JP6338328B2 - インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法 - Google Patents

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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106796354A (zh) * 2015-04-01 2017-05-31 Fove股份有限公司 头戴式显示器
JP7299685B2 (ja) * 2018-10-11 2023-06-28 キヤノン株式会社 膜形成装置、膜形成方法および物品製造方法
US12044962B2 (en) * 2019-04-19 2024-07-23 Canon Kabushiki Kaisha Forming apparatus, forming method, and article manufacturing method

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8011916B2 (en) * 2005-09-06 2011-09-06 Canon Kabushiki Kaisha Mold, imprint apparatus, and process for producing structure
JP4928963B2 (ja) * 2007-01-30 2012-05-09 東芝機械株式会社 転写方法及び装置
JP4799575B2 (ja) * 2008-03-06 2011-10-26 株式会社東芝 インプリント方法
JP2011009641A (ja) * 2009-06-29 2011-01-13 Toshiba Corp 半導体装置の製造方法及びインプリント用テンプレート
US20110084417A1 (en) * 2009-10-08 2011-04-14 Molecular Imprints, Inc. Large area linear array nanoimprinting
JP5754965B2 (ja) * 2011-02-07 2015-07-29 キヤノン株式会社 インプリント装置、および、物品の製造方法
JP2013065813A (ja) * 2011-08-29 2013-04-11 Fujifilm Corp インプリントシステムおよびインプリントシステムのメンテナンス方法
US20140106121A1 (en) * 2011-08-30 2014-04-17 Panasonic Corporation Method of manufacturing tape-like pattern medium
JP5535164B2 (ja) * 2011-09-22 2014-07-02 株式会社東芝 インプリント方法およびインプリント装置
JP2013069918A (ja) * 2011-09-22 2013-04-18 Toshiba Corp インプリント方法およびインプリント装置
JP2013161866A (ja) * 2012-02-02 2013-08-19 Toshiba Corp インプリント方法およびテンプレート
JP5693488B2 (ja) * 2012-02-20 2015-04-01 株式会社東芝 パターン形成方法、パターン形成装置及び半導体装置の製造方法
JP6115300B2 (ja) * 2012-08-23 2017-04-19 凸版印刷株式会社 インプリント用モールド、インプリント方法、パターン形成体
JP6083178B2 (ja) * 2012-09-28 2017-02-22 大日本印刷株式会社 レジスト基板の製造方法、レプリカテンプレートの製造方法、及びナノインプリントリソグラフィ方法

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