JP6340171B2 - アルカリ土類金属化合物微粒子分散液及びその製造方法 - Google Patents

アルカリ土類金属化合物微粒子分散液及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6340171B2
JP6340171B2 JP2013138239A JP2013138239A JP6340171B2 JP 6340171 B2 JP6340171 B2 JP 6340171B2 JP 2013138239 A JP2013138239 A JP 2013138239A JP 2013138239 A JP2013138239 A JP 2013138239A JP 6340171 B2 JP6340171 B2 JP 6340171B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnesium oxide
alkaline earth
earth metal
metal compound
dispersion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2013138239A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2015010025A (ja
Inventor
誠司 野口
誠司 野口
加藤 裕三
裕三 加藤
真之 藤本
真之 藤本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ube Material Industries Ltd
Original Assignee
Ube Material Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ube Material Industries Ltd filed Critical Ube Material Industries Ltd
Priority to JP2013138239A priority Critical patent/JP6340171B2/ja
Publication of JP2015010025A publication Critical patent/JP2015010025A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6340171B2 publication Critical patent/JP6340171B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)

Description

本発明は、酸化マグネシウム微粒子に代表されるアルカリ土類金属化合物微粒子の分散液及びその製造方法に関する。
酸化マグネシウム膜は、AC型PDP(交流型プラズマディスプレイパネル)の誘電体保護層、MRAM(磁気抵抗メモリー)及びTMR素子(トンネル磁気抵抗素子)の絶縁膜、有機EL素子及びバリアフィルムの水分吸着層として利用されている。酸化マグネシウム膜は、一般に電子ビーム蒸着法、スパッタ法、CVD法などの蒸着法により製造されている。しかしながら、蒸着法は、真空チャンバーや真空ポンプなどの真空装置を必要とするため、製造設備が大掛かりとなる。一方、常圧下にて酸化マグネシウム膜を製造することが可能な方法として、塗布法が知られている。塗布法とは、酸化マグネシウム微粒子の分散液を基板上に塗布して、乾燥する方法である。この塗布法は真空装置を必要とせず、また成膜速度が蒸着法と比較して速いという利点がある。このため、酸化マグネシウム膜を塗布法により製造するのに有利に使用することができる酸化マグネシウム微粒子の分散液の開発が進められており、次に述べるような分散液が提案されている。
特許文献1、2には、炭素原子数3〜5の一価アルコール中に、酸化マグネシウム微粒子が0.05〜20質量%の範囲にて分散されてなり、動的光散乱法によって測定された酸化マグネシウム微粒子のD50が5〜100nmの範囲にある酸化マグネシウム微粒子分散液が記載されている。特許文献2には、上記の酸化マグネシウム微粒子分散液をAC型PDPの誘電体保護層の形成用に用いることが記載されている。これらの文献には、上記酸化マグネシウム微粒子分散液の製造方法として、平均一次粒子径が5〜100nmの範囲にある酸化マグネシウム微粒子と、炭素原子数3〜5の一価アルコールとを混合し、次いで、該混合物(分散液)を平均粒子径が20〜300μmのビーズを用いた粉砕装置にて分散処理を行なう方法が記載されている。
特許文献3には、極性有機溶媒中に、酸化マグネシウム微粒子が分散液全体量に対して0.05〜20質量%の範囲となる量にて分散されてなり、動的光散乱法によって測定された酸化マグネシウム微粒子のD50が5〜20nmの範囲にあり、D10/D90が0.3以上である酸化マグネシウム微粒子分散液が記載されている。この文献には、酸化マグネシウム微粒子分散液の製造方法として、平均一次粒子径が5〜20nmの範囲にある酸化マグネシウム微粒子からなる酸化マグネシウム粉末を、極性有機溶媒に分散させて分散液を調製する工程、そして該分散液に圧力を付与して分散液噴流を生成させ、次いで該分散液噴流を二以上に分岐させ、各分散液噴流を対向下に衝突させることにより分散液中の酸化マグネシウム粒子を崩壊させて微粒子の分散液とする工程を含む方法が記載されている。
特許文献4には、動的光散乱法による粒子径測定において、平均粒子径D50が15nm以上40nm以下の範囲であり、かつ、D95が100nm以下であって、粒子径の変動係数(CV値)が30%以上60%以下の範囲である金属酸化物粒子の分散液が記載されている。この文献の実施例では、分散剤と分散助剤とを含む分散媒体に、ホモジナイザーで撹拌しながらチタニア粒子を添加してスラリー(分散液)を得て、最後にスラリーをジルコニアビーズで処理することによって金属酸化物粒子分散液を製造している。但し、この文献に金属酸化物粒子の例として記載されているのは、アルミニウム、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ、アンチモン、セリウム、チタン及びジルコニウムの酸化物粒子である。
特開2006−225240号公報 特開2006−244784号公報 特開2007−137695号公報 特開2011−148668号公報
AC型PDPの誘電体保護層、有機EL素子及びバリアフィルムの水分吸着層として利用する酸化マグネシウム膜は可視光の光透過性が高いこと、すなわち、均質性、緻密性及び表面の平坦性が高いことが要求される。均質性、緻密性及び表面の平坦性が高い酸化マグネシウム膜は、MRAM及びTMR素子の絶縁膜としても有用である。
従って、本発明の目的は、塗布法により、可視光の光透過率が高い酸化マグネシウム膜を製造することができる酸化マグネシウム微粒子分散液、及び分散液の製造方法を提供することにある。
本発明者は、動的光散乱法により測定される粒度分布において、D95が200nmを超えることがなく、粒子径が500nm以上の粒子を1%以上含有することがない、すなわち粗大粒子の含有量が少ない酸化マグネシウム微粒子分散液を用いて、塗布法により酸化マグネシウム膜を製造することによって、可視光領域の光透過率が高い酸化マグネシウム膜を得ることが可能となることを見出した。上記の酸化マグネシウム微粒子分散液を用いることによって、可視光領域の光透過率が高い酸化マグネシウム膜を得ることが可能となる理由としては、粗大粒子の含有量が少ないことから、酸化マグネシウム膜の均質性、緻密性及び表面の平坦性が向上するためであると考えられる。
さらに本発明者は、上記のように粗大な粒子の含有量が少ない分散液は、粗大な粒子を含む分散液を平均粒子径が0.01〜0.50mmのビーズが充填された充填層を通過させることによって製造できることを見出した。
従って、本発明は、分散媒体中に、アルカリ土類金属の酸化物、水酸化物及び炭酸塩からなる群より選ばれるアルカリ土類金属化合物の微粒子が分散された分散液であって、動的光散乱法により測定される粒度分布において、D95が200nmを超えることがなく、粒子径が500nm以上の粒子を1%以上含有することがないアルカリ土類金属化合物微粒子分散液にある。
本発明はまた、分散媒体中に、アルカリ土類金属の酸化物、水酸化物及び炭酸塩からなる群より選ばれるアルカリ土類金属化合物の粒子が分散された分散液であって、動的光散乱法により測定される粒度分布において、D95が200nmよりも大きく、粒子径が500nm以上の粒子の含有量が1%を超えるアルカリ土類金属化合物微粒子分散液を、平均粒子径が0.01〜0.50mmのビーズが充填された充填層を通過させる工程を含む上記本発明のアルカリ土類金属化合物微粒子分散液の製造方法にもある。
本発明のアルカリ土類金属化合物微粒子分散液の製造方法の好ましい態様は、次の通りである。
(1)充填層の厚さが、ビーズの平均粒子径の10倍以上の長さである。
(2)アルカリ土類金属化合物微粒子分散液を、加圧下にて充填層を通過させる。
本発明はさらに、上記本発明のアルカリ土類金属化合物微粒子分散液を基板の上に塗布し、乾燥することによって得られたアルカリ土類金属化合物膜にもある。
本発明はさらにまた、透明基板と、該透明基板の上に形成された酸化マグネシウム膜とを含む透明積層体であって、酸化マグネシウム膜が酸化マグネシウム微粒子の膜状集合体であり、X線回折法により得られる酸化マグネシウム膜のX線回折パターンにおいて、酸化マグネシウムの(200)面に起因するX線回折線のピーク強度が、酸化マグネシウムの(111)面に起因するX線回折線のピーク強度よりも大きく、かつ480〜800nmの波長範囲の光を酸化マグネシウム膜の表面に照射したときの透明積層体の光透過率が、480〜800nmの波長範囲の光を酸化マグネシウム膜が形成される前の透明基板の表面に照射したときの透明基板の光透過率よりも高い透明積層体にもある。
本発明のアルカリ土類金属化合物微粒子分散液を用いて、塗布法によりアルカリ土類金属化合物膜を製造することによって、均質性、緻密性及び表面の平坦性が高いアルカリ土類金属化合物膜を得ることができる。特に、酸化マグネシウム微粒子分散液を用いることによって、可視光領域の光透過率が高い酸化マグネシウム膜を得ることができる。また、本発明の製造方法を利用することによって、粗大粒子の含有量の少ないアルカリ土類金属化合物微粒子分散液を工業的に有利に製造することができる。
本発明のアルカリ土類金属化合物微粒子分散液の製造方法の実施に有利に使用することができる粗大粒子の除去装置の一例の断面図である。 実施例4と比較例2とで得られた透明積層体の光の波長とその波長の光の透過率との関係を示すグラフである。 実施例4で得られた透明積層体の酸化マグネシウム膜のX線回折パターンである。 本実施例で使用した酸化マグネシウム粉末のX線回折パターンである。 電子ビーム蒸着法により得られた酸化マグネシウム膜のX線回折パターンである。
本発明のアルカリ土類金属化合物微粒子分散液は、動的光散乱法により測定される粒度分布において、D95が200nmを超えることがなく、粒子径が500nm以上の粒子を1%以上含有することがない。D95は、篩下の累積粒度分布が95%となる粒子径を意味する。D95は、180nmを超えないことが好ましく、160nmを超えないことがより好ましく、140nmを超えないことが特に好ましい。D95は、一般に100nm以上である。粒子径が500nm以上の粒子の含有率は、0.8%を超えないことが好ましく、0.5%を超えないことがより好ましく、0.1%を超えないことが特に好ましい。また、本発明の微粒子分散液は、D50が5〜100nmの範囲にあることが好ましく、5〜80nmの範囲にあることがより好ましく、5〜60nmの範囲にあることが特に好ましい。本発明において、微粒子分散液のD50、D95及び粒子径が500nm以上の粒子の含有率はそれぞれ、動的光散乱法により測定される光強度基準の粒度分布から求めた値である。光強度基準の粒度分布は、体積基準の粒度分布と比較して粒子径が大きい粒子の存在が強調されるので、粗大粒子の含有量の評価に適している。
本発明の微粒子分散液は、アルカリ土類金属化合物微粒子の含有率が1〜40質量%の範囲にあることが好ましく、5〜30質量%の範囲にあることがより好ましく、8〜28質量%の範囲にあることが特に好ましい。本発明の微粒子分散液に分散されているアルカリ土類金属化合物微粒子は、一般にアルカリ土類金属の酸化物、炭酸塩及び水酸化物からなる群より選ばれるアルカリ土類金属化合物の微粒子である。
本発明の微粒子分散液の分散媒体は、炭素原子数が1〜5の範囲にある一価アルコールであることが好ましい。一価アルコールは、直鎖でも分岐を有していてもよい。一価アルコールの例としては、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、イソブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、tert−ブチルアルコール、ペンチルアルコール、イソペンチルアルコールを挙げることができる。これらの一価アルコールは一種を単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。メチルアルコール、エチルアルコール又はこれらの混合物は、粘度が低い点で好ましい。
本発明の微粒子分散液の分散媒体は、水分含有量を9000質量ppm以下にすることが好ましい。微粒子分散液は、分散媒体の水分含有量が少ない方が粘度が低くなる傾向がある。微粒子分散液は粘度が低い方が、基板の上に塗布したときの塗布膜の厚さを薄くするのが容易になる。また、微粒子分散液中の粗大粒子をろ過により取り除く際には、ろ過速度を速くすることができる。分散媒体の水分含有量の範囲は、一般に10〜9000質量ppmの範囲、好ましくは50〜7000質量ppmの範囲、特に好ましくは100〜6000質量ppmの範囲である。
微粒子分散液は、例えば、動的光散乱法により測定される粒度分布において、D95が200nmよりも大きく、粒子径が500nm以上の粒子の含有量が1%を超える微粒子分散液、すなわち粗大粒子を多く含む微粒子分散液を、平均粒子径が0.01〜0.50mmのビーズが充填された充填層を通過させる工程(ろ過工程)を含む方法によって製造することができる。
粗大粒子を多く含む微粒子分散液は、例えば、アルカリ土類金属化合物微粉末と一価アルコールとを混合し、得られた分散液中のアルカリ土類金属化合物微粒子の凝集物を、湿式粉砕装置を用いて粉砕もしくは解砕する方法により製造することができる。湿式粉砕装置としては、従来より微粒子分散液の製造に利用されている公知の装置、例えば、ビーズを用いた粉砕装置及び湿式ジェットミルを用いることができる。湿式ジェットミルとしては、分散液に圧力を付与して分散液噴流を生成させ、次いで分散液噴流を二以上に分岐させ、各分散液噴流を対向下に衝突させることにより分散液中の微粒子凝集物を粉砕もしくは解砕する装置(例、ナノマイザー)を用いることができる。
原料のアルカリ土類金属化合物微粉末は、BET比表面積が18〜330m2/gの範囲にあることが好ましい。すなわち、アルカリ土類金属化合物微粉末は、下記の式(I)により算出されるBET比表面積換算粒子径が5〜90nmの範囲にあることが好ましい。
BET比表面積換算粒子径=6/(S×ρ)・・・(I)
但し、Sは、BET比表面積であり、ρはアルカリ土類金属化合物の真密度である。
次に、本発明のアルカリ土類金属化合物微粒子分散液について、その代表例である酸化マグネシウム微粒子分散液を例として、詳しく説明する。原料として用いる酸化マグネシウム微粉末としては、気相法によって製造された酸化マグネシウム微粉末を挙げることができる。気相法によって製造された酸化マグネシウム微粉末は、一般に一次粒子が立方体状の微粒子で、純度が99.98質量%以上と高純度である。気相法とは、金属マグネシウム蒸気と酸素とを接触させて金属マグネシウム蒸気を酸化させることによって、酸化マグネシウム微粉末を得る方法である。この気相法によって製造された酸化マグネシウム微粉末は、酸化マグネシウムの(200)面に起因するX線回折線のピーク強度が、酸化マグネシウムの(111)面に起因するX線回折線のピーク強度よりも一般に5〜10倍大きい。酸化マグネシウムの(111)面に起因するX線回折線のピークは、入射角をθとしたときの2θで一般に36〜38度の範囲にある(X線:CuKα)。酸化マグネシウムの(200)面に起因するX線回折線のピークは、入射角をθとしたときの2θで一般に42〜44度の範囲にある(X線:CuKα)。
分散液中の酸化マグネシウム微粒子の凝集物を湿式粉砕装置を用いて粉砕もしくは解砕することのみでは、分散液から粒子径が200nmあるいは500nmを超えるような粗大粒子を完全に除去することは難しい。このため、本発明の製造方法では、粗大粒子を多く含む酸化マグネシウム微粒子分散液をビーズが充填された充填層を通過させることよって粗大粒子を除去する操作を利用する。ビーズの形状は、球状であることが好ましい。ビーズの材料は、ガラス、ジルコニアなどの無機物であることが好ましい。ビーズの平均粒子径は、一般に0.01〜0.50mmの範囲、好ましくは0.02〜0.40mmの範囲である。ビーズの充填層は、ビーズが10層以上積層されていることが好ましい。すなわち、充填層の厚さは、ビーズの平均粒子径の10倍以上の長さであることが好ましく、20〜20000倍の範囲にあることが特に好ましい。また、酸化マグネシウム微粒子分散液の充填層の通過速度を速くするために、酸化マグネシウム微粒子分散液を加圧状態として、充填層を通過させてもよい。
次に、図1を参照しながら、酸化マグネシウム微粒子分散液から粗大粒子を除去する工程を説明する。図1は、本発明のアルカリ土類金属化合物微粒子分散液の製造方法の実施に有利に使用することができる粗大粒子の除去装置の一例の断面図である。
図1において、粗大粒子の除去装置は、上下に開口した円筒体1、円筒体1の下方端部に固定されたフィルターホルダー2、円筒体1の上方端部に固定された蓋10、そして、フィルターホルダー2の下方開口に設置された分散液回収容器15から構成されている。フィルターホルダー2は、内側面にて円筒体1の外側と契合する円筒部3と、円筒部3の下端の内面に形成されているフィルター支持台4、円筒部3の下端から下方に向かって尖った円錐状の底部5、底部5の中央に備えられた分散液の取出口6を有する。フィルター支持台4の上には、フィルター支持板7とフィルター8とがこの順で積載されている。フィルター8は、円筒体1内にビーズを保持するために用いられる。フィルター8として、ビーズが通過しない相対的に小さな孔もしくは溝が形成された金属板(パンチングメタル、網、メッシュ)、布及び紙を用いることができる。フィルター支持板7としては、フィルター8より相対的に大きな孔もしくは溝が形成された金属板を用いることができる。フィルター8と円筒体1の下方先端との間には、Oリング9が配置されている。蓋10は頂部に気体導入口11を有する。気体導入口11は、バルブ12を備える気体供給管13と接続している。蓋10の内面と円筒体1の上方先端との間には、Oリング14が配置されている。
図1の粗大粒子除去装置を用いて、酸化マグネシウム微粒子分散液から粗大粒子を除去する工程は、例えば、次のように行なわれる。
円筒体1の上方端部に固定されている蓋10を外して、円筒体1の上方開口から円筒体1内に酸化マグネシウム微粒子分散液とビーズとを投入する。ビーズは酸化マグネシウム微粒子分散液中を沈降して、フィルター8の上にビーズが堆積してビーズ充填層が形成される。次いで、円筒体1の上方端部に蓋10を固定して、円筒体1内を密閉状態とした後、バルブ12を開けて、気体供給管13から気体を円筒体1内に導入して、円筒体1内を加圧する。円筒体1内に導入する気体の例としては、空気、酸素、窒素及びアルゴンを挙げることができる。円筒体1内に加える圧力は、0.01〜0.50MPaの範囲にあることが好ましい。酸化マグネシウム微粒子分散液がビーズ充填層を通過する際に、ビーズとビーズとの間に形成されている多数の隙間にて粗大粒子が捕捉されて、酸化マグネシウム微粒子分散液中の粗大粒子の含有量が減少する。粗大粒子の含有量が減少した酸化マグネシウム微粒子分散液を、取出口6から取り出して分散液回収容器15にて回収する。
粗大粒子の含有量が少ない酸化マグネシウム微粒子分散液は、酸化マグネシウム膜を塗布法により製造する際の原料として有利に使用することができる。すなわち、酸化マグネシウム微粒子分散液を基板の上に塗布し、乾燥することによって酸化マグネシウム膜を製造することができる。酸化マグネシウム微粒子分散液を基板の上に塗布する方法としては、スピンコート法、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、カーテンコート法、グラビア印刷法、シルクスクリーン法、インクジェット法を用いることができる。酸化マグネシウム膜の膜厚は、一般に10nm〜10μmの範囲にある。
酸化マグネシウム微粒子分散液を用いた塗布法により形成された酸化マグネシウム膜は、酸化マグネシウム微粒子の膜状集合体である。このため、酸化マグネシウム膜の結晶構造は原料の酸化マグネシウム微粒子と同一となり、X線回折法により得られる酸化マグネシウム膜のX線回折パターンにおいて、酸化マグネシウムの(200)面に起因するX線回折線のピーク強度は、酸化マグネシウムの(111)面に起因するX線回折線のピーク強度よりも大きくなる。一方、蒸着法により形成された酸化マグネシウム膜は、一般に、酸化マグネシウムの(111)面に起因するX線回折線のピーク強度が、酸化マグネシウムの(200)面に起因するX線回折線のピーク強度よりも大きい。(200)面に起因するX線回折線のピーク強度が大きい酸化マグネシウムは、(111)面に起因するX線回折線のピーク強度が大きい酸化マグネシウムと比較して、一般に水和しにくい、すなわち耐水和性が高いとされている。従って、本発明の酸化マグネシウム微粒子分散液を用いた塗布法により形成された酸化マグネシウム膜は、蒸着法により形成された酸化マグネシウム膜よりも耐水和性が高い。
透明基板の上に、本発明の酸化マグネシウム微粒子分散液を用いた塗布法により酸化マグネシウム膜を形成した透明積層体では、480〜800nmの波長範囲、特に500〜750nmの波長範囲の光を酸化マグネシウム膜の表面に照射したときの透明積層体の光透過率が、480〜800nmの波長範囲の光を酸化マグネシウム膜が形成される前の透明基板の表面に照射したときの透明基板の光透過率よりも高い値を示すことがある。透明基板は、480〜800nmの波長範囲の光の透過率が80%以上にあることが好ましく、85〜95%の範囲にあることが特に好ましい。透明積層体の例としては、トップエミッション方式の有機EL素子及びAC型PDPの前面板を挙げることができる。
本発明の酸化マグネシウム微粒子分散液を用いて塗布法により形成された酸化マグネシウム膜は、光透過性、耐スパッタ性及び絶縁性に優れている。この酸化マグネシウム膜は、AC型PDPの誘電体保護層として、MRAMあるいはTMR素子の絶縁膜、有機EL素子あるいはバリアフィルムの水分吸着層として利用することができる。
以上、本発明のアルカリ土類金属化合物微粒子分散液を、酸化マグネシウム微粒子分散液を中心に説明したが、本発明のアルカリ土類金属化合物微粒子分散液は、酸化マグネシウム以外のアルカリ土類金属化合物の微粒子が分散されていてもよい。アルカリ土類金属化合物の例としては、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウムなどの酸化物、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウムなどの炭酸塩、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウムなどの水酸化物を挙げることができる。アルカリ土類炭酸塩及びアルカリ土類水酸化物では、分散媒体に一価アルコール及び水を使用することができる。
[比較例1]
容量1Lの容器に、酸化マグネシウム微粉末(BET比表面積:170m2/g)30g、メチルアルコール270g、そしてジルコニア製球状ビーズ(YTZボール、直径:0.1mm)1.2kgを投入して、蓋をした。次いで、蓋をした容器をロッキングミルを用いて3時間振とうさせて、酸化マグネシウム微粒子分散液を調製した。容器内の酸化マグネシウム微粒子分散液をデカンテーションにより回収した。回収した酸化マグネシウム微粒子分散液について粒度分布、水分含有量及び粘度を下記の方法により測定した。下記の表1に、その粒度分布から求めたD50、D95及び粒子径が500nm以上の粗大粒子の含有率、水分含有量及び粘度を示す。
[粒度分布の測定方法]
試料の酸化マグネシウム微粒子分散液にメチルアルコールを加えて、酸化マグネシウム微粒子の濃度が0.2質量%となるように希釈した後、超音波ホモジナイザー(SONIFIER 150、ブランソン製)にて、パワー強度8の条件で1分間分散処理を行なった。得られた希釈分散液中の酸化マグネシウム微粒子の光強度基準の粒度分布を、動的光散乱式粒度分布測定装置(ナノトラックUPA−EX150、日機装(株)製)を用いて測定した。粒度分布の測定は1回の測定を60秒として5回行なって、その平均値から光強度基準の粒度分布を算出した。算出した光強度基準の粒度分布から、D50、D95、粒子径が500nm以上の粗大粒子の含有率を求めた。
[水分含有量の測定方法]
気化室(ADP−611、京都電子工業(株)製)を備えたカールフィッシャー水分計(MKC−610、京都電子工業(株)製)を用いて測定した。試料の酸化マグネシウム微粒子分散液を300℃の温度に設定した気化室に投入し、発生した気体及び蒸気をカールフィッシャー水分計に導入して、その気体及び蒸気の水分量を測定し、分散液の水分含有量とした。
[粘度の測定方法]
試料の酸化マグネシウム微粒子分散液の液温を25℃に調整し、円錐平板型回転粘度計(TVE−25H、円錐平板のサイズ:1°34’×半径24mm、東機産業(株)製)を用い、円錐平板を1rpmの回転速度で回転させ、円錐平板の回転開始2分後の粘度を測定した。
[実施例1]
比較例1で回収した酸化マグネシウム微粒子分散液160g中の粗大粒子を、ジルコニア製球状ビーズ(YTZボール、直径:0.05mm)680gと、図1に示す粗大粒子の除去装置とを用いて除去した。すなわち、円筒体1の上方端部に固定されている蓋10を外して、円筒体1の上方開口から円筒体1内に酸化マグネシウム微粒子分散液とビーズとを投入する。ビーズが酸化マグネシウム微粒子分散液中を沈降して、フィルター8の上にビーズが堆積してビーズ充填層(長さ:100mm)が形成されたことを確認した後、円筒体1の上方端部に蓋10を固定して、円筒体1内を密閉状態とした。次いで、バルブ12を開けて、気体供給管13から空気を円筒体1内に導入して、円筒体1内を0.10MPa加圧した。ビーズ充填層を通過した酸化マグネシウム微粒子分散液を分散液回収容器15にて回収した。回収した酸化マグネシウム微粒子分散液について粒度分布、水分含有量及び粘度を測定した。下記の表1に、その粒度分布から求めたD50、D95及び粒子径が500nm以上の粗大粒子の含有率、水分含有量及び粘度を示す。
[実施例2]
ジルコニア製球状ビーズに直径0.1mmのジルコニア製球状ビーズ(YTZボール)を使用したこと以外は、実施例1と同様にして、ジルコニア製球状ビーズの充填層を通過した酸化マグネシウム微粒子分散液を回収した。回収した酸化マグネシウム微粒子分散液について粒度分布、水分含有量及び粘度を測定した。下記の表1に、その粒度分布から求めたD50、D95及び粒子径が500nm以上の粗大粒子の含有率、水分含有量及び粘度を示す。
[実施例3]
ジルコニア製球状ビーズに、直径0.3mmのジルコニア製球状ビーズ(YTZボール)を使用したこと以外は、実施例1と同様にして、ジルコニア製球状ビーズの充填層を通過した酸化マグネシウム微粒子分散液を回収した。回収した酸化マグネシウム微粒子分散液について粒度分布、水分含有量及び粘度を測定した。下記の表1に、その粒度分布から求めたD50、D95及び粒子径が500nm以上の粗大粒子の含有率、水分含有量及び粘度を示す。
表1
────────────────────────────────────────
粒子径が500nm
5095 以上の粗大粒子の 水分含有率 粘度
(nm) (nm) 含有率(%) (質量ppm)(mPa・秒)
────────────────────────────────────────
比較例1 53.2 352.0 2.24 2944 3.0
────────────────────────────────────────
実施例1 41.5 121.8 検出されず 2951 3.0
────────────────────────────────────────
実施例2 40.6 150.8 検出されず 3024 3.0
────────────────────────────────────────
実施例3 42.4 193.3 検出されず 3460 3.0
────────────────────────────────────────
上記の表の結果から、ジルコニア製球状ビーズの充填層を通過させた後の酸化マグネシウム微粒子分散液(実施例1〜3)は、ジルコニア製球状ビーズの充填層を通過させる前の酸化マグネシウム微粒子分散液(比較例1)と比較して、D50、D95と粒子径が500nm以上の粒子の含有率が小さい値を示すことが分かる。特に、ジルコニア製球状ビーズの充填層を通過させた後の酸化マグネシウム微粒子分散液(実施例1〜3)は、500nm以上の粗大粒子が検出できないレベルにまで粗大粒子が除去されていることが分かる。
[実施例4]
実施例2で製造した酸化マグネシウム微粒子分散液0.2mLを、硼珪酸ガラス基板(縦50mm×横50mm×厚さ0.55mm、480〜800nmの波長範囲の可視光の光透過率が91.5%)の上に滴下した後、ガラス基板を3000rpmの回転速度で60秒間回転させて、ガラス基板の上に塗布層を形成した。次いで、ガラス基板を120℃に加熱したホットプレートの上に置いて、塗布層を乾燥させて、厚さ500nmの酸化マグネシウム膜を形成して透明積層体を得た。
[比較例2]
酸化マグネシウム微粒子分散液に、比較例1で製造した酸化マグネシウム微粒子分散液を用いたこと以外は、実施例4と同様にして、ガラス基板の上に厚さ500nmの酸化マグネシウム膜を形成して透明積層体を得た。
[評価]
(1)透明積層体の光透過率
実施例4及び比較例2で得られた透明積層体について、酸化マグネシウム膜側の表面から光を照射したときの光透過率を、絶対反射率測定ユニット(ARSN−733、日本分光(株)製)を備えた分光光度計(V−670、日本分光(株)製)を使用して、下記の条件により測定した。その結果を、図2に示す。なお、図2に示した値は、基板の硼珪酸ガラス基板の光透過率を100とした相対値である。
[光透過率の測定条件]
入射角:0度
データ取り込み間隔:2nm
バンド幅:5nm
走査速度:1000nm/分
図2の結果から、粗大粒子の含有量が相対的に少ない酸化マグネシウム微粒子分散液を用いて製造した透明積層体(実施例4)は、粗大粒子の含有量が相対的に多い酸化マグネシウム微粒子分散液を用いて製造した透明積層体(比較例2)と比較して、可視光領域の光透過率が高いことが分かる。特に、実施例4の透明積層体は、480〜800nmの広い光の波長範囲において、光透過率が100%を超えていること、すなわち硼珪酸ガラス基板よりも光透過率が高いことが分かる。
(2)透明積層体の酸化マグネシウム膜の結晶構造
実施例4で得られた透明積層体の酸化マグネシウム膜のX線回折パターンを、X線回折装置(NEW D8 ADVANCE、ブルカー・エイエックスエス(株)製)を使用して、θ−2θスキャンにより下記の条件により測定した。その結果を図3に示す。
[X線回折パターンの測定条件]
X線:CuKα(Ni)
管電圧:40kV
管電流:40mA
検出器:一次元半導体高速検出器(LynxEye、ブルカー・エイエックスエス(株)製)
発散スリット:0.3度
ステップサイズ:0.01度
計数時間:1.00秒/ステップ
図3のX線回折パターンから、実施例4で得られた透明積層体の酸化マグネシウム膜は、酸化マグネシウムの(200)面に起因するX線回折線のピーク強度が、酸化マグネシウムの(111)面に起因するX線回折線のピーク強度よりも大きいことが分かる。
[参考例1]
本実施例で使用した酸化マグネシウム粉末のX線回折パターンを測定した。その結果を、図4に示す。この図4の結果から、実施例4で得られた透明積層体の酸化マグネシウム膜の結晶構造は、原料の酸化マグネシウム粉末の結晶構造と同一であることが分かる。
[参考例2]
硼珪酸ガラス基板の上に、電子ビーム蒸着法を用いて下記の成膜条件により、厚さ1000nmの酸化マグネシウム膜を形成して、透明積層体を得た。得られた透明積層体の酸化マグネシウム膜のX線回折パターンを測定した。その結果を、図5に示す。この図5の結果から、電子ビーム蒸着法により得られた酸化マグネシウム膜は、酸化マグネシウムの(111)面に起因するX線回折線のピーク強度が、酸化マグネシウムの(200)面に起因するX線回折線のピーク強度よりも大きいことが分かる。
[成膜条件]
電圧:8kV
蒸着速度:2.0nm/秒
蒸着チャンバーの酸素分圧:2×10-2Pa
基板温度:200℃
1 円筒体
2 フィルターホルダー
3 円筒部
4 フィルター支持台
5 底部
6 取出口
7 フィルター支持板
8 フィルター
9 Oリング
10 蓋
11 気体導入口
12 バルブ
13 気体供給管
14 Oリング
15 分散液回収容器

Claims (7)

  1. 分散媒体中に、酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム、酸化カルシウムそして炭酸カルシウムからなる群より選ばれるアルカリ土類金属化合物の微粒子が分散された分散液であって、動的光散乱法により測定される粒度分布において、D95が200nmを超えることがなく、粒子径が500nm以上の粒子を1%以上含有することがないアルカリ土類金属化合物微粒子分散液。
  2. アルカリ土類金属化合物微粒子が酸化マグネシウム微粒子である請求項1に記載のアルカリ土類金属化合物微粒子分散液。
  3. 分散媒体中に、酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム、酸化カルシウムそして炭酸カルシウムからなる群より選ばれるアルカリ土類金属化合物の粒子が分散されたアルカリ土類金属化合物粒子分散液であって、動的光散乱法により測定される粒度分布において、D95が200nmよりも大きく、粒子径が500nm以上の粒子の含有量が1%を超えるアルカリ土類金属化合物微粒子分散液を、平均粒子径が0.01〜0.50mmのビーズが充填された充填層を通過させる工程を含む請求項1に記載のアルカリ土類金属化合物微粒子分散液の製造方法。
  4. 酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム、酸化カルシウムそして炭酸カルシウムからなる群より選ばれるアルカリ土類金属化合物微粒子分散液を、加圧下にて充填層を通過させる請求項3に記載のアルカリ土類金属化合物微粒子分散液の製造方法。
  5. 請求項1に記載のアルカリ土類金属化合物微粒子分散液を基板の上に塗布し、乾燥することによって得られたアルカリ土類金属化合物膜。
  6. アルカリ土類金属化合物微粒子分散液が酸化マグネシウム微粒子の分散液であって、得られたアルカリ土類金属化合物膜が酸化マグネシウム膜である請求項5に記載のアルカリ土類金属化合物膜。
  7. 透明基板と、該透明基板の上に形成された酸化マグネシウム膜とを含む透明積層体であって、酸化マグネシウム膜が酸化マグネシウム微粒子の膜状集合体であり、X線回折法により得られる酸化マグネシウム膜のX線回折パターンにおいて、酸化マグネシウムの(200)面に起因するX線回折線のピーク強度が、酸化マグネシウムの(111)面に起因するX線回折線のピーク強度よりも大きく、かつ480〜800nmの波長範囲の光を酸化マグネシウム膜の表面に照射したときの透明積層体の光透過率が、480〜800nmの波長範囲の光を酸化マグネシウム膜が形成される前の透明基板の表面に照射したときの透明基板の光透過率よりも高い透明積層体。
JP2013138239A 2013-07-01 2013-07-01 アルカリ土類金属化合物微粒子分散液及びその製造方法 Active JP6340171B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013138239A JP6340171B2 (ja) 2013-07-01 2013-07-01 アルカリ土類金属化合物微粒子分散液及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013138239A JP6340171B2 (ja) 2013-07-01 2013-07-01 アルカリ土類金属化合物微粒子分散液及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015010025A JP2015010025A (ja) 2015-01-19
JP6340171B2 true JP6340171B2 (ja) 2018-06-06

Family

ID=52303499

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013138239A Active JP6340171B2 (ja) 2013-07-01 2013-07-01 アルカリ土類金属化合物微粒子分散液及びその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6340171B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6951901B2 (ja) * 2017-08-07 2021-10-20 宇部マテリアルズ株式会社 電子デバイス装置製造用積層体の製造方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS586251A (ja) * 1981-07-03 1983-01-13 Ishizuka Kenkyusho:Kk 湿式分級方法
JPH11157832A (ja) * 1997-11-28 1999-06-15 Tsuchiya Co Ltd 透明酸化マグネシウム被膜形成用塗布液
JP3267247B2 (ja) * 1998-10-21 2002-03-18 三菱マテリアル株式会社 Fpd保護膜用コーティング液及びその調製方法
JP2005063718A (ja) * 2003-08-08 2005-03-10 Central Glass Co Ltd ディスプレイ用ガラス板
JP2005058985A (ja) * 2003-08-11 2005-03-10 Chuo Kakoki Kk 分級装置
KR100785561B1 (ko) * 2004-04-16 2007-12-13 쇼와 덴코 가부시키가이샤 산화칼슘 분산액 및 이의 제조 방법
JP2006124264A (ja) * 2004-04-16 2006-05-18 Showa Denko Kk 酸化カルシウム分散液およびその製造方法
JP4611057B2 (ja) * 2005-03-01 2011-01-12 宇部マテリアルズ株式会社 交流型プラズマディスプレイパネルの誘電体層保護膜形成用の酸化マグネシウム微粒子分散液
JP4914054B2 (ja) * 2005-11-15 2012-04-11 宇部マテリアルズ株式会社 酸化マグネシウム微粒子分散液及びその製造方法
KR100983118B1 (ko) * 2007-12-07 2010-09-17 삼성전기주식회사 산화마그네슘 나노입자 제조방법 및 산화마그네슘 나노졸 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
JP2015010025A (ja) 2015-01-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Wei et al. Tricomponent brookite/anatase TiO 2/gC 3 N 4 heterojunction in mesoporous hollow microspheres for enhanced visible-light photocatalysis
Huang et al. Nonstoichiometric titanium oxides via pulsed laser ablation in water
KR102534292B1 (ko) 복합 텅스텐 산화물 초미립자 및 이의 분산액
Park et al. Adsorption and UV/Visible photocatalytic performance of BiOI for methyl orange, Rhodamine B and methylene blue: Ag and Ti-loading effects
TWI704190B (zh) 防偽油墨用組成物、防偽油墨及防偽用印刷物,暨防偽油墨用組成物之製造方法
JP2009084122A (ja) Ito粉体およびその製造方法、透明導電材用塗料、並びに透明導電膜
JP2008050234A (ja) Ito粉体およびその製造方法、ito導電膜用塗料、並びに透明導電膜
KR20190125980A (ko) 열선 차폐 미립자, 열선 차폐 미립자 분산액, 열선 차폐막용 도포액, 및 이들을 사용한 열선 차폐막, 열선 차폐 수지 필름, 열선 차폐 미립자 분산체
Selvi et al. Investigation of the dielectric and impedance properties of ZnO/MgO nanocomposite
TW201719678A (zh) 鎳粉及鎳糊
JP5726728B2 (ja) Ito粉体、ito塗料、並びに、ito塗料を用いて成膜される透明導電膜
JP6340171B2 (ja) アルカリ土類金属化合物微粒子分散液及びその製造方法
TWI652226B (zh) Magnesium oxide microparticle dispersion liquid and preparation method thereof
JP5564207B2 (ja) 赤外線遮蔽材料、赤外線遮蔽用塗料、赤外線遮蔽膜、並びに、赤外線遮蔽基材
JP2018177550A (ja) 高屈折率材用ジルコニア粉末及びその製造方法
TW200817496A (en) Cerium oxide based abrasive
KR20150060190A (ko) 티탄산바륨의 제조방법 및 이로부터 제조되는 티탄산바륨
JP5025541B2 (ja) 酸化マグネシウム薄膜およびその製造方法
Barthaburu et al. Synthesis and characterization of HgI2 nanoparticles for films nucleation
JP2012184158A (ja) 低原子価酸化チタン粉末および酸化亜鉛系焼結体
TW201434531A (zh) 水分吸附劑及其製造方法
JP7104656B2 (ja) ハロイサイト粉末およびハロイサイト粉末の製造方法
Jung‐König et al. Microemulsion‐made Magnesium Carbonate Hollow Nanospheres
TW201520173A (zh) 草酸氧鈦鋇製備方法以及鈦酸鋇製備方法
JP2019178048A (ja) チタン酸バリウム粒子粉末及びその製造方法、並びに分散体

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160517

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20170216

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170220

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170926

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20171110

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180125

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180502

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180514

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6340171

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250