JP6309808B2 - リチウムと、ニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液と、その製造方法 - Google Patents
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Description
そして、非特許文献1には、正極活物質であるコバルト酸リチウムの表面をニオブ酸リチウムによって被覆することにより界面抵抗を低減させ、全固体リチウム電池の性能向上を図る提案が開示されている。
具体的には、コバルト酸リチウムの表面に、NbエトキシドやLiエトキシド等の金属アルコキシドが混合されたアルコール溶液を接触させた後、当該コバルト酸リチウムを260℃〜300℃の比較的低温で焼成するものである。当該低温焼成によって、ニオブ酸リチウムで被覆されたコバルト酸リチウムの結晶化を抑制し、被覆層の界面抵抗を低減しようとする提案である。
そこで、本発明者らは、特許文献2の実施例に記載の方法で製造されたリチウムおよびニオブ錯体を含有する溶液について検討したところ、当該リチウムおよびニオブ錯体を含有する溶液を作製後4〜5時間静置しておくと沈殿物が生成するという課題を知見した。
さらに本発明者らは、リチウムおよびニオブ錯体を含有する溶液を作製後4〜5時間静置しておくと沈殿物が生成する状況下では、リチウムおよびニオブ錯体を含有する溶液を作製後、一定時間以内にコバルト酸リチウム等へニオブ酸リチウムを被覆する工程を開始する必要があり、生産効率を低下させる原因になるという課題を知見した。
pH値が8.0以上、10.5以下であり、酸化還元電位が30mV以上、250mV以下であることを特徴とするリチウムと、ニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液である。
第2の発明は、
pH値が8.0以上、9.9以下であることを特徴とする第1の発明に記載のリチウムと、ニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液である。
第3の発明は、
酸化還元電位が30mV以上、100mV以下であることを特徴とする第1または第2の発明に記載のリチウムと、ニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液である。
第4の発明は、
前記リチウムと、ニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液が、さらに過酸化水素、アンモニアを含む水溶液であることを特徴とする第1から第3の発明のいずれかに記載のリチウムと、ニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液である。
第5の発明は、
ニオブ酸と、リチウム化合物と、アルカリと、過酸化水素と、水とを混合することにより、リチウムと、ニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液を製造する、リチウムと、ニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液の製造方法であって、
前記アルカリの添加量を、前記リチウムと、ニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液のpH値が8.0以上、10.5以下となる量とし、
前記過酸化水素の添加量を、前記リチウムと、ニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液の酸化還元電位が30mV以上、250mV以下となる量とすることを特徴とするリチウムと、ニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液の製造方法である。
第6の発明は、
前記アルカリの添加量を、前記リチウムと、ニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液のpH値が8.0以上、9.9以下となる量とすることを特徴とする第5の発明に記載のリチウムと、ニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液の製造方法である。
第7の発明は、
前記過酸化水素の添加量を、前記リチウムと、ニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液の酸化還元電位が30mV以上、100mV以下となる量とすることを特徴とする第5または第6の発明に記載のリチウムと、ニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液の製造方法である。
本発明に係るリチウムおよびニオブ錯体を含有する溶液は、ニオブ錯体を含有する溶液とリチウム化合物とアルカリとを混合することにより得ることができる。
本発明者らは、当該リチウムおよびニオブ錯体を含有する溶液の生成を、次式1、2のように考えている。
Nb2O5・3H2O+8H2O2+6NH3→2(NH4)3[Nb(O2)4]+8H2O・・・・(式1)
2(NH4)3[Nb(O2)4]+2LiOH+H2O→2Li[Nb(O2)3]・2H2O+6NH3+H2O+O2・・・(式2)
以下、ニオブ錯体、リチウム化合物について説明する。
上述したニオブ錯体の配位子は、ニオブ錯体が水溶性となるものであれば良く、特に制限はない。
なかでもニオブ錯体として、ニオブ酸のペルオキソ錯体([Nb(O2)4]3−)を好ましく使用することができる。ニオブ酸のペルオキソ錯体は、化学構造中に炭素を含有しないので、最終的に生成するニオブ酸リチウムの被覆膜に炭素が残留することがなく、特に好適である。
過酸化水素水へ、ニオブ酸(Nb2O5・nH2O)を添加して混合する。当該混合において、ニオブ酸は過酸化水素水に溶解しないが、乳白色の懸濁溶液を得ることが出来る。
当該懸濁液に添加するアルカリの量は、後述するように、最終的に得られるリチウムおよびニオブ錯体を含有する溶液のpH値が8.0以上10.5以下となる量とすればよい。
さらに、当該懸濁液へ、アルカリとしてアンモニア水を添加する場合、アンモニアが反応中に揮発することを考慮して、アンモニア水の添加量を決めればよい。
また、当該アンモニア水に代えて、アルカリ性溶液を添加することもできる。当該アルカリ性溶液として水酸化リチウム水溶液を選択し、これを添加することもできる。
尚、当該透明なニオブ酸のペルオキソ錯体を得る際、当該過酸化水素水およびアンモニア等を含む溶液量に対して、ニオブ酸の濃度は5質量%以下であることが好ましい。過酸化水素、水およびアンモニア等を含む溶液量に対するニオブ酸の濃度を5質量%以下とすることで、ニオブ酸の溶解が容易に進行し、残渣も残らないからである。当該観点からは、過酸化水素水およびアンモニア等を含む溶液量に対するニオブ酸の濃度を3質量%以下とすることがさらに好ましい。
上述の方法で得られたニオブ錯体を含有する溶液に、好ましくは窒素ガス雰囲気中で、リチウム化合物を添加することにより、リチウムおよびニオブ錯体を含有する溶液を得ることができる。添加するリチウム化合物の量(モル数)は、ニオブに対するリチウムの組成比に応じて任意に設定することが出来、水への溶解度まで上げることも出来る。尤も、好ましくはニオブのモル数の0.5〜1.5倍である。
添加するリチウム化合物の好適な例としては、水酸化リチウム(LiOH)、硝酸リチウム(LiNO3)、硫酸リチウム(Li2SO4)、炭酸リチウム(Li2CO3)等のリチウム塩が挙げられる。
上述したように、リチウムおよびニオブ錯体を含有する溶液のpH値は、その製造に際して添加した各物質の量の比率を変えることにより調整でき、特に、アンモニア水等のアルカリの添加量を制御することにより調整することができる。
上記の方法で得られたリチウムおよびニオブ錯体を含有する溶液のpH値は8.0以上10.5以下であることが好ましい。
これは、リチウムニオブ錯体の安定性を保つ観点から、溶液中のアンモニア量が、ペルオキソニオブ錯体のカウンターイオンとして適度な量であることが求められる為であると考えられる。
つまり、pH値が8.0以上であれば、リチウムニオブ錯体が安定に存在するアルカリ領域(高pH領域)を担保出来るので、ペルオキソ錯体が安定となるからであると考えられる。また、pH値が10.5以下の場合は、過剰なアンモニアが存在せず、アンモニウムニオブ錯体が生成しないので、コロイド状の白濁が生成し難いからであると考えられる。
当該観点から、pH値を8.0以上9.9以下とするのは好ましい構成である。
一方、アンモニア量が過少でなければ(即ち、pH値が8.0以上の場合。)、添加されているニオブ錯体への溶解力が担保されて、ニオブ酸の溶解速度が低下し溶解時間が長くなる、不溶解分が残存する、という事態も回避出来るからである。
この結果、ニオブ酸1モルに対して、アンモニアが6モル以上添加することが好ましい。36モル程度添加することも好ましい。
リチウムおよびニオブ錯体を含有する溶液の酸化還元電位は、その製造に際して添加した各物質の量の比率を制御することにより調整でき、特に、過酸化水素の添加量を制御することにより調整することができる。
溶液中の過酸化水素の量は、ペルオキソニオブ錯体における徐々に分解するペルオキソ基を補填する量であれば良い。従って、過酸化水素の量は多いほど、リチウムニオブ錯体安定性向上に寄与すると考えられる。尤も、過酸化水素量が過剰に多い場合、過酸化水素自体の分解が急激に進んで発熱し、溶液が沸騰する危険性が高くなる。また原料コストの観点から不経済である。
以上より、溶液中の過酸化水素の量は、溶解反応後のアンモニア量・過酸化水素量の安定性が向上するように、バランスをとって添加量を決めることが好ましい。
具体的には、溶液中の過酸化水素の量は、前記の方法で得ることができるリチウムおよびニオブ錯体を含有する溶液の酸化還元電位(白金−塩化銀電極を基準)が、30mV〜250mVとなる添加量であることが好ましい。
これは、ORPが30mV以上の場合、必要十分な過酸化水素量が担保されていることから、当該過酸化水素の分解が進んでも、結晶性の沈殿物が析出しない為であると考えられる。一方、過酸化水素の添加量が、ORPの値で250mV以下であれば過剰添加が回避される。過酸化水素の過剰添加が回避される結果、溶液の急激な発熱や沸騰の可能性を回避出来好ましい。また、原料コストの観点からも好ましい。
酸化還元電位が前記範囲内にある場合は、保存安定性が担保される。
尤も、原料コストの観点から過酸化水素の量を削減して、酸化還元電位を30mV〜100mVとすることも出来る。
本発明に係るリチウムおよびニオブ錯体を含有する溶液は、製造後12時間以上静置して沈殿物を生成しないという、優れた保存安定性を有していた。その結果、当該溶液により被覆されたコバルト酸リチウム等のリチウム−金属酸化物を製造する際、ニオブ酸リチウムの被覆量を担保出来、制御が容易になった。そして、ニオブ酸リチウムで被覆されたコバルト酸リチウム等のリチウム−金属酸化物へ、前記沈殿物が混入する等の問題も回避することが出来た。更に、当該溶液を作製後、一定時間以内にコバルト酸リチウム等のリチウム−金属酸化物へ被覆する工程を開始する必要が緩和され、生産効率が向上した。
上述したように、ニオブ錯体として、ニオブ酸のペルオキソ錯体([Nb(O2)4]3−)を使用した、リチウムとニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液により、表面を被覆、焼成して製造されたコバルト酸リチウム等のリチウム−金属酸化物は、最終的に生成するニオブ酸リチウム等のリチウム−金属酸化物の被覆膜に炭素が残留することがない。
従って、本発明に係るリチウムとニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液により、表面が被覆された後に焼成されたリチウム−金属酸化物は、全固体リチウム電池の正極活物質として好適であると考えられる。
(実施例1)
純水40gに、濃度30質量%の過酸化水素水40gを添加した過酸化水素水溶液を準備した。この過酸化水素水溶液へ、ニオブ酸(Nb2O5・5.5H2O(Nb2O5含有率72.6%))2.01gを添加した。ニオブ酸の添加後、ニオブ酸を添加した液を液温が20℃〜30℃の範囲内となるように温度調整した。このニオブ酸を添加した液に、濃度28質量%のアンモニア水4.02gを添加し、十分に攪拌して透明溶液を得た。
窒素ガス雰囲気中で、得られた透明溶液に水酸化リチウム・1水和物(LiOH・H2O)0.462gを入れ、透明なリチウムとニオブ錯体とを含有する溶液を得た。当該配合を表1に示す。尚、表1には、当該配合に係る溶液における、ニオブ酸と水酸化リチウムの濃度も示した。以下、実施例2〜15、比較例1〜7においても同様である。
尚、上述したリチウムとニオブ錯体とを含有する溶液のpH値の測定方法、および、酸化還元電位の測定方法は、以下の実施例、比較例においても同様である。
純水40gに、濃度30質量%の過酸化水素水30gを添加した過酸化水素水溶液を準備した。この過酸化水素水溶液へ、ニオブ酸(Nb2O5・5.5H2O(Nb2O5含有率72.6%))2.01gを添加した。ニオブ酸の添加後、ニオブ酸を添加した液を液温が20℃〜30℃の範囲内となるように温度調整した。このニオブ酸を添加した液に、濃度30質量%の過酸化水素水10gを添加した。この過酸化水素水を添加した液に、濃度28質量%のアンモニア水4.02gを添加し、十分に攪拌して透明溶液を得た。
窒素ガス雰囲気中で、得られた透明溶液に水酸化リチウム・1水和物(LiOH・H2O)0.462gを入れ、透明なリチウムとニオブ錯体とを含有する溶液を得た。
このリチウムとニオブ錯体とを含有する溶液のpH値および酸化還元電位を測定した結果、pH値は9.4であり、酸化還元電位は39mVであった。
純水の量を40gから20gに変更し、濃度30質量%の過酸化水素水の添加量を40gから60gに変更した以外は、実施例1と同様にして、リチウムとニオブ錯体とを含有する溶液を得た。
このリチウムとニオブ錯体とを含有する溶液のpH値および酸化還元電位を測定した結果、pH値は9.2であり、酸化還元電位は48mVであった。
純水の量を40gから30gに変更し、濃度30質量%の過酸化水素水の添加量を40gから50gに変更した以外は、実施例1と同様にして、リチウムとニオブ錯体とを含有する溶液を得た。
このリチウムとニオブ錯体とを含有する溶液のpH値および酸化還元電位を測定した結果、pH値は9.1であり、酸化還元電位は44mVであった。
純水の量を40gから42gに変更し、濃度28質量%のアンモニア水の添加量を4.02gから2.01gに変更した以外は、実施例1と同様にして、リチウムとニオブ錯体とを含有する溶液を得た。
このリチウムとニオブ錯体とを含有する溶液のpH値および酸化還元電位を測定した結果、pH値は8.1であり、酸化還元電位は55mVであった。
純水の量を40gから38gに変更し、濃度28質量%のアンモニア水の添加量を4.02gから6.03gに変更した以外は、実施例1と同様にして、リチウムとニオブ錯体と含有する溶液を得た。
このリチウムとニオブ錯体とを含有する溶液のpH値および酸化還元電位を測定した結果、pH値は10.2であり、酸化還元電位は90mVであった。
純水を添加せず、濃度30質量%の過酸化水素水の添加量を40gから82gに変更し、濃度28質量%のアンモニア水の添加量を4.02gから2.01gに変更した以外は、実施例1と同様にして、リチウムとニオブ錯体とを含有する溶液を得た。
このリチウムとニオブ錯体とを含有する溶液のpH値および酸化還元電位を測定した結果、pH値は8.8であり、酸化還元電位は150mVであった。
純水の量を40gから36gに変更し、濃度28質量%のアンモニア水の添加量を4.02gから8.03gに変更した以外は、実施例1と同様にして、リチウムとニオブ錯体とを含有する溶液を得た。
このリチウムとニオブ錯体とを含有する溶液のpH値および酸化還元電位を測定した結果、pH値は10.5であり、酸化還元電位は64mVであった。
純水を添加せず、濃度30質量%の過酸化水素水の添加量を40gから100gに変更した以外は、実施例1と同様にして、リチウムとニオブ錯体とを含有する溶液を得た。
このリチウムとニオブ錯体とを含有する溶液のpH値および酸化還元電位を測定した結果、pH値は8.5であり、酸化還元電位は210mVであった。
純水の量を40gから33gに変更し、濃度30質量%の過酸化水素水の添加量を40gから50gに変更し、濃度28質量%のアンモニア水の添加量を4.02gから1.01gに変更した以外は、実施例1と同様にして、リチウムとニオブ錯体とを含有する溶液を得た。
このリチウムとニオブ錯体とを含有する溶液のpH値および酸化還元電位を測定した結果、pH値は8.2であり、酸化還元電位は124mVであった。
純水を添加せず、濃度30質量%の過酸化水素水の添加量を40gから120gに変更し、濃度28質量%のアンモニア水の添加量を4.02gから1.01gに変更した以外は、実施例1と同様にして、リチウムとニオブ錯体とを含有する溶液を得た。
このリチウムとニオブ錯体とを含有する溶液のpH値および酸化還元電位を測定した結果、pH値は8.1であり、酸化還元電位は244mVであった。
純水を添加せず、濃度30質量%の過酸化水素水の添加量を40gから100gに変更し、濃度28質量%のアンモニア水の添加量を4.02gから6.03gに変更した以外は、実施例1と同様にして、リチウムとニオブ錯体とを含有する溶液を得た。
このリチウムとニオブ錯体とを含有する溶液のpH値および酸化還元電位を測定した結果、pH値は9.5であり、酸化還元電位は195mVであった。
純水を添加せず、濃度30質量%の過酸化水素水の添加量を40gから120gに変更し、濃度28質量%のアンモニア水の添加量を4.02gから8.04gに変更した以外は、実施例1と同様にして、リチウムとニオブ錯体とを含有する溶液を得た。
このリチウムとニオブ錯体とを含有する溶液のpH値および酸化還元電位を測定した結果、pH値は10.4であり、酸化還元電位は238mVであった。
純水を添加せず、濃度30質量%の過酸化水素水の添加量を40gから80gに変更した以外は、実施例1と同様にして、リチウムとニオブ錯体とを含有する溶液を得た。
このリチウムとニオブ錯体とを含有する溶液のpH値および酸化還元電位を測定した結果、pH値は9.0であり、酸化還元電位は175mVであった。
純水の量を40gから60gにし、濃度30質量%の過酸化水素水の添加量を40gから60gに変更し、濃度28質量%のアンモニア水の添加量を4.02gから8.04gに変更した以外は、実施例1と同様にして、リチウムとニオブ錯体とを含有する溶液を得た。
このリチウムとニオブ錯体とを含有する溶液のpH値および酸化還元電位を測定した結果、pH値は10.5であり、酸化還元電位は125mVであった。
純水10gに、濃度30質量%の過酸化水素水5.8gを添加した過酸化水素水溶液を準備した。この過酸化水素水溶液へ、ニオブ酸(Nb2O5・5.5H2O(Nb2O5含有率72.6%))0.6gを添加した。ニオブ酸の添加後、ニオブ酸を添加した液を液温が20℃〜30℃の範囲内となるように温度調整した。このニオブ酸を添加した液に、濃度28質量%のアンモニア水0.96gを添加し、十分に攪拌して透明溶液を得た。
窒素ガス雰囲気中で、得られた透明溶液に水酸化リチウム・1水和物(LiOH・H2O)0.134gを入れ、透明なリチウムとニオブ錯体とを含有する溶液を得た。
このリチウムとニオブ錯体とを含有する溶液のpH値および酸化還元電位を測定した結果、pH値は10.8であり、酸化還元電位は26mVであった。
純水を添加せず、濃度30質量%の過酸化水素水44.4gにニオブ酸(Nb2O5・5.5H2O(Nb2O5含有率72.6%))2.01gと、濃度28質量%のアンモニア水4.5gを添加した。この液を液温が30℃となるように液温調整し、ニオブ酸が溶解して液が透明になるまで液を攪拌した。この攪拌操作中、液が発泡した際には液温を一旦20℃まで下げる操作を行った。
この攪拌操作後、得られた透明の溶液に水酸化リチウム・1水和物(LiOH・H2O)0.525gを入れて溶解させることにより、透明なリチウムとニオブ錯体とを含有する溶液を得た。
このリチウムとニオブ錯体とを含有する溶液のpH値および酸化還元電位を測定した結果、pH値は10.5であり、酸化還元電位は13mVであった。
純水の量を40gから30gに変更し、濃度30質量%の過酸化水素水の添加量を40gから45gに変更し、濃度28質量%のアンモニア水の添加量を4.02gから9.02gとした以外は、実施例1と同様にして、リチウムとニオブ錯体とを含有する溶液を得た。
このリチウムとニオブ錯体とを含有する溶液のpH値および酸化還元電位を測定した結果、pH値は10.1であり、酸化還元電位は24mVであった。
純水の量を40gから33gに変更し、濃度30質量%の過酸化水素水の添加量を40gから35gに変更し、濃度28質量%のアンモニア水の添加量を4.02gから16.02gとした以外は、実施例1と同様にして、リチウムとニオブ錯体とを含有する溶液を得た。
このリチウムとニオブ錯体とを含有する溶液のpH値および酸化還元電位を測定した結果、pH値は11.6であり、酸化還元電位は−26mVであった。
純水の量を40gから62gに変更し、濃度30質量%の過酸化水素水の添加量を40gから20gに変更し、濃度28質量%のアンモニア水の添加量を4.02gから2.01gとした以外は、実施例1と同様にして、リチウムとニオブ錯体とを含有する溶液を得た。
このリチウムとニオブ錯体とを含有する溶液のpH値および酸化還元電位を測定した結果、pH値は7.5であり、酸化還元電位は−29mVであった。
純水の量を40gから43gに変更し、濃度28質量%のアンモニア水の添加量を4.02gから1.01gとした以外は、実施例1と同様にして、リチウムとニオブ錯体とを含有する溶液を得た。
このリチウムとニオブ錯体とを含有する溶液のpH値および酸化還元電位を測定した結果、pH値は7.5であり、酸化還元電位は155mVであった。
純水の量を40gから32gに変更し、濃度28質量%のアンモニア水の添加量を4.02gから12.04gとした以外は、実施例1と同様にして、リチウムとニオブ錯体とを含有する溶液を得た。
このリチウムとニオブ錯体とを含有する溶液のpH値および酸化還元電位を測定した結果、pH値は10.9であり、酸化還元電位は148mVであった。
前記リチウムとニオブ錯体とを含有する溶液を作製後、6時間静置した後、沈殿物の生成有無を目視で確認した。沈殿物が生成している場合には沈殿物が分散する程度に液を攪拌した後、孔径0.5μmのメンブレンフィルターでろ過した。このメンブレンフィルターを純水洗浄した後、100℃で3時間乾燥し、質量を測定した。この質量を質量Aとし、ろ過前のメンブレンフィルターの質量を質量Bとして、下記(式1)により、生成した沈殿物の質量を算出した。
沈殿物の生成量=(質量A)−(質量B)・・・・・・・(式1)
沈殿物を生成が目視で確認された場合は、前記リチウムとニオブ錯体とを含有する溶液が白濁していた。なお、沈殿物の生成が目視で確認できない場合には、沈殿物の生成量は無し(−)とした。
そして、実施例1〜5に係るリチウムとニオブ錯体とを含有する溶液の酸化還元電位は、いずれも30mV以上、100mV以下であることも判明した。
Claims (7)
- pH値が8.0以上、10.5以下であり、酸化還元電位が30mV以上、250mV以下であることを特徴とするリチウムと、ニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液。
- pH値が8.0以上、9.9以下であることを特徴とする請求項1に記載のリチウムと、ニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液。
- 酸化還元電位が30mV以上、100mV以下であることを特徴とする請求項1または2に記載のリチウムと、ニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液。
- 前記リチウムと、ニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液が、さらに過酸化水素、アンモニアを含む水溶液であることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のリチウムと、ニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液。
- ニオブ酸と、リチウム化合物と、アルカリと、過酸化水素と、水とを混合することにより、リチウムと、ニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液を製造する、リチウムと、ニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液の製造方法であって、
前記アルカリの添加量を、前記リチウムと、ニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液のpH値が8.0以上、10.5以下となる量とし、
前記過酸化水素の添加量を、前記リチウムと、ニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液の酸化還元電位が30mV以上、250mV以下となる量とすることを特徴とするリチウムと、ニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液の製造方法。 - 前記アルカリの添加量を、前記リチウムと、ニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液のpH値が8.0以上、9.9以下となる量とすることを特徴とする請求項5に記載のリチウムと、ニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液の製造方法。
- 前記過酸化水素の添加量を、前記リチウムと、ニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液の酸化還元電位が30mV以上、100mV以下となる量とすることを特徴とする請求項5または6に記載のリチウムと、ニオブ酸のペルオキソ錯体とを含有する溶液の製造方法。
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