정도로서, 각 도의 (가)는 자극선단부의 측단면도, (나)는 동도 (가)의 정단면도이다.

Claims (2)

  1. 하부 자극층 위에 형성된 에칭 대상의 자기 형성층에 상부자극층을 형성하는 단계; 상기 상부 자극층에 도금을 위한 금속성 종자층을 형성하는 단계; 상기 종자층 위의 도금될 영역을 제외한 부위에 절연층을 소정패턴을 형성하는 단계; 도금법에 의해 상기 종자층의 노출면에 금속마스크층을 형성하는 단계; 상기 절연층을 제거하고 상기 금속마스크층에 덮여 있지 않은 자기 형성층의 노출부위를 소정 깊이로 에칭하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 자기 헤드 제조 방법.
  2. 하부 자극층 위에 자기 갭을 마련하기 위한 절연층 형성단계; 상기 절연층위에 자기 코일을 포함하는 자기 형성층을 형성하는 단계; 상기 자기 형성층 위체 상부 자극층을 형성하는 단계; 도금을 위한 금속성 종자층을 상기 상부 자극층의 위에 형성하는 단계; 상기 종자층의 상부에 도금되지 않을 영역에 소정 패턴의 포토레지스트층을 형성하는 단계; 상기 포토레지스트층에 덮혀 있지 않은 상기 종자층의 노출면에 도금법에 의해 금속마스크층을 형성하는 단계; 상기 포토레지스트층을 제거하는 단계; 상기 금속마스크에 덮혀 있지 않은 그 하부 적층의 일부위를 에칭하여 상기 제2금속마스크층의 하부에 목적하는 형상의 상부 자극층을 형성하는 단계; 상기 종자층과 금속마스크층을 제거하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 자기 헤드의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950013698A 1995-05-29 1995-05-29 박막 자기 헤드의 제조 방법 KR960042532A (ko)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100407377B1 (ko) * 2001-10-30 2003-11-28 전자부품연구원 마이크로 소자의 제조 방법 및 그를 성형하기 위한 금형의제조 방법

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5874010A (en) * 1996-07-17 1999-02-23 Headway Technologies, Inc. Pole trimming technique for high data rate thin film heads
JP2953401B2 (ja) * 1996-10-04 1999-09-27 日本電気株式会社 磁気抵抗効果型複合ヘッドの製造方法
US6586049B2 (en) * 1997-08-28 2003-07-01 Tdk Corporation Patterning method using mask and manufacturing method for composite type thin film magnetic head using the patterning method
US6445536B1 (en) * 1998-08-27 2002-09-03 Read-Rite Corporation Dielectric stencil-defined write head for MR, GMR, and spin valve high density recording heads
US6385008B1 (en) * 1999-12-16 2002-05-07 International Business Machines Corporation Reduction of magnetic side writing in thin film magnetic heads using negative profiled pole tips
US6859997B1 (en) 2000-09-19 2005-03-01 Western Digital (Fremont), Inc. Method for manufacturing a magnetic write element
US7183224B2 (en) * 2003-07-30 2007-02-27 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Liftoff process for thin photoresist

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4912584A (en) * 1988-03-09 1990-03-27 Digital Equipment Corporation Method for fabricating magnetic recording poles
US5200056A (en) * 1990-02-15 1993-04-06 Seagate Technology Inc. Method for aligning pole tips in a thin film head
EP0635821A1 (en) * 1993-07-22 1995-01-25 International Business Machines Corporation A process for the fabrication of thin film magnetic heads

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100407377B1 (ko) * 2001-10-30 2003-11-28 전자부품연구원 마이크로 소자의 제조 방법 및 그를 성형하기 위한 금형의제조 방법

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