JP6333377B2 - トランジスタ、表示装置および電子機器 - Google Patents
トランジスタ、表示装置および電子機器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6333377B2 JP6333377B2 JP2016534309A JP2016534309A JP6333377B2 JP 6333377 B2 JP6333377 B2 JP 6333377B2 JP 2016534309 A JP2016534309 A JP 2016534309A JP 2016534309 A JP2016534309 A JP 2016534309A JP 6333377 B2 JP6333377 B2 JP 6333377B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- region
- film
- metal
- gate electrode
- transistor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 125
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 101
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 101
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 51
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 42
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims description 23
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 9
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 379
- 238000000034 method Methods 0.000 description 47
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 36
- 239000000463 material Substances 0.000 description 26
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 24
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 230000008569 process Effects 0.000 description 23
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 22
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 19
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 15
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 15
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 15
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 15
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 12
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 11
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 11
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 10
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 10
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 9
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 8
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 8
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 8
- 101100153525 Homo sapiens TNFRSF25 gene Proteins 0.000 description 7
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 102100022203 Tumor necrosis factor receptor superfamily member 25 Human genes 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 7
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 7
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 6
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 6
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 6
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 6
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 6
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 5
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 3
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 3
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 2
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 2
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000583 Nd alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N digallium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ga+3].[Ga+3] AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229910001195 gallium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBRDZOHGALQCB-UHFFFAOYSA-N oxoindium Chemical compound [O].[In] NQBRDZOHGALQCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 238000002294 plasma sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000008685 targeting Effects 0.000 description 1
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYHJXGDMRRJCRY-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) tin(4+) Chemical compound [O-2].[Zn+2].[Sn+4].[In+3] TYHJXGDMRRJCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/786—Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film
- H01L29/78606—Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film with supplementary region or layer in the thin film or in the insulated bulk substrate supporting it for controlling or increasing the safety of the device
- H01L29/78618—Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film with supplementary region or layer in the thin film or in the insulated bulk substrate supporting it for controlling or increasing the safety of the device characterised by the drain or the source properties, e.g. the doping structure, the composition, the sectional shape or the contact structure
- H01L29/78621—Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film with supplementary region or layer in the thin film or in the insulated bulk substrate supporting it for controlling or increasing the safety of the device characterised by the drain or the source properties, e.g. the doping structure, the composition, the sectional shape or the contact structure with LDD structure or an extension or an offset region or characterised by the doping profile
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/1368—Active matrix addressed cells in which the switching element is a three-electrode device
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
- G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
- G09F9/30—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/28—Manufacture of electrodes on semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/268
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
- H01L27/1214—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
- H01L27/1222—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition, shape or crystalline structure of the active layer
- H01L27/1225—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition, shape or crystalline structure of the active layer with semiconductor materials not belonging to the group IV of the periodic table, e.g. InGaZnO
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/40—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/41—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions
- H01L29/423—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions not carrying the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/42312—Gate electrodes for field effect devices
- H01L29/42316—Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors
- H01L29/4232—Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors with insulated gate
- H01L29/42384—Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors with insulated gate for thin film field effect transistors, e.g. characterised by the thickness or the shape of the insulator or the dimensions, the shape or the lay-out of the conductor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66007—Multistep manufacturing processes
- H01L29/66969—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies not comprising group 14 or group 13/15 materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/786—Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film
- H01L29/7869—Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film having a semiconductor body comprising an oxide semiconductor material, e.g. zinc oxide, copper aluminium oxide, cadmium stannate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/786—Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film
- H01L29/78696—Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film characterised by the structure of the channel, e.g. multichannel, transverse or longitudinal shape, length or width, doping structure, or the overlap or alignment between the channel and the gate, the source or the drain, or the contacting structure of the channel
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/13606—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit having means for reducing parasitic capacitance
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/40—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/41—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions
- H01L29/423—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions not carrying the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/42312—Gate electrodes for field effect devices
- H01L29/42316—Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors
- H01L29/4232—Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors with insulated gate
- H01L29/42384—Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors with insulated gate for thin film field effect transistors, e.g. characterised by the thickness or the shape of the insulator or the dimensions, the shape or the lay-out of the conductor
- H01L2029/42388—Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors with insulated gate for thin film field effect transistors, e.g. characterised by the thickness or the shape of the insulator or the dimensions, the shape or the lay-out of the conductor characterised by the shape of the insulating material
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/121—Active-matrix OLED [AMOLED] displays characterised by the geometry or disposition of pixel elements
- H10K59/1213—Active-matrix OLED [AMOLED] displays characterised by the geometry or disposition of pixel elements the pixel elements being TFTs
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
Description
本技術の一実施の形態による第2の表示装置は、表示素子と、表示素子を駆動するためのトランジスタとを備え、トランジスタに上記本技術の一実施の形態の第2のトランジスタを用いたものである。
本技術の一実施の形態による第2の電子機器は、上記本技術の一実施の形態の第2の表示装置を備えたものである。
1.第1の実施の形態(トランジスタ:トップゲート型構造を有する例)
2.変形例1(ゲート電極およびゲート絶縁膜がテーパ形状を有する例)
3.変形例2(断面形状が矩形状のゲート絶縁膜を有する例)
4.変形例3(積層構造のゲート絶縁膜を有する例)
5.第2の実施の形態(トランジスタ:ボトムゲート型構造を有する例)
6.適用例(表示装置)
図1は本技術の第1の実施の形態に係るトランジスタ(トランジスタ1)の断面構成を表したものである。このトランジスタ1では基板11上に酸化物半導体膜12が設けられており、トランジスタ1はスタガ構造(トップゲート型構造)を有している。酸化物半導体膜12上の選択的な領域に、ゲート絶縁膜13およびゲート電極14がこの順に配設されている。これらの酸化物半導体膜12、ゲート絶縁膜13およびゲート電極14を覆って、高抵抗膜15および層間絶縁膜16が設けられている。層間絶縁膜16上にはソース・ドレイン電極17A,17Bが設けられている。高抵抗膜15および層間絶縁膜16には、これらを貫通する接続孔H1,H2が設けられており、ソース・ドレイン電極17Aは接続孔H1を介して、ソース・ドレイン電極17Bは接続孔H2を介してそれぞれ酸化物半導体膜12の後述する低抵抗領域12Cに電気的に接続されている。このようなスタガ構造のTFTを含むトランジスタ1は、基板11上に酸化物半導体膜12を直接成膜することができ、また、酸化物半導体膜12がゲート電極14で覆われるので、酸化物半導体膜12を例えば発光層を含む有機層(後述の図11の有機層53)等の上層から保護することができる。よって、ディスプレイ駆動デバイスとして好適に用いることができる。
図7は、上記第1の実施の形態の変形例1に係るトランジスタ(トランジスタ1A)の断面構成を表したものである。このトランジスタ1Aでは、ゲート電極(ゲート電極24)がテーパ形状を有している。この点を除き、トランジスタ1Aは上記実施の形態のトランジスタ1と同様の構成を有し、その作用および効果も同様である。
図8は、上記第1の実施の形態の変形例2に係るトランジスタ(トランジスタ1B)の断面構成を表したものである。このトランジスタ1Bのゲート絶縁膜(ゲート絶縁膜23)では、上面S2のチャネル長方向の長さが下面S1のチャネル長方向の長さ(長さ23L)と同じになっている。この点を除き、トランジスタ1Bは上記実施の形態のトランジスタ1と同様の構成を有し、その作用および効果も同様である。
図9は、上記第1の実施の形態の変形例3に係るトランジスタ(トランジスタ1C)の断面構成を表したものである。このトランジスタ1Cのゲート絶縁膜(ゲート絶縁膜33)は、積層構造を有するものである。この点を除き、トランジスタ1Cは上記実施の形態のトランジスタ1と同様の構成を有し、その作用および効果も同様である。
図10は、本技術の第2の実施の形態に係るトランジスタ(トランジスタ2)の断面構成を表したものである。このトランジスタ2は、逆スタガ構造(ボトムゲート構造)を有している。この点を除き、トランジスタ2は上記第1の実施の形態のトランジスタ1と同様の構成を有し、その作用および効果も同様である。
図11は、上記トランジスタ1を駆動素子として備えた表示装置(表示装置5)の断面構成を表すものである。この表示装置5はアクティブマトリクス型の有機EL(Electroluminescence)表示装置であり、トランジスタ1とトランジスタ1により駆動される有機EL素子50Aをそれぞれ複数有している。図11には、一のトランジスタ1および有機EL素子50Aに対応する領域(サブピクセル)を示す。図11には、トランジスタ1を有する表示装置5を示したが、半導体装置5は、トランジスタ1に代えて、上記トランジスタ1A,1B,1C,2を備えていてもよい。
(1)ゲート電極と、前記ゲート電極に対向するチャネル領域と、前記チャネル領域の抵抗値よりも低い抵抗値を有する低抵抗領域とを含む酸化物半導体膜と、前記酸化物半導体膜と前記ゲート電極との間に設けられ、より前記酸化物半導体膜に近い位置の第1面と、より前記ゲート電極に近い位置の第2面とを有するゲート絶縁膜とを備え、前記ゲート絶縁膜の前記第1面のチャネル長方向の長さが、前記ゲート電極のチャネル長方向の最大長さよりも大きくなっているトランジスタ。
(2)基板上に、前記酸化物半導体膜、前記ゲート絶縁膜および前記ゲート電極をこの順に有し、前記ゲート絶縁膜の前記第1面は、前記酸化物半導体膜に接している前記(1)記載のトランジスタ。
(3)前記酸化物半導体膜の前記低抵抗領域には、金属が含まれている前記(1)または(2)記載のトランジスタ。
(4)前記酸化物半導体膜は、前記チャネル領域と前記低抵抗領域との間の前記低抵抗領域に隣接する位置に拡散領域を有する前記(3)記載のトランジスタ。
(5)前記拡散領域は、前記低抵抗領域の前記金属の濃度よりも低い濃度で前記金属を含む前記(4)記載のトランジスタ。
(6)前記拡散領域の前記金属の濃度は、前記低抵抗領域に近い位置から前記チャネル領域に近い位置に向かうに連れて、低くなっている前記(5)記載のトランジスタ。
(7)前記酸化物半導体膜のうち、前記ゲート絶縁膜と平面視で重なる領域の一部に前記拡散領域が設けられている前記(4)乃至(6)のうちいずれか1つに記載のトランジスタ。
(8)更に、前記酸化物半導体膜の前記低抵抗領域に電気的に接続されたソース・ドレイン電極を有する前記(1)乃至(7)のうちいずれか1つに記載のトランジスタ。
(9)更に、前記低抵抗領域に接する高抵抗膜を有する前記(1)乃至(8)のうちいずれか1つに記載のトランジスタ。
(10)前記高抵抗膜は金属酸化物を含む前記(9)記載のトランジスタ。
(11)前記酸化物半導体膜はインジウムを含む前記(1)乃至(10)のうちいずれか1つに記載のトランジスタ。
(12)前記ゲート絶縁膜では、前記第2面のチャネル長方向の長さが前記第1面のチャネル長方向の長さよりも小さい前記(1)乃至(11)のうちいずれか1つに記載のトランジスタ。
(13)前記ゲート絶縁膜では、前記第2面のチャネル長方向の長さが前記第1面のチャネル長方向の長さと同じである前記(1)乃至(11)のうちいずれか1つに記載のトランジスタ。
(14)前記ゲート絶縁膜は積層構造を有する前記(1)乃至(13)のうちいずれか1つに記載のトランジスタ。
(15)前記ゲート電極はテーパ形状を有する前記(1)乃至(14)のうちいずれか1つに記載のトランジスタ。
(16)ゲート電極と、前記ゲート電極に対向するチャネル領域と、前記チャネル領域から離間して設けられるとともに前記チャネル領域の抵抗値よりも低い抵抗値を有する低抵抗領域とを含む酸化物半導体膜とを備えたトランジスタ。
(17)更に、前記ゲート電極と前記酸化物半導体膜との間にゲート絶縁膜が設けられ、基板上に、前記ゲート電極、前記ゲート絶縁膜、前記酸化物半導体膜およびストッパ膜をこの順に有し、前記ストッパ膜のうち、より前記酸化物半導体膜に近い面のチャネル長方向の長さが、前記ゲート電極のチャネル長方向の最大長さよりも大きくなっている前記(16)記載のトランジスタ。
(18)前記酸化物半導体膜は、前記チャネル領域と前記低抵抗領域との間の前記低抵抗領域に隣接する位置に拡散領域を有する前記(16)または(17)記載のトランジスタ。
(19)表示素子および前記表示素子を駆動するトランジスタを備え、前記トランジスタは、ゲート電極と、前記ゲート電極に対向するチャネル領域と、前記チャネル領域の抵抗値よりも低い抵抗値を有する低抵抗領域とを含む酸化物半導体膜と、前記酸化物半導体膜と前記ゲート電極との間に設けられ、より前記酸化物半導体膜に近い位置の第1面と、より前記ゲート電極に近い位置の第2面とを有するゲート絶縁膜とを備え、前記ゲート絶縁膜の前記第1面のチャネル長方向の長さが、前記ゲート電極のチャネル長方向の最大長さよりも大きくなっている表示装置。
(20)表示素子および前記表示素子を駆動するトランジスタを含む表示装置を備え、前記トランジスタは、ゲート電極と、前記ゲート電極に対向するチャネル領域と、前記チャネル領域の抵抗値よりも低い抵抗値を有する低抵抗領域とを含む酸化物半導体膜と、前記酸化物半導体膜と前記ゲート電極との間に設けられ、より前記酸化物半導体膜に近い位置の第1面と、より前記ゲート電極に近い位置の第2面とを有するゲート絶縁膜とを備え、前記ゲート絶縁膜の前記第1面のチャネル長方向の長さが、前記ゲート電極のチャネル長方向の最大長さよりも大きくなっている電子機器。
Claims (19)
- ゲート電極と、
前記ゲート電極に対向するチャネル領域と、前記チャネル領域の抵抗値よりも低い抵抗値を有し、金属を含む低抵抗領域と、前記チャネル領域と前記低抵抗領域との間の前記低抵抗領域に隣接する位置に配置され、前記低抵抗領域の前記金属の濃度よりも低い濃度で前記金属を含む拡散領域とを含む酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜と前記ゲート電極との間に設けられ、より前記酸化物半導体膜に近い位置の第1面と、より前記ゲート電極に近い位置の第2面とを有するゲート絶縁膜と、
前記低抵抗領域に接して設けられ、前記低抵抗領域および前記拡散領域の前記金属と同じ金属の酸化物を含む高抵抗膜と
を備え、
前記ゲート絶縁膜の前記第1面のチャネル長方向の長さが、前記ゲート電極のチャネル長方向の最大長さよりも大きくなっており、
前記拡散領域の前記金属の濃度は、前記低抵抗領域に近い位置から前記チャネル領域に近い位置に向かうに連れて、低くなっている
トランジスタ。 - 基板上に、前記酸化物半導体膜、前記ゲート絶縁膜および前記ゲート電極をこの順に有し、
前記ゲート絶縁膜の前記第1面は、前記酸化物半導体膜に接している
請求項1記載のトランジスタ。 - 前記高抵抗膜の厚みは20nm以下である
請求項1または請求項2に記載のトランジスタ。 - 前記高抵抗膜は、酸化チタン,酸化アルミニウム,酸化インジウムまたは酸化スズを含む
請求項1ないし請求項3のうちいずれか1項に記載のトランジスタ。 - 前記酸化物半導体膜のうち、前記ゲート絶縁膜と平面視で重なる領域の一部に前記拡散領域が設けられている
請求項1ないし請求項4のうちいずれか1項に記載のトランジスタ。 - 更に、前記酸化物半導体膜の前記低抵抗領域に電気的に接続されたソース・ドレイン電極を有する
請求項1ないし請求項5のうちいずれか1項に記載のトランジスタ。 - 更に、前記高抵抗膜と前記ソース・ドレイン電極との間に設けられ、有機材料を含む層間絶縁膜を有する
請求項6記載のトランジスタ。 - 前記酸化物半導体膜はインジウムを含む
請求項1ないし請求項7のうちいずれか1項に記載のトランジスタ。 - 前記ゲート絶縁膜では、前記第2面のチャネル長方向の長さが前記第1面のチャネル長方向の長さよりも小さい
請求項1ないし請求項8のうちいずれか1項に記載のトランジスタ。 - 前記ゲート絶縁膜は、前記第1面を構成する第1ゲート絶縁膜と、前記第2面を構成する第2ゲート絶縁膜とを含む積層構造を有する
請求項9記載のトランジスタ。 - 前記ゲート電極の断面形状は、矩形状である
請求項9に記載のトランジスタ。 - 前記ゲート絶縁膜では、前記第2面のチャネル長方向の長さが前記第1面のチャネル長方向の長さと同じである
請求項1ないし請求項8のうちいずれか1項に記載のトランジスタ。 - 前記ゲート電極はテーパ形状を有する
請求項1ないし請求項9のうちいずれか1項に記載のトランジスタ。 - ゲート電極と、
前記ゲート電極に対向するチャネル領域と、前記チャネル領域から離間して設けられるとともに前記チャネル領域の抵抗値よりも低い抵抗値を有し、金属を含む低抵抗領域と、前記チャネル領域と前記低抵抗領域との間の前記低抵抗領域に隣接する位置に配置され、前記低抵抗領域の前記金属の濃度よりも低い濃度で前記金属を含む拡散領域とを含む酸化物半導体膜と、
前記低抵抗領域に接して設けられ、前記低抵抗領域および前記拡散領域の前記金属と同じ金属の酸化物を含む高抵抗膜と
を備え、
前記拡散領域の前記金属の濃度は、前記低抵抗領域に近い位置から前記チャネル領域に近い位置に向かうに連れて、低くなっている
トランジスタ。 - 更に、前記ゲート電極と前記酸化物半導体膜との間にゲート絶縁膜が設けられ、
基板上に、前記ゲート電極、前記ゲート絶縁膜、前記酸化物半導体膜およびストッパ膜をこの順に有し、
前記ストッパ膜のうち、より前記酸化物半導体膜に近い面のチャネル長方向の長さが、前記ゲート電極のチャネル長方向の最大長さよりも大きくなっている
請求項14記載のトランジスタ。 - 表示素子および前記表示素子を駆動するトランジスタを備え、
前記トランジスタは、
ゲート電極と、
前記ゲート電極に対向するチャネル領域と、前記チャネル領域の抵抗値よりも低い抵抗値を有し、金属を含む低抵抗領域と、前記チャネル領域と前記低抵抗領域との間の前記低抵抗領域に隣接する位置に配置され、前記低抵抗領域の前記金属の濃度よりも低い濃度で前記金属を含む拡散領域とを含む酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜と前記ゲート電極との間に設けられ、より前記酸化物半導体膜に近い位置の第1面と、より前記ゲート電極に近い位置の第2面とを有するゲート絶縁膜と、
前記低抵抗領域に接して設けられ、前記低抵抗領域および前記拡散領域の前記金属と同じ金属の酸化物を含む高抵抗膜と
を備え、
前記ゲート絶縁膜の前記第1面のチャネル長方向の長さが、前記ゲート電極のチャネル長方向の最大長さよりも大きくなっており、
前記拡散領域の前記金属の濃度は、前記低抵抗領域に近い位置から前記チャネル領域に近い位置に向かうに連れて、低くなっている
表示装置。 - 表示素子および前記表示素子を駆動するトランジスタを備え、
前記トランジスタは、
ゲート電極と、
前記ゲート電極に対向するチャネル領域と、前記チャネル領域から離間して設けられるとともに前記チャネル領域の抵抗値よりも低い抵抗値を有し、金属を含む低抵抗領域と、前記チャネル領域と前記低抵抗領域との間の前記低抵抗領域に隣接する位置に配置され、前記低抵抗領域の前記金属の濃度よりも低い濃度で前記金属を含む拡散領域とを含む酸化物半導体膜と、
前記低抵抗領域に接して設けられ、前記低抵抗領域および前記拡散領域の前記金属と同じ金属の酸化物を含む高抵抗膜と
を備え、
前記拡散領域の前記金属の濃度は、前記低抵抗領域に近い位置から前記チャネル領域に近い位置に向かうに連れて、低くなっている
表示装置。 - 表示素子および前記表示素子を駆動するトランジスタを含む表示装置を備え、
前記トランジスタは、
ゲート電極と、
前記ゲート電極に対向するチャネル領域と、前記チャネル領域の抵抗値よりも低い抵抗値を有し、金属を含む低抵抗領域と、前記チャネル領域と前記低抵抗領域との間の前記低抵抗領域に隣接する位置に配置され、前記低抵抗領域の前記金属の濃度よりも低い濃度で前記金属を含む拡散領域とを含む酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜と前記ゲート電極との間に設けられ、より前記酸化物半導体膜に近い位置の第1面と、より前記ゲート電極に近い位置の第2面とを有するゲート絶縁膜と、
前記低抵抗領域に接して設けられ、前記低抵抗領域および前記拡散領域の前記金属と同じ金属の酸化物を含む高抵抗膜と
を備え、
前記ゲート絶縁膜の前記第1面のチャネル長方向の長さが、前記ゲート電極のチャネル長方向の最大長さよりも大きくなっており、
前記拡散領域の前記金属の濃度は、前記低抵抗領域に近い位置から前記チャネル領域に近い位置に向かうに連れて、低くなっている
電子機器。 - 表示素子および前記表示素子を駆動するトランジスタを含む表示装置を備え、
前記トランジスタは、
ゲート電極と、
前記ゲート電極に対向するチャネル領域と、前記チャネル領域から離間して設けられるとともに前記チャネル領域の抵抗値よりも低い抵抗値を有し、金属を含む低抵抗領域と、前記チャネル領域と前記低抵抗領域との間の前記低抵抗領域に隣接する位置に配置され、前記低抵抗領域の前記金属の濃度よりも低い濃度で前記金属を含む拡散領域とを含む酸化物半導体膜と、
前記低抵抗領域に接して設けられ、前記低抵抗領域および前記拡散領域の前記金属と同じ金属の酸化物を含む高抵抗膜と
を備え、
前記拡散領域の前記金属の濃度は、前記低抵抗領域に近い位置から前記チャネル領域に近い位置に向かうに連れて、低くなっている
電子機器。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014145809 | 2014-07-16 | ||
JP2014145809 | 2014-07-16 | ||
PCT/JP2015/064345 WO2016009715A1 (ja) | 2014-07-16 | 2015-05-19 | トランジスタ、表示装置および電子機器 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018082745A Division JP6561386B2 (ja) | 2014-07-16 | 2018-04-24 | トランジスタ、表示装置および電子機器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2016009715A1 JPWO2016009715A1 (ja) | 2017-04-27 |
JP6333377B2 true JP6333377B2 (ja) | 2018-05-30 |
Family
ID=55078219
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016534309A Active JP6333377B2 (ja) | 2014-07-16 | 2015-05-19 | トランジスタ、表示装置および電子機器 |
JP2018082745A Active JP6561386B2 (ja) | 2014-07-16 | 2018-04-24 | トランジスタ、表示装置および電子機器 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018082745A Active JP6561386B2 (ja) | 2014-07-16 | 2018-04-24 | トランジスタ、表示装置および電子機器 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20170125604A1 (ja) |
JP (2) | JP6333377B2 (ja) |
CN (1) | CN106537567B (ja) |
WO (1) | WO2016009715A1 (ja) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108780619A (zh) * | 2016-03-04 | 2018-11-09 | 夏普株式会社 | 薄膜晶体管基板和显示面板 |
US11532497B2 (en) | 2016-06-07 | 2022-12-20 | Applied Materials, Inc. | High power electrostatic chuck design with radio frequency coupling |
CN106057828A (zh) * | 2016-08-12 | 2016-10-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种基板及其制备方法、显示面板 |
CN106340457A (zh) * | 2016-09-30 | 2017-01-18 | 京东方科技集团股份有限公司 | 薄膜晶体管及制作方法、显示面板 |
JP6793035B2 (ja) * | 2016-12-28 | 2020-12-02 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 記憶素子の動作シミュレーション方法 |
CN107195583B (zh) * | 2017-05-02 | 2019-08-02 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种oled显示面板及其制备方法 |
CN107623040A (zh) * | 2017-09-05 | 2018-01-23 | 华南理工大学 | 一种铟镓锌氧化物薄膜晶体管及其制造方法 |
JP2019049595A (ja) | 2017-09-08 | 2019-03-28 | 株式会社Joled | 表示装置 |
US10529749B2 (en) * | 2017-09-30 | 2020-01-07 | Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. | Manufacturing method for thin film transistor array substrate |
JP7475282B2 (ja) | 2018-11-02 | 2024-04-26 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
KR102666776B1 (ko) * | 2019-05-10 | 2024-05-21 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 트랜지스터의 제조 방법, 표시 장치의 제조 방법 및 박막 트랜지스터 기판 |
GB2610886B (en) * | 2019-08-21 | 2023-09-13 | Pragmatic Printing Ltd | Resistor geometry |
JP7356899B2 (ja) * | 2019-12-26 | 2023-10-05 | Tianma Japan株式会社 | 液晶光偏向素子及び液晶光偏向素子の製造方法 |
CN112002763A (zh) * | 2020-08-10 | 2020-11-27 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种tft基板及其制造方法、显示面板 |
KR20220048250A (ko) * | 2020-10-12 | 2022-04-19 | 엘지디스플레이 주식회사 | 박막 트랜지스터, 박막 트랜지스터의 제조방법 및 이를 포함하는 표시장치 |
CN113437018B (zh) * | 2021-06-02 | 2023-02-24 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 阵列基板的制造方法、阵列基板以及显示面板 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3437863B2 (ja) * | 1993-01-18 | 2003-08-18 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | Mis型半導体装置の作製方法 |
TW367564B (en) * | 1995-09-25 | 1999-08-21 | Toshiba Corp | Forming method for polycrystalline silicon, thin film transistor containing the polycrystalline silicon and manufacturing method thereof, and the liquid crystal display containing the thin film transistor |
JPH1079513A (ja) * | 1996-09-05 | 1998-03-24 | Toshiba Electron Eng Corp | 薄膜トランジスタ装置およびその製造方法 |
JPH11354800A (ja) * | 1998-06-04 | 1999-12-24 | Hitachi Ltd | 薄膜トランジスタ及びその形成方法並びに液晶表示装置 |
EP1890322A3 (en) * | 2006-08-15 | 2012-02-15 | Kovio, Inc. | Printed dopant layers |
JP5704790B2 (ja) * | 2008-05-07 | 2015-04-22 | キヤノン株式会社 | 薄膜トランジスタ、および、表示装置 |
JP5708910B2 (ja) * | 2010-03-30 | 2015-04-30 | ソニー株式会社 | 薄膜トランジスタおよびその製造方法、並びに表示装置 |
JP2012015436A (ja) * | 2010-07-05 | 2012-01-19 | Sony Corp | 薄膜トランジスタおよび表示装置 |
US9443984B2 (en) * | 2010-12-28 | 2016-09-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
US9490372B2 (en) * | 2011-01-21 | 2016-11-08 | Semiconductor Components Industries, Llc | Method of forming a semiconductor device termination and structure therefor |
US8716073B2 (en) * | 2011-07-22 | 2014-05-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for processing oxide semiconductor film and method for manufacturing semiconductor device |
JP6111398B2 (ja) * | 2011-12-20 | 2017-04-12 | 株式会社Joled | 表示装置および電子機器 |
US9040981B2 (en) * | 2012-01-20 | 2015-05-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
JP6142136B2 (ja) * | 2012-02-28 | 2017-06-07 | 株式会社Joled | トランジスタの製造方法、表示装置の製造方法および電子機器の製造方法 |
CN102646632B (zh) * | 2012-03-08 | 2014-04-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 阵列基板及其制作方法和显示装置 |
JP6168795B2 (ja) * | 2012-03-14 | 2017-07-26 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の作製方法 |
CN203085533U (zh) * | 2012-10-26 | 2013-07-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | 阵列基板和显示装置 |
JP2014123670A (ja) * | 2012-12-21 | 2014-07-03 | Panasonic Corp | 薄膜トランジスタおよびその製造方法 |
JP2015038925A (ja) * | 2013-08-19 | 2015-02-26 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
JP6559444B2 (ja) * | 2014-03-14 | 2019-08-14 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の作製方法 |
-
2015
- 2015-05-19 JP JP2016534309A patent/JP6333377B2/ja active Active
- 2015-05-19 CN CN201580037948.7A patent/CN106537567B/zh active Active
- 2015-05-19 WO PCT/JP2015/064345 patent/WO2016009715A1/ja active Application Filing
-
2017
- 2017-01-12 US US15/404,783 patent/US20170125604A1/en not_active Abandoned
-
2018
- 2018-04-24 JP JP2018082745A patent/JP6561386B2/ja active Active
- 2018-12-07 US US16/213,715 patent/US20190115476A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN106537567B (zh) | 2019-08-27 |
JP6561386B2 (ja) | 2019-08-21 |
US20170125604A1 (en) | 2017-05-04 |
JPWO2016009715A1 (ja) | 2017-04-27 |
JP2018164087A (ja) | 2018-10-18 |
WO2016009715A1 (ja) | 2016-01-21 |
US20190115476A1 (en) | 2019-04-18 |
CN106537567A (zh) | 2017-03-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6561386B2 (ja) | トランジスタ、表示装置および電子機器 | |
US9721977B2 (en) | Display device and electronic unit | |
JP6111398B2 (ja) | 表示装置および電子機器 | |
JP5766481B2 (ja) | 表示装置および電子機器 | |
KR102543577B1 (ko) | 트랜지스터 표시판, 그 제조 방법 및 이를 포함하는 표시 장치 | |
JP6111458B2 (ja) | 半導体装置、表示装置および電子機器 | |
US9276120B2 (en) | Transistor, method of manufacturing the transistor, semiconductor unit, method of manufacturing the semiconductor unit, display, and electronic apparatus | |
US20150162399A1 (en) | Semiconductor device, method of manufacturing the same, display unit, and electronic apparatus | |
JP2014093433A (ja) | 半導体装置、表示装置および電子機器 | |
JP6142136B2 (ja) | トランジスタの製造方法、表示装置の製造方法および電子機器の製造方法 | |
US20150179681A1 (en) | Semiconductor device, method of manufacturing the same, display unit, and electronic apparatus | |
JP2016025100A (ja) | 半導体装置、表示装置および電子機器 | |
JP6019331B2 (ja) | トランジスタ、半導体装置、表示装置および電子機器、並びに半導体装置の製造方法 | |
JP2016100585A (ja) | 半導体装置およびその製造方法、ならびに表示装置および電子機器 | |
JP2013207015A (ja) | 半導体装置、表示装置および電子機器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20171121 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180119 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180327 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180424 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6333377 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S303 | Written request for registration of pledge or change of pledge |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316303 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S803 | Written request for registration of cancellation of provisional registration |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316803 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |