JP6335300B2 - 太陽熱発電用反射板 - Google Patents

Description

本開示は、太陽熱発電用反射板に関する。

近年、石油、石炭、天然ガス等に代表される化石燃料に代わる代替エネルギーの研究が盛んに行なわれている。特に、太陽光、風力、地熱等の自然エネルギーは、資源の枯渇、地球温暖化等の懸念がなく、クリーンなエネルギーとして注目されている。これらの中でも、太陽光エネルギーを利用する太陽熱発電は、電力の安定供給が可能であるため期待されている。

その一方で、太陽光エネルギーはエネルギー密度が低いという問題がある。この問題を解決するため、近年では、太陽熱発電用反射板を用いて太陽光エネルギーを集めようという試みがなされている。
太陽熱発電の設備は、日射量の多い場所に設置されることが有利であるため、砂漠地帯等の降雨の少ない地域に設置される。そのため、太陽熱発電用反射板は、太陽光に起因する紫外線や熱のみならず、風雨、砂塵等に晒される過酷な環境下で使用されるため、従来より太陽光入射側にガラス基板を有する、耐候性に優れる太陽熱発電用反射板が使用されている。
更に、太陽熱発電用反射板の太陽光が入射する側の表面（以下、単に「太陽熱発電用反射板の表面」ともいう。）が汚染されて、太陽光を反射する能力（以下、「反射性能」ともいう。）が低下することがある。反射性能が低下した太陽熱発電用反射板の表面を、水等により洗浄すれば、太陽熱発電用反射板が本来有する反射能力に回復させることが可能である。上記洗浄は、自動洗浄装置等により行われることが多い。太陽熱発電用反射板の表面がガラス基板である太陽熱発電用反射板は、自動洗浄装置による洗浄によっても太陽熱発電用反射板の表面に傷等が生じ難いという、メンテナンス性に優れることからも有利である。
他方、太陽熱発電用反射板の耐候性を確保するため、太陽熱発電用反射板の太陽光が入射する側とは反対側の表面（以下、単に「太陽熱発電用反射板の裏面」ともいう。）も保護する必要がある。

特開２０１２−２１３９４３号公報には、ガラス基板上に、順に、銀鏡面膜、銅保護膜、及び裏止め塗膜を有する鏡が記載されている。
特開２０１３−２３１７４４号公報には、厚さが１．０μｍ〜２００μｍの範囲内であるガラスフィルム上に、銀反射層を有する太陽熱発電用フィルムミラーが記載されている。特開２０１３−２３１７４４号公報には、更に、ガラスフィルムを有する側とは反対側の銀反射層上に、粘着剤層及び自己支持性基材を有する太陽光反射ミラーが記載されている。更に、特開２０１３−２３１７４４号公報には、ガラスフィルムを有する側とは反対側の銀反射層上に、順に腐食防止層、ガスバリア層、粘着剤層、及び自己支持性基材を有する太陽光反射ミラーが記載されている。

ところで、太陽熱発電の設備は日射量の多い砂漠地帯等の降雨の少ない地域に設置されるため、太陽熱発電が設備される場所まで運搬した上で、太陽の動きに応じて太陽熱発電用反射板の向きを変える追尾装置を具備する保持部材に設置される。従って、太陽熱発電用反射板には、前述のような過酷な環境下での使用に耐え得る耐候性、及び洗浄等に耐え得るメンテナンス性と共に、運搬及び設置に耐えうる程度の耐屈曲性も要求される。
特開２０１２−２１３９４３号公報に記載の鏡は、裏止め塗膜が、エポキシ樹脂を含む粉体塗料組成物を粉体塗装により形成した塗膜を１４０℃以上の温度で焼付処理して得られるものである。特開２０１２−２１３９４３号公報に記載の鏡は、太陽熱発電用反射板への使用が意図されていないため、太陽熱発電用反射板に要求される耐屈曲性が不十分である。
特開２０１３−２３１７４４号公報に記載の太陽光反射ミラーでは、自己支持性基材として、中空構造を有する樹脂材料層が使用されている。そのため、特開２０１３−２３１７４４号公報に記載の太陽光反射ミラーは、太陽熱発電用反射板に要求される耐候性、特に太陽熱発電用反射板の裏面からの劣化に対する耐久性が充分ではなく、更に、太陽熱発電用反射板に要求される耐屈曲性が不十分である。

本発明の実施態様は、上記事情に鑑みてなされたものであり、本発明の実施態様の課題は、耐候性、及び耐屈曲性に優れる太陽熱発電用反射板を提供することにある。

上記課題を達成するための具体的な手段は、以下の実施態様が含まれる。
＜１＞ 太陽光入射側から順に、ガラス層、鏡面層、鏡面保護層、接着剤層、及び複合層を備え、複合層が、鏡面層に近い側から順に、厚さが１００μｍ以上５００μｍ以下の樹脂基材、及び少なくとも一層の耐候性層を含む太陽熱発電用反射板。

＜２＞ 耐候性層の少なくとも一層が、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、及びフッ素樹脂からなる群より選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む＜１＞に記載の太陽熱発電用反射板。
＜３＞ 複合層が、少なくとも二層の耐候性層を含み、各耐候性層は、独立して、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、及びフッ素樹脂からなる群より選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む＜１＞又は＜２＞に記載の太陽熱発電用反射板。
＜４＞ 複合層が、樹脂基材上に、順に、ポリシロキサン構造と、アクリルモノマーを重合して得られるアクリル重合構造とを含むシリコーン−アクリル複合樹脂を含む第一耐候性層、及びフッ素樹脂を含む第二耐候性層を含む＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の太陽熱発電用反射板。

＜５＞ 鏡面層が、銀層である＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の太陽熱発電用反射板。
＜６＞ 鏡面保護層が、銅層である＜５＞に記載の太陽熱発電用反射板。
＜７＞ 複合層の樹脂基材が、ポリエステルフィルム、又はポリイミドフィルムである＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の太陽熱発電用反射板。
＜８＞ 複合層の樹脂基材が、二軸延伸ポリエステルフィルムである＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の太陽熱発電用反射板。
＜９＞ 耐候性層の少なくとも一層が、無機粒子を含む＜１＞〜＜８＞のいずれか１つに記載の太陽熱発電用反射板。
＜１０＞ 無機粒子が、酸化チタン、硫酸バリウム、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、及びコロシダルシリカからなる群より選ばれる少なくとも一つを含む＜９＞に記載の太陽熱発電用反射板。
＜１１＞ 無機粒子が、酸化チタンである＜９＞に記載の太陽熱発電用反射板。
＜１２＞ 鏡面層に対して複合層側から光を入射させて測定した写像性が、下記条件１及び２を満たす＜８＞〜＜１１＞のいずれか１つに記載の太陽熱発電用反射板。
条件１：入射角４５度、及び光学くし幅２ｍｍの場合の写像性が１５％以上である。
条件２：入射角６０度、及び光学くし幅２ｍｍの場合の写像性が２０％以上である。
ここで、写像性は、光透過部分と光不透過部分の幅が各々２ｍｍのくし幅を有する光学くしを通過した光における最大光量をＭ、最小光量をｍとした場合、両者の和（Ｍ＋ｍ）に対する両者の差（Ｍ−ｍ）の比率を百分率で表した値である。

本発明の実施態様によれば、耐候性、及び耐屈曲性に優れる太陽熱発電用反射板が提供される。

本発明の第１実施形態に係る太陽熱発電用反射板の断面図である。 本発明の第２実施形態に係る太陽熱発電用反射板の断面図である。

以下、本発明の具体的な実施形態について、適宜図面を参照しながら詳細に説明するが、本発明は、以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、適宜変更を加えることができる。図中、同一又は対応する機能を有する部材には同じ符号を付して適宜説明を省略する。各部の大きさや形状は、理解を容易にするために適宜誇張して示している。

本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。

（太陽熱発電用反射板）
本発明の一実施態様の太陽熱発電用反射板は、太陽光入射側から順に、ガラス層、鏡面層、鏡面保護層、接着剤層、及び複合層を備え、複合層が、鏡面層に近い側から順に、厚さが１００μｍ以上５００μｍ以下の樹脂基材、及び少なくとも一層の耐候性層を含む。
本発明の一実施態様の太陽熱発電用反射板は、鏡面層の太陽光入射側の表面がガラス層で覆われており、反対側の表面が鏡面保護層、及び接着剤層を介して備えられた複合層によって、覆われている。これにより、本発明の一実施態様の太陽熱発電用反射板は、太陽熱発電装置が設置される過酷な環境下においても、優れた耐候性を有している。
特開２０１３−２３１７４４号公報に記載されている太陽光反射ミラーにおいては、具体的な自己支持性基材として、中空構造を有する樹脂材料層が使用されており、軽量で柔軟性を有する太陽光反射ミラーが得られると記載されている。しかしながら、中空構造を有する樹脂材料層を含む自己支持性基材を用いた太陽光反射ミラーは、自己支持性基材側からの光の照射、水の浸入、砂等による影響で、太陽光反射ミラー本来の反射性能が劣化してしまう。
これに対して、本発明の一実施態様の太陽熱発電用反射板では、鏡面層における、太陽光入射側とは反対側の表面が、前述の複合層及び鏡面保護層を有しているため、太陽熱発電用反射板の裏面からの光の照射、水の浸入、砂等による影響に対して、優れた耐久性を有している。その結果として、耐候性に優れる太陽熱発電用反射板が得られる。
更に、本発明の一実施態様の太陽熱発電用反射板は、複合層に含まれる樹脂基材の厚さが１００μｍ以上５００μｍ以下の範囲にあるため、優れた耐屈曲性を保持している。

＜ガラス層＞
図１は、本発明の第１実施形態に係る太陽熱発電用反射板の断面図である。図１において、ガラス層１２は、太陽熱発電の設備が設置される場所における気象条件下における耐久性を保持するという点から、厚さが０．９ｍｍ以上５．０ｍｍ以下の範囲のものが好ましい。ガラス層１２として、市販のガラス板を使用してもよい。特にソーラーガラス用として市販されているものが好ましい。例えば、ピルキントン社（Ｐｉｌｋｉｎｇｔｏｎ Ｇｒｏｕｐ Ｌｉｍｉｔｅｄ）から販売されている「オプティホワイト」（Ｏｐｔｉｗｈｉｔｅ、登録商標）、「マイクロホワイト」（Ｍｉｃｒｏｗｈｉｔｅ、登録商標）が好ましいものとして挙げられる。ガラス層１２の厚さは、耐屈曲性に優れるという点で、０．９ｍｍ以上４．５ｍｍ以下の範囲が更に好ましく、特に０．９ｍｍ以上４．０ｍｍ以下の範囲がより更に好ましい。

＜鏡面層＞
図１において、鏡面層１４は、太陽光を反射する機能を有するものであればよい。太陽光を反射する性能に優れる、金属の鏡面層（以下、「金属鏡面層」ともいう。）が好ましい。
金属鏡面層の金属としては、少なくとも赤外光を反射する金属であればよく、より好ましくは可視光及び赤外光の両方を反射する金属が好ましい。例えば、銀または銀合金、その他、金、銅、アルミニウム、これらの合金等が挙げられる。

金属鏡面層は、可視光及び赤外光の両方を反射する能力に優れるという点から、銀、又は銀を含む合金を含む銀層であることが好ましい。
銀合金としては、耐久性が向上する点において、銀と、金、パラジウム、スズ、ガリウム、インジウム、銅、チタン、及びビスマスからなる群の金属から選ばれる１種以上の金属とからなる合金が好ましい。銀合金としては、銀と金との合金が、耐湿熱性、反射率等の観点から特に好ましい。

例えば、金属鏡面層が銀合金の膜である場合、銀の含有量は、金属鏡面層における銀と他の金属との合計（１００原子％）中、９０原子％〜９９．８原子％であることが好ましい。また、他の金属の含有量は、耐久性の点から０．２原子％〜１０原子％であることが好ましい。

金属鏡面層の太陽光入射側の表面粗さ（Ｒａ）は、２０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがより好ましく、５ｎｍ以下であることが更に好ましい。金属鏡面層の表面粗さ（Ｒａ）を、上記範囲内とすると、太陽熱発電用反射板としての反射率が向上するので、太陽光を効率良く集光することが可能となる。ここで、表面粗さ（Ｒａ）は、ＪＩＳ Ｂ０６０１（１９９４）に準拠して求められる算術平均粗さである。

〔鏡面層の形成方法〕
鏡面層１４は、湿式法又は乾式法のいずれの方法でも形成することができる。湿式法としては、例えば、電気めっき法、無電解めっき法、銀錯体塗布焼成法等が挙げられる。乾式法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等が挙げられる。鏡面層１４がアルミニウムの金属鏡面層である場合には、乾式法で形成される。
鏡面層１４は、ガラス層１２上に直接形成されることが好ましいが、鏡面層１４が形成されるガラス層１２の表面は、鏡面層１４が形成される前に、常法により清浄化処理しておくことが好ましい。清浄化処理としては、例えば、酸化セリウムで洗浄する方法が挙げられる。

以下、太陽熱発電用反射板における鏡面層１４の特に好ましい態様である銀層の形成方法について、詳しく説明する。
銀層が形成されるガラス層の表面を、例えば塩化錫（ＩＩ）を含む増感溶液で処理する増感処理が行われる。増感溶液で処理する具体的な処理方法としては、ガラス層を増感溶液に浸漬するか、又は増感溶液をガラス層の表面にスプレーする方法が挙げられる。
上記のようにして増感処理されたガラス層の表面を、次に、ビスマス（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩ）、金（ＩＩＩ）、インジウム（ＩＩＩ）、ニッケル（ＩＩ）、パラジウム（ＩＩ）、白金（ＩＩ）、ロジウム（ＩＩＩ）、ルテニウム（ＩＩＩ）、チタン（ＩＩＩ）、バナジウム（ＩＩＩ）及び亜鉛（ＩＩ）から選択される少なくとも１種のイオンを含有する活性化溶液で活性化処理する。
上記のようにして活性化処理されたガラス層の表面に、銀鏡反応により銀を析出する銀層形成用溶液をガラス基板上にスプレーする方法によって銀層を形成する。銀鏡反応により銀を析出する銀層形成用溶液としては、例えば国際特許公開第２０１１／１５８６６５号、及び特許第５００１８６０号に記載されているものが挙げられる。

銀層を形成する、別の好ましい方法として、特開２０１３−２３１７４４号公報に記載されている方法が挙げられる。即ち、加熱により配位子が気化して脱離する銀錯体化合物を含有する塗布膜をガラス層の表面に形成してから、形成された塗布膜を加熱焼成して、銀層を形成する方法である。

鏡面層１４の厚みは、高い反射率が得られ、かつ耐久性に優れるという点から、単位面積当たりの質量で、０．５ｇ／ｍ^２以上２．０ｇ／ｍ^２以下の範囲が好ましく、特に０．７ｇ／ｍ^２以上１．２ｇ／ｍ^２以下の範囲が更に好ましい。

＜鏡面保護層＞
鏡面保護層１６は、鏡面層１４が、酸化等により反射性が低下してしまうことを低減する機能を有する。例えば、鏡面層１４が金属鏡面層である場合、金属鏡面層に含まれる金属よりもイオン化傾向の大きな金属を含む鏡面保護層１６とされる。
このような鏡面層１４と、鏡面保護層１６との組合せの好ましい具体例としては、例えば鏡面層１４が銀層の場合、鏡面保護層１６として、銅、ニッケル、ニッケル合金、スズ、又はスズ合金等を含む金属層との組合せが挙げられる。特に、鏡面層１４としての銀層に対して、化学的安定性に優れ、防食効果が高く、反射層との密着性に優れる銅層を鏡面保護層１６とする組合せが好ましい。
銅の鏡面保護層は、無電解メッキにより形成することができる。
鏡面保護層１６の厚さは、鏡面層１４に対する保護層としての機能が発揮されると共に、鏡面層１４との密着性に優れるという点から、単位面積当たりの質量で、０．１ｇ／ｍ^２以上１．０ｇ／ｍ^２以下の範囲が好ましく、特に０．２ｇ／ｍ^２以上０．６ｇ／ｍ^２以下の範囲が更に好ましい。

＜複合層＞
複合層２０は、厚さが１００μｍ以上５００μｍ以下の樹脂基材２２、及び耐候性層２４を含む。
〈樹脂基材〉
樹脂基材２２に含まれる樹脂としては、フィルム状に成形可能な樹脂であれば特に制限はなく、例えば、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、イミド樹脂、ビスマレイミドトリアジン（ＢＴ）樹脂、ポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）樹脂、テトラフルオロエチレン樹脂、液晶樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、アラミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテルスルホン、トリアセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリアセチレン等が好適である。
特に好適な樹脂基材としては、ポリエステルフィルム又はポリイミドフィルムであり、更に二軸延伸ポリエステルフィルムが好ましく、特に耐加水分解性二軸延伸ポリエステルフィルムが更に好ましい。
耐加水分解性二軸延伸ポリエステルフィルムは、例えば特開２０１１−２０８１２５号公報に記載されているものが挙げられる。

本発明の実施態様において、複合層２０の樹脂基材２２の厚さは、１００μｍ以上５００μｍ以下とされる。樹脂基材２２の厚さが１００μｍ未満であると、耐屈曲性が不十分である。樹脂基材２２の厚さが５００μｍを超えると、耐候性及び耐屈曲性が不十分である。より好ましい樹脂基材２２の厚みは、１５０μｍ以上３５０μｍ以下であり、更に好ましくは２００μｍ以上３００μｍ以下の範囲である。

〈耐候性層〉
耐候性層２４は、樹脂を含むことが好ましい。
樹脂の具体例としては、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、フッ素樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられ、なかでもシリコーン樹脂、アクリル樹脂、及びフッ素樹脂からなる群から選ばれることが好ましい。上記の樹脂は、単独で、又は二種以上を組み合わせて、耐候性層２４に含まれていてもよい。更に、耐候性層２４は、図２に示されるように、樹脂基材２２上に、順に、第一耐候性層２４１、及び第二耐候性層２４３の二層を有していてもよい。

［シリコーン樹脂］
シリコーン樹脂は、ポリマー鎖中に、シロキサン結合の繰り返し単位（以下、「ポリシロキサン構造」ともいう。）を含む樹脂であり、より好ましくは、シロキサン結合の繰り返し単位と、エチレン性不飽和結合を有する単量体を重合させて得られる繰り返し単位（以下、「ビニルポリマー構造」ともいう。）、ポリウレタン構造、ポリエステル構造、及びジエンモノマーを重合させて得られるポリエン構造かなる群より選ばれた少なくとも一つの構造（以下、「共重合構造」ともいう。）と、を含む樹脂（以下、「シリコーン複合ポリマー」ともいう。）である。
上記シロキサン結合は、下記の一般式１で表されるものであることが好ましい。
−Ｓｉ（Ｒ^１）（Ｒ^２）−Ｏ− ・・・一般式１
一般式１中、Ｒ^１及びＲ^２は、独立して、Ｓｉ原子と共有結合可能な１価の有機基を表す。

Ｒ^１及びＲ^２で表される「Ｓｉ原子と共有結合可能な１価の有機基」としては、例えば、置換又は無置換のアルキル基（例：メチル基、エチル基など）、置換又は無置換のアリール基（例：フェニル基など）、置換又は無置換のアラルキル基（例：ベンジル基、フェニルエチルなど）、置換又は無置換のアルコキシ基（例：メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基など）、置換又は無置換のアリールオキシ基（例：フェノキシ基など）、置換又は無置換のアミノ基（例：アミノ基、ジエチルアミノ基など）、メルカプト基、アミド基、水素原子、ハロゲン原子（例：塩素原子など）等が挙げられる。
Ｒ^１及びＲ^２は、独立して、無置換の又は置換された炭素数１〜４のアルキル基（特にメチル基、エチル基）、無置換の又は置換されたフェニル基、メルカプト基、無置換のアミノ基、アミド基であることが好ましい。

ポリシロキサン構造の具体例としては、ジメチルジメトキシシラン；ジメチルジメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシトリメトキシシランの混合物；ジメチルジメトキシシラン及びビニルトリメトキシシランの混合物；ジメチルジメトキシシラン及び２−ヒドロキシエチルトリメトキシシランの混合物；ジメチルジメトキシシラン及び３−グリシドキシプロピルトリエトキシシランの混合物；ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシトリメトキシシランの混合物等を加水分解及び縮合することによって得られる構造が挙げられる。

シリコーン複合ポリマーにおける、ポリシロキサン構造は、線状構造であってもよいし、分岐構造でもよい。さらにポリシロキサン構造の一部が環を形成してもよい。
シリコーン複合ポリマーにおける、上記シロキサン構造の含有比率は、シリコーン複合ポリマーの全質量に対して１５質量％以上８５質量％以下の範囲が好ましく、その中でも２０質量％以上８０質量％以下の範囲が特に好ましい。
ポリシロキサン構造の含有比率が１５質量％以上であることにより、優れた耐候性、特に樹脂基材２２との接着力の低下が少ない、太陽熱発電用反射板が得られる。他方、ポリシロキサン構造の含有比率が８５質量％以下であることにより、太陽熱発電用反射板の製造が容易となる。
シリコーン複合ポリマーにおけるポリシロキサン構造の分子量はポリスチレン換算重量平均分子量で３００００〜１００００００程度であるが、５００００〜３０００００程度がより好ましい。
なお、シリコーン複合ポリマーにおけるポリシロキサン構造の分子量は、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィ）によって測定されたものである。具体的には、ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣ、ＳＣ−８０２０（東ソー（株）社製）を用い、カラムとして、ＴＳＫｇｅｌ、ＳｕｐｅｒＨＭ−Ｈ（東ソー（株）社製、６．０ｍｍＩＤ×１５ｃｍ）を２本用い、溶離液としてテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を用いた。また、条件としては、試料濃度を０．５質量％、流速を０．６ｍｌ／ｍｉｎ、サンプル注入量を１０μｌ、測定温度を４０℃とし、ＲＩ検出器を用いて行なう。検量線は、東ソー社製「ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ標準試料ＴＳＫ ｓｔａｎｄａｒｄ」：「Ａ−５００」、「Ｆ−１」、「Ｆ−１０」、「Ｆ−８０」、「Ｆ−３８０」、「Ａ−２５００」、「Ｆ−４」、「Ｆ−４０」、「Ｆ−１２８」、「Ｆ−７００」の１０サンプルから作製されたものである。

シリコーン複合ポリマーは、ポリシロキサン構造と、ビニルポリマー構造、ポリウレタン構造、ポリエステル構造、及びポリエン構造かなる群より選ばれた少なくとも一つの共重合構造とを含んでいることが好ましい。このうち、耐候性に優れるものが容易に得られることから、ビニルポリマー構造が好ましく、特に、アクリルモノマーを重合して得られるアクリル重合構造が特に好ましい。以下、ポリシロキサン構造と、アクリル重合構造とを含むシリコーン複合ポリマーを「シリコーン−アクリル複合樹脂」ともいう。

ビニルポリマー構造としては、特に制限されるものではなく、エチレン性不飽和結合を有する単量体を重合させて得られる繰り返し単位が含まれる。
エチレン性不飽和結合を有する単量体には、アクリルモノマー、メタクリルモノマー、スチレン、アクリロニトリル、酢酸ビニル、ジビニルベンゼン等が含まれる。

アクリルモノマー及びメタクリルモノマーとしては、アクリル酸のエステル（例：エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート等）、メタクリル酸のエステル（例：メチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート等）、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸などの不飽和カルボン酸、アクリルアミド等が挙げられる。
アクリル重合構造は、これらのモノマーの１種、又は二種以上を重合することによって得られる。
二種以上のモノマーを重合させる場合のモノマーの組合せの具体例としては、メチルメタクリレート、エチルアクリレート及びアクリル酸の組合せ；メチルメタクリレート、エチルアクリレート、２−ビドロキシエチルメタアクリレート及びメタクリル酸の組合せ；メチルメタクリレート、ブチルアクリレート、２−ビドロキシエチルメタアクリレート、メタクリル酸及びγ−メタクリロイルオキシトリメトキシシランの組合せ；メチルメタクリレート、エチルアクリレート、グリシジルメタクリレート及びアクリル酸の組合せ等が挙げられる。

ポリウレタン構造を含む共重合構造は、トルエンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートなどのポリイソシアネートと、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ネオペンチルグリコールなどのポリオールとを反応させて得られるポリウレタン構造が好ましい。上記ポリイソシアネートとポリオールとを反応させる方法には、特に制限はなく公知のポリウレタンの合成方法を用いることができる。
ポリウレタン構造を含む共重合構造の具体例としては、トルエンジイソシアネートとジエチレングリコールから得られるポリウレタン構造、トルエンジイソシアネートとジエチレングリコールとネオペンチルグリコールとから得られるポリウレタン構造、ヘキサメチレンジイソシアネートとジエチレングリコールから得られるポリウレタン構造等が挙げられる。

ポリエステル構造を含む共重合構造は、テレフタル酸、イソフタル酸、アジピン酸、スルホイソフタル酸などのポリカルボン酸とポリウレタンのところで述べたポリオールからなるポリエステル構造が好ましい。ポリエステル構造は、上記のポリカルボン酸とポリオールとを公知の合成方法を用いて合成することにより、容易に得られる。
ポリエステル構造の具体例としては、テレフタル酸、イソフタル酸、及びジエチレングリコールから得られるポリエステル構造；テレフタル酸、イソフタル酸、スルホイソフタル酸、及びジエチレングリコールから得られるポリエステル構造；アジピン酸、イソフタル酸、スルホイソフタル酸、及びジエチレングリコールから得られるポリエステル構造等が挙げられる。

ポリエン構造を含む共重合構造は、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等のジエンモノマーを重合させて得られるポリエン構造、上記ジエンモノマーと、共重合可能なスチレンなどの共重合モノマーとを共重合させて得られる構造が好ましい。
上記のポリエン構造は、上記のジエンモノマーを公知の合成方法を用いて合成することにより、容易に得られる。
ポリエン構造の具体例としては、ブタジエン、スチレン、及びメタクリル酸を重合させて得られるポリエン構造；ブタジエン、メチルメタクリレート、及びメタクリル酸を重合させて得られるポリエン構造；イソプレン、メチルメタクリレート、及びメタクリル酸を重合させて得られるポリエン構造；クロロプレン、アクリロニトリル、及びメタクリル酸を重合させて得られるポリエン構造等が挙げられる。
その他のビニルポリマー構造を得るためのモノマーとして、スチレン、アクリロニトリル、酢酸ビニル、ジビニルベンゼン等を挙げることができる。

シリコーン複合ポリマーにおける共重合構造は、ビニルポリマー構造、ポリウレタン構造、ポリエステル構造、及びポリエン構造から選ばれた一種の構造単位を含むものであっても、２種以上の構造単位を含むものであってもよい。
共重合構造の分子量は、ポリスチレン換算重量平均分子量で３０００以上１００００００以下の範囲が好ましく、特に５０００以上３０００００以下の範囲がより好ましい。
なお、シリコーン複合ポリマーにおける共重合構造の分子量は、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィ）によって測定されたものである。具体的には、ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣ、ＳＣ−８０２０（東ソー（株）社製）を用い、カラムとして、ＴＳＫｇｅｌ、ＳｕｐｅｒＨＭ−Ｈ（東ソー（株）社製、６．０ｍｍＩＤ×１５ｃｍ）を２本用い、溶離液としてテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を用いた。また、条件としては、試料濃度を０．５質量％、流速を０．６ｍｌ／ｍｉｎ、サンプル注入量を１０μｌ、測定温度を４０℃とし、ＲＩ検出器を用いて行なう。検量線は、東ソー社製「ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ標準試料ＴＳＫ ｓｔａｎｄａｒｄ」：「Ａ−５００」、「Ｆ−１」、「Ｆ−１０」、「Ｆ−８０」、「Ｆ−３８０」、「Ａ−２５００」、「Ｆ−４」、「Ｆ−４０」、「Ｆ−１２８」、「Ｆ−７００」の１０サンプルから作製されたものである。

シリコーン複合ポリマーは、公知の合成方法を用いて合成することができる。
例えば、以下の合成方法１〜３が挙げられる。
合成方法１： 予めポリシロキサン構造を含むポリマーと、共重合構造を含むポリマーとを別々に合成しておき、両者のポリマーを化学結合させる合成方法。
合成方法２： ポリシロキサン構造を含むポリマーを予め合成し、合成されたポリシロキサン構造を含むポリマーに、共重合構造の繰り返し単位を得るためのモノマーをグラフト重合させる合成方法。
合成方法３： 共重合構造を含むポリマーを予め重合しておき、合成された共重合構造を構成するポリマーに、ポリシロキサン構造を含むポリマーをグラフト重合させる合成方法。
上記合成方法２及び３が、合成方法として容易であるので、好ましい。

上記合成方法２の具体例として、例えば、γ−メタクリロイルオキシトリメチルシラン等を加水分解及び縮合させて、ポリシロキサン構造を有するポリマーを合成する。合成されたポリシロキサン構造を有するポリマーのメタクリロイル基と、共重合構造を含むアクリルモノマーとをラジカル重合して、シリコーン複合ポリマーを合成する方法が挙げられる。
また、共重合構造を含むアクリルポリマーにポリシロキサンを共重合させる別の合成方法として、γ−メタクリロイルオキシトリメチルシランを含む上記アクリルポリマーの水分散物にアルコキシシラン化合物を加えて加水分解と縮重合を起こさせて、シリコーン複合ポリマーを合成する方法が挙げられる。

ポリシロキサン部分と共重合するポリマー構造部分がアクリル重合構造の場合には、乳化重合、塊状重合などの公知の重合方法を用いることができるが、合成のしやすさや水系のポリマー分散物が得られる点から乳化重合は特に好ましい。
また、グラフト重合に用いる重合開始剤には特に制限はなく、過硫酸カリ、過硫酸アンモニウム、アゾビスイソブチロニトリルなどの公知の重合開始剤を用いることができる。

シリコーン複合ポリマーは水系のポリマー分散物（いわゆるラテックス）の形とすることが好ましい。シリコーン複合ポリマーのラテックスの好ましい平均粒径（直径）は、５０ｎｍ〜５００ｎｍであり、好ましい濃度は１５質量％〜５０質量％である。
ここで平均粒径は、レーザー解析／散乱式粒子径分布測定装置ＭＴ３３００ＥＸ２〔日機装（株）製〕により測定される体積平均粒径の直径値（溶媒：水、粒子形状：非球形、超音波処理：無）である。

シリコーン複合ポリマーは水系のポリマーをラテックスの形態とする場合、カルボキシル基、スルホン酸基、水酸基、アミド基などの水親和性の官能基を持つものであることが好ましい。シリコーン複合ポリマーがカルボキシル基を持つ場合、カルボキシル基はナトリウム、アンモニウム、アミンなどで中和されていてもよい。
また、ラテックスの形態で使用する場合、安定性を向上させるために界面活性剤（例：アニオン系やノニオン系界面活性剤）、ポリマー（例：ポリビニルアルコール）等の乳化安定剤を含有させてもよい。さらに、必要に応じてｐＨ調整剤（例：アンモニア、トリエチルアミン、炭酸水素ナトリウム等）、防腐剤（例：１、３、５−ヘキサヒドロ−（２−ヒドロキシエチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−チアゾリル）ベンズイミダゾール等）、増粘剤（例：ポリアクリル酸ナトリウム、メチルセルロース等）、造膜助剤（例：ブチルカルビトールアセテート等）等のラテックスの添加剤として公知の化合物を添加してもよい。

シリコーン複合ポリマーは市販されているものもある。市販品の具体例としては例えば、セラネート（登録商標）ＷＳＡ１０６０、１０７０（以上ＤＩＣ（株）製）、ポリデュレックス（登録商標）Ｈ７６２０、Ｈ７６３０、Ｈ７６５０（以上、旭化成ケミカルズ（株）製）等がある。

［アクリル樹脂］
アクリル樹脂とは、アクリル酸、メタクリル酸及びこれらの誘導体を成分とするポリマーである。具体的例示としては、アクリル酸、メタクリル酸、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、アクリルアミド、アクリロニトリル、ヒドロキシルアクリレート等を主成分として、これらと共重合可能なモノマー（例えば、スチレン、ジビニルベンゼン等）を共重合したポリマーが挙げられる。

［フッ素樹脂］
耐候性層２４に含まれるフッ素樹脂としては、下記一般式２で表される繰り返し単位を有するポリマーが好ましい。
−（ＣＦＸ^１−ＣＸ^２Ｘ^３）− ・・・一般式２
一般式２中、Ｘ^１、Ｘ^２、及びＸ^３は、各々独立に、水素原子、フッ素原子、塩素原子又は炭素数１から３のパーフルオロアルキル基を示す。
フッ素樹脂の具体例としては、ポリテトラフルオロエチレン（以降、ＰＴＦＥと表す場合がある）、ポリフッ化ビニル（以降、ＰＶＦと表す場合がある）、ポリフッ化ビニリデン（以降、ＰＶＤＦと表す場合がある）、ポリ塩化３フッ化エチレン（以降、ＰＣＴＦＥと表す場合がある）、ポリテトラフルオロプロピレン（以降、ＨＦＰと表す場合がある）などがある。

フッ素樹脂は、単独のモノマーを重合したホモポリマーでも良いし、２種類以上を共重合したコポリマーでもよい。コポリマーの具体例として、テトラフルオロエチレンとテトラフルオロプロピレンを共重合したコポリマー（Ｐ（ＴＦＥ／ＨＦＰ）と略記）、テトラフルオロエチレンとフッ化ビニリデンを共重合したコポリマー（Ｐ（ＴＦＥ／ＶＤＦ）と略記）等を挙げることができる。
更に、フッ素樹脂としては、上記一般式２で表される繰り返し単位を含むフッ素系構造単位と、それ以外の繰り返し単位を含む構造単位とを含むポリマーでもよい。具体的には、テトラフルオロエチレンとエチレンの共重合体（以下、Ｐ（ＴＦＥ／Ｅ）と略記）、テトラフルオロエチレンとプロピレンの共重合体（Ｐ（ＴＦＥ／Ｐ）と略記）、テトラフルオロエチレンとビニルエーテルの共重合体（Ｐ（ＴＦＥ／ＶＥ）と略記）、テトラフルオロエチレンとパーフロロビニルエーテルの共重合体（Ｐ（ＴＦＥ／ＦＶＥ）と略記）、クロロトリフルオロエチレンとビニルエーテルの共重合体（Ｐ（ＣＴＦＥ／ＶＥ）と略記）、クロロトリフルオロエチレンとパーフロロビニルエーテルの共重合体（Ｐ（ＣＴＦＥ／ＦＶＥ）と略記）等が挙げられる。
中でも、製造上の容易性、及び耐候性に優れるという観点から、クロロトリフルオロエチレンを重合して形成される繰り返し単位を含むフッ素樹脂が特に好ましい。

耐候性層２４に含まれるフッ素樹脂は、有機溶剤に溶解して用いるものでも、水に微粒子状に分散された水分散物として用いるものでもよい。環境負荷が小さい点から後者が好ましい。フッ素樹脂の水分散物については例えば特開２００３−２３１７２２号公報、特開２００２−２０４０９号公報、特開平９−１９４５３８号公報等に記載されている。
フッ素樹脂として、市販品を使用することもできる。例えば、オブリガート（登録商標）ＳＷ００１１Ｆ〔ＡＧＣコーテック（株）製〕、ルミフロン（登録商標）ＬＦ２００（旭硝子（株）製）、ゼッフル（登録商標）ＧＫ５７０（ダイキン工業（株）製、ＳＩＦＣＬＥＡＲ Ｆ１０１、Ｆ１０２（ＪＳＲ（株）製））等が挙げられる。

複合層２０は、樹脂基材２２上に、少なくとも二層の耐候性層を含み、各耐候性層が、独立して、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、及びフッ素樹脂から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含んでいることが好ましい。
複合層２０は、図２に示されるように、樹脂基材２２上に、順に、シリコーン−アクリル複合樹脂を含む第一耐候性層２４１、及びフッ素樹脂を含む第二耐候性層２４３を有している態様が、耐候性に優れる太陽熱発電用反射板が得られるので好ましい。以下、詳しく説明する。

〈第一耐候性層〉
図２の第一耐候性層２４１は、シリコーン−アクリル複合樹脂を含む。シリコーン−アクリル複合樹脂は、既述のポリシロキサン構造とアクリル重合構造とを含むポリマーである。
第一耐候性層２４１は、シリコーン−アクリル複合樹脂を架橋剤によって架橋させておくことが、耐候性に優れる太陽熱発電用反射板が得られるので好ましい。

［架橋剤］
架橋剤としては、エポキシ系、イソシアネート系、メラミン系、カルボジイミド系、オキサゾリン系等の架橋剤を挙げることができる。樹脂基材との湿熱経時後の密着性を確保する観点から、カルボジイミド系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、及びエポキシ系架橋剤から選ばれる架橋剤が好ましく、特にオキサゾリン系架橋剤（オキサゾリン基をもつ化合物）が好ましい。

オキサゾリン系架橋剤としては、分子中に２個以上のオキサゾリン基を有するものであり低分子化合物であっても重合体であってもよいが、重合体の方が、接着性が良好であるため好ましい。

オキサゾリン系架橋剤の具体例としては、低分子化合物のオキサゾリン系架橋剤としては、例えば、２−ビニル−２−オキサゾリン、２−ビニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−ビニル−５−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−５−エチル−２−オキサゾリン、２，２’−ビス（２−オキサゾリン）、２，２’−メチレン−ビス（２−オキサゾリン）、２，２’−エチレン−ビス（２−オキサゾリン）、２，２’−トリメチレン−ビス（２−オキサゾリン）、２，２’−テトラメチレン−ビス（２−オキサゾリン）、２、２’−ヘキサメチレン−ビス（２−オキサゾリン）、２，２’−オクタメチレン−ビス（２−オキサゾリン）、２，２’−エチレンビス（４，４’−ジメチル−２−オキサゾリン）、２，２’−ｐ−フェニレン−ビス（２−オキサゾリン）、２，２’−ｍ−フェニレン−ビス（２−オキサゾリン）、２，２’−ｍ−フェニレン−ビス（４，４’−ジメチル−２−オキサゾリン）、２，２′（１，３−フェニレン）−ビス（２−オキサゾリン）、ビス（２−オキサゾリニルシクロヘキサン）スルフィド、ビス（２−オキサゾリニルノルボルナン）スルフィド等がある。さらに、これらの化合物の（共）重合体も好ましく利用することができる。
これらは単独でも２種類以上を併用してもよい。

重合体のオキサゾリン系架橋剤は、付加重合性オキサゾリンを付加重合させることにより形成される繰り返し単位を含む。重合体のオキサゾリン系架橋剤は、付加重合性オキサゾリンと、付加重合性オキサゾリンと共重合可能な単量体とを重合させた共重合体も含まれる。
付加重合性オキサゾリンとしては、２−ビニル−２−オキサゾリン、２−ビニル−４メチル−２−オキサゾリン、２−ビニル−５−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２イソプロペニル−５−メチル−２−オキサゾリンおよび２−イソプロペニル−５−エチル−２−オキサゾリンなどが好ましく挙げられ、これらは単独でも２種類以上を併用して使用してもよい。これらの中でも、２−イソプロペニル−２−オキサゾリンが入手の容易さや接着性を良好にするために好ましい。これら付加重合性オキサゾリンの使用量は、特に限定されないが、モノマー成分中５質量％以上とすることが好ましく、５〜９０質量％がより好ましく、１０〜６０質量％がさらに好ましく、３０〜６０質量％が特に好ましい。
付加重合性オキサゾリンと共重合可能な単量体としては、オキサゾリン基と反応しないものから選ぶことが好ましく、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸メトキシポリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ステアリル、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸とポリエチレングリコールとのモノエステル化物、（メタ）アクリル酸−２−アミノエチルおよびその塩、（メタ）アクリル酸のカプロラクトン変性物、（メタ）アクリル酸−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンおよび（メタ）アクリル酸−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン等の（メタ）アクリル酸エステル；（メタ）アクリル酸ナトリウム、（メタ）アクリル酸カリウムおよび（メタ）アクリル酸アンモニウム等の（メタ）アクリル酸塩；アクリロニトリルおよびメタクリロニトリル等の不飽和ニトリル；（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミドおよびＮ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド等の不飽和アミド；酢酸ビニルおよびプロピオン酸ビニル等のビニルエステル；メチルビニルエーテルおよびエチルビニルエーテル等のビニルエーテル；エチレンおよびプロピレン等のα−オレフィン；塩化ビニル、塩化ビニリデンおよびフッ化ビニル等のハロゲンを含有したα，β−不飽和脂肪族炭化水素；スチレン、α−メチルスチレンおよびスチレンスルホン酸ナトリウム等のα，β−不飽和芳香族炭化水素などが挙げられ、これらは単独でも２種類以上を併用して使用してもよい。
オキサゾリン系架橋剤、すなわち、オキサゾリン基をもつ化合物が（メタ）アクリル酸エステルユニットを含む共重合体であることが好ましい。

オキサゾリン系架橋剤は、水溶性又は水分散性であることが、酸変性ポリオレフィン樹脂の水性分散体との混合安定性が優れる点から好ましく、水溶性であることがより好ましい。ここで「水溶性」とは、水に一定濃度以上（具体的には、少なくとも５０質量％）溶解できることをいう。
重合体のオキサゾリン系架橋剤の重合方法は特に限定されず、公知の方法を採用することができる。例えば水性媒体中で溶液重合、乳化重合、懸濁重合または塊状重合させる方法などが挙げられ、これらの方法などで水溶液または水分散体などを得ることができる。重合体のオキサゾリン系架橋剤は、接着性や耐候性を良好にするために、不揮発性水性化助剤を実質的に含有していないことが好ましい。

重合体のオキサゾリン系架橋剤の分子量は、数平均分子量で１０００〜８００００であることが好ましく、３０００〜６００００がより好ましく、５０００〜４００００がさらに好ましく、８０００〜３００００が特に好ましく、１００００〜２００００が最も好ましい。数平均分子量が１０００未満の場合は、接着性や耐候性が低下する傾向にあり、８００００を超えた場合は、重合体の製造が困難となる。

また、オキサゾリン系架橋剤は、市販品を用いてもよく、例えば、水性分散体タイプのエポクロス（登録商標）「Ｋ−１０１０Ｅ」、「Ｋ−１０２０Ｅ」、「Ｋ−１０３０Ｅ」、Ｋ２０１０Ｅ、Ｋ２０２０Ｅ、Ｋ２０３０Ｅ、水溶液タイプのＷＳ５００、ＷＳ７００〔いずれも（株）日本触媒製エポクロス（登録商標）シリーズ〕等を用いることができる。

第一耐候性層を形成するための組成物の総質量に対する架橋剤の含有量は、１０質量％〜７５質量％であることが好ましく、１５質量％〜６０質量％であることがより好ましく、２０質量％〜５０質量％の範囲であることが特に好ましい。架橋剤含有量が１０質量％以上であることで、充分な架橋効果が得られ、ポリマー層の強度低下や接着不良を抑制することができる。一方、７５質量％以下であることで、組成物のポットライフ低下を防止することができる。

［架橋剤の触媒］
架橋剤による架橋反応を促進させるため、架橋剤に加えて、架橋剤の触媒の少なくとも一種を含有させることが好ましい。架橋剤の触媒を併用することで、シリコーン−アクリル複合樹脂との架橋反応が促進され、耐候性が向上し、樹脂基材２２との密着性も向上する。
特に、架橋剤としてオキサゾリン系架橋剤を含む場合、架橋剤の触媒をさらに含有することが好ましい。

架橋剤の触媒としては、オニウム化合物を挙げることができる。
オニウム化合物としては、アンモニウム塩、スルホニウム塩、オキソニウム塩、ヨードニウム塩、ホスホニウム塩、ニトロニウム塩、ニトロソニウム塩、ジアゾニウム塩等が好適に挙げられる。

アンモニウム塩の具体例としては、リン酸一アンモニウム、リン酸二アンモニウム、塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、ｐ−トルエンスルホン酸アンモニウム、スルファミン酸アンモニウム、イミドジスルホン酸アンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、塩化トリエチルベンジルアンモニウム、四フッ化ホウ素テトラブチルアンモニウム、六フッ化燐テトラブチルアンモニウム、過塩素酸テトラブチルアンモニウム、硫酸テトラブチルアンモニウム等が挙げられる。
スルホニウム塩の具体例としては、ヨウ化トリメチルスルホニウム、四フッ化ホウ素トリメチルスルホニウム、四フッ化ホウ素ジフェニルメチルスルホニウム、四フッ化ホウ素ベンジルテトラメチレンスルホニウム、六フッ化アンチモン２−ブテニルテトラメチレンスルホニウム、六フッ化アンチモン３−メチル−２−ブテニルテトラメチレンスルホニウム等が挙げられる。
オキソニウム塩の具体例としては、四フッ化ホウ素トリメチルオキソニウム等のオキソニウム塩等が挙げられる。
ヨードニウム塩の具体例としては、塩化ジフェニルヨードニウム、四フッ化ホウ素ジフェニルヨードニウム等が挙げられる。
ホスホニウム塩の具体例としては、六フッ化アンチモンシアノメチルトリブチルホスホニウム、四フッ化ホウ素エトキシカルボニルメチルトリブチルホスホニウム等が挙げられる。
ニトロニウム塩の具体例としては、四フッ化ホウ素ニトロニウム等が挙げられる。
ニトロソニウム塩の具体例としては、四フッ化ホウ素ニトロソニウム等が挙げられる。
ジアゾニウム塩の具体例としては、塩化４−メトキシベンゼンジアゾニウム等が挙げられる。

上記のオニウム化合物のうち、硬化時間の短縮の点で、アンモニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ホスホニウム塩がより好ましく、これらの中ではアンモニウム塩が更に好ましく、安全性、ｐＨ、及びコストの観点からは、リン酸系、塩化ベンジル系のものが好ましい。オニウム化合物が第二リン酸アンモニウムであることがより特に好ましい。

架橋剤の触媒は、１種のみであってもよいし、２種以上を併用してもよい。
架橋剤の触媒の含有量は、架橋剤の質量に対して、０．１質量％以上１５質量％以下の範囲が好ましく、０．５質量％以上１２質量％以下の範囲がより好ましく、１質量％以上１０質量％以下の範囲が特に好ましく、２質量％以上７質量％以下がより特に好ましい。架橋剤に対する、架橋剤の触媒の含有量が０．１質量％以上であることは、架橋剤の触媒を積極的に含有していることを意味し、架橋剤の触媒の含有によりポリマーと架橋剤の間の架橋反応がより良好に進行し、より優れた耐溶剤性が得られる。また、架橋剤の触媒の含有量が１５質量％以下であることで、溶解性、ろ過性、密着の点で有利である。

第一耐候性層２４１の厚さは、０．５μｍ以上１５μｍ以下であることが好ましく、３μｍ〜１０μｍであることがより好ましい。厚さを０．５μｍ以上とすることで、耐候性、及び耐屈曲性に優れる太陽熱発電用反射板が得られる。

〈第二耐候性層〉
図２の第二耐候性層２４３は、既述のフッ素樹脂を含む。１種類のフッ素樹脂を単独で含んでいてもよいし、２種類以上併用してもよい。第二耐候性層２４３は、フッ素樹脂の質量に対して５０質量％を超えない範囲でアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂、シリコーン樹脂などのフッ素樹脂以外の樹脂を含んでいてもよい。
第二耐候性層２４３は、フッ素樹脂を架橋剤によって架橋させておくことが、耐候性に優れる太陽熱発電用反射板が得られるので好ましい。架橋剤によって架橋させる場合には、架橋剤の触媒を併用することが好ましい。第二耐候性層２４３に使用される架橋剤、及び架橋剤の触媒は、第一耐候性層に使用される架橋剤、及び架橋剤の触媒を使用することができる。更に、第二耐候性層２４３に使用される架橋剤、及び架橋剤の触媒の量についても、第一耐候性層の場合と同様である。

第二耐候性層２４３には、滑剤を含有させておくことが好ましい。
［滑剤］
第二耐候性層２４３は、フッ素樹脂を含むために生じやすい滑り性の低下（すなわち動摩擦係数の上昇）を抑えるため、滑剤を含有させておくことが好ましい。
好ましい滑剤としては、環球軟化点が１２０℃以上２００℃以下であるオレフィン系滑剤（高軟化点オレフィン系滑剤）が好ましい。ここで、環球軟化点とは、ＪＩＳ Ｋ２２０７（１９９６年１１月２０日改正）に準拠した環球法で測定した値であり、具体的には、株式会社メイテック社製、環球式自動軟化点試験器ＡＳＰ−ＭＧ２によって測定される値である。

第二耐候性層２４３が最外層である場合、引っ掻き、擦過、小石などの衝突等の外力で生じる傷付きやすさが飛躍的に緩和される。また、フッ素樹脂を用いた場合に生じやすい塗布層にピンホール状の欠陥が発生ことを防止することができ、面状が良好な第二耐候性層２４３を形成することができる。

高軟化点オレフィン系滑剤は、エチレンユニット及びプロピレンユニットの少なくとも一方を含むことが好ましい。環球軟化点が１２０℃以上２００℃以下のポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックス等のポリオレフィン系ワックスが挙げられる。

また、高軟化点オレフィン系滑剤は、オレフィン樹脂として、酸変性オレフィン樹脂を含むことが好ましい。酸変性オレフィン樹脂を含む高軟化点オレフィン系滑剤としては、例えば、三井化学株式会社製ケミパール（登録商標）シリーズ（例えば、ケミパール（登録商標）Ｗ３００、Ｗ７００、Ｗ９００、ＷＰ１００等）、ハイワックス（登録商標）シリーズ（例えばハイワックス（登録商標）ＮＰ５０６０５Ａ、ＮＰ０５５５Ａ）などが挙げられる。

高軟化点オレフィン系滑剤の大きさは、耐傷性の観点から、メジアン径が２μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以下であることがより好ましい。なお、高軟化点オレフィン系滑剤のメジアン径はレーザー解析／散乱式粒子径分布測定装置ＭＴ３３００ＥＸ２〔日機装（株）製〕により測定される値である。

第二耐候性層２４３に含まれる高軟化点オレフィン系滑剤の環球軟化点は、乾燥工程における溶融を防ぐ観点から、１３０℃以上であることが好ましい。

高軟化点オレフィン系滑剤に含まれるオレフィン樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）は耐傷性の観点から、３０００以上１００００以下であることが好ましく、３０００以上８０００以下であることがより好ましい。高軟化点オレフィン系滑剤に含まれるオレフィン樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）はゲル浸透クロマトグラフィーにより測定したポリスチレン換算の数平均分子量であり、島津製作所（株）製分子量分布測定システムなどによって測定される値である。

高軟化点オレフィン系滑剤は市販品を使用してもよい。三井化学（株）製のケミパール（登録商標）シリーズ（例えば、ケミパール（登録商標）Ｗ３００、Ｗ７００、Ｗ９００、ＷＰ１００等）、ハイワックス（登録商標）シリーズ（例えばハイワックス（登録商標）ＮＰ５０６０５Ａ、ＮＰ０５５５Ａ）、中京油脂（株）製のポリロンＰ−５０２、ハイドリンＬ−５３６（全て商品名）などが挙げられる。

第二耐候性層２４３中の高軟化点オレフィン系滑剤の含有量は、フッ素樹脂１００質量部に対し、高軟化点オレフィン系滑剤を４質量部以上３０質量部以下含有することが好ましく、６質量部以上１５質量部以下含むことがより好ましい。フッ素樹脂１００質量部に対し、高軟化点オレフィン系滑剤を４質量部以上含めば滑剤を含有することによる動摩擦係数の低減効果が確実に得られ、３０質量部以下であればポリマー層を塗布形成する際に、塗布ムラや凝集物が発生したり、ポリマー層にピンホール状の欠陥が発生し難くなる。

第二耐候性層２４３に含まれる成分の総質量に対するフッ素樹脂の含有量は、耐候性と膜強度の観点から、４０質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、５０質量％以上８０質量％以下であることがより好ましい。

第二耐候性層２４３の厚さは、耐候性と膜強度の観点から０．１μｍ以上５μｍ以下の範囲であることが好ましく、更に、０．５μｍ以上３μｍ以下がより好ましく、特に０．８μｍ以上３μｍ以下であることがより更に好ましい。

［無機粒子］
第一耐候性層２４１、及び第二耐候性層２４３の少なくとも一方には、無機粒子を含有させておいてもよい。第一耐候性層２４１に無機粒子を含有させる態様がより好ましい。
無機粒子としては、酸化チタン、硫酸バリウム、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、コロシダルシリカ等の光反射性の無機粒子、カーボンブラック、チタンブラック、及び黒色の複合金属酸化物等が挙げられる。
ここで、黒色の複合金属酸化物としては、鉄、マンガン、コバルト、クロム、銅、ニッケルのうち少なくとも１種を含む複合金属酸化物が好ましく、コバルト、クロム、鉄、マンガンおよび銅、ニッケルのうち２種以上を含むことがより好ましく、カラーインデックスがＰＢｋ２６、ＰＢｋ２７およびＰＢｋ２８、ＰＢｒ３４から選ばれる少なくとも１つ以上の顔料がより特に好ましい。
なお、ＰＢｋ２６の顔料は、鉄、マンガン、銅の複合酸化物であり、ＰＢｋ−２７の顔料は鉄、コバルト、クロムの複合酸化物であり、ＰＢｋ−２８は銅、クロム、マンガンの複合酸化物であり、ＰＢｒ３４はニッケル、鉄の複合酸化物である。

無機粒子の体積平均粒径としては０．０３μｍ〜０．９μｍが好ましく、より好ましくは０．２μｍ〜０．７μｍである。無機粒子の体積平均粒径を上記の範囲とすることで、光の反射効率低下を抑制することができる。
無機粒子の体積平均粒径は、日機装社製、マイクロトラックＭＴ３３００ＥＸ２により測定される値（溶媒：水、粒子形状：非球形、粒子屈折率：２．７、超音波処理：無）である。

第一耐候性層２４１に、太陽光を反射する性能に優れる無機粒子（即ち、光反射性の無機粒子）を含有する太陽熱発電用反射板は、太陽光エネルギーを効率よく利用することができるので好ましい。太陽熱発電の設備においては、多数枚の太陽熱発電用反射板を地面に並べて設置される。太陽に対して、前後に設置された二枚の太陽熱発電用反射板に着目した場合、太陽に対して後に設置された太陽熱発電用反射板で反射された太陽光が、前に設置された太陽熱発電用反射板の第一耐候性層２４１により再度反射される。第一耐候性層２４１により再度反射された太陽光は、後に設置された太陽熱発電用反射板の鏡面で再度反射されて、集熱装置に集められるため、太陽光エネルギーの利用効率が向上するためである。

光反射性の無機粒子の具体例は、既述のとおりである。中でも酸化チタンが好ましい。
酸化チタンの結晶系にはルチル型、アナターゼ型、ブルカイト型があるが、ルチル型が特に好ましい。酸化チタンは必要に応じて酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）、二酸化珪素（ＳｉＯ_２）、アルカノールアミン化合物、ケイ素化合物などで表面処理をしてもよい。
特に、嵩比重が０．５０ｇ／ｃｍ^３以上である酸化チタンを用いることで酸化チタンが密に詰まり、耐候性層２４１が強靭になる。一方、嵩比重が０．８５ｇ／ｃｍ^３を超える酸化チタンを用いると、酸化チタンの分散性が悪化して塗布層の面状が悪くなる。従って、第一耐候性層２４１に嵩比重を０．５０ｇ／ｃｍ^３以上０．８５ｇ／ｃｍ^３以下の酸化チタンを含有させることで、酸化チタンが密に詰まり、塗膜が強靭になることで、酸化チタンの質量割合を高く設定しても密着性を高く維持できる。耐候性層２４１に含有させる酸化チタンの嵩比重としては、特に、０．６０ｇ／ｃｍ^３以上０．８０ｇ／ｃｍ^３以下が好ましい。

本明細書中における酸化チタンの嵩比重は、下記の方法によって測定される値である。
（１）顔料を目開き１．０ｍｍのふるいを通す。
（２）上記の顔料について、約１００ｇの顔料を秤量し（ｍ）、２５０ｍＬメスシリンダーに静かに入れる。必要に応じて、顔料層の上面を圧密せずに注意深くならし、体積（Ｖ）を測定する。
（３）下記の式に従って、嵩比重を求める。
嵩比重＝ｍ／Ｖ （単位：ｇ／ｃｍ^３）

第一耐候性層２４１に光反射性の無機粒子を含む太陽熱発電用反射板は、鏡面層１４に対して複合層２０側から入射させて測定した写像性が、以下の条件１及び２を満たすことが、太陽光エネルギーの利用効率に優れるので好ましい。
条件１：入射角４５度、及び光学くし幅２ｍｍの場合の写像性が１５％以上である。
条件２：入射角６０度、及び光学くし幅２ｍｍの場合の写像性が２０％以上である。
ここで、「写像性」とは、光透過部分と光不透過部分の幅（くし幅）が等しい光学くしを通過した光における最大光量をＭ、最小光量をｍとした場合、両者の和（Ｍ＋ｍ）に対する両者の差（Ｍ−ｍ）の比率を百分率で表した値である。

第一耐候性層２４１、及び第二耐候性層２４３には、その他の成分として、界面活性剤、コロイダルシリカのようなマット剤、密着性を向上させるシランカップリング剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を含有させてもよい。

複合層２０は、その他に、厚さが１００μｍ以上５００μｍ以下の樹脂基材２２上に、接着剤層を介して、耐加水分解性ポリエステルフィルムを含む、例えば厚さが５０μｍの耐候性層を貼り合わせたものであってもよい。

本発明の一実施態様の太陽熱発電用反射板は、図１及び図２に示されるように、既述の鏡面保護層１６と、複合層２０における樹脂基材２２とを、接着剤層３２を介して積層されている。
＜接着剤層＞
接着剤層３２は、公知の接着剤組成物を用いて形成すればよい。接着剤組成物としては、例えば、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ニトリルゴム等から選ばれた樹脂を含む接着剤組成物が挙げられる。耐候性、及び接着性の観点から、アクリル樹脂又はウレタン樹脂を含む接着剤組成物が特に好ましい。
アクリル樹脂を含む接着剤組成物は、特に、耐候性に優れている。また、ウレタン樹脂を含む接着剤組成物は、ポリイソシアネートとポリオールとを２液に分割し、使用時にこれらの２液を混合する２液混合型の接着剤組成物が、強固な接着強度を得ることが可能となるので好ましい。

接着剤層３２の膜厚は、接着性、形成容易性等の観点から、１μｍ〜２０μｍの範囲であることが好ましく、３μｍ〜１８μｍの範囲であることがより好ましく、特に５μｍ〜１５μｍの範囲であることがより更に好ましい。

＜所望により形成されるその他の層＞
本発明の一実施態様の太陽熱発電用反射板は、ガラス層１２の鏡面層１４が設けられた側とは反対側の表面に、防汚層（図示せず）を形成してもよい。
更に、複合層２０における樹脂基材２２と耐候性層２４の間に、接着剤層（図示せず）を設けてもよい。
防汚層としては、例えば、フッ素樹脂、シロキサンポリマー等の撥水性樹脂を含む撥水性層、光照射によりラジカルを発生する光触媒活性を有する酸化チタンを含む超親水性層等が挙げられる。
複合層２０における樹脂基材２２と耐候性層２４の間に設けられる接着剤層としては、既述の接着剤組成物を用いて形成されたものが挙げられる。

（保持部材）
本発明の実施態様の太陽熱発電用反射板は、タワー型太陽熱発電設備、パラボリックトラフ型太陽熱発電設備、リニアフレネル型太陽熱発電設備及びディッシュ型太陽熱発電設備のいずれの設備の太陽熱発電用反射板にも使用することかできる。特に高い反射率が求められるタワー型太陽熱発電設備に使用される太陽熱発電用反射板として有用である。また、厚みの薄い太陽熱発電用反射板を曲げて用いるリニアフレネル型太陽熱発電設備用に使用される太陽熱発電用反射板として有用である。
太陽熱発電用反射板は、太陽光が集熱部材に反射されるように、太陽を追尾可能な保持部材に保持される。保持部材としては、特に制限はなく、太陽熱発電用反射板が所望の形状を維持しつつ保持できるように、太陽熱発電用反射板の複数個所を棒状の保持部材により支持する形態が好ましい。
本発明の実施態様の太陽熱発電用反射板は、耐候性に優れると共に、耐屈曲性にも優れる。そのため、太陽光の反射面である鏡面層の曲がり具合を、太陽の位置に応じて変化させる保持部材、例えば国際特許公開第２０１１／０８６８２５号に記載されているような保持部材に、本発明の実施態様の太陽熱発電用反射板を保持させることも可能である。

以下、本発明の実施態様を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。

［実施例１］
＜複合層の作製＞
〈複合層用樹脂基材の作製〉
−ポリエステルの合成−
高純度テレフタル酸（三井化学（株）製）１００ｋｇと、エチレングリコール（日本触媒（株）製）４５ｋｇのスラリーを、予めビス（ヒドロキシエチル）テレフタレート約１２３ｋｇが仕込まれ、温度２５０℃、圧力１．２×１０^５Ｐａに保持されたエステル化反応槽に、４時間かけて順次供給し、供給終了後も更に１時間かけてエステル化反応を行なった。その後、得られたエステル化反応生成物１２３ｋｇを重縮合反応槽に移送した。
引き続いて、エステル化反応生成物が移送された重縮合反応槽に、エチレングリコールを、得られるポリマーに対して０．３質量％添加した。５分間撹拌した後、酢酸コバルト及び酢酸マンガンのエチレングリコール溶液を、得られるポリマーに対してそれぞれ３０ｐｐｍ、１５ｐｐｍとなるように加えた。更に５分間撹拌した後、チタンアルコキシド化合物の２質量％エチレングリコール溶液を、得られるポリマーに対して５ｐｐｍとなるように添加した。その５分後、ジエチルホスホノ酢酸エチルの１０質量％エチレングリコール溶液を、得られるポリマーに対して５ｐｐｍとなるように添加した。その後、低重合体を３０ｒｐｍで攪拌しながら、反応系を２５０℃から２８５℃まで徐々に昇温するとともに、圧力を４０Ｐａまで下げた。最終温度、最終圧力到達までの時間はともに６０分とした。所定の攪拌トルクとなった時点で反応系を窒素パージし、常圧に戻し、重縮合反応を停止した。そして、冷水にストランド状に吐出し、直ちにカッティングしてポリマーのペレット（直径約３ｍｍ、長さ約７ｍｍ）を作製した。なお、減圧開始から所定の撹拌トルク到達までの時間は３時間であった。
なお、上記チタンアルコキシド化合物は、特開２００５−３４０６１６号公報の段落００８３の実施例１で合成しているチタンアルコキシド化合物（チタン（Ｔｉ）含有量＝４．４４質量％）を用いた。

−固相重合−
上記で得られたペレットを、４０Ｐａに保たれた真空容器中、２２０℃の温度で３０時間保持して、固相重合を行った。
−ベース作製−
以上のように固相重合を経た後のペレットを、２８０℃で溶融して金属ドラムの上にキャストし、厚さ３ｍｍの未延伸ベースを作製した。その後、９０℃で縦方向（以下、「ＭＤ」ともいう。）に３．４倍に延伸し、次いで、下記の下塗層形成用塗布液をポリエチレンテレフタレート支持体の一方の面に、塗布量が５．１ｍｌ／ｍ^２となるように、ＭＤ延伸後、ＭＤに直交する方向（以下、「ＴＤ」ともいう。）に延伸する前に、インラインコート法にて塗布を行い、厚み０．１μｍの下塗層を形成した。なお、ＴＤ延伸温度は、１０５℃で、ＴＤ方向に４．５倍に延伸し、膜面２００℃で１５秒間の熱処理を行い、１９０℃でＭＤ緩和率５％、ＴＤ緩和率１１％で、ＭＤ及びＴＤに熱緩和を行い、厚み２５０μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（以下、「ＰＥＴ基材フィルム１」と称する。）を得た。

−下塗層形成用塗布液の調製−
下記の各成分を混合し、下塗層形成用塗布液を調製した。
〈下塗層形成用塗布液の組成〉
・ ポリオレフィン樹脂水性分散体（アローベース（登録商標）ＳＥ−１０１３Ｎ、ユニチカ（株）製、固形分濃度２０質量％）・・・ １２０質量部
・ オキサゾリン系架橋剤（エポクロス（登録商標）ＷＳ−７００、日本触媒（株）製、固形分濃度２５質量％）・・・ ３９質量部
・ アクリル樹脂水分散液（ＡＳ−５６３Ａ、ダイセルファインケム（株）製、固形分濃度２８質量％のラテックス）・・・ ８７質量部
・ フッ素系界面活性剤（ナトリウム−ビス（３，３，４，４，５，５，６，６−ノナフルオロ）−２−スルホナイトオキシスクシナート、三協化学（株）製、濃度１質量％）・・・ ０．９質量部
・ 蒸留水・・・ ７５３質量部

−白色無機微粒子分散物の調製−
下記組成中の成分を混合し、混合物をダイノミル型分散機により分散処理し、体積平均粒径０．５５μｍの白色無機微粒子分散物を得た。
〈白色無機微粒子分散物の組成〉
・ 酸化チタン（タイペーク（登録商標）ＣＲ−９５、石原産業（株）製、固形分濃度１００質量％；白色顔料）・・・ １０００質量部
・ ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１０５、（株）クラレ製、固形分濃度１００質量％）の１０質量％水溶液・・・ ５００質量部
・ 界面活性剤（デモール（登録商標）ＥＰ、花王（株）製、固形分濃度２５質量％）・・・ １２質量部
・ 蒸留水・・・ ６３１質量部
・ 防腐剤（ＡＦ３３７、大東化学（株）製、固形分濃度３．５質量％）・・・ ６．５質量部

〈耐候性層の形成〉
−第一耐候性層形成用塗布液の調製−
下記第一耐候性層形成用塗布液の組成に示す各成分を混合し、第一耐候性層形成用塗布液を調製した。
〈第一耐候性層形成用塗布液の組成〉
・ シリコーン−アクリル複合樹脂（セラネート（登録商標）ＷＳＡ−１０７０、ＤＩＣ（株）社製、固形分濃度４０質量％）・・・ １８８質量部
・ オキサゾリン系架橋剤（エポクロス（登録商標）ＷＳ−７００、日本触媒（株）製、固形分濃度２５質量％）・・・ ５８質量部
・ フッ素系界面活性剤（ナトリウム−ビス（３、３、４、４、５、５、６、６−ノナフルオロ）−２−スルホナイトオキシスクシナート、富士フイルムファインケミカル（株）製、濃度１質量％）・・・９．４ 質量部
・ 上記白色無機微粒子分散物・・・２５４ 質量部
・ 第２リン酸アンモニウム（食添用第２リン酸アンモニウム、日本化学工業（株）製、濃度３５質量％水溶液）・・・６．２ 質量部
−第一耐候性層の形成−
上記下塗層を有するＰＥＴ基材フィルム１を搬送速度８０ｍ／分で搬送しつつ、下塗層が形成された面とは反対面に、７３０Ｊ／ｍ^２の条件でコロナ放電処理を行った。引き続いて、コロナ放電処理を行った表面に、上記第一耐候性層形成用塗布液を、酸化チタンの量が単位面積当たりの質量で、１０．５ｇ／ｍ^２になるように塗布し、１７０℃で２分間乾燥させて、乾燥厚み８μｍの第一耐候性層を形成した。

−第二耐候性層形成用塗布液の調製−
下記第二耐候性層形成用塗布液の組成に示す各成分を混合し、第二耐候性層形成用塗布液を調製した。
〈第二耐候性層形成用塗布液の組成〉
・ フッ素樹脂（オブリガート（登録商標）ＳＷ００１１Ｆ、ＡＧＣコーテック社製、固形分濃度が３６質量％になるように水で希釈した溶液）・・・ ４３質量部
・ オキサゾリン系架橋剤（エポクロス（登録商標）ＷＳ−７００、日本触媒（株）製、固形分濃度２５質量％） ・・・ １２質量部
・ ノニオン系界面活性剤（ナロアクティー（登録商標）ＣＬ９５、三洋化成工業（株）製、固形分濃度１％水溶液）・・・ １．５質量部
・ 第２リン酸アンモニウム（食添用第２リン酸アンモニウム、日本化学工業（株）製、濃度３５質量％水溶液）・・・ １．３質量部
・ 滑剤（ケミパール（登録商標）Ｗ９５０、三井化学（株）製、固形分濃度が５質量％となるよう水で希釈した溶液）・・・ ２５．７質量部
・ マット剤（スノーテックス（登録商標）ＵＰ、日産化学（株）製、固形分濃度が２質量％となるように水で希釈した溶液）・・・ ５質量部
・ シランカップリング剤（ＴＳＬ８３４０、モメンティブパフォーマンスジャパン、固形分濃度２質量％の加水分解液）・・・ ５質量部
・ 蒸留水・・・ １１４質量部
−第二耐候性層の形成−
得られた第二耐候性層形成用塗布液を、第一耐候性層の上に、フッ素樹脂の塗布量が単位面積当たりの質量で、１．５ｇ／ｍ^２になるように塗布し、１７０℃で２分間乾燥させて、乾燥厚み１．５μｍの第二耐候性層を形成した。
以上により、一方の表面に下塗層を有するＰＥＴ基材フィルム１の、下塗層を有する面の反対の面に第一耐候性層及び第二耐候性層を設けた複合フィルム１（複合層２０）を作製した。

＜ガラスミラーの作製＞
先ず、充分に洗浄されたガラス板（ガラス層；ｐｉｌｋｉｎｇｔｏｎ社製 ｍｉｃｒｏｗｈｉｔｅ、厚さ１ｍｍ）の片面に、銀鏡反応によって銀を析出する硝酸銀を含む溶液と銀を還元させる還元液との銀層形成用溶液をスプレーし、単位面積当たりの質量で、１ｇ／ｍ^２の銀鏡面膜（鏡面層）を形成した。次に、この銀鏡面膜を水洗した後、水洗した銀鏡面膜上に、銅を析出する硫酸銅を含む溶液と銅を還元させる還元液との銅層形成用溶液をスプレーし、単位面積当たりの質量で、０．３０ｇ／ｍ^２の銅膜（鏡面保護層）を形成し、次いで水洗した後に乾燥し、ガラス板上に、順に、銀鏡面膜及び銅膜が積層されたガラスミラーを作製した。

−接着剤転写テープを用いたガラスミラーとの貼り合せ−
ガラスミラーの銅膜と複合フイルム１の下塗層が形成された面とを、高透明接着剤転写テープ（住友スリーエム株式会社、型番：８１４６−１）を用いて貼り合せることで、太陽熱発電用反射板（縦１００ｃｍ、横５０ｃｍの矩形状）を得た。
−端面封止−
作製された太陽熱発電用反射板の四周の端面を下記のようにして封止し、実施例１に係る太陽熱発電用反射板１を得た。
四隅の端面封止については、アルミニウムテープを用いて行った。

［実施例２］
厚さ３ｍｍの未延伸ベースに代えて、厚さ１．２ｍｍの未延伸ベースを作製した以外は、実施例１におけるＰＥＴ基材フィルム１と同様にして、厚さが１００μｍのＰＥＴ基材フィルム２を作製した。このＰＥＴ基材フィルム２を使用した以外は、実施例１と同様にして、実施例２に係る太陽熱発電用反射板２を得た。

［比較例１］
複合層用基材として、発泡樹脂シート（ＭＣ−ＰＥＴ、古河電工（株）製、ＲＢ、１ｍｍ）を使用した以外は実施例１と同様にして、比較例１に係る太陽熱発電用反射板Ｃ１を作製した。

［比較例２］
実施例１と同様にして作製したガラスミラーの銅膜上に、特開２０１２−２１３９４３号公報の実施例１と同様にして、エポキシ樹脂の焼付膜を形成し、実施例１と同様にして端面封止を行い、比較例２に係る太陽熱発電用反射板Ｃ２を作製した。

［比較例３］
厚さ３ｍｍの未延伸ベースに代えて、厚さ０．９ｍｍの未延伸ベースを作製した以外は、実施例１におけるＰＥＴ基材フィルム１と同様にして、厚さが７５μｍのＰＥＴ基材フィルムＣ３を作製した。作製したＰＥＴ基材フィルムＣ３を使用した以外は、実施例１と同様にして、比較例３に係る太陽熱発電用反射板Ｃ３を得た。

［実施例３］
白色無機微粒子分散物の組成における酸化チタンを、炭酸カルシウム粉末（Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ−１５００、白石カルシウム（株）製）に変えた点を除いて、実施例１と同様にして実施例３に係る太陽熱発電用反射板３を作製した。

［実施例４］
ガラスミラーとして、下記のようにして作製したガラスミラーを使用した以外は、実施例１と同様にして、実施例４係る太陽熱発電用反射板４を作製した。
＜ガラスミラーの作製＞
充分に洗浄されたガラス（ｐｉｌｋｉｎｇｔｏｎ社製 ｍｉｃｒｏｗｈｉｔｅ、厚さ１ｍｍ）の片面に、単位面積当たりの質量で、１ｇ／ｍ^２のＡｌ層（鏡面層）、次いで０．３０ｇ／ｍ^２のＮｉ層（鏡面保護層）を、各々真空蒸着法により形成した。

［実施例５］
実施例１におけるガラスミラーの作製において、鏡面保護層としての銅膜に代えて、真空蒸着法により、単位面積当たりの質量で、０．３０ｇ／ｍ^２のＳｎ層を形成した以外は、実施例１と同様にして実施例５に係る太陽熱発電用反射板５を作製した。

［比較例４］
実施例１におけるガラスミラーの作製において、鏡面保護層としての銅膜を形成しなかった以外は実施例１と同様にして比較例４に係る太陽熱発電用反射板Ｃ４を作製した。

［実施例６］
厚さ３ｍｍの未延伸ベースに代えて、厚さ１．２ｍｍの未延伸ベースを作製した以外は、実施例１におけるＰＥＴ基材フィルム１と同様にして、厚さが５００μｍのＰＥＴ基材フィルム３を作製した。作製したＰＥＴ基材フィルム３を使用すること以外は実施例１と同様にして、実施例６に係る太陽熱発電用反射板６を作製した。

［実施例７］
実施例１におけるＰＥＴ基材フィルム１の作製と同様にして、厚さ約３ｍｍの未延伸ベースを作製した。その後、９０℃でＭＤ方向に３．４倍に延伸し、次いで、ＰＥＴ基材フィルム１の作製と同様にして、下塗層形成用塗布液をポリエチレンテレフタレート支持体の一方の面に、塗布量が５．１ｍｌ／ｍ^２となるように、インラインコート法にて塗布を行い、厚み０．１μｍの下塗層を形成した。更に、９０℃の延伸温度で、ＴＤ方向に４倍に延伸して、厚さが２５０μｍのＰＥＴ基材フィルム４を作製した。作製したＰＥＴ基材フィルム４を使用すること以外は実施例１と同様にして、実施例７に係る太陽熱発電用反射板７を作製した。

［実施例８］
第一耐候性層形成用塗布液の組成を下記の組成とし、かつ第二耐候性層を形成しなかった以外は実施例１と同様にして、実施例８に係る太陽熱発電用反射板８を作製した。
〈第一耐候性層形成用塗布液の組成〉
・ フッ素樹脂（オブリガート（登録商標）ＳＷ００１１Ｆ、ＡＧＣコーテック社製、固形分濃度が３６質量％になるように水で希釈した溶液）・・・２０８ 質量部
・ オキサゾリン系架橋剤（エポクロス（登録商標）ＷＳ−７００、日本触媒（株）製、固形分濃度２５質量％）・・・ ５８質量部
・ フッ素系界面活性剤（ナトリウム＝ビス（３、３、４、４、５、５、６、６−ノナフルオロ）＝２−スルホナイトオキシスクシナート、富士フイルムファインケミカル（株）製、濃度１質量％）・・・ ９．４質量部
・ 実施例１で調製した白色無機微粒子分散物・・・ ２５４質量部
・ 第２リン酸アンモニウム（食添用第２リン酸アンモニウム、日本化学工業（株）製、濃度３５質量％水溶液）・・・ ６．２質量部

［実施例９］
第一耐候性層形成用塗布液の組成を下記の組成とし、かつ第二耐候性層を形成しなかった以外は実施例１と同様にして、実施例９に係る太陽熱発電用反射板９を作製した。
〈第一耐候性層形成用塗布液の組成〉
・ アクリル樹脂（ニューコート（登録商標） ＵＶＡ−２０４Ｗ、新中村化学（株）製、固形分濃度２０質量％の水性エマルジョン）・・・ ３７６質量部
・ オキサゾリン系架橋剤（エポクロス（登録商標）ＷＳ−７００、日本触媒（株）製、固形分濃度２５質量％）・・・ ５８質量部
・ フッ素系界面活性剤（ナトリウム＝ビス（３、３、４、４、５、５、６、６−ノナフルオロ）＝２−スルホナイトオキシスクシナート、富士フイルムファインケミカル（株）製、濃度１質量％）・・・ ９．４質量部
・ 実施例１で調製した白色無機微粒子分散物・・・ ２５４質量部
・ 第２リン酸アンモニウム（食添用第２リン酸アンモニウム、日本化学工業（株）製、濃度３５質量％水溶液）・・・ ６．２質量部

［実施例１０］
第二耐候性層を形成しなかった以外は実施例１と同様にして、実施例１０に係る太陽熱発電用反射板１０を作製した。

以上のようにして作製された各太陽熱発電用反射板について、以下の評価を行った。
結果を表１に示す。

〈耐候性〉
太陽熱発電用反射板を岩崎電気製アイスーパーＵ Ｖ テスターを用いて、９０ｍＷ／ｃｍ^２の照度下に、６０℃の温度で５０％の相対湿度の環境下で１００時間紫外線照射を行ったのち、目視での外観変化を評価した。以下に耐候性の評価基準を記す。
・ Ａ：外観変化が無い。
・ Ｂ：若干黄変、又は擦った際に複合層側の最外層が脱落する。
・ Ｃ：完全に黄変、又は擦った際に、銅層が見える程に孔が開く。
・ Ｄ：黄変から赤味増加、又は擦った際に、銅層が見える程の孔が増加（照射面積の３０％以下）。
・ Ｅ：赤褐色に変化、又は擦った際に、銅層が見える程の孔が増加（照射面積の３０％より多くなった）。

太陽熱発電用反射板の長手方向の両端を固定する。太陽熱発電用反射板の表面の中央で、１０ｍｍの変位となるように可動具により圧力を加えて撓ませ、次いで圧力が加わらないように元に戻す、という操作を１サイクルとして、２０００サイクル繰り返した後、圧力を加えない状態での太陽熱発電用反射板の表面の中央部の変位量を、レーザー変位計により測定した。復元性の評価基準を以下に示す。
・ Ａ：変位量が２ｍｍ未満の範囲内である。
・ Ｂ：変位量が２ｍｍ以上５ｍｍ未満である。
・ Ｃ：変位量が５ｍｍ以上であり、ガラス層にひびが観察される。
・ Ｄ：変位量が７ｍｍ以上であり、ガラス層に観察されるひびが増加した。
・ Ｅ：変位量が９ｍｍ以上であり、ガラス層が割れてしまった。

〈光沢度〉
デジタル変角光沢計（スガ試験機（株）製「ＵＧＶ−５Ｄ」）を使用して、ＪＩＳ Ｚ ８７４１で定義される、入射角４５°と６０°における表面の光沢度を測定した。

〈写像性〉
太陽熱発電用反射板の裏面の写像性を、測定器ＩＣＭ−１ＤＰ（スガ試験機株式会社製）により測定し、くし幅２ｍｍにおける入射角４５度及び６０度の各写像性（単位：％）を測定した。

〈集光効率の増加分〉
Ｓｃｉｅｎｃｅ ＆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社の主催で、２０１３年１１月２９日に東京・千代田区駿河台の連合会館で開催されたセミナー「集光方太陽熱発電(CSP)の動向とシステム・部材開発および実証展開」の、「第３部 超低設置フレネル式太陽光集光装置の開発と実証展開」に記載されている太陽光集光装置と同じ構造の集光装置の小型のもの（１２ｃｍ×４０ｃｍ）を６個作製し、集光装置の反射鏡として、前述の各太陽熱発電用反射板をセットした。ここで、反射鏡のサイズは、１２ｃｍ×４０ｃｍとした。
上記６個の集光装置を一列に並べ、各集光装置で反射された太陽光が一か所に集まる一位置に、コニカミノルタセンシング株式会社製の色彩照度計ＣＬ−２００Ａを設置した。 下記の基準ミラーを上記の集光装置の反射鏡としてセットした場合の照度を基準として、前述の各太陽熱発電用反射板をセットした場合の照度の増減値（単位：％）を表１の「集光効率の増加分」の欄に記載した。
＜基準ミラーの作製＞
充分に洗浄されたガラス板（ガラス層；ｐｉｌｋｉｎｇｔｏｎ社製 ｍｉｃｒｏｗｈｉｔｅ、厚さ１ｍｍ）の片面に、銀鏡反応によって銀を析出する硝酸銀を含む溶液と銀を還元させる還元液との銀層形成用溶液をスプレーし、単位面積当たりの質量で、１ｇ／ｍ^２の銀鏡面膜（鏡面層）を形成した。次に、この銀鏡面膜を水洗した後、水洗した銀鏡面膜上に、銅を析出する硫酸銅を含む溶液と銅を還元させる還元液との銅層形成用溶液をスプレーし、単位面積当たりの質量で、０．３０ｇ／ｍ^２の銅膜（鏡面保護層）を形成し、次いで水洗した後に乾燥し、ガラス板上に、順に、銀鏡面膜及び銅膜が積層されたガラスミラーを作製した。
上記ガラスミラーの銅膜の表面に、下記に記載の方法で保護層を形成し、基準ミラーとした。
−保護層の形成−
特開２０１３−０２３６０４に記載のある方法で、太陽熱集熱用反射板の表面塗布用塗料組成物を得、前述した銅膜上に乾燥塗膜の膜厚が３０μｍとなるように塗布して塗布層を形成し、２５℃の恒温室中で、１週間養生させ、塗膜を形成し、太陽熱集熱用反射板を得た。

表１に示された結果から、本発明の実施態様の実施例１〜１０の太陽熱発電用反射板は、耐候性、及び復元性に優れていることが分かる。
他方、複合層２０の代わりに発泡樹脂シートを有する比較例１の太陽熱発電用反射板、及び鏡面保護層を有しない比較例４の太陽熱発電用反射板は、耐候性が著しく劣っている。また、複合層２０の代わりに、エポキシ樹脂の焼付膜を有する比較例２の反射板、及び複合層における樹脂基材の厚さが７５μｍである比較例３の反射板は、復元性が著しく劣っている。
以上より、本発明の実施態様の太陽熱発電用反射板は、耐候性、及び耐屈曲性が、共に優れていることが分かる。
また、本発明の実施態様の太陽熱発電用反射板を用いることで、基準に対して集光効率を増加させること可能である。この結果は、太陽熱発電用反射板を搭載した反射鏡を、太陽光を遮らない範囲でできるだけ近づけて並べたい場合などに発生してしまう問題も解決することができる。具体的には、太陽熱発電用反射板としては反射率、とりわけ正反射率が高いものが好ましいが、実際には集光部（レシーバ）方向に向かう光だけでなく、隣接する反射板の裏面に向かってしまう光が進んでしまうような場合でも、本発明の実施態様の太陽熱発電用反射板を用いることで、それらの光を反射して戻ってくればレシーバへの集光効率を向上させることができる。

２０１４年７月１４日に出願された日本国特許出願２０１４−１４４３０４号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、および技術規格は、個々の文献、特許出願、および技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。

Claims (9)

1. 太陽光入射側から順に、ガラス層、鏡面層、鏡面保護層、接着剤層、及び複合層を備え、
   前記複合層が、前記鏡面層に近い側から順に、厚さが１００μｍ以上５００μｍ以下の樹脂基材、ポリシロキサン構造と、アクリルモノマーを重合して得られるアクリル重合構造とを含むシリコーン−アクリル複合樹脂を含む第一耐候性層、及びフッ素樹脂を含む第二耐候性層を含む
   太陽熱発電用反射板。
2. 前記鏡面層が、銀層である請求項１に記載の太陽熱発電用反射板。
3. 前記鏡面保護層が、銅層である請求項１又は請求項２に記載の太陽熱発電用反射板。
4. 前記複合層の樹脂基材が、ポリエステルフィルム、又はポリイミドフィルムである請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の太陽熱発電用反射板。
5. 前記複合層の樹脂基材が、二軸延伸ポリエステルフィルムである請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の太陽熱発電用反射板。
6. 前記第一耐候性層及び前記第二耐候性層の少なくとも一層が、無機粒子を含む請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の太陽熱発電用反射板。
7. 前記無機粒子が、酸化チタン、硫酸バリウム、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、及びコロシダルシリカからなる群より選ばれる少なくとも一つを含む請求項６に記載の太陽熱発電用反射板。
8. 前記無機粒子が、酸化チタンである請求項６に記載の太陽熱発電用反射板。
9. 前記鏡面層に対して複合層側から光を入射させて測定した写像性が、下記条件１及び２を満たす請求項５〜請求項８のいずれか１項に記載の太陽熱発電用反射板。
   条件１：入射角４５度、及び光学くし幅２ｍｍの場合の写像性が１５％以上である。
   条件２：入射角６０度、及び光学くし幅２ｍｍの場合の写像性が２０％以上である。
   ここで、写像性は、光透過部分と光不透過部分の幅が各々２ｍｍのくし幅を有する光学くしを通過した光における最大光量をＭ、最小光量をｍとした場合、両者の和：Ｍ＋ｍに対する両者の差：Ｍ−ｍの比率を百分率で表した値である。