JP6312534B2 - 基板洗浄装置 - Google Patents
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Description
12 ロードポート
14a〜14d 研磨ユニット
16 第1洗浄ユニット
18 第2洗浄ユニット
20 乾燥ユニット
22 第1基板搬送ロボット
24 基板搬送ユニット
26 第2基板搬送ロボット
28 第3基板搬送ロボット
30 制御部
32 外周支持部材
34 揺動洗浄部材(ペンスクラブ洗浄部材)
36 長尺支持部材(ロール部材)
38 洗浄スポンジ
40 保持部材
42 揺動アーム
44 支持軸
46 ノズル
48 本体部
50 ネック部
52 窪み部
54 凹凸部
56 第1の回転ロール部材
58 第2の回転ロール部材
60 凸部
W 基板
Claims (7)
- 回転する基板の外周を支持する複数の外周支持部材と、
前記基板の中心部を通りながら前記基板の第1の外周位置と第2の外周位置との間を揺動して、前記回転する基板の表面を洗浄する揺動洗浄部材と、
前記基板の中心部を通るように前記基板の第3の外周位置から第4の外周位置まで長尺状に延びて、前記回転する基板の裏面を支持する長尺支持部材と、
前記揺動洗浄部材が前記基板の外周からはみ出したときに、前記基板に対する前記揺動洗浄部材の圧力が一定になるように、前記基板に接触している前記揺動洗浄部材の面積に応じて、前記基板に対する前記揺動洗浄部材の押し付け力を制御する制御部と、
を備え、
前記第1の外周位置と前記第2の外周位置の少なくとも一方は、前記複数の外周支持部材のうち前記第3の外周位置に最も近い外周支持部材の位置と前記第3の外周位置との間、または、前記複数の外周支持部材のうち前記第4の外周位置に最も近い外周支持部材の位置と前記第4の外周位置との間に配置されている、ことを特徴とする基板洗浄装置。 - 前記揺動洗浄部材は、前記基板の表面を洗浄する平坦な底面を有し、
前記制御部は、前記揺動洗浄部材が前記第1の外周位置及び前記第2の外周位置にあって前記平坦な底面の一部が前記基板の外周からはみ出したときに、前記基板に接触している前記揺動洗浄部材の面積に応じて、前記基板に対する前記揺動洗浄部材の押し付け力を制御する、請求項1に記載の基板洗浄装置。 - 前記揺動洗浄部材は、ペンシルスクラブ洗浄部材であり、
前記ペンシルスクラブ洗浄部材は、前記基板の表面に接触する洗浄スポンジと、前記洗浄スポンジを保持する保持部材とを備え、
前記洗浄スポンジは、下面が前記基板の表面に接触する本体部と、前記本体部の上面から立設され前記保持部材に保持されるネック部とを備え、
前記本体部の上面には、凹部または凸部が設けられている、請求項1または請求項2に記載の基板洗浄装置。 - 回転する基板の外周を支持する複数の外周支持部材と、
前記基板の中心部を通りながら前記基板の第1の外周位置と第2の外周位置との間を揺動して、前記回転する基板の表面を洗浄する揺動洗浄部材と、
前記基板の中心部を通るように前記基板の第3の外周位置から第4の外周位置まで長尺状に延びて、前記回転する基板の裏面を支持する長尺支持部材と、
を備え、
前記第1の外周位置と前記第2の外周位置の少なくとも一方は、前記複数の外周支持部材のうち前記第3の外周位置に最も近い外周支持部材の位置と前記第3の外周位置との間、または、前記複数の外周支持部材のうち前記第4の外周位置に最も近い外周支持部材の位置と前記第4の外周位置との間に配置され、
前記揺動洗浄部材は、ペンシルスクラブ洗浄部材であり、
前記ペンシルスクラブ洗浄部材は、前記基板の表面に接触する洗浄スポンジと、前記洗浄スポンジを保持する保持部材とを備え、
前記洗浄スポンジは、下面が前記基板の表面に接触する本体部と、前記本体部の上面から立設され前記保持部材に保持されるネック部とを備え、
前記ネック部における、前記ネック部と前記本体部とが接続される根端部には、窪み部が設けられている、基板洗浄装置。 - 前記基板の中心位置Aと前記第1の外周位置Bとを結ぶ線分ABと前記基板の中心位置Aと前記第3の外周位置Cとを結ぶ線分ACとのなす角の大きさは、前記基板の中心位置Aと前記第3の外周位置に最も近い外周支持部材の位置Dとを結ぶ線分ADと前記基板の中心位置Aと前記第3の外周位置Cとを結ぶ線分ACとのなす角の大きさ以下になるように設定されている、請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の基板洗浄装置。
- 前記長尺支持部材は、ロール部材であり、
前記ロール部材の表面には、複数の凸部が設けられ、
前記複数の凸部のうち最も外側の凸部は、前記基板の外周部より内側に位置している、請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の基板洗浄装置。 - 前記長尺支持部材は、前記基板の中心部から前記第3の外周位置までの第1の回転ロール部材と、前記基板の中心部から前記第4の外周位置までの第2の回転ロール部材とで構成され、
前記第1の回転ロール部材の回転方向と前記第2の回転ロール部材の回転方向は、前記基板の回転方向と同じ方向に設定されている、請求項1ないし請求項6のいずれかに記載の基板洗浄装置。
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