JP6327896B2 - 化合物半導体太陽電池セルおよび化合物半導体太陽電池セルの製造方法 - Google Patents
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Description
まず、図2に示すように、Geからなる半導体基板1上に、InGaPからなるエッチングストップ層2、AlInPからなるウインドウ層3、N型InGaPからなるエミッタ層4、P型InGaPからなるベース層5およびInGaPからなるバッファ層6をMOCVD法によりこの順に積層した。これにより、ウインドウ層3、エミッタ層4、ベース層5およびバッファ層6からなり、エミッタ層4とベース層5との接合からなる1つのPN接合を有するセル本体21を形成した。
まず、図2に示すように、Geからなる半導体基板1上に、InGaPからなるエッチングストップ層2、AlInPからなるウインドウ層3、N型InGaPからなるエミッタ層4、P型InGaPからなるベース層5およびInGaPからなるバッファ層6をMOCVD法によりこの順に積層した。これにより、ウインドウ層3、エミッタ層4、ベース層5およびバッファ層6からなり、エミッタ層4とベース層5との接合からなる1つのPN接合を有するセル本体21を形成した。
ウインドウ層3の表面側に特定波長の光を照射し、表面からの反射光を検出することでピンホールの位置情報を得ること以外は実施例2と同様にして、図1に示す構成の実施例3の化合物半導体太陽電池セルを完成させた。
MOCVD法により製造した同一製造バッチのセル本体21の残った半数を使用し、ピンホール31の位置を把握することなく、ウインドウ層3の表面の同一の領域に、同一の形状の表面電極13bを形成したこと以外は実施例1と同様にして、比較例の化合物半導体太陽電池セルを複数作製した。
上記の結果から明らかなように、実施例1〜3においては、比較例と比較して、化合物半導体太陽電池セルの良品の割合が高かった。これは、MOCVD法により製造した同一製造バッチのセル本体21を用いても、実施例1〜3の化合物半導体太陽電池セルにおいては、表面電極13bの直下にピンホール31が存在していないため、製造方法のみを変更することにより、ピンホール31の内部に電極材料が拡散することによるPN接合の短絡を有効に防止できたことによるものと考えられる。
本発明の第1の態様によれば、少なくとも1つのPN接合を有するセル本体と、セル本体の主面上に形成された電極とを備え、セル本体の主面の平面視において、電極は、セル本体の主面に形成されているすべてのピンホールと重複しない位置に配置されている化合物半導体太陽電池セルを提供することができる。本発明の第1の態様においては、電極はセル本体の主面に形成されているすべてのピンホールと重複しない位置に配置されているため、ピンホールの存在の有無に関わらず、正常に機能する化合物半導体太陽電池セルを安定して製造することができる。
Claims (5)
- III−V族化合物半導体の半導体層が積層され、少なくとも1つのPN接合を有するセル本体と、
前記セル本体の主面上に形成され、パターニングされた金属電極と、を備え、
前記セル本体の前記主面の平面視において、前記電極は、前記セル本体の前記主面に形成されているすべてのピンホールと重複しない位置に配置されている、化合物半導体太陽電池セル。 - 半導体基板上にIII−V族化合物半導体の半導体層を積層し、少なくとも1つのPN接合を有するセル本体を形成する工程と、
前記セル本体の主面の平面視において、前記セル本体の前記主面に形成されているすべてのピンホールと重複しない位置にパターニングされた金属電極を配置する工程と、を含む、化合物半導体太陽電池セルの製造方法。 - 半導体基板上に少なくとも1つのPN接合を有するセル本体を形成する工程と、
前記セル本体の主面の平面視において、前記セル本体の前記主面に形成されているすべてのピンホールと重複しない位置に電極を配置する工程と、を含み、
前記セル本体を形成する工程と前記電極を配置する工程との間に、前記セル本体の前記主面に形成されている前記ピンホールの位置を把握する工程を含む、化合物半導体太陽電池セルの製造方法。 - 半導体基板上に少なくとも1つのPN接合を有するセル本体を形成する工程と、
前記セル本体の主面の平面視において、前記セル本体の前記主面に形成されているすべてのピンホールと重複しない位置に電極を配置する工程と、
前記セル本体を形成する工程と前記電極を配置する工程との間に、前記セル本体の前記主面に形成されている前記ピンホールの位置を把握する工程と、
前記セル本体から前記半導体基板を分離する工程とを含み、
前記ピンホールの位置を把握する工程は、前記半導体基板が分離された前記セル本体の前記主面において行なわれる、化合物半導体太陽電池セルの製造方法。 - 前記ピンホールの位置を把握する工程は、前記セル本体の前記主面をエレクトロルミネッセンスで光らせることによって行なう、請求項3または4に記載の化合物半導体太陽電池セルの製造方法。
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