JP6335148B2 - 導電性フィルムの製造方法、導電性フィルム、タッチパネル - Google Patents

Description

本発明は、導電性フィルムの製造方法、およびその製造方法により得られる導電性フィルム、並びにその導電性フィルムを備えるタッチパネルに関する。

支持体上に導電性細線が形成された導電性フィルムは、太陽電池、無機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子、有機ＥＬ素子などの各種電子デバイスの透明電極、各種表示装置の電磁波シールド、タッチパネル、透明面状発熱体などに幅広く利用されている。特に、近年、携帯電話や携帯ゲーム機器等へのタッチパネルの搭載率が上昇しており、多点検出が可能な静電容量方式のタッチパネル用の導電性フィルムの需要が急速に拡大している。
このような導電性フィルムの形成方法としては、例えば、特許文献１では、ハロゲン化銀写真感光材料から導電性細線を形成する方法として、支持体上にハロゲン化銀含有感光性層を形成する工程と、上記ハロゲン化銀含有感光性層の露光・現像工程と、過熱水蒸気による加熱工程と、ゼラチンを分解する工程と、をこの順に有する方法を開示している。

特開２０１４−２０９３３２号公報

ところで、導電性細線は、導電性細線中に残存するゼラチンの量が少ない程、相対的に金属成分の体積分率が大きくなるため低抵抗となる。したがって、低抵抗性の観点からは導電性細線中のゼラチンの残存量をより低減することが求められる。
本発明者は、特許文献１に記載の製造方法を参考にして導電性細線を形成したところ、ゼラチンの残存量を低減して所望の電気的特性を実現するには、ゼラチンの分解除去処理に長時間を要することを明らかにした。この原因として、過熱水蒸気による加熱工程においてゼラチン以外の高分子成分を融着させる際に、高分子成分が過度に熱を受けることによって過融着し、これにより後工程となるゼラチンの分解除去処理が長時間化することが考えられた。
一方、この過融着を抑制すべく過熱水蒸気温度を低くし、或いは過熱水蒸気による処理時間を短くした場合には、高分子成分の融着が不十分であるため金属成分の密着性が悪く、後工程のゼラチンの分解除去処理の際に金属成分の膜剥がれが生じることを知見した。

本発明は、上記実情に鑑みて、ゼラチンの分解除去効率が良好であり、金属成分の密着性にも優れた導電性フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、上記導電性フィルムの製造方法により製造された導電性フィルム、および上記導電性フィルムを備えるタッチパネルを提供することも目的とする。

本発明者らは、上記課題について鋭意検討した結果、過熱水蒸気による加熱工程において高分子成分の過融着を抑制することで、所望の効果が得られることを見出した。
つまり、以下の構成により上記課題を解決できることを見出した。

（１） 導電性フィルムの製造方法であって、
支持体、並びに、上記支持体上に配置された、金属成分、ゼラチン、および、ゼラチンとは異なる高分子を含む塗膜を有する前駆体フィルムに対して、１１５℃以上で予熱処理を施す第１工程と、
上記予熱処理が施された前駆体フィルムと、過熱水蒸気とを接触させる第２工程と、
上記過熱水蒸気と接触した前駆体フィルムの上記塗膜中の上記ゼラチンを除去する第３工程とを有する、導電性フィルムの製造方法。
（２） 上記過熱水蒸気の温度が１気圧で１１０℃以上である、（１）に記載の導電性フィルムの製造方法。
（３） 上記第１工程および上記第２工程がロール・トゥ・ロールにて実施される、（１）または（２）に記載の導電性フィルムの製造方法。
（４） 上記支持体を構成する材料が、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、シクロオレフィンコポリマー、および、シクロオレフィンポリマーのいずれかから選択される、（１）〜（３）のいずれかに記載の導電性フィルムの製造方法。
（５） 上記支持体の厚みが１０〜５００μｍである、（１）〜（４）のいずれかに記載の導電性フィルムの製造方法。
（６） 上記金属成分が、金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、白金、鉛、錫およびクロムから選ばれる少なくとも１種の金属を含む、（１）〜（５）のいずれかに記載の導電性フィルムの製造方法。
（７） 上記第１工程の前に、
上記支持体上に配置されたハロゲン化銀塩、ゼラチン、および、ゼラチンとは異なる高分子を含む銀塩乳剤層を露光および現像して、上記前駆体フィルムを得る工程をさらに有する、（１）〜（６）のいずれかに記載の導電性フィルムの製造方法。
（８） （１）〜（７）のいずれかに記載の導電性フィルムの製造方法によって製造された導電性フィルムを用いてタッチパネルを製造する工程を有する、タッチパネルの製造方法。

本発明によれば、ゼラチンの分解除去効率が良好であり、金属成分の密着性にも優れた導電性フィルムの製造方法を提供することができる。
また、本発明によれば、上記導電性フィルムの製造方法により製造された導電性フィルム、および上記導電性フィルムを備えるタッチパネルを提供することもできる。

本発明の導電性フィルムの一実施形態の製造方法を示す工程図であり、第１工程および第２工程を説明する図である。 本発明の前駆体フィルムの一実施形態の断面図（（Ａ）および（Ｂ））である。 導電性細線により形成される導電部の一実施態様を示す一部平面図である。

以下に、本発明の導電性フィルムの製造方法、および、導電性フィルムの製造方法により得られる導電性フィルムについて説明する。
なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。

まず、本発明の従来技術と比較した特徴点について詳述する。
本発明は、過熱水蒸気による加熱工程（第２工程）の直前に前駆体フィルムを１１５℃以上で加熱する工程（第１工程）を設けることを特徴とする。
第１工程を設けない従来技術では、常温近傍温度の前駆体フィルムを搬送して過熱水蒸気に晒すこととなる。過熱水蒸気に晒された前駆体フィルムの表面には蒸気が付着し、これが前駆体フィルムに冷却されて凝縮液となる一方で、前駆体フィルムはその熱エネルギー（凝縮熱）を受容することとなり、このときに、前駆体フィルム中のゼラチン以外の高分子成分の過融着が一気に進行すると考えられる。
本発明の製造方法においては、第１工程を設けて前駆体フィルムを所定温度以上に加熱して、前駆体フィルムと蒸気成分との温度ギャップを低減することで、凝縮熱の発生を抑制している。
本発明の導電性フィルムの製造方法によれば、上述の第１工程による作用効果により、ゼラチン以外の高分子成分の過融着が抑制されるため、続く第３工程におけるゼラチン分解除去処理の作業効率を向上させる（例えば、実施例欄に示すように、同じ処理時間でもゼラチン除去量を増大させる）ことが可能となる。一方、本発明の導電性フィルムの製造方法は、第２工程である過熱水蒸気による加熱工程の温度および処理時間は従来技術と同様に確保されているため、高分子成分の融着が不十分となることはなく、第２工程の後に実施される第３工程によってゼラチンが分解除去される際にも金属成分の膜剥がれ等が生じることがない（言い換えると、ゼラチンが分解除去された後も導電部の形状を維持できると共に、支持体に対する金属成分の密着性にも優れる）。

以下、本発明の導電性フィルムの製造方法の一例について、図面を参照しながら工程毎に詳細に説明する。なお、図１は、本発明の導電性フィルムの製造方法の第１工程および第２工程を説明するための図面であり、より具体的には、後述する第１工程と第２工程とをロール・トゥ・ロールで連続して実施可能な加熱装置５０を用いた製造方法の一例を示す概略図である。なお、本発明は、この態様に限定されるものではない。

＜第１工程＞
第１工程は、支持体、並びに、上記支持体上に配置された、金属成分、ゼラチン、および、ゼラチンとは異なる高分子を含む塗膜を有する前駆体フィルムに対して、１１５℃以上で予熱処理を施す工程である。
前駆体フィルムＷは、搬送機構９０（搬送機構９０は、フィルムの繰り出しローラー９２と巻き取りローラー９４とで構成される）によって搬送方向ＭＤに搬送されて、予熱処理部１０が有する予熱処理槽１１内に移動する。予熱処理槽１１内に搬入された前駆体フィルムＷは、予熱処理槽１１内に設けられた予熱処理ユニット１３により昇温される。
第１工程は、続く第２工程である過熱水蒸気による加熱工程の前に実施される工程であり、前駆体フィルムＷを加熱する工程である。第１工程を実施することにより、第２工程において前駆体フィルムＷを過熱水蒸気に晒した際にフィルム表面に付着した蒸気が凝縮液に変化しにくくなり、すなわち前駆体フィルムＷに含まれる高分子成分への凝縮熱の影響が低減し、第２工程での高分子成分の過融着が抑制される。これにより、第３工程におけるゼラチン分解除去工程の処理効率を向上することが可能となる。

図１に示す前駆体フィルムＷは、図２（Ａ）に示すように、支持体１２と、支持体１２上に配置された細線状の塗膜１４と、を有する。塗膜１４は、上記支持体１２上に設けられ、金属成分、ゼラチン、および、ゼラチンとは異なる高分子が含有される。なお、図２（Ａ）において、塗膜１４は支持体１２の一方の表面上にのみ形成されているがこの態様には限定されず、支持体１２の両面に塗膜１４が配置されていてもよい。また、塗膜１４はパターン状（細線状）に配置されているが、図２（Ａ）の態様に限定されるものではなく、支持体１２全面に配置されていてもよい。
また、後段で詳述するように、前駆体フィルムＷは図２（Ａ）の態様に限定されず、例えば、図２（Ｂ）に示すように、支持体１２と、支持体１２上に配置された細線状の塗膜１４と、支持体１２上で、かつ、塗膜１４間に配置されたバインダー層１６を有する態様であってもよい。
以下では、まず、使用される前駆体フィルムＷの構成について詳述し、その後、工程の手順について詳述する。

（支持体）
支持体としては、塗膜を支持できればその種類は制限されず、透明支持体であることが好ましく、特にプラスチックフィルムが好ましい。透明支持体を用いることで本発明の導電性フィルムは透明導電性フィルムとして好適に用いることができる。
支持体を構成する材料の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ（メタ）アクリル樹脂、シクロオレフィンコポリマー、シクロオレフィンポリマー、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、トリアセチルセルロースなどが挙げられ、透過率および耐熱性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、シクロオレフィンコポリマー、および、シクロオレフィンポリマーのいずれかから選択される材料を用いることが好ましい。
支持体の全光線透過率は、８５％〜１００％であることが好ましい。
支持体の厚みは特に制限されないが、タッチパネルや電磁波シールドなどの用途への応用の点からは、通常、１０〜５００μｍの範囲で任意に選択することができる。なお、支持体の機能の他にタッチ面の機能をも兼ねる場合は、５００μｍを超えた厚みで設計することも可能である。支持体の厚みは、熱容量の観点からは薄い方が好ましく、２００μｍ以下が好ましく、１５０μｍ以下がより好ましい。支持体の厚みの下限値は、１０μｍ以上であることが好ましく、３０μｍ以上であることがより好ましい。熱容量およびハンドリング性を両立する観点からは、３０μｍ〜１００μｍであることが好ましい。

支持体の好適態様の一つとしては、大気圧プラズマ処理、コロナ放電処理、および紫外線照射処理からなる群から選択される少なくとも一つの処理が施された処理済支持体が挙げられる。上記処理が施されることにより、処理済支持体表面にはＯＨ基などの親水性基が導入され、後述する導電部の密着性がより向上する。
上記処理の中でも、導電部の密着性がより向上する点で、大気圧プラズマ処理が好ましい。

支持体の他の好適態様としては、その表面上に後述するゼラチンとは異なる高分子を含む下塗り層を有することが好ましい。この下塗り層上に感光性層（後述）が形成されることにより、導電部の密着性がより向上する。
下塗り層の形成方法は特に制限されないが、例えば、ゼラチンとは異なる高分子を含む下塗り層形成用組成物を支持体上に塗布して、必要に応じて加熱処理を施す方法が挙げられる。下塗り層形成用組成物には、必要に応じて、溶媒が含まれていてもよい。溶媒の種類は特に制限されず、後述する感光性層形成用組成物で使用される溶媒が例示される。また、ゼラチンとは異なる高分子を含む下塗り層形成用組成物として、ゼラチンとは異なる高分子の微粒子を含むラテックスを使用してもよい。
下塗り層の厚みは特に制限されないが、導電部の密着性がより優れる点で、０．０２〜０．３μｍが好ましく、０．０３〜０．２μｍがより好ましい。

（金属成分）
金属成分としては、特に限定されず、例えば、金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、白金、鉛、錫、クロム、アルミニウムおよびチタンなどの金属などを用いることができ、これらの中でも、金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、白金、鉛、錫およびクロムから選ばれる少なくとも１種の金属を含むことがより好ましく、銀を含むことがさらに好ましい。
金属成分は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

（ゼラチン）
ゼラチンの種類は特に制限されず、例えば、石灰処理ゼラチンの他、酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチンの加水分解物、ゼラチン酵素分解物、アミノ基またはカルボキシル基を修飾したゼラチン（フタル化ゼラチン、アセチル化ゼラチン）を使用することもできる。

（ゼラチンと異なる高分子）
ゼラチンとは異なる高分子（以後、単に高分子とも称する）としては、タンパク質を含まない高分子であることが好ましい。言い換えると、タンパク質分解酵素により分解しない高分子であることが好ましい。
より具体的には、例えば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリジエン系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、セルロース系重合体およびキトサン系重合体、からなる群から選ばれる少なくともいずれかの樹脂、または、これらの樹脂を構成する単量体からなる共重合体などが挙げられる。なかでも、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、および、ポリエステル樹脂からなる群から選ばれる少なくともいずれかの樹脂、または、これらの樹脂を構成する単量体からなら共重合体などが挙げられる。

上記高分子には、後述する架橋剤中の架橋性基と反応し得る反応性基が含まれていてもよい。反応性基の種類は特に制限されず、架橋性基を反応できればよいが、例えば、水酸基、イソシアネート基、カルボン酸基、カルボン酸無水物基、エポキシ基、アミノ基、ハロゲン化アルキル基などが挙げられる。

なかでも、高分子の好適態様としては、水分の浸入をより防止できる点より、以下の一般式（１）で表されるポリマー（共重合体）が挙げられる。
一般式（１）： −（Ａ）ｘ−（Ｂ）ｙ−（Ｃ）ｚ−（Ｄ）ｗ−
なお、一般式（１）中、Ａ、Ｂ、Ｃ、およびＤはそれぞれ、下記繰り返し単位を表す。

Ｒ¹は、メチル基またはハロゲン原子を表し、好ましくはメチル基、塩素原子、臭素原子を表す。ｐは０〜２の整数を表し、０または１が好ましく、０がより好ましい。

Ｒ²は、メチル基またはエチル基を表し、メチル基が好ましい。
Ｒ³は、水素原子またはメチル基を表し、好ましくは水素原子を表す。Ｌは、２価の連結基を表し、好ましくは下記一般式（２）で表される基である。
一般式（２）：−（ＣＯ−Ｘ¹）ｒ−Ｘ²−
式中Ｘ¹は、酸素原子またはＮＲ³⁰−を表す。ここでＲ³⁰は、水素原子、アルキル基、アリール基、またはアシル基を表し、それぞれ置換基（例えば、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基など）を有してもよい。Ｒ³⁰は、好ましくは水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−オクチル基など）、アシル基（例えば、アセチル基、ベンゾイル基など）である。Ｘ¹として特に好ましいのは、酸素原子またはＮＨ−である。
Ｘ²は、アルキレン基、アリーレン基、アルキレンアリーレン基、アリーレンアルキレン基、またはアルキレンアリーレンアルキレン基を表し、これらの基には−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−Ｎ（Ｒ³¹）−、−Ｎ（Ｒ³¹）ＳＯ₂−などが途中に挿入されてもよい。ここでＲ³¹は炭素数１〜６の直鎖または分岐のアルキル基を表し、メチル基、エチル基、イソプロピル基などがある。Ｘ²の好ましい例として、ジメチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ｏ−フェニレン基、ｍ−フェニレン基、ｐ−フェニレン基、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯ（Ｃ₆Ｈ₄）−などを挙げることができる。
ｒは０または１を表す。
ｑは０または１を表し、０が好ましい。

Ｒ⁴は、炭素原子数５〜８０のアルキル基、アルケニル基、またはアルキニル基を表し、好ましくは炭素数５〜５０のアルキル基であり、より好ましくは炭素数５〜３０のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数５〜２０のアルキル基である。
Ｒ⁵は、水素原子、メチル基、エチル基、ハロゲン原子、またはＣＨ₂ＣＯＯＲ⁶を表し、水素原子、メチル基、ハロゲン原子、−ＣＨ₂ＣＯＯＲ⁶が好ましく、水素原子、メチル基、−ＣＨ₂ＣＯＯＲ⁶がさらに好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
Ｒ⁶は、水素原子または炭素原子数１〜８０のアルキル基を表し、Ｒ⁴と同じでも異なってもよく、Ｒ⁶の炭素原子数は１〜７０が好ましく、１〜６０がさらに好ましい。

一般式（１）中、ｘ、ｙ、ｚ、およびｗは各繰り返し単位のモル比率を表す。
ｘとしては３〜６０モル％、好ましくは３〜５０モル％、より好ましくは３〜４０モル％である。
ｙとしては、３０〜９６モル％、好ましくは３５〜９５モル％、特に好ましくは４０〜９０モル％である。
また、ｚが小さすぎるとゼラチンのような親水性保護コロイドとの親和性が減少するためマット剤の凝集・剥落故障の発生確率が高くなり、ｚが大きすぎると感光材料のアルカリ性の処理液に本発明のマット剤が溶解してしまう。そのため、ｚとしては０．５〜２５モル％、好ましくは０．５〜２０モル％、特に好ましくは１〜２０モル％である。
ｗとしては、０．５〜４０モル％、好ましくは０．５〜３０モル％である。
一般式（１）において、ｘは３〜４０モル％、ｙは４０〜９０モル％、ｚは０．５〜２０モル％、ｗは０．５〜１０モル％の場合が特に好ましい。

一般式（１）で表されるポリマーとしては、下記一般式（２）で表されるポリマーが好ましい。

一般式（２）中、ｘ、ｙ、ｚおよびｗは、上記の定義の通りである。

一般式（１）で表されるポリマーは、一般式（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）および（Ｄ）以外の他の繰り返し単位を含んでもよい。他の繰り返し単位を形成するためのモノマーとしては、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、ビニルエステル類、オレフィン類、クロトン酸エステル類、イタコン酸ジエステル類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、アクリルアミド類、不飽和カルボン酸類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルケトン類、ビニル異節環化合物、グリシジルエステル類、不飽和ニトリル類などが挙げられる。これらのモノマーとしては特許第３７５４７４５号公報の［００１０］〜［００２２］にも記載されている。
疎水性の観点からアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類が好ましく、ヒドロキシエチルメタクリレートなどのヒドロキシアルキルメタクリレートまたはヒドロキシアルキルアクリレートがより好ましい。一般式（１）で表されるポリマーは、上記一般式（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）および（Ｄ）以外に下記一般式（Ｅ）で表される繰り返し単位を含むことが好ましい。

上記式中、Ｌ_Eはアルキレン基を表し、炭素数１〜１０のアルキレン基が好ましく、炭素数２〜６のアルキレン基がより好ましく、炭素数２〜４のアルキレン基が更に好ましい。

一般式（１）で表されるポリマーとしては、下記一般式（３）で表されるポリマーが特に好ましい。

上記式中、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、およびｅ１は各モノマー単位のモル比率を表し、ａ１は３〜６０（モル％）、ｂ１は３０〜９５（モル％）、ｃ１は０．５〜２５（モル％）、ｄ１は０．５〜４０（モル％）、ｅ１は１〜１０（モル％）を表す。
ａ１の好ましい範囲は上記ｘの好ましい範囲と同じであり、ｂ１の好ましい範囲は上記ｙの好ましい範囲と同じであり、ｃ１の好ましい範囲は上記ｚの好ましい範囲と同じであり、ｄ１の好ましい範囲は上記ｗの好ましい範囲と同じである。
ｅ１は１〜１０モル％であり、好ましくは２〜９モル％であり、より好ましくは２〜８モル％である。

一般式（１）で表されるポリマーの具体例を以下に示すが、これらに限定されない。

一般式（１）で表されるポリマーの重量平均分子量は、１０００〜１００万が好ましく、２０００〜７５万がより好ましく、３０００〜５０万が更に好ましい。

一般式（１）で表されるポリマーは、例えば特許第３３０５４５９号および特許第３７５４７４５号公報などを参照して合成することができる。

上述したように、前駆体フィルムは予熱処理部に搬送され、予熱処理が施される。なお、搬送する際の速度は特に制限されず、例えば、１０ｍ／分以上１００ｍ／分以下の速度で搬送する。なお、本明細書では、「上流」、「下流」とは、前駆体フィルムの移動（搬送）方向に対して用いられる。ある基準に対して移動（搬送）方向側に位置する場合を「下流」、移動搬送方向と反対側に位置する場合を「上流」と定義される。

予熱処理部は、前駆体フィルムに対して、予熱処理を施す機構を有するものであれば特に限定されない。
上述したように、図１においては、予熱処理部１０は、予熱処理槽１１と、予熱処理槽１１内に設けられた予熱処理ユニット１３と、を有する。予熱処理槽１１は、その内部に搬送された前駆体フィルムＷの予熱処理を行う領域を有する。
予熱処理ユニット１３としては、具体的には、公知の加熱手段、例えば熱風による対流乾燥方式、赤外線などの輻射熱による輻射乾燥方式等、種々の乾燥方式を採用することができる。
予熱処理槽１１は、後述する第２工程で使用される過熱水蒸気処理部２０の有する過熱水蒸気処理槽２１と、物理的に連結されていることが好ましい。
これにより、過熱水蒸気処理槽２１から過熱水蒸気が漏れ出ても、過熱水蒸気が予熱処理槽１１の作用により蒸発するので、前駆体フィルムＷが結露することを抑制できる。
なお、「物理的に連結している」とは、予熱処理槽１１を構成する部材で囲まれた領域と、過熱水蒸気処理槽２１を構成する部材で囲まれた領域と、が連通した状態にあることを指す。なお、上述した予熱処理ユニット１３および過熱水蒸気発生ユニット２３が一つの槽内に設けられたものも、物理的に連結している態様に含まれる。

第１工程において、前駆体フィルムＷの予熱温度（加熱温度）は、１１５℃以上であり、１２０℃以上であることが好ましく、１２５℃以上であることが更に好ましい。また、前駆体フィルムへのダメージ軽減の観点から、その上限は２００℃以下であることが好ましく、１７０℃以下であることがより好ましく、１５０℃以下であることが更に好ましい。なお、ここでいう「前駆体フィルムＷの加熱温度」とは、予熱処理部１０における予熱処理槽１１の雰囲気温度を意味する。
また、前駆体フィルムＷの予熱処理槽１１での滞留時間は生産性の観点から３０秒以下であることが好ましく、１０秒以下であることがより好ましく、５秒以下であることが更に好ましい。
予熱処理部１０を搬送された前駆体フィルムＷは、過熱水蒸気処理部２０に搬送される直前に、支持体側の表面温度が７０℃以上となっていることが好ましく、８０℃以上であることがより好ましく、８５℃であることが更に好ましい。前駆体フィルムＷの支持体側の表面温度は、熱電対等により測定することができる。過熱水蒸気処理部２０に搬送される前駆体フィルムＷの温度が高い程（１００℃に近づく程）、凝縮熱の影響を抑制することができる。

＜第２工程＞
第２工程は、上記予熱処理が施された前駆体フィルムと、過熱水蒸気と、を接触させる工程である。
第２工程では、第１工程における予熱処理が行われた前駆体フィルムＷが、搬送機構９０によって搬送方向ＭＤに搬送されて、過熱水蒸気処理部２０が有する過熱水蒸気処理槽２１内に移動する。過熱水蒸気処理槽２１内に搬入された前駆体フィルムＷ（すなわち予熱処理が施された前駆体フィルムＷ）は、過熱水蒸気処理槽２１内に設けられた過熱水蒸気発生ユニット２３により発生した過熱水蒸気と接触する。これにより、前駆体フィルムＷ中のゼラチンとは異なる高分子同士が融着し、より強固な層を構成する。より具体的には、ゼラチンとは異なる高分子同士粒子が融着しあい、均一なフイルムを形成する。このような均一な膜を形成すると続く第３工程でのゼラチン分解除去においても金属成分の膜剥がれを生じさせずに膜強度を維持できる。

過熱水蒸気処理部は、上記予熱処理が施された前駆体フィルムに、過熱水蒸気を接触させることができる機構を有するものであれば特に限定されず、公知の過熱水蒸気発生装置を用いることができる。
上述したように、図１においては、過熱水蒸気処理部２０は、過熱水蒸気処理槽２１と、過熱水蒸気発生ユニット２３と、を有する。過熱水蒸気処理槽２１は、その内部に搬送された予熱処理後の前駆体フィルムＷに過熱水蒸気を接触させる領域を有する。また、過熱水蒸気発生ユニット２３は、過熱水蒸気処理槽２１内に過熱水蒸気を発生させる機構を有する。
本発明においては、前駆体フィルムを構成する部材が溶解するなどのダメージを低減できるという点から、水を成分とする過熱蒸気（すなわち過熱水蒸気）を用いる。

過熱水蒸気の温度は、１気圧で１１０℃以上であることが好ましく、１１５℃以上であることがより好ましく、１２０℃以上であることが更に好ましく、１２５℃以上であることが特に好ましい。過熱水蒸気の温度の上限は、支持体の耐熱温度の観点から、１８０℃以下であることが好ましく、１６０℃以下であることがより好ましい。なお、本発明において「過熱水蒸気の温度」とは、過熱水蒸気処理槽２１内の過熱水蒸気の温度を意味する。
第２工程における過熱水蒸気による処理時の前駆体フィルムの表面温度は、１０５〜１６０℃であることが好ましく、１１０〜１５５℃であることがより好ましく、１２０〜１５０℃であることが特に好ましい。

第２工程において前駆体フィルムと過熱水蒸気とを接触させる時間（過熱水蒸気処理の時間）としては、これに限定されないが、１０秒以上７０秒以下の範囲で前駆体フィルムの塗膜側に接触させることが好ましい。接触時間が１０秒以上であると、導電率の向上の効果が大きい。また、７０秒あたりから導電性の向上が飽和状態となるため、７０秒よりの長い時間の設定は経済性の点から好ましくない。
また、第２工程における過熱水蒸気の供給量は特に制限されないが、５００ｇ／ｍ³〜６００ｇ／ｍ³の範囲が好ましい。

＜後加熱処理工程＞
上記第２工程の後、第２工程を施した前駆体フィルムが結露することを防止（または抑制）するために、前駆体フィルムを加熱する後加熱処理工程を有していてもよい。このような後加熱処理工程は、例えば、上述した第１工程と同様の装置や機構を用いて行うことができる。
具体的には、得られた前駆体フィルムＷは、過熱水蒸気処理部２０の導出部側（下流側）に搬送され、後加熱処理部３０が有する後加熱処理槽３１内に移動する。後加熱処理工程は、後加熱処理部３０によって実施される。後加熱処理部３０は、上述した予熱処理部１０と同様の機構を有することができる。後加熱処理部３０は、後加熱処理槽３１と、後加熱処理槽３１内に設けられた後加熱処理ユニット３３と、を有する。後加熱処理槽３１は、その内部に搬送された前駆体フィルムＷの後加熱処理を行う領域である。
後加熱処理槽３１と、過熱水蒸気処理部２０の有する過熱水蒸気処理槽２１とは、前駆体フィルムＷの結露をより抑制できる観点から、物理的に連結されていることが好ましい。物理的に連結との意味は、上述した通りである。
後加熱処理ユニット３３により加熱される後加熱処理槽３１の雰囲気温度は、特に限定されないが、結露をより効果的に抑制できる観点から２０℃以上に設定されることが好ましく、また、支持体の耐熱性の観点から１８０℃以下に設定されることが好ましい。

図１においては、後加熱処理槽３１内に搬入された前駆体フィルムＷは、後加熱処理槽３１内に設けられた後加熱処理ユニット３３により後加熱処理が行われた後、搬送機構９０においてロール状に巻き取られる。

＜第３工程＞
第３工程は、過熱水蒸気と接触した前駆体フィルムの塗膜中のゼラチンを除去する工程である。本工程を実施することにより、導電特性に優れた、金属成分と高分子とを含む導電部を有する導電性フィルムが製造される。
本工程において、ゼラチンを除去する方法は特に制限されず、公知の方法を採用できるが、例えば、タンパク質分解酵素を用いる方法が挙げられる。以下、この方法について詳述する。

（タンパク質分解酵素）
タンパク質分解酵素（以降、酵素とも称す）は、ゼラチンなどのタンパク質を加水分解できる植物性または動物性酵素で公知のものが用いられる。例えば、ペプシン、レンニン、トリプシン、キモトリプシン、カテプシン、パパイン、フィシン、トロンビン、レニン、コラゲナーゼ、ブロメライン、細菌プロテアーゼ等が挙げられる。この中でも特に、トリプシン、パパイン、フィシン、細菌プロテアーゼが好ましい。その中でも特に細菌プロテアーゼ（例えば、長瀬産業（株）製のビオプラーゼ）は安価に市販されており容易に入手が可能である。

（工程の手順）
手順は、塗膜を有する支持体と上記酵素とを接触させることができれば、特に制限されない。通常、上記酵素を含む処理液（酵素液）（以後、単に「処理液」とも称する）と、塗膜を有する支持体とを接触させる方法が挙げられる。接触方法としては、例えば、塗膜を有する支持体上に処理液を塗布する方法や、処理液中に塗膜を有する支持体を浸漬する方法などが挙げられる。
処理液中における酵素含有量は特に指定はなく、用いる酵素の能力と要求される性能によって任意に決めることができる。なかでも、ゼラチンの分解除去の程度が制御しやすい点で、処理液全量に対して酵素の含有量が０．０５〜２０質量％程度が適当であり、より好ましくは５〜１０質量％である。
この処理液には、上記酵素に加え、ｐＨ緩衝剤、抗菌性化合物、湿潤剤、保恒剤など必要に応じて含有させることができる。
処理液のｐＨは、酵素の働きが最大限得られるように実験により選ばれるが、一般的には、５〜７であることが好ましい。また処理液の温度も酵素の働きが高まる温度、具体的には２５〜４５℃であることが好ましい。
接触時間は特に制限されず、製造される導電性フィルムのイオンマイグレーション抑制能がより優れる点で、１０〜５００秒間が好ましく、９０〜３６０秒間がより好ましい。

なお、必要に応じて、処理液での処理後に、ゼラチン分解されて得られた導電性フィルムを温水にて洗浄する工程を設けることが好ましい。本工程を設けることにより、ゼラチン分解残渣、および、タンパク質分解酵素の残部などを除去でき、製造される導電性フィルムの抵抗値の上昇をより抑制することができる。
洗浄方法は特に制限されず、ゼラチン分解後の導電性フィルムと温水とを接触させることができればよく、例えば、温水中に上記導電性フィルムを浸漬する方法や、上記導電性フィルム上に温水を塗布する方法などが挙げられる。
温水の温度は使用されるタンパク質分解酵素の種類などに応じて適宜最適な温度が選択されるが、生産性の点から、２０〜８０℃が好ましく、４０〜６０℃がより好ましい。
温水と上記導電性フィルムとの接触時間（洗浄時間）は特に制限されないが、生産性の点から、１〜６００秒間が好ましく、３０〜３６０秒間がより好ましい。

なお、上記では、ゼラチン除去処理工程として、タンパク質分解酵素を用いた方法について詳述したが、この方法には限定されず、酸化剤を用いる方法なども挙げられる。酸化剤を用いる方法としては、例えば、特開２０１４−１１２５１２号公報に記載の方法があげられる。

＜その他の工程＞
本発明の導電性フィルムの製造方法は、上記工程以外にもその他の工程を有していてもよい。以下に、その他の工程について詳述する。

＜第４工程＞
本発明の導電性フィルムの製造方法は、さらに、上記前駆体フィルムを形成する工程（以下、「第４工程」ともいう。）を有していてもよい。
第４工程の好ましい態様としては、上記第１工程の前に、支持体上に配置されたハロゲン化銀塩、ゼラチン、および、ゼラチンとは異なる高分子を含む銀乳化剤層を露光および現像して、上記前駆体フィルムを得る工程である。
第４工程のより好ましい態様としては、これに限定されないが、生産性に優れる点で、支持体上に所定のハロゲン化銀含有感光性層を形成する工程Ａと、ハロゲン化銀含有感光性層に露光および現像処理を行う工程Ｂと、を有するものが挙げられる。本工程を実施することにより得られる前駆体フィルムは、上述した図２（Ｂ）に示すように、未露光部がゼラチン、および、ゼラチンとは異なる高分子を含むバインダー層を形成することとなる。より具体的には、例えば、図２（Ｂ）に示すように、細線状の塗膜１４を形成した場合、得られた前駆体フィルムＷは、支持体１２と、支持体１２上に配置された細線状の塗膜１４と、支持体１２上で、かつ、塗膜１４間に配置されたバインダー層１６とを有する。バインダー層１６は、ゼラチンとは異なる高分子が含まれ、非導電部を構成する。

（工程Ａ（ハロゲン化銀含有感光性層形成工程））
工程Ａは、支持体上に、ハロゲン化銀と、ゼラチンと、ゼラチンとは異なる高分子とを含むハロゲン化銀含有感光性層（以後、単に「感光性層」とも称する）を形成する工程（ハロゲン化銀含有感光性層形成工程）である。本工程により、後述する露光処理が施される感光性層付き支持体が製造される。
まず、本工程Ａで使用される材料・部材について詳述し、その後工程Ａの手順について詳述する。
なお、使用される支持体、ゼラチン、ゼラチンとは異なる高分子の定義は、上述の通りである。

（ハロゲン化銀）
ハロゲン化銀に含有されるハロゲン元素は、塩素、臭素、ヨウ素およびフッ素のいずれであってもよく、これらを組み合わせでもよい。例えば、塩化銀、臭化銀、ヨウ化銀を主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられ、さらに臭化銀や塩化銀を主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられる。塩臭化銀、沃塩臭化銀、沃臭化銀もまた好ましく用いられる。より好ましくは、塩臭化銀、臭化銀、沃塩臭化銀、沃臭化銀であり、最も好ましくは、塩化銀５０モル％以上を含有する塩臭化銀、沃塩臭化銀が用いられる。
なお、ここで、「臭化銀を主体としたハロゲン化銀」とは、ハロゲン化銀組成中に占める臭化物イオンのモル分率が５０％以上のハロゲン化銀をいう。この臭化銀を主体としたハロゲン化銀粒子は、臭化物イオンのほかに沃化物イオン、塩化物イオンを含有していてもよい。

ハロゲン化銀は固体粒子状であり、露光、現像処理後に形成される導電部のパターン性の観点からは、ハロゲン化銀の平均粒子サイズは、球相当径で０．１〜１０００ｎｍ（１μｍ）であることが好ましく、０．１〜３００ｎｍであることがより好ましく、１〜２００ｎｍであることがさらに好ましい。
なお、ハロゲン化銀粒子の球相当径とは、粒子形状が球形の同じ体積を有する粒子の直径である。

ハロゲン化銀粒子の形状は特に限定されず、例えば、球状、立方体状、平板状（６角形平板状、三角形平板状、４角形平板状など）、八面体状、１４面体状など様々な形状であることができる。
また、ハロゲン化銀の安定化や高感度化のために用いられるロジウム化合物、イリジウム化合物などのＶＩＩＩ族、ＶＩＩＩＢ族に属する金属化合物、パラジウム化合物の利用については、特開２００９−１８８３６０号の段落００３９〜段落００４２の記載を参照することができる。さらに化学増感については、特開２００９−１８８３６０号の段落００４３の技術記載を参照することができる。

（その他）
ハロゲン化銀含有感光性層には、必要に応じて、上述した材料以外の他の材料が含まれていてもよい。例えば、特開２００９−００４３４８号公報の段落［０２２０］〜［０２４１］に記載されるような、帯電防止剤、造核促進剤、分光増感色素、界面活性剤、カブリ防止剤、硬膜剤、黒ポツ防止剤、レドックス化合物、モノメチン化合物、ジヒドロキシベンゼン類などが挙げられる。さらには、物理現像核が含まれていてもよい。

なかでも、ハロゲン化銀含有感光性層には、上記高分子同士を架橋するために使用される架橋剤が含まれることが好ましい。架橋剤が含まれることにより、高分子同士間での架橋が進行し、ゼラチンが分解除去された際にも導電部中の金属銀同士の連結が保たれ、結果として導電特性に優れた導電膜が得られる。
使用される架橋剤の種類は特に制限されず、使用される高分子の構造に応じて適宜最適な架橋剤が選択される。通常、架橋剤は、高分子中に含まれる基（反応性基）と反応する架橋性基を少なくとも２つ有する。
例えば、上記高分子中の反応性基と、架橋剤中の架橋性基との好適な組み合わせとしては、反応性がより優れる点で、例えば、以下の（１）〜（８）の組み合わせが挙げられる。
（１）水酸基とイソシアネート基
（２）カルボン酸基とエポキシ基
（３）水酸基とカルボン酸無水物基
（４）カルボン酸基とイソシアネート基
（５）アミノ基とイソシアネート基
（６）水酸基とエポキシ基
（７）アミノ基とエポキシ基
（８）アミノ基とハロゲン化アルキル基
つまり、架橋性基としては、例えば、水酸基、イソシアネート基、カルボン酸基、カルボン酸無水物基、エポキシ基、アミノ基、ハロゲン化アルキル基などが挙げられる。

架橋剤としては、ビニルスルホン類（例えば１，３−ビスビニルスルホニルプロパン）、アルデヒド類（例えばグリオキサール）、塩化ピリミジン類（例えば２，４，６−トリクロロピリミジン）、塩化トリアジン類（例えば塩化シアヌル）、エポキシ化合物、カルボジイミド化合物等が挙げられる。なお、光照射により誘起される光化学反応を利用して架橋反応が進行する架橋剤であってもよい。

感光性層中における架橋剤の含有量は特に制限されないが、イオンマイグレーション抑制能がより優れる点で、０．０２〜３．０ｇ／ｍ²が好ましく、０．０５〜２．０ｇ／ｍ²がより好ましい。

ハロゲン化銀含有感光性層には、生産性の観点からゼラチン同士を架橋する硬膜剤が含まれることが好ましい。
硬膜剤の種類は特に制限されないが、例えば、ビニルスルホン類（例えば１，３−ビスビニルスルホニルプロパン）、アルデヒド類（例えばグリオキサール）、塩化ピリミジン類（例えば２，４，６−トリクロロピリミジン）、塩化トリアジン類（例えば塩化シアヌル）、エポキシ化合物、カルボジイミド化合物等が挙げられる。
なお、硬膜剤は、上述した高分子同士を架橋させる架橋剤と同じ種類であってもよい。つまり、高分子同士を架橋させつつ、ゼラチン同士を架橋する化合物であってもよい。

（工程Ａの手順）
工程Ａにおいて上記成分を含むハロゲン化銀含有感光性層を形成する方法は特に制限されないが、生産性の点から、ハロゲン化銀とゼラチンと高分子とを含有する感光性層形成用組成物を支持体上に接触させ、支持体上にハロゲン化銀含有感光性層を形成する方法が好ましい。
以下に、この方法で使用される感光性層形成用組成物の態様について詳述した後、工程の手順について詳述する。

（感光性層形成用組成物に含まれる材料）
感光性層形成用組成物には、上述したハロゲン化銀とゼラチンと高分子とが含有される。なお、高分子は、ラテックスの形態で感光性層形成用組成物中に含まれていてもよい。
感光性層形成用組成物には、必要に応じて、溶媒が含有される。
使用される溶媒としては、例えば、水、有機溶媒（例えば、メタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、酢酸エチル等のエステル類、エーテル類等）、イオン性液体、またはこれらの混合溶媒を挙げることができる。
使用される溶媒の含有量は特に制限されないが、ハロゲン化銀とゼラチンと高分子との合計質量に対して、３０〜９０質量％の範囲が好ましく、５０〜８０質量％の範囲がより好ましい。

感光性層形成用組成物と支持体とを接触させる方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、感光性層形成用組成物を支持体上に塗布する方法や、感光性層形成用組成物中に支持体を浸漬する方法などが挙げられる。

（ハロゲン化銀含有感光性層）
上記手順により形成されたハロゲン化銀含有感光性層中において、ゼラチンの質量Ｘと上記高分子の質量Ｙとの質量比（Ｙ／Ｘ）が０．１以上であることが好ましい。なかでも、イオンマイグレーション抑制能がより優れる点で、０．２以上がより好ましく、０．５以上がさらに好ましい。上限は特に制限されないが、通常、２．０以下の場合が多い。

ハロゲン化銀含有感光性層中におけるハロゲン化銀の含有量は特に制限されないが、同電部の導電特性がより優れる点で、銀換算で３．０〜２０．０ｇ／ｍ²が好ましく、５．０〜１５．０ｇ／ｍ²がより好ましい。
また、ハロゲン化銀含有感光性層中の高分子の含有量は特に制限されないが、イオンマイグレーション抑制能または導電部の密着性がより優れる点で、０．０４〜２．０ｇ／ｍ²が好ましく、０．０８〜０．４ｇ／ｍ²がより好ましく、０．１〜０．４ｇ／ｍ²がさらに好ましい。

（工程Ｂ（露光・現像工程））
工程Ｂは、工程Ａで得られたハロゲン化銀含有感光性層を露光した後、現像処理して金属銀を含有する塗膜を形成する工程（露光・現像工程）である。本工程を実施することにより、ハロゲン化銀が還元され、金属銀を含む塗膜が形成される。なお、通常、露光処理はパターン状に実施され、露光部では金属銀を含むパターン状の塗膜が形成される。一方、非露光部では、後述する現像処理によってハロゲン化銀が溶出され、上記ゼラチンおよび上記高分子を含むバインダー層（非導電部）が形成される。バインダー層には実質的に金属銀が含まれておらず、バインダー層は導電性を示さない領域に該当する。
以下では、本工程で実施される露光処理と現像処理とについて詳述する。

（露光処理）
露光処理は、感光性層に露光を行う処理である。感光性層に対してパターン状の露光を施すことにより、露光領域における感光性層中のハロゲン化銀が潜像を形成する。この潜像が形成された領域は、後述する現像処理によって塗膜を形成する。一方、露光がなされなかった未露光領域では、後述する現像処理の際にハロゲン化銀が溶解して感光性層から流出し、透明な膜（バインダー層）が得られる。
露光の際に使用される光源は特に制限されず、可視光線、紫外線などの光、または、Ｘ線などの放射線などが挙げられる。
パターン露光を行う方法は特に制限されず、例えば、フォトマスクを利用した面露光で行ってもよいし、レーザービームによる走査露光で行ってもよい。なお、パターンの形状は特に制限されず、形成したい塗膜のパターンに合わせて適宜調整される。

（現像処理）
現像処理の方法は特に制限されないが、例えば、銀塩写真フィルム、印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の現像処理の技術を用いることができる。
現像処理の際に使用される現像液の種類は特に制限されないが、例えば、ＰＱ（phenidone hydroquinone）現像液、ＭＱ（Metol hydroquinone）現像液、ＭＡＡ（メトール・アスコルビン酸）現像液等を用いることもできる。市販品では、例えば、富士フイルム社処方のＣＮ−１６、ＣＲ−５６、ＣＰ４５Ｘ、ＦＤ−３、パピトール、ＫＯＤＡＫ社処方のＣ−４１、Ｅ−６、ＲＡ−４、Ｄ−１９、Ｄ−７２等の現像液、またはそのキットに含まれる現像液を用いることができる。また、リス現像液を用いることもできる。
現像処理は、未露光部分の銀塩を除去して安定化させる目的で行われる定着処理を含むことができる。定着処理は、銀塩写真フィルムや印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる定着処理の技術を用いることができる。
定着工程における定着温度は、約２０℃〜約５０℃が好ましく、２５〜４５℃がより好ましい。また、定着時間は５秒〜１分が好ましく、７秒〜５０秒がより好ましい。

現像、定着処理を施した感光性層は、水洗処理や安定化処理を施されるのが好ましい。上記水洗処理または安定化処理においては、通常、水洗水量は感光材料１ｍ²当り、２０リットル以下で行われ、３リットル以下の補充量（０も含む、すなわちため水水洗）で行うこともできる。
現像処理後の露光部（塗膜）に含まれる金属銀の質量は、露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上の含有率であることが好ましく、８０質量％以上であることがさらに好ましい。露光部に含まれる銀の質量が露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上であれば、高い導電性を得ることができるため好ましい。

（第５工程（ハロゲン化銀不含有層形成工程））
上記工程Ａの前に、支持体上にゼラチンとゼラチンとは異なる高分子とを含むハロゲン化銀不含有層を形成する第５工程をさらに有することが好ましい。本工程を実施することにより、支持体とハロゲン化銀含有感光性層との間にハロゲン化銀不含有層が形成される。このハロゲン化銀不含有層は、いわゆるアンチハレーション層の役割を果たすと共に、導電部と支持体との密着性向上に寄与する。
ハロゲン化銀不含有層には、上述したゼラチンと高分子とが含まれる。一方、ハロゲン化銀不含有層には、ハロゲン化銀が含まれない。
ハロゲン化銀不含有層中におけるゼラチンと高分子との質量比（高分子の質量／ゼラチンの質量）は特に制限されないが、イオンマイグレーション抑制能がより優れる点で、０．１〜５．０が好ましく、１．０〜３．０がより好ましい。
ハロゲン化銀不含有層中の高分子の含有量は特に制限されないが、イオンマイグレーション抑制能がより優れる点で、０．０３〜１．６３ｇ／ｍ²が好ましく、０．３２５〜０．９７５ｇ／ｍ²がより好ましく、特に、酸化処理時の面質が優れる点で、０．５０〜０．９７５ｇ／ｍ²がさらに好ましく、０．５０〜０．９００ｇ／ｍ²が特に好ましい。

ハロゲン化銀不含有層には、必要に応じて、上述した材料以外の他の材料が含まれていてもよい。例えば、上述したハロゲン化銀含有感光性層に含まれていてもよい他の材料（例えば、帯電防止剤、界面活性剤、カブリ防止剤、硬膜剤、黒ポツ防止剤など）が挙げられる。
ハロゲン化銀不含有層には、ハロゲン化銀含有感光性層と同様に、高分子同士を架橋するために使用される架橋剤が含まれることが好ましい。架橋剤が含まれることにより、高分子同士間での架橋が進行し、第３工程においてゼラチンが分解除去された際にも導電部中の金属銀同士の連結が保たれ、結果として導電特性に優れた導電部が得られる。架橋剤の種類は、上述の通りである。
さらに、ハロゲン化銀不含有層には、ハロゲン化銀含有感光性層と同様に、生産性の観点からゼラチンの同士を架橋する硬膜剤が含まれることが好ましい。硬膜剤の種類は、上述の通りである。

ハロゲン化銀不含有層の形成方法は特に制限されず、例えば、ゼラチンと高分子とを含有する層形成用組成物を支持体上に塗布して、必要に応じて加熱処理を施す方法が挙げられる。
層形成用組成物には、必要に応じて溶媒が含まれていてもよい。溶媒の種類は、上述した感光性層形成用組成物で使用される溶媒が例示される。
ハロゲン化銀不含有層の厚みは特に制限されないが、通常、０．０５〜２．０μｍが好ましく、０．６５〜１．５μｍがより好ましい。

（第６工程（保護層形成工程））
上記工程Ａの後で上記工程Ｂの前に、ハロゲン化銀含有感光性層上にゼラチンとゼラチンとは異なる高分子とを含む保護層を形成する第６工程をさらに有することが好ましい。保護層を設けることにより、感光性層の擦り傷防止や力学特性を改良することができる。
保護層中におけるゼラチンと高分子との質量比（高分子の質量／ゼラチンの質量）は特に制限されないが、イオンマイグレーション抑制能がより優れる点で、０超２．０以下が好ましく、０超１．０以下がより好ましく、０．０５〜０．０７５がさらに好ましい。
また、保護層中の高分子の含有量は特に制限されないが、イオンマイグレーション抑制能がより優れる点で、０ｇ／ｍ²超０．３ｇ／ｍ²以下が好ましく、０．０７５〜０．０１ｇ／ｍ²がより好ましい。

保護層の形成方法は特に制限されず、例えば、ゼラチンと高分子とを含有する保護層形成用組成物をハロゲン化銀含有感光性層上に塗布して、必要に応じて加熱処理を施す方法が挙げられる。
保護層形成用組成物には、必要に応じて溶媒が含まれていてもよい。溶媒の種類は、上述した感光性層形成用組成物で使用される溶媒が例示される。
保護層の厚みは特に制限されないが、通常、０．０３〜０．３μｍが好ましく、０．０７５〜０．２０μｍがより好ましい。
保護層には、必要に応じて、上述した材料以外の他の材料が含まれていてもよい。例えば、上述したハロゲン化銀含有感光性層に含まれていてもよい他の材料（例えば、帯電防止剤、界面活性剤、カブリ防止剤、硬膜剤、黒ポツ防止剤など）が挙げられる。
また、保護層には、ハロゲン化銀含有感光性層と同様に、高分子同士を架橋するために使用される架橋剤が含まれることが好ましい。架橋剤が含まれることにより、高分子同士間での架橋が進行し、第３工程においてゼラチンが分解除去された際にも導電部中の金属銀同士の連結が保たれ、結果として導電特性に優れた導電部が得られる。架橋剤の種類は、上述の通りである。
さらに、保護層には、ハロゲン化銀含有感光性層と同様に、生産性の観点からゼラチンの同士を架橋する硬膜剤が含まれることが好ましい。硬膜剤の種類は、上述の通りである。

また、本発明の製造方法は、上述した工程以外にも、特開２０１４−２０９３３２号公報の段落００９５に記載の還元工程、段落００９６〜００９７に記載の光照射工程、段落００９８〜０１００に記載の平滑化工程、段落０１０４〜０１０９に記載の安定化工程、段落０１１０〜０１１２に記載の有機溶媒接触工程、段落０１１３に記載の高分子架橋工程、段落０１１４に記載のその他の任意工程などをさらに有していてもよい。

＜導電性フィルム＞
以下に、本発明の導電性フィルムの製造方法により得られる導電性フィルムの構造について説明する。
導電性フィルムは、支持体と、支持体上に配置された導電部とを有する。導電部には、金属成分および高分子が含まれる。
導電部が細線状である場合（つまり、支持体上に導電性細線が配置される場合）、導電性細線の線幅は特に制限されないが、３０μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましく、１０μｍ以下がさらに好ましく、９μｍ以下が特に好ましく、７μｍ以下が最も好ましく、０．５μｍ以上が好ましく、１．０μｍ以上がより好ましい。上記範囲であれば、低抵抗の電極を比較的容易に形成できる。
導電性細線がタッチパネル用導電性フィルムにおける周辺配線（引き出し配線）として適用される場合には、導電性細線の線幅は５００μｍ以下が好ましく、５０μｍ以下がより好ましく、３０μｍ以下が特に好ましい。上記範囲であれば、低抵抗のタッチパネル電極を比較的容易に形成できる。
また、導電性細線がタッチパネル用導電性フィルムにおける検出電極として適用される場合、検出電極をメッシュパターン電極とすることもでき、その場合、線幅は特に制限されないが、３０μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましく、１０μｍ以下がさらに好ましく、９μｍ以下が特に好ましく、７μｍ以下が最も好ましく、０．５μｍ以上が好ましく、１．０μｍ以上がより好ましい。
導電性細線の厚みは特に制限されないが、０．００１ｍｍ〜０．２ｍｍが好ましく、３０μｍ以下であることがより好ましく、２０μｍ以下であることがさらに好ましく、０．０１〜９μｍであることが特に好ましく、０．０５〜５μｍであることが最も好ましい。上記範囲であれば、低抵抗の電極で、耐久性に優れた電極を比較的容易に形成できる。

導電性細線からなる導電部のパターンは特に制限されず、正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形などの四角形、（正）六角形、（正）八角形などの（正）ｎ角形、円、楕円、星形などを組み合わせた幾何学図形であることが好ましく、これらの幾何学図形からなるメッシュ状であることが更に好ましい。メッシュ状とは、図３に示すように、交差する導電性細線４０により構成される複数の正方形状の格子４２を含んでいる形状を意図する。

格子４２の一辺の長さＰａは特に制限されないが、５０〜５００μｍであることが好ましく、１５０〜３００μｍであることがより好ましい。単位格子の辺の長さが上記範囲である場合には、更に透明性も良好に保つことが可能であり、表示装置の前面にとりつけた際に、違和感なく表示を視認することができる。
可視光透過率の点から、導電性細線より形成される導電部の開口率は８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましく、９５％以上であることが最も好ましい。開口率とは、導電性細線がある領域を除いた支持体上の領域が全体に占める割合に相当する。

＜用途＞
上記のようにして得られた導電性フィルムは、種々の用途に適用でき、タッチパネル（または、タッチパネルセンサー）、半導体チップ、各種電気配線板、ＦＰＣ（Flexible Printed Circuits）、ＣＯＦ（Chip on Film）、ＴＡＢ（Tape Automated Bonding）、アンテナ、多層配線基板、マザーボード等の種々の用途に適用することができる。なかでも、本発明の導電性フィルムは、タッチパネル（静電容量式タッチパネル）に用いることが好ましい。
本発明の導電性フィルムがタッチパネルに適用される場合には、タッチパネル用導電性フィルムにおける周辺配線（引き出し配線）または検出電極として導電性フィルムに含まれる導電性細線を用いることができる。
タッチパネルの構成については公知であるのでその説明を省略する。

以下に本発明の実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。なお、以下の実施例に示される材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

＜実施例１＞
（ハロゲン化銀乳剤の調製）
３８℃、ｐＨ４．５に保たれた下記１液に、下記の２液および３液の各々９０％に相当する量を攪拌しながら同時に２０分間にわたって加え、０．１６μｍの核粒子を形成した。続いて下記４液および５液を８分間にわたって加え、更に、下記の２液および３液の残りの１０％の量を２分間にわたって加え、０．２１μｍまで成長させた。更に、ヨウ化カリウム０．１５ｇを加え、５分間熟成し粒子形成を終了した。

１液：
水 ７５０ｍｌ
ゼラチン ８．６ｇ
塩化ナトリウム ３ｇ
１，３−ジメチルイミダゾリジン−２−チオン ２０ｍｇ
ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム １０ｍｇ
クエン酸 ０．７ｇ
２液：
水 ３００ｍｌ
硝酸銀 １５０ｇ
３液：
水 ３００ｍｌ
塩化ナトリウム ３８ｇ
臭化カリウム ３２ｇ
ヘキサクロロイリジウム（ＩＩＩ）酸カリウム
（０．００５％ＫＣｌ ２０％水溶液） ５ｍｌ
ヘキサクロロロジウム酸アンモニウム
（０．００１％ＮａＣｌ ２０％水溶液） ７ｍｌ
４液：
水 １００ｍｌ
硝酸銀 ５０ｇ
５液：
水 １００ｍｌ
塩化ナトリウム １３ｇ
臭化カリウム １１ｇ
黄血塩 ５ｍｇ

その後、常法にしたがってフロキュレーション法によって水洗した。具体的には、温度を３５℃に下げ、硫酸を用いてハロゲン化銀が沈降するまでｐＨを下げた（ｐＨ３．６±０．２の範囲であった）。次に、上澄み液を約３リットル除去した（第一水洗）。更に３リットルの蒸留水を加えてから、ハロゲン化銀が沈降するまで硫酸を加えた。再度、上澄み液を３リットル除去した（第二水洗）。第二水洗と同じ操作を更に１回繰り返して（第三水洗）、水洗・脱塩工程を終了した。水洗・脱塩後の乳剤をｐＨ６．４、ｐＡｇ７．５に調整し、ゼラチン２．５g、ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム１０ｍｇ、ベンゼンチオスルフィン酸ナトリウム３ｍｇ、チオ硫酸ナトリウム１５ｍｇと塩化金酸１０ｍｇを加え５５℃にて最適感度を得るように化学増感を施し、安定剤として１，３，３ａ，７−テトラアザインデン１００ｍｇ、防腐剤としてプロキセル（商品名、ＩＣＩ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）１００ｍｇを加えた。最終的に得られた乳剤は、沃化銀を０．０８モル％含み、塩臭化銀の比率を塩化銀７０モル％、臭化銀３０モル％とする、平均粒子径０．２２μｍ、変動係数９％のヨウ塩臭化銀立方体粒子乳剤であった。

（感光性層形成用組成物の調製）
上記乳剤に１，３，３ａ，７−テトラアザインデン１．２×１０^-4モル／モルＡｇ、ハイドロキノン１．２×１０^-2モル／モルＡｇ、クエン酸３．０×１０^-4モル／モルＡｇ、２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−１，３，５−トリアジンナトリウム塩０．９０ｇ／モルＡｇ、微量の硬膜剤を添加し、クエン酸を用いて塗布液ｐＨを５．６に調整した。
上記塗布液に、含有するゼラチンに対して、下記で例示した（Ｐ−１）で表されるポリマーとジアルキルフェニルＰＥＯ（ポリエチレンオキシド）硫酸エステルからなる分散剤を含有するポリマーラテックス（分散剤／ポリマーの質量比が２．０／１００＝０．０２）とをポリマー／ゼラチン（質量比）＝０．５／１になるように添加した。
さらに、架橋剤としてＥＰＯＸＹ ＲＥＳＩＮ ＤＹ ０２２（商品名：ナガセケムテックス社製）を添加した。なお、架橋剤の添加量は、後述するハロゲン化銀含有感光性層中における架橋剤の量が０．０９ｇ／ｍ²となるように調整した。
以上のようにして感光性層形成用組成物を調製した。
なお、下記（Ｐ−１）で表されるポリマーは、特許第３３０５４５９号および特許第３７５４７４５号を参照して合成した。

（感光性層形成工程）
４０μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（「富士フイルム社製ロール状の長尺フィルム」）に上記ポリマーラテックスを塗布して、厚み０．０５μｍの下塗り層を設けた。この処理はロール・トゥ・ロールで行い、以下の各処理（工程）もこれと同様にロール・トゥ・ロールで行った。
次に、下塗り層上に、上記ポリマーラテックスとゼラチンとを混合したハロゲン化銀不含有層形成用組成物を塗布して、厚み１．０μｍのハロゲン化銀不含有層を設けた。なお、ポリマーとゼラチンとの混合質量比（ポリマー／ゼラチン）は２／１であり、ポリマーの含有量は０．６５ｇ／ｍ²であった。
次に、ハロゲン化銀不含有層上に、上記感光性層形成用組成物を塗布し、厚み２．５μｍのハロゲン化銀含有感光性層を設けた。なお、ハロゲン化銀含有感光性層中のポリマーとゼラチンとの混合質量比（ポリマー／ゼラチン）は０．５／１であり、ポリマーの含有量は０．２２ｇ／ｍ²であった。
次に、ハロゲン化銀含有感光性層上に、上記ポリマーラテックスとゼラチンとを混合した保護層形成用組成物を塗布して、厚み０．１５μｍの保護層を設けた。なお、ポリマーとゼラチンとの混合質量比（ポリマー／ゼラチン）は０．１／１であり、ポリマーの含有量は０．０１５ｇ／ｍ²であった。

（露光・現像処理）
上記で作製した感光性層に、３．０μｍ/２９７μｍの導電パターンを与える格子状のフォトマスクを介して高圧水銀ランプを光源とした平行光を用いて露光した（以下、適宜メッシュパターン電極と呼ぶ）。露光後、下記の現像液で現像し、さらに定着液（商品名：ＣＮ１６Ｘ用Ｎ３Ｘ−Ｒ：富士フイルム社製）を用いて現像処理を行った後、純水でリンスし、その後乾燥して、３．０μｍ/２９７μｍのメッシュパターン電極を有するサンプルＡを得た。これを金属成分の膜剥がれ耐性（金属成分の密着性）評価に用いた。なお、このメッシュパターン電極は、金属成分、ゼラチン、および、ゼラチンとは異なる高分子を含む塗膜に該当する。
メッシュパターン電極とは、導電部が図３に示すようなパターン形状を有する、いわゆるメッシュ状の電極のことをいう。メッシュ状とは、図３に示すように、交差する導電性細線４０により構成される複数の正方形状の格子４２を含んでいる形状を意図する。なお、図４におけるＰａは格子４２の一辺の長さを指しており、本実施例においてはスペース幅（２９７μｍ）に相当する。また、本実施例におけるライン幅（３．０μｍ）は、図２における導電性細線４０の幅を指す。
また、導電性細線中のゼラチン定量を簡便におこなうため、全面が導電部となるようなフォトマスクを解して高圧水銀ランプを光源とした平行光を用いて露光したサンプルを上記と同様に現像処理をおこない導電性細線のみで非導電部を有さないサンプルＢを得た。
なお、上記サンプルＡの導電性細線間には上記ポリマーを含むバインダー層があった。

（現像液の組成）
現像液１リットル（Ｌ）中に、以下の化合物が含まれる。
ハイドロキノン ０．０３７ｍｏｌ／Ｌ
Ｎ−メチルアミノフェノール ０．０１６ｍｏｌ／Ｌ
メタホウ酸ナトリウム ０．１４０ｍｏｌ／Ｌ
水酸化ナトリウム ０．３６０ｍｏｌ／Ｌ
臭化ナトリウム ０．０３１ｍｏｌ／Ｌ
メタ重亜硫酸カリウム ０．１８７ｍｏｌ／Ｌ

（第１工程（予熱処理））
上記で得られたサンプルＡ，Ｂそれぞれに対して、図１に示す装置により第１工程（予熱処理）、第２工程（過熱水蒸気処理）を施した。
第１工程は、フィルムを、雰囲気温度が１２３℃の予熱処理槽に５秒滞留させることにより行った。

（第２工程（過熱水蒸気処理））
第２工程が施されて搬出されたサンプルＡ，Ｂそれぞれを、１１０℃の過熱水蒸気処理槽に搬入し、３０秒間静置して、過熱水蒸気処理を行った。

（ゼラチン分解液の調製）
タンパク質分解酵素（ナガセケムテックス社製ビオプラーゼ３０Ｌ）の水溶液（タンパク質分解酵素の濃度：０．５質量％）に、トリエタノールアミン、硫酸を加えてｐＨを８．５に調製した。

（ゼラチン分解処理）
上記で得られたサンプルＡ，Ｂそれぞれを、タンパク質分解酵素水溶液（４０℃）に１２０秒浸漬した。サンプルＡ，Ｂをそれぞれ水溶液から取り出し、サンプルＡは温水（液温：５０℃）に１２０秒間浸漬し、サンプルＢは温水（液温：５０℃）に４０秒間浸漬し、洗浄した。

［各種評価］
（金属成分の膜剥がれ耐性（金属成分の密着性）評価）
ゼラチン分解処理において、ゼラチン分解処理が施されたメッシュパターン電極を有するサンプルＡを、スプレー装置にて２５℃の純水を圧力０．５ＭＰaで５秒間吹きつけた。純水吹きつけ後のサンプルＡをデジタルマイクロスコープ（例えばＫＥＹＥＮＣＥ社製ＶＨＸ-２０００）にて１０００μｍ×６ｃｍの範囲を観察し、メッシュパターン部が一部だけでも剥がれ落ちている個数を以下の基準で評価した。
「５」： 剥がれ個数 ０個
「４」： 剥がれ個数 １〜３個
「３」： 剥がれ個数 ４〜１０個
「２」： 剥がれ個数 １１〜５０個
「１」： 剥がれ個数 ５１個以上

（導電性細線中のゼラチン含有量の測定（ゼラチン抜け））
導電性細線中のゼラチン含有量は、モデルサンプルとしてサンプルＢを用いて、評価した。
ゼラチン含有量は後述するＢＣＡ法を用いて測定した。ＢＣＡ法は、タンパク質がアルカリ性Ｃｕ（ＩＩ）をＣｕ（Ｉ）に還元する性質を利用した測定法であるため、銀が存在すると銀が還元性を示すため、正確な値が得られない。そのため、下記方法を用いて脱銀処理した後に、後述するＢＣＡ法を用いて測定した。非導電部を有さない銀線部のみのサンプルＢをゼラチン分解処理した後、（株）富士フイルム社製ＦＲ−１とイオン交換水を体積比１：２の割合で混合し、脱銀液を調製した。この脱銀液を２５℃に保温しておき、サンプルＨを１０分間、窒素攪拌しながら浸漬させた後、イオン交換水に２秒浸したあと、水で１５分間よく洗浄し、室温で乾燥させて、脱銀サンプルを得た。
下記の評価基準により、導電性細線中のゼラチン含有量の評価を行った。
「５」： ０．０２ｇ／ｍ^２未満
「４」： ０．０２ｇ／ｍ^２以上０．０５ｇ／ｍ^２未満
「３」： ０．０５ｇ／ｍ^２以上０．０１ｇ／ｍ^２未満
「２」： ０．０１ｇ／ｍ^２以上０．１５ｇ／ｍ^２未満
「１」： ０．１５ｇ／ｍ^２以上

（ＢＣＡ法）
ゼラチン含有量は、ＢＣＡ法(ビシコニン酸法)を用いて測定した。まず、検量線のための母液をゼラチン１０ｇに対してイオン交換水１１５ｇ、ゼラチン５ｇに対してイオン交換水１２０ｇ、ゼラチン５ｇに対してイオン交換水２４５ｇ、ゼラチン５ｇに対してイオン交換水４９５ｇの割合で混合し、それぞれ３０分膨潤させた後、４０℃で攪拌しながら３０分溶解させて、「検量線用ゼラチン液」とした。「検量線用ゼラチン液」を試験管に２．５ｃｃ入れた。ゼラチン定量用の試料は、上記脱銀サンプルを１ｃｍ×１ｃｍに裁断して試験管に入れ、イオン交換水を２．５ｃｃずつ入れた。
Ｔｈｅｒｍｏ ＳＣＩＥＮＴＩＦＩＣ社製Micro BCA Protein Assay Kit液の試薬Ａ、試薬Ｂ、試薬Ｃをそれぞれ２５：２４：１の体積比で混合した定量試薬を用意し、上記の「検量線用ゼラチン液」、ゼラチン定量用の試料が入った試験管に２．５ｃｃずついれ、栓をして、よく攪拌した。全サンプルを恒温振とう槽を使用して、６０℃にて１時間、振とう速度１６０往復／ｍｉｎの条件で発色させ、室温に冷却して１０分後、（株）日立製作所製Ｕ−３３００にてすみやかに５６２ｎｍの吸光度を測定した。検量線用ゼラチン液の吸光度から、分析用試料のゼラチン量を計算した。このゼラチン量は、導電性細線中のゼラチン量に相当する。

＜実施例２＞
第１工程（予熱処理）の予熱処理槽の温度を１２８℃とした以外は、実施例１と同様の手順に従って、サンプルを作製し、各種評価を実施した。結果を表１にまとめて示す。

＜実施例３＞
第２工程（過熱水蒸気処理）において、過熱水蒸気処理槽の温度を１１６℃とし、フィルムを過熱水蒸気に晒す時間を１５秒とした以外は、実施例２と同様の手順に従って、サンプルを作製し、各種評価を実施した。結果を表１にまとめて示す。

＜比較例１＞
第１工程（予熱処理）において予熱処理槽の温度を９４℃とし、第２工程（過熱水蒸気処理）において過熱水蒸気処理槽の温度を１２６℃とし、フィルムを過熱水蒸気に晒す時間を１２０秒とした以外は、実施例１と同様の手順に従って、サンプルを作製し、各種評価を実施した。結果を表１にまとめて示す。

＜比較例２＞
第１工程（予熱処理）および第２工程（過熱水蒸気処理）を実施しなかった以外は、実施例１と同様の手順に従って、サンプルを作製し、各種評価を実施した。結果を表１にまとめて示す。

＜比較例３＞
第１工程（予熱処理）の予熱処理槽の温度を１０６℃とした以外は、実施例１と同様の手順に従って、サンプルを作製し、各種評価を実施した。結果を表１にまとめて示す。

表１に示すように、本発明の製造方法によればゼラチンの分解除去効率が良好であり、製造される導電性フィルムは金属成分の密着性に優れることが確認された。

また、実施例１および実施例２の対比により、第１工程における予熱温度を高めることで（好ましくは１２５℃以上）、ゼラチンの分解除去効率がより良好となることが確認された。
また、実施例２および実施例３の対比により、過熱水蒸気温度をより高める（好ましくは１１５℃以上）とすることで、製造される導電性フィルムの金属成分の密着性にも優れることが確認された。

一方、比較例１および比較例３の製造方法は、いずれも第１工程において予熱温度が１１５℃未満であるため、第２工程時において前駆体フィルムと過熱水蒸気の温度ギャップが大きくゼラチンの分解除去効率が悪い結果となった。一方、第１工程および第２工程をいずれも設けない比較例２の製造方法では、ゼラチンの分解除去効率は良好であるものの、高分子成分が融着されていないため、製造された導電性フィルムの金属成分の密着性が悪い結果となった。

Ｗ 前駆体フィルム、ＭＤ 搬送方向、Ｐａ 格子４２の一辺の長さ、１０ 予熱処理部、１１ 予熱処理槽、１３ 予熱処理ユニット、２０ 過熱水蒸気処理部、２１ 過熱水蒸気処理槽、２３ 過熱水蒸気発生ユニット、３０ 後加熱処理部（緩衝部）、３１ 後加熱処理槽、３３ 後加熱ユニット、５０ 加熱装置、９０ 搬送機構、９２ 繰り出しロール、９４ 巻き取りロール、１２ 支持体、１４ 塗膜 １６ バインダー層（非導電部）、４０ 導電性細線、４２ 格子。

Claims (8)

1. 導電性フィルムの製造方法であって、
   支持体、並びに、前記支持体上に配置された、金属成分、ゼラチン、および、ゼラチンとは異なる高分子を含む塗膜を有する前駆体フィルムに対して、１１５℃以上で予熱処理を施す第１工程と、
   前記予熱処理が施された前駆体フィルムと、過熱水蒸気とを接触させる第２工程と、
   前記過熱水蒸気と接触した前駆体フィルムの前記塗膜中の前記ゼラチンを除去する第３工程とを有する、導電性フィルムの製造方法。
2. 前記過熱水蒸気の温度が１気圧で１１０℃以上である、請求項１に記載の導電性フィルムの製造方法。
3. 前記第１工程および前記第２工程がロール・トゥ・ロールにて実施される、請求項１または２に記載の導電性フィルムの製造方法。
4. 前記支持体を構成する材料が、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、シクロオレフィンコポリマー、および、シクロオレフィンポリマーのいずれかから選択される、請求項１〜３のいずれか１項に記載の導電性フィルムの製造方法。
5. 前記支持体の厚みが１０〜５００μｍである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の導電性フィルムの製造方法。
6. 前記金属成分が、金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、白金、鉛、錫およびクロムから選ばれる少なくとも１種の金属を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の導電性フィルムの製造方法。
7. 前記第１工程の前に、
   前記支持体上に配置されたハロゲン化銀塩、ゼラチン、および、ゼラチンとは異なる高分子を含む銀塩乳剤層を露光および現像して、前記前駆体フィルムを得る工程をさらに有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の導電性フィルムの製造方法。
8. 請求項１〜７のいずれか１項に記載の導電性フィルムの製造方法によって製造された導電性フィルムを用いてタッチパネルを製造する工程を有する、タッチパネルの製造方法。