JPH11157832A - 透明酸化マグネシウム被膜形成用塗布液 - Google Patents

透明酸化マグネシウム被膜形成用塗布液

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JPH11157832A
JPH11157832A JP32840897A JP32840897A JPH11157832A JP H11157832 A JPH11157832 A JP H11157832A JP 32840897 A JP32840897 A JP 32840897A JP 32840897 A JP32840897 A JP 32840897A JP H11157832 A JPH11157832 A JP H11157832A
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magnesium oxide
transparent
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oxide film
magnesium
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JP32840897A
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Hirotaka Mizuno
寛隆 水野
Hiroaki Hayashi
宏明 林
Yasuyuki Ohara
康之 大原
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Tsuchiya KK
Original Assignee
Tsuchiya KK
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  • Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 透明な酸化マグネシウム被膜を安価で容易に
生産性良く作製するための塗布液を提供する。 【解決手段】 本発明の塗布液はマグネシウムアセチル
アセトナートとエタノールアミンと脂肪酸と有機溶剤か
らなり、所望により更に酸化マグネシウム超微粉末を含
有する塗布液であり、この塗布液を塗布、乾燥、焼成す
ることでガラスなどの基体上に透明酸化マグネシウム被
膜を形成することが可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス、セラミッ
ク等に塗布し、焼成によって透明酸化マグネシウム被膜
となる透明酸化マグネシウム被膜形成用塗布液およびそ
の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】酸化マグ
ネシウム膜は耐熱性と高い光透過性とを兼ね備えた膜と
して知られており、酸化物高温超電導膜の基板やAC型
プラズマディスプレイパネルの透明電極の保護膜として
用いられている。その他にも絶縁膜、表面保護膜、触媒
膜などに広く利用されている。
【0003】これらの膜の製造方法としては真空蒸着や
スパッタといった物理的製膜法が使用されているが、こ
の方法では真空系を必要とし、製膜装置が大型化したり
製造コストが高くなったりする欠点がある。そこで、こ
の方法とは別にマグネシウムアルコキシドを原料として
用い、マグネシウムアルコキシドのゾル溶液を作製し
て、そのゾル溶液を基体上に塗布、焼成して酸化マグネ
シウム被膜を形成する塗布法が考えられた。この塗布法
を用いた例として、Chem.Mater.7,202
8(1995)記載のマグネシウムメトキシドに過酸化
水素を添加したゾル溶液を基体上に塗布、焼成して酸化
マグネシウム被膜を得るというものがある。しかしなが
ら、この方法には、マグネシウムメトキシドのゾル溶液
の調製の際、アルゴンガス等の不活性雰囲気で作業しな
ければならないこと、マグネシウムメトキシドの加水分
解の制御が難しく、そのゾル溶液は不安定で、保存の
際、すぐに加水分解されて溶液中に沈殿が発生したり、
白濁したりしてしまうこと、また製膜の際、一回の塗布
工程で0.2μm以下の膜厚の酸化マグネシウム被膜し
か得られないという問題点があった。
【0004】
【課題を解決するための手段】上述のような課題を解決
し、ガラスなどの基体上に透明酸化マグネシウム被膜を
容易に、しかも安価に製造する方法およびそれに適した
材料開発をするために鋭意研究を行った結果、マグネシ
ウムアセチルアセトナートとそれを溶解させるための添
加剤を見出し、透明酸化マグネシウム被膜を形成できる
塗布液を作製可能にした。また、この塗布液に酸化マグ
ネシウム超微粉末を添加することで、一回の塗布工程
で、膜厚が0.3μm〜3.5μmの透明酸化マグネシ
ウム被膜も形成できるようになることを見出し、上記の
課題を解決することができた。
【0005】具体的には、マグネシウムアセチルアセト
ナートを用いて、添加剤としてエタノールアミンと脂肪
酸を使用することにより、マグネシウムアセチルアセト
ナートを有機溶剤に可溶な形にすることおよび得られた
溶液を長期安定化させることで、透明酸化マグネシウム
被膜形成用塗布液の作製を可能とした。さらにこの塗布
液に酸化マグネシウム超微粉末を添加することにより、
一回の塗布工程で、膜厚が0.3μm〜3.5μmの透
明酸化マグネシウム被膜が形成できる塗布液も作製可能
とした。これらの塗布液をガラスなどの基体に塗布、3
00℃以上の温度で焼成することで透明酸化マグネシウ
ム被膜を形成し、容易にその目的を達成することを見出
し、本発明に到達した。
【0006】即ち、本発明は従来技術では不可能であっ
た透明性に優れた酸化マグネシウム膜を、安価でかつ容
易に形成するための塗布液およびその製造方法を提供す
るためのものである。
【0007】本発明の塗布液は従来技術の塗布液、即ち
マグネシウムメトキシドのゾル溶液に比べ、溶液の調製
の際、アルゴン等の不活性雰囲気を必要とせず、大気中
で調製することができること、保存の際、加水分解の影
響を受けないため溶液の安定性に優れること、また製膜
の際、一回の塗布工程で0.3μm〜3.5μmの膜厚
の透明酸化マグネシウム被膜も作製することが可能であ
る点に於いて有利である。
【発明の実施の形態】
【0008】本発明の塗布液には二つの態様がある。そ
の一つは、マグネシウムアセチルアセトナートを有機溶
媒に溶解させた塗布液であり、もう一つは、その塗布液
にさらに酸化マグネシウム超微粉末を添加した塗布液で
ある。
【0009】まず、第一の態様である、マグネシウムア
セチルアセトナートを有機溶媒に溶解させた塗布液につ
いて説明する。マグネシウムアセチルアセトナートと有
機溶媒の混合液にエタノールアミンと脂肪酸を添加す
る。マグネシウムアセチルアセトナートと有機溶媒を混
合しただけでは、マグネシウムアセチルアセトナートが
溶解せずに固体として分散または沈殿した状態で存在し
ており、このままでは塗布液として使用できない。これ
にエタノールアミンを適切な量添加し、加熱攪拌するこ
とによって、マグネシウムアセチルアセトナートは全て
溶解し透明溶液となる。従って、エタノールアミンはマ
グネシウムアセチルアセトナートを有機溶媒に完全に溶
解させ、マグネシウムアセチルアセトナートの透明塗布
液の作製を可能とする。
【0010】エタノールアミンだけを添加してマグネシ
ウムアセチルアセトナートを有機溶媒に溶解させた塗布
液は保存安定性に問題があり、保存の際、マグネシウム
アセチルアセトナートが析出して塗布液に沈殿が発生し
たり、白濁したりすることがある。そこでこの塗布液に
脂肪酸を添加し、加熱攪拌すると、マグネシウムアセチ
ルアセトナートに配位していたエタノールアミンの一部
が脂肪酸と置換して、マグネシウムアセチルアセトナー
トがより安定な形になるため、塗布液の保存安定性が向
上する。従って、脂肪酸は塗布液を安定化し、長期安定
で透明な透明酸化マグネシウム被膜形成用塗布液の作製
を可能とし、この塗布液を塗布した膜を透明にかつ均質
に保つ役割を果たす。
【0011】添加するエタノールアミンと脂肪酸の添加
順序は、エタノールアミンを添加して加熱攪拌すること
によりエタノールアミンを配位させた後、脂肪酸を添加
して加熱攪拌することにより配位しているエタノールア
ミンの一部を脂肪酸により置換する場合と、脂肪酸を添
加して加熱攪拌することにより脂肪酸を配位させた後、
エタノールアミンを添加して加熱攪拌することにより配
位している脂肪酸の一部をエタノールアミンにより置換
する場合の二通り可能である。一方、エタノールアミン
と脂肪酸を同時に添加して加熱攪拌した場合、マグネシ
ウムアセチルアセトナートとエタノールアミンおよび脂
肪酸が反応をする前に、エタノールアミンと脂肪酸が反
応してしまうためにマグネシウムアセチルアセトナート
とエタノールアミンおよび脂肪酸との反応が抑制され、
得られる塗布液が不透明となったり、不安定となったり
することがあるため好ましくない。
【0012】使用する有機溶媒としては、例えば、メタ
ノール、エタノール、n−プロパノール、i−プロパノ
ール、ベンジルアルコール、テルピネオール等のアルコ
ール系溶媒、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル等のグリコール類、メトキシエタノール、エトキシエ
タノール、イソプロポキシエタノール、フェノキシエタ
ノール等のグリコールエーテル類などが挙げられる。こ
れらの有機溶媒のうち、1種だけを用いても良いが、2
種以上を混合してもかまわない。有機溶媒の量としては
マグネシウム濃度が0.05〜2mo1/1となる量が
好ましい。この量は液中のマグネシウム濃度を適切な値
に保ち、かつ塗布に適した粘度にするためのものであ
り、溶媒が多いとマグネシウム濃度が低くなり、塗布膜
厚が薄くもろい膜ができてしまうことがあり好ましくな
い。逆に溶媒量が少ないと粘度が高くなり塗布液として
適さなくなり、塗布膜にクラックが入ったり、可視光透
過率の低い膜ができてしまうことがある。
【0013】添加するエタノールアミンの量としては、
エタノールアミンの量がマグネシウムアセチルアセトナ
ートのモルに対して1(モル比)より少ないとマグネシ
ウムアセチルアセトナートの溶解が不十分で、塗布の
際、未溶解のマグネシウムアセチルアセトナート粒子が
析出したり、表面の粗い塗布膜となったり、乾燥の際、
マグネシウムアセチルアセトナートが析出し乾燥膜が白
化してしまうことがある。またエタノールアミンの量が
マグネシウムアセチルアセトナートのモルに対して8
(モル比)より多くなると、塗布膜にムラが生じてしま
うことがある。従って、エタノールアミンの添加量とし
ては、マグネシウムアセチルアセトナートのモルに対し
て1〜8(モル比)が好ましい。添加するエタノールア
ミンとしてはモノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミンが挙げられる。エタノールア
ミンは一種だけを用いても良いが、二種以上用いても良
い。
【0014】添加する脂肪酸の量としては、脂肪酸の量
がマグネシウムアセチルアセトナートのモルに対して1
(モル比)より少ないと、マグネシウムアセチルアセト
ナートの安定化が不十分で放置後マグネシウムアセチル
アセトナートが溶液中に析出してしまうことがある。従
って、脂肪酸の添加量としてはマグネシウムアセチルア
セトナートのモルに対して1(モル比)以上が好まし
い。使用する脂肪酸としては、例えば、酢酸、プロピオ
ン酸、2−エチルヘキサン酸等が挙げられる。脂肪酸は
一種だけを用いても良いが、二種以上用いても良い。以
上のような製法で得られた溶液は透明で緻密な酸化マグ
ネシウム被膜を形成するための塗布液としては最適なも
のである。
【0015】第二の態様の塗布液である、上述の塗布液
に酸化マグネシウム超微粉末を添加した塗布液の製造方
法を説明する。上述の塗布液に酸化マグネシウム超微粉
末を添加して、例えば、ロールミル、ホモミキサー、ボ
ールミル等の分散機器を用いて酸化マグネシウム超微粉
末を分散させる。酸化マグネシウム超微粉末を添加しな
い上述の塗布液から一回の塗布工程で0.3μm以上の
膜厚の酸化マグネシウム被膜を形成しようとすると、焼
成時に有機成分などの燃焼、分解による膜の収縮のため
に焼成膜にクラックが発生してしまう。そこで、上述の
塗布液に酸化マグネシウム超微粉末を添加することによ
り、焼成時の収縮が緩和されるためクラックの発生が抑
制され、0.3μm〜3.5μm以上の膜厚でも透明で
より緻密な酸化マグネシウム被膜を形成することが可能
となる。
【0016】添加する酸化マグネシウム超微粉末の量が
上記塗布液に対して0.3(重量比)より多いと、塗布
液中の固形分が多くなりすぎるために焼成膜にクラック
が入ったり、白化したりすることがある。また、添加す
る酸化マグネシウム超微粉末の量が上記塗布溶液に対し
て0.03(重量比)より少ないと、塗布液中の固形分
が少ないために焼成膜の膜厚が0.3μm以下となり、
酸化マグネシウム超微粉末を添加する効果が現れないこ
とがある。従って、添加する酸化マグネシウム超微粉末
の量は上記塗布液に対して0.03〜0.3(重量比)
が好ましい。
【0017】添加する酸化マグネシウム超微粉末として
は平均一次粒径が100Å以下のものが望ましい。平均
一次粒径が100Åより大きい酸化マグネシウム超微粉
末を添加すると、酸化マグネシウム粒子が数個凝集した
2次粒子の粒径が可視光の波長に近づき、この2次粒子
による光の散乱により、酸化マグネシウム被膜の可視光
透過率が著しく低下してしまうことがある。そこで平均
一次粒径100Å以下の酸化マグネシウム超微粉末を使
用することで、透明な酸化マグネシウム被膜を作製する
ことができる。
【0018】以上のような方法で得られた塗布液は、透
明で緻密な酸化マグネシウム被膜を形成するための塗布
液としては最適なものであり、製膜の際、一回の塗布工
程で0.3μm〜3.5μmの膜厚の透明酸化マグネシ
ウム被膜を作製することが可能である。
【0019】上述の製造方法で作製された第一、第二の
態様の塗布液の塗布方法としては、例えば、スクリーン
印刷、ロールコート、バーコート、スプレー、スピンコ
ート、浸漬等が均質な膜を容易に製造する方法として優
れている。上記の方法でガラスなどの基体表面に塗布膜
を形成せしめた後、有機溶媒を除去するために例えば7
0℃〜200℃で10分〜1時間乾燥を行い、さらに例
えば300℃以上の温度で10分〜2時間焼成を行う。
焼成雰囲気に関しては大気中、または酸素中で行う。こ
の方法により、透明で緻密な酸化マグネシウム被膜が得
られる。
【0020】以上のように、本発明の塗布液は、調製の
際、アルゴンガス等の不活性雰囲気を必要とせず、大気
中で調製することができ、長期保存安定性に優れ、透明
で緻密な酸化マグネシウム被膜を形成するための塗布液
としては最適なものであり、製膜の際、一回の塗布工程
で0.3μm〜3.5μmの膜厚の透明酸化マグネシウ
ム被膜も作製することが可能である。
【0021】実施例1 マグネシウムアセチルアセトナート0.5mo1とn−
プロパノール1000m1を混合、攪拌し、その混合液
に酢酸1.5mo1を添加し、約80℃で1時間攪拌し
その後、ジエタノールアミン1mo1を添加して約80
℃で1時間攪拌する。マグネシウムアセチルアセトナー
トはジエタノールアミンとの反応により、完全に溶解
し、酢酸により安定化され、透明酸化マグネシウム被膜
形成用塗布液を得た。この塗布液は非常に安定で、室温
で1年間放置後も沈殿や溶液の白濁は見られず、透明な
ままであった。
【0022】こうして調製した透明酸化マグネシウム被
膜形成用塗布液にスライドガラスを浸漬し、100mm
/minの速度で引き上げることにより塗布膜を形成
し、180℃で1時間乾燥して有機溶媒を除去および膜
の硬化を行った後、電気炉にて550℃で30分大気中
焼成して透明酸化マグネシウム被膜を得た。本実施例の
酸化マグネシウム被膜の特性を表2に示す。
【0023】実施例2 マグネシウムアセチルアセトナート1.5mo1とn−
プロピルアルコール400m1を混合、攪拌し、その混
合液に酢酸4.5mo1を添加し、約80℃で1時間攪
拌しその後、モノエタノールアミン6mo1を添加して
約80℃で1時間攪拌する。マグネシウムアセチルアセ
トナートはモノエタノールアミンとの反応により、完全
に溶解し、酢酸により安定化され、透明酸化マグネシウ
ム被膜形成用塗布液を得た。この塗布液は非常に安定
で、室温で1年間放置後も沈殿や溶液の白濁は見られ
ず、透明なままであった。
【0024】こうして調製した透明酸化マグネシウム被
膜形成用塗布液を用いて、実施例1と同様の工程により
透明酸化マグネシウム被膜を得た。本実施例の酸化マグ
ネシウム被膜の特性を表2に示す。
【0025】実施例3 マグネシウムアセチルアセトナート0.5mo1とテル
ピネオール450m1を混合、攪拌し、その混合液に酢
酸1.5mo1を添加し、約100℃で1時間攪拌しそ
の後、ジエタノールアミン4mo1を添加して約100
℃で1時間攪拌する。マグネシウムアセチルアセトナー
トはジエタノールアミンとの反応により、完全に溶解
し、酢酸により安定化され透明な酸化マグネシウム被膜
形成用塗布液を得た。この塗布液は非常に安定で、室温
で1年間放置後も沈殿や溶液の白濁は見られず、透明な
ままであった。
【0026】こうして調製した透明酸化マグネシウム被
膜形成用塗布液を回転数2000rpmでスピンコート
することにより塗布膜を形成し、180℃で1時間乾燥
して有機溶媒を除去および膜の硬化を行った後、電気炉
にて550℃で30分大気中焼成して透明酸化マグネシ
ウム被膜を得た。本実施例の酸化マグネシウム被膜の特
性を表2に示す。
【0027】実施例4 マグネシウムアセチルアセトナート0.5mo1とテル
ピネオール450m1を混合、攪拌し、その混合液にジ
エタノールアミン3mo1を添加し、約100℃で1時
間攪拌しその後、2−エチルヘキサン酸2mo1を添加
して約100℃で1時間攪拌する。マグネシウムアセチ
ルアセトナートはジエタノールアミンとの反応により、
完全に溶解し、2−エチルヘキサン酸により安定化され
透明な酸化マグネシウム被膜形成用塗布液を得た。この
塗布液は非常に安定で、室温で1年間放置後も沈殿や溶
液の白濁は見られず、透明なままであった。
【0028】こうして調製した透明酸化マグネシウム被
膜形成用塗布液を用いて、実施例3と同様の工程により
透明酸化マグネシウム被膜を得た。本実施例の酸化マグ
ネシウム被膜の特性を表2に示す。
【0029】実施例5 マグネシウムアセチルアセトナート0.5mo1とテル
ピネオール450m1を混合、攪拌し、その混合液に酢
酸1mo1を添加し、約100℃で1時間攪拌しその
後、モノエタノールアミン2mo1とジエタノールアミ
ン2mo1を添加して約100℃で1時間攪拌する。マ
グネシウムアセチルアセトナートはモノエタノールアミ
ンとジエタノールアミンとの反応により、完全に溶解
し、酢酸により安定化され透明な酸化マグネシウム被膜
形成用塗布液を得た。この塗布液は非常に安定で、室温
で1年間放置後も沈殿や溶液の白濁は見られず、透明な
ままであった。
【0030】こうして調製した透明酸化マグネシウム被
膜形成用塗布液を用いて、実施例3と同様の工程により
透明酸化マグネシウム被膜を得た。本実施例の酸化マグ
ネシウム被膜の特性を表2に示す。
【0031】実施例6 マグネシウムアセチルアセトナート0.5mo1とテル
ピネオール450mlを混合、攪拌し、その混合液にジ
エタノールアミン4mo1を添加し、約100℃で1時
間攪拌しその後、酢酸1mo1と2−エチルヘキサン酸
1mo1を添加して約100℃で1時間攪拌する。マグ
ネシウムアセチルアセトナートはジエタノールアミンと
の反応により、完全に溶解し、酢酸と2−エチルヘキサ
ン酸により安定化され透明な酸化マグネシウム被膜形成
用塗布液を得た。この塗布液は非常に安定で、室温で1
年間放置後も沈殿や溶液の白濁は見られず、透明なまま
であった。
【0032】こうして調製した透明酸化マグネシウム被
膜形成用塗布液を用いて、実施例3と同様の工程により
透明酸化マグネシウム被膜を得た。本実施例の酸化マグ
ネシウム被膜の特性を表2に示す。
【0033】実施例7 マグネシウムアセチルアセトナート0.1mo1とエチ
レングリコール1000m1を混合、攪拌し、その混合
液にモノエタノールアミン0.4mo1を添加し、約1
00℃で1時間攪拌しその後、プロピオン酸0.1mo
1を添加して約100℃で1時間攪拌する。マグネシウ
ムアセチルアセトナートはモノエタノールアミンとの反
応により、完全に溶解し、プロピオン酸により安定化さ
れ透明な酸化マグネシウム被膜形成用塗布液を得た。こ
の塗布液は非常に安定で、室温で1年間放置後も沈殿や
溶液の白濁は見られず、透明なままであった。
【0034】こうして調製した透明酸化マグネシウム被
膜形成用塗布液を用いて、実施例3と同様の工程により
透明酸化マグネシウム被膜を得た。本実施例の酸化マグ
ネシウム被膜の特性を表2に示す。
【0035】実施例8 マグネシウムアセチルアセトナート0.5molとテル
ピネオール200mlとエチレングリコール250m1
を混合、攪拌し、その混合液に酢酸1mo1を添加し、
約100℃で1時間攪拌しその後、ジエタノールアミン
4molを添加して約100℃で1時間攪拌する。マグ
ネシウムアセチルアセトナートはジエタノールアミンと
の反応により、完全に溶解し、酢酸により安定化され透
明な酸化マグネシウム被膜形成用塗布液を得た。この塗
布液は非常に安定で、室温で1年間放置後も沈殿や溶液
の白濁は見られず、透明なままであった。
【0036】こうして調製した透明酸化マグネシウム被
膜形成用塗布液を用いて、実施例3と同様の工程により
透明酸化マグネシウム被膜を得た。本実施例の酸化マグ
ネシウム被膜の特性を表2に示す。
【0037】実施例9 マグネシウムアセチルアセトナート0.5mo1とイソ
ブロポキシエタノール500m1を混合、攪拌し、その
混合液にトリエタノールアミン4mo1添加し、約10
0℃で1時間攪拌しその後、酢酸0.5mo1を添加し
て約100℃で1時間攪拌する。マグネシウムアセチル
アセトナートはトリエタノールアミンとの反応により、
完全に溶解し、酢酸により安定化され透明な酸化マグネ
シウム被膜形成用塗布液を得た。この塗布液は非常に安
定で、室温で1年間放置後も沈殿や溶液の白濁は見られ
ず、透明なままであった。
【0038】こうして調製した透明酸化マグネシウム被
膜形成用塗布液を用いて、実施例3と同様の工程により
透明酸化マグネシウム被膜を得た。本実施例の酸化マグ
ネシウム被膜の特性を表2に示す。
【0039】実施例10 実施例1の塗布液100重量部に対して酸化マグネシウ
ム超微粉末(平均一次粒径100Å)30重量部を混合
し、ロールミルにより分散して透明酸化マグネシウム被
膜形成用塗布液を得た。
【0040】こうして調製した透明酸化マグネシウム被
膜形成用塗布液を、#325のステンレス版に乳剤を1
5μm塗布した版を用いてスクリーン印刷機でガラス基
体上に印刷することにより塗布し、120℃で1時間乾
燥して有機溶媒の除去および膜の硬化を行った後、電気
炉にて550℃で30分間大気中焼成して透明酸化マグ
ネシウム被膜を得た。本実施例の酸化マグネシウム被膜
の特性を表2に示す。
【0041】実施例11 実施例2の塗布液100重量部に対して酸化マグネシウ
ム超微粉末(平均一次粒径100Å)30重量部を混合
し、ロールミルにより分散して透明酸化マグネシウム被
膜形成用塗布液を得た。
【0042】こうして調製した透明酸化マグネシウム被
膜形成用塗布液を用いて、実施例10と同様の工程によ
り透明酸化マグネシウム被膜を得た。本実施例の酸化マ
グネシウム被膜の特性を表2に示す。
【0043】実施例12 実施例3の塗布液100重量部に対して酸化マグネシウ
ム超微粉末(平均一次粒径100Å)20重量部を混合
し、ロールミルにより分散して透明酸化マグネシウム被
膜形成用塗布液を得た。
【0044】こうして調製した透明酸化マグネシウム被
膜形成用塗布液を用いて、実施例10と同様の工程によ
り透明酸化マグネシウム被膜を得た。本実施例の酸化マ
グネシウム被膜の特性を表2に示す。
【0045】実施例13 実施例3の塗布液100重量部に対して酸化マグネシウ
ム超微粉末(平均一次粒径100Å)20重量部を混合
し、ロールミルにより分散させ、さらにテルピネオール
120重量部を添加し透明酸化マグネシウム被膜形成用
塗布液を得た。
【0046】こうして調製した透明酸化マグネシウム被
膜形成用塗布液を用いて、実施例10と同様の工程によ
り透明酸化マグネシウム被膜を得た。本実施例の酸化マ
グネシウム被膜の特性を表2に示す。
【0047】実施例14 実施例3の塗布液250重量部に対して酸化マグネシウ
ム超微粉末(平均一次粒径100Å)20重量部を混合
し、ロールミルにより分散させ、さらにテルピネオール
150重量部を添加し透明酸化マグネシウム被膜形成用
塗布液を得た。
【0048】こうして調製した透明酸化マグネシウム被
膜形成用塗布液を用いて、実施例3と同様の工程により
透明酸化マグネシウム被膜を得た。本実施例の酸化マグ
ネシウム被膜の特性を表2に示す。
【0049】実施例15 実施例4の塗布液100重量部に対して酸化マグネシウ
ム超微粉末(平均一次粒径100Å)30重量部を混合
し、ロールミルにより分散して透明酸化マグネシウム被
膜形成用塗布液を得た。
【0050】こうして調製した透明酸化マグネシウム被
膜形成用塗布液を用いて、実施例10と同様の工程によ
り透明酸化マグネシウム被膜を得た。本実施例の酸化マ
グネシウム被膜の特性を表2に示す。
【0051】実施例16 実施例4の塗布液100重量部に対して酸化マグネシウ
ム超微粉末(平均一次粒径100Å)30重量部を混合
し、ロールミルにより分散させ、さらにテルピネオール
130重量部を添加し透明酸化マグネシウム皮膜形成用
塗布液を得た。
【0052】こうして調製した透明酸化マグネシウム被
膜形成用塗布液を用いて、実施例10と同様の工程によ
り透明酸化マグネシウム被膜を得た。本実施例の酸化マ
グネシウム被膜の特性を表2に示す。
【0053】実施例17 実施例5の塗布液100重量部に対して酸化マグネシウ
ム超微粉末(平均一次粒径100Å)20重量部を混合
し、ロールミルにより分散させ、さらにテルピネオール
120重量部を添加し透明酸化マグネシウム被膜形成用
塗布液を得た。
【0054】こうして調製した透明酸化マグネシウム被
膜形成用塗布液を用いて、実施例10と同様の工程によ
り透明酸化マグネシウム被膜を得た。本実施例の酸化マ
グネシウム被膜の特性を表2に示す。
【0055】実施例18 実施例6の塗布液100重量部に対して酸化マグネシウ
ム超微粉末(平均一次粒径100Å)20重量部を混合
し、ロールミルにより分散させ、さらにテルピネオール
120重量部を添加し透明酸化マグネシウム被膜形成用
塗布液を得た。
【0056】こうして調製した透明酸化マグネシウム被
膜形成用塗布液を用いて、実施例10と同様の工程によ
り透明酸化マグネシウム被膜を得た。本実施例の酸化マ
グネシウム被膜の特性を表2に示す。
【0057】実施例19 実施例7の塗布液100重量部に対して酸化マグネシウ
ム超微粉末(平均一次粒径100Å)20重量部を混合
し、ロールミルにより分散して透明酸化マグネシウム被
膜形成用塗布液を得た。
【0058】こうして調製した透明酸化マグネシウム被
膜形成用塗布液を用いて、実施例10と同様の工程によ
り透明酸化マグネシウム被膜を得た。本実施例の酸化マ
グネシウム被膜の特性を表2に示す。
【0059】実施例20 実施例8の塗布液100重量部に対して酸化マグネシウ
ム超微粉末(平均一次粒径100Å)20重量部を混合
し、ロールミルにより分散させ、さらにテルピネオール
120重量部を添加し透明酸化マグネシウム被膜形成用
塗布液を得た。
【0060】こうして調製した透明酸化マグネシウム被
膜形成用塗布液を用いて、実施例10と同様の工程によ
り透明酸化マグネシウム被膜を得た。本実施例の酸化マ
グネシウム被膜の特性を表2に示す。
【0061】実施例21 実施例6の塗布液100重量部に対して酸化マグネシウ
ム超微粉末(平均一次粒径100Å)20重量部を混合
し、ロールミルにより分散して透明酸化マグネシウム被
膜形成用塗布液を得た。
【0062】こうして調製した透明酸化マグネシウム被
膜形成用塗布液を用いて、実施例10と同様の工程によ
り透明酸化マグネシウム被膜を得た。本実施例の酸化マ
グネシウム皮膜の特性を表2に示す。
【0063】
【比較例】マグネシウムエトキシド1.0molとn−
プロパノール800m1を混合、攪拌し、その混合液に
酢酸4mo1を添加し、約80℃で1時間攪拌する。マ
グネシウムエトキシドは酢酸との反応により、完全に溶
解し、透明な酸化マグネシウム被膜形成用塗布液を得
た。
【0064】こうして調製した透明酸化マグネシウム被
膜形成用塗布液の中にスライドガラスを浸漬し、50m
m/minの速度で引き上げることにより塗布膜を形成
し、150℃で1時間乾燥して、有機物の除去および膜
の硬化を行った後、電気炉にて550℃で30分大気中
焼成して、透明酸化マグネシウム被膜を得た。本比較例
の酸化マグネシウム被膜の特性を表2に示す。
【0065】以上の実施例の結果から、本発明に塗布液
は長期に安定で、その塗布液から得られた酸化マグネシ
ウム被膜は透明性に優れ、0.3μm〜3.5μmの膜
厚の透明酸化マグネシウム被膜の作製も可能であること
が明らかになった。また、本発明の塗布液から作製した
透明酸化マグネシウム被膜は、酸化物超電導膜の基板や
AC型プラズマディスプレイパネルの透明電極の保護膜
などとしての使用が期待できる。
【0066】
【表1】
【0067】
【表2】
【0068】
【発明の効果】本発明の透明酸化マグネシウム被膜形成
用塗布液は、調製の際、アルゴンガス等の不活性雰囲気
を必要とせず、大気中で調製することができ、長期保存
安定性に優れ、かつ可視光領域の光に関して高い透過特
性を示す緻密な酸化マグネシウム被膜となり、製膜の
際、一回の塗布工程で0.3μm〜3.5μmの膜厚の
透明酸化マグネシウム被膜も作製することが可能であ
る。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 マグネシウムアセチルアセトナートとエ
    タノールアミンと脂肪酸と有機溶媒とからなる透明酸化
    マグネシウム被膜形成用塗布溶液。
  2. 【請求項2】 マグネシウムアセチルアセトナートとエ
    タノールアミンと脂肪酸と酸化マグネシウム超微粉末と
    有機溶媒とからなる透明酸化マグネシウム被膜形成用塗
    布溶液。
  3. 【請求項3】 マグネシウムアセチルアセトナートと有
    機溶媒の混合液にエタノールアミンと脂肪酸を添加して
    透明溶液とすることを特徴とする請求項1に記載の透明
    酸化マグネシウム被膜形成用塗布液の製造方法。
  4. 【請求項4】 マグネシウムアセチルアセトナートと有
    機溶媒の混合液にエタノールアミンと脂肪酸を添加して
    透明溶液とし、さらに酸化マグネシウム超微粉末を添
    加、分散することを特徴とする請求項2に記載の透明酸
    化マグネシウム被膜形成用塗布液の製造方法。
JP32840897A 1997-11-28 1997-11-28 透明酸化マグネシウム被膜形成用塗布液 Withdrawn JPH11157832A (ja)

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