JP6296174B2 - Exposure equipment - Google Patents
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Description
本発明は、帯状のワークに露光処理を行うための露光装置に関する。 The present invention relates to an exposure apparatus for performing exposure processing on a strip-shaped workpiece.
帯状のワークを搬送する場合には、通常、ワークの幅方向に蛇行が生じるので、露光装置で露光処理を行うにあたり、帯状のワークと、ワークに回路パターンを形成するためのフォトマスクとの位置合わせを行うことが必要とされている。
そのような露光装置として、一般的に、帯状のワークとフォトマスクのそれぞれにアライメントマークを設け、それらのアライメントマークの位置情報に基づいて位置合わせを行う方法が採用されている。
そして、特許文献1には、そのような露光装置の一例が開示されている。When transporting a belt-shaped workpiece, meandering usually occurs in the width direction of the workpiece. Therefore, when performing exposure processing with an exposure apparatus, the position of the belt-shaped workpiece and a photomask for forming a circuit pattern on the workpiece There is a need to match.
As such an exposure apparatus, a method is generally employed in which alignment marks are provided on each of a belt-like workpiece and a photomask, and alignment is performed based on positional information of these alignment marks.
この特許文献1に開示されている露光装置110は、図7に示すように、まず、フォトマスク140のアライメントマークA2が、ワーク1の幅方向の外縁の外側に位置するように、フォトマスク140とワーク1とを対向させて配置するようにしている。
そして、フォトマスク140側から照明手段170で光を照射しながら、フォトマスク140のアライメントマークA2とワーク1のアライメントマークA1を、カメラ160a、160bでそれぞれ確認するようにしている。In the
Then, while irradiating light from the
次に、位置合わせを行う場合は、フォトマスク140の2つのアライメントマークA2の中点と、ワーク1の2つのアライメントマークA1の中点と、露光装置110の露光光の中心EPとが重なり合うように、フォトマスク140又はワーク1移動させることで位置合わせを行うようにしている。
Next, when alignment is performed, the midpoint of the two alignment marks A2 of the
しかし、特許文献1に開示されたような露光装置110を用いる場合は、露光処理の前に、ワーク1にアライメントマークA1を形成する工程が必要となり、製造工程が多くなるという問題点がある。
However, when the
本発明は、上記課題を解決するものであり、帯状のワークに露光処理を施す場合に、複雑な工程を必要とすることなく、精度よく露光処理を施すことが可能な露光装置を提供することを目的とする。 The present invention solves the above problems, and provides an exposure apparatus capable of performing exposure processing with high accuracy without requiring a complicated process when performing exposure processing on a strip-shaped workpiece. With the goal.
上記課題を解決するため、本発明の露光装置は、
露光処理対象である帯状のワークを搬送するワーク搬送手段と、
前記ワークの一方の主面に対向するように配設され、前記ワークに照射する露光光を発生させる露光光源と、
前記ワーク搬送手段により搬送される前記ワークと、前記露光光源との間に配設されるフォトマスクであって、前記ワークの幅方向の端部と対向する位置に配置された、光を透過させる複数の透過窓を有するフォトマスクと、
前記ワークの一方の主面または他方の主面に対向するように配設され、前記フォトマスクの複数の前記透過窓を、前記ワークの前記端部が前記透過窓のそれぞれの領域内に位置する態様で撮像する撮像手段と、
前記ワークと前記フォトマスクの位置関係を相対的に調整する位置調整手段と
を備え、
前記撮像手段で撮像することにより得られる、前記透過窓から認識される前記ワークの前記端部の位置と、前記ワークの前記端部と対向する前記透過窓の縁部の位置との関係から、前記ワークと前記フォトマスクの位置関係が目標とする位置関係になるように、前記位置調整手段により、前記ワークと前記フォトマスクの位置関係を相対的に調整することができるように構成されていること
を特徴としている。
In order to solve the above problems, the exposure apparatus of the present invention comprises:
A work transport means for transporting a strip-shaped work to be exposed;
An exposure light source that is disposed to face one main surface of the workpiece and generates exposure light to be irradiated to the workpiece;
A photomask disposed between the work transported by the work transporting means and the exposure light source, which is disposed at a position facing an end in the width direction of the work and transmits light. A photomask having a plurality of transmission windows;
The plurality of transmission windows of the photomask are arranged so as to face one main surface or the other main surface of the work, and the end portions of the work are located in respective regions of the transmission windows. Imaging means for imaging in an aspect;
A position adjusting means for relatively adjusting the positional relationship between the work and the photomask;
Obtained by imaging by the imaging means, the relationship between the pre-SL and position of the edge portion of the workpiece to be recognized from the transmission window, the position of the edge of the transmission window that faces the end portion of the workpiece The positional adjustment means can relatively adjust the positional relationship between the workpiece and the photomask so that the positional relationship between the workpiece and the photomask becomes a target positional relationship. It is characterized by
本発明の露光装置においては、前記フォトマスクが、前記ワークの幅方向の一対の端部のそれぞれと対向する透過窓を複数備えているとともに、
前記位置調整手段が、前記ワークと前記フォトマスクの、前記ワークの幅方向の位置関係を相対的に調整することができるように構成されており、
前記撮像手段で撮像することにより得られる、複数の前記透過窓から認識される前記ワークの前記一対の端部の位置と、前記ワークの前記一対の端部とそれぞれ対向する前記透過窓の縁部の位置との関係から、前記ワークと前記フォトマスクの幅方向における位置関係が目標とする位置関係になるように、前記位置調整手段により、前記ワークと前記フォトマスクの前記幅方向の位置関係を相対的に調整することができるように構成されていることが好ましい。
In the exposure apparatus of the present invention, the photomask includes a plurality of transmission windows facing each of the pair of end portions in the width direction of the workpiece,
The position adjusting means is configured to be able to relatively adjust the positional relationship of the workpiece and the photomask in the width direction of the workpiece,
Edge of the transmission window the obtained by imaging by the imaging means, the position of the pair of end portions of the workpiece to be recognized from the transmission window of the multiple faces respectively with said pair of end portions of the workpiece The positional relationship between the workpiece and the photomask in the width direction is adjusted by the position adjusting means so that the positional relationship in the width direction between the workpiece and the photomask becomes a target positional relationship. It is preferable that it is comprised so that can be adjusted relatively.
複数の透過窓から認識されるワークの一対の端部の位置と、ワークの一対の端部とそれぞれ対向する透過窓の縁部の位置との関係から、ワークとフォトマスクの幅方向における位置関係が目標とする位置関係になるように調整することができるように構成した場合には、ワークとフォトマスクの幅方向の位置関係について、より精度の高い位置合わせを行うことが可能になる。 The position of the pair of end portions of the workpiece to be recognized from the multiple transmission window, the relationship between the position of the edge of the pair of end portions opposite to the transmission window each workpiece, the position in the width direction of the workpiece and the photomask When the configuration is such that the relationship can be adjusted so as to be the target positional relationship, it is possible to perform more accurate alignment with respect to the positional relationship in the width direction between the workpiece and the photomask.
また、前記フォトマスクが、前記ワークの幅方向の一対の端部のうちの一方側端部と対向する透過窓を複数備えているとともに、
前記位置調整手段が、前記ワークと前記フォトマスクの、前記ワークの主面に平行な回転方向の位置関係を相対的に調整することができるように構成されており、
前記撮像手段で撮像することにより得られる、複数の前記透過窓から認識される前記ワークの前記一方側端部の位置と、前記ワークの前記一方側端部と対向する複数の前記透過窓の縁部の位置との関係から、前記ワークと前記フォトマスクの回転方向における位置関係が目標とする位置関係になるように、前記位置調整手段により、前記ワークと前記フォトマスクの前記回転方向の位置関係を相対的に調整することができるように構成されていることが好ましい。
In addition, the photomask includes a plurality of transmission windows facing one end of the pair of end portions in the width direction of the workpiece,
The position adjusting means is configured to be able to relatively adjust the positional relationship between the workpiece and the photomask in the rotational direction parallel to the main surface of the workpiece,
Obtained by imaging by the imaging means, the position of the one side end portion of the workpiece to be recognized from the transmission window of the multiple, the plurality of the transmission window that faces the one side edge portion of the workpiece Position of the workpiece and the photomask in the rotational direction is adjusted by the position adjustment means so that the positional relationship in the rotational direction of the workpiece and the photomask becomes a target positional relationship from the relationship with the position of the edge. It is preferable to be configured so that the relationship can be relatively adjusted.
複数の透過窓から認識されるワークの一方側端部の位置と、ワークの一方側端部と対向する複数の透過窓の縁部の位置との関係から、ワークとフォトマスクの回転方向における位置関係が目標とする位置関係になるように調整することができるように構成した場合には、ワークとフォトマスクの回転方向の位置関係について、より精度の高い位置合わせを行うことが可能になる。 While the position of the side edge portions of the workpiece to be recognized from the multiple transmission window, the relationship between the position of the edge of a plurality of transmission windows facing the one side edge portion of the work, in the rotating direction of the work and the photomask When the positional relationship can be adjusted so as to be the target positional relationship, the positional relationship in the rotation direction of the workpiece and the photomask can be aligned with higher accuracy. .
また、前記位置調整手段が、前記フォトマスクの位置、および、前記ワークの位置の少なくとも一方を調整するように構成されていることが好ましい。 The position adjusting means is preferably configured to adjust at least one of the position of the photomask and the position of the workpiece.
位置調整手段として、フォトマスクおよびワークのいずれか一方の位置を調整するように構成されたものを用いることにより、装置構成の複雑化を招くことなく、確実に上記位置関係を調整することが可能になり、本発明をより実効あらしめることができる。
ただし、場合によっては、フォトマスクおよびワークの両方の位置を調整するように構成することも可能である。By using the position adjustment means that is configured to adjust the position of either the photomask or the workpiece, the positional relationship can be reliably adjusted without complicating the apparatus configuration. Thus, the present invention can be made more effective.
However, in some cases, it may be configured to adjust the positions of both the photomask and the workpiece.
また、前記ワークへの露光時には、前記ワークを吸引して所定位置に前記ワークを保持し、前記ワークの搬送時には、気体を噴出して前記ワークを浮かせて搬送することができるように構成されたワーク保持手段を備えていることが好ましい。 In addition, when the work is exposed, the work is sucked to hold the work in a predetermined position, and when the work is transported, gas is ejected to float and transport the work. It is preferable to provide a work holding means.
上記構成を備えることにより、ワークがワーク保持手段と擦れながら搬送されることがなくなるため、ワークにダメージを与えることなく円滑に搬送することが可能な信頼性の高い露光装置を提供することができる。 With the above configuration, since the workpiece is not conveyed while rubbing against the workpiece holding means, it is possible to provide a highly reliable exposure apparatus that can be conveyed smoothly without damaging the workpiece. .
本発明の露光装置は、撮像手段で撮像することにより得られる、透過窓から認識されるワークの端部の位置と、ワークの端部と対向する透過窓の縁部の位置との関係から、ワークとフォトマスクの位置関係が目標とする位置関係になるように、位置調整手段により、ワークとフォトマスクの位置関係を相対的に調整することができるように構成されているので、ワークのアライメントマークを用いずに、帯状のワークの位置調整を行うことができ、ワークにアライメントマークを形成することを不要にして、効率よく精度の高い露光処理を行うことが可能になる。その結果、帯状のワークに露光処理を行う工程を経て製造される電子部品などの製品を効率よく製造することが可能になる。 The exposure apparatus of the present invention is obtained by imaging by the imaging means, and the position of the end portion of the workpiece to be recognized from the transparently window, the relationship between the position of the edge of the transmission window that faces the end portion of the workpiece Since the positional relationship between the workpiece and the photomask can be relatively adjusted by the position adjusting means so that the positional relationship between the workpiece and the photomask becomes the target positional relationship. The position of the strip-shaped workpiece can be adjusted without using the alignment mark, and it becomes possible to perform the exposure process efficiently and accurately without the need to form the alignment mark on the workpiece. As a result, it is possible to efficiently manufacture products such as electronic components manufactured through a process of performing exposure processing on a strip-shaped workpiece.
次に、本発明の実施形態を示して本発明をさらに詳しく説明する。 Next, the present invention will be described in more detail with reference to embodiments of the present invention.
本発明の実施形態にかかる露光装置10は、図1〜3に示すように、露光処理を行う領域である露光処理部11と、露光処理対象である帯状のワーク1を、ワーク1の長手方向(X方向)に搬送するワーク搬送手段20とを備えている。
As shown in FIGS. 1 to 3, the
ワーク搬送手段20は、間欠駆動することで、ワーク1の、次に露光処理が行われるべき領域pn+1を露光処理部11において露光処理を行う所定の領域(すなわち、フォトマスク40の、露光光を通過させてワーク1への露光を行うための露光パターン部41に対応する領域)41pに搬送するとともに、ワーク1の、露光パターン部41に対応する領域41pに搬送され、露光処理が行われた領域pnを、露光処理部11の外側の領域pn-1に排出するように構成されている。ワーク搬送手段20としては、例えば、複数の搬送ローラなどが用いられる。The workpiece conveying means 20 is intermittently driven, so that a predetermined region (that is, the
露光処理部11には、ワーク保持手段25が配設されている。
ワーク保持手段25は、ワーク1を吸引するための吸引孔26を備えており、ワーク1への露光時には、吸引孔26から吸引して所定位置にワーク1を保持し、ワーク1の搬送時には、吸引孔26から気体を噴出してワーク1を浮かせて搬送することができるように構成されている。この構成により、ワーク1がワーク保持手段25と擦れながら搬送されることがなくなるため、ワーク1にダメージを与えることなく円滑に搬送することが可能となる。
なお、吸引孔26は、吸引ON/OFFの状態を切り替えることのできる電磁弁(図示せず)に接続されている。
ただし、ワーク1が損傷する懸念のないような場合には、ワーク1を浮かせて搬送する必要はなく、ワーク保持手段25の吸引孔26から気体を噴射させるように構成する必要もない。The
The
The
However, when there is no concern that the
この実施形態の露光処理対象であるワーク1は、例えば、PETフィルムに樹脂層、金属層、感光層が順に積層形成されたシートである。このワーク1には、位置合わせをするためのアライメントマークは形成されていない。
The
露光処理部11に搬送されたワーク1の一方の主面1h側(図2における上方)には、ワーク1に照射する露光光を発生させる露光光源30が配設されている。露光光源30としては、ワーク1の感光層を感光させることのできる波長(例えば、200nm〜600nm)を発生する光源が用いられる。
On one
ワーク1と露光光源30の間には、ワーク1の主面1hと平行になるようにフォトマスク40が配設されている。
ワーク1の主面1hとフォトマスク40の間隔は、例えば、0.01mm〜0.2mmであり、プロキシミティー露光条件となる間隔で設定されている。A
The interval between the
フォトマスク40は、透光性を有するマスク本体40aに、光を遮断する遮光膜40bを所定のパターンで付与することにより形成されている。
すなわち、フォトマスク40は、透光性材料からなるマスク本体40aと、マスク本体40aの一方側主面(この実施形態では下面)に形成された遮光膜40bとを備えており、ワーク1に回路パターンを形成するための露光パターン部41(上述の領域pnに対応する領域)と、該露光パターン部41の外側に位置するマスク外周部45に設けられた、光を透過させる複数(この実施形態では3つ)の透過窓42a,42b,42cとを有している。
なお、透過窓42a〜42cは、マスク外周部45において、マスク本体40aに、光を遮断する遮光膜40bを所定の態様(透過窓42a〜42cとなる領域には遮光膜40bを存在させないような態様)で付与することにより形成されている。The
That is, the
Note that the
3つの透過窓42a〜42cのうち、2つの透過窓42a,42bは、ワーク1の幅方向(Y方向)の一対の端部(一方側端部1a,他方側端部1b)のそれぞれと対向する位置に配置されている。
また、3つの透過窓42a〜42cのうち、2つの透過窓42a,42cは、ワーク1の一対の端部1a,1bのうちの一方側端部1aと対向する位置に配置されている。Of the three
Of the three
この実施形態における透過窓42a〜42cは、方形であり、ワーク1の幅方向に平行な一対の縁部eと、ワーク1の幅方向に直交する一対の縁部fとを有している(図4参照)。
The
フォトマスク40は、吸引機能を備えたマスク保持手段47により吸引保持されている(図3参照)。マスク保持手段47は、支持部材48を介して、ワーク1の幅方向(Y方向)に、フォトマスク40の位置を調整することが可能な幅方向の位置調整手段51と、ワーク1の主面1hに平行な回転方向(θ方向)に、フォトマスク40の位置を調整することが可能な回転方向の位置調整手段52に取り付けられている。
これにより、フォトマスク40は、幅方向(Y方向)と回転方向(θ方向)の位置を調整することができるように構成されている。
なお、幅方向の位置調整手段51としては、例えば、一軸ロボットが用いられ、回転方向の位置調整手段52としては、例えば、回転型一軸テーブルが用いられる。The
Thereby, the
For example, a uniaxial robot is used as the
露光処理部11に搬送されたワーク1の他方の主面1i側(図2における下方)には、フォトマスク40の透過窓42a,42b,42cに対向する位置に、複数の撮像手段60a,60b,60cが配設されている。撮像手段60a〜60cには、例えば、CCDカメラなどが用いられており、各撮像手段60a〜60cが、透過窓42a〜42cのそれぞれを撮像するように構成されている。
そして、図4に示すように、ワーク1の一対の端部1a,1bのそれぞれを、透過窓42a,42b,42cのそれぞれの領域内43a,43b,43cに位置する態様で撮像できるように構成されている。On the other main surface 1i side (downward in FIG. 2) of the
Then, as shown in FIG. 4, each of the pair of
この露光装置10は、撮像手段60a,60bで撮像することにより得られる、透過窓42a,42bの位置と、透過窓42a,42bから認識されるワーク1の一対の端部1a,1bの位置との関係から、ワーク1とフォトマスク40の幅方向(Y方向)における位置関係を求め、その関係が目標とする位置関係になるよう制御する制御手段(図示せず)を備えている。
そして、この制御手段からの指令によって、幅方向の位置調整手段51が駆動され、ワーク1とフォトマスク40の幅方向における位置関係が目標とする位置関係となるように、フォトマスク40をY方向に移動させることにより、ワーク1とフォトマスク40の幅方向(Y方向)の位置関係を相対的に調整することができるように構成されている。The
Then, the position adjustment means 51 in the width direction is driven by the command from the control means, and the
また、この制御手段は、撮像手段60a,60cで撮像することにより得られる、透過窓42a,42cの位置と、透過窓42a,42cから認識されるワーク1の一方側端部1aの位置との関係から、ワーク1とフォトマスク40の回転方向(θ方向)における位置関係を求め、その関係が目標とする位置関係になるように制御することができるように構成されている。
そして、この露光装置10は、この制御手段からの指令によって、回転方向の位置調整手段52が駆動され、ワーク1とフォトマスク40の回転方向における位置関係が目標とする位置関係となるように、フォトマスク40をθ方向に回転させることにより、ワーク1とフォトマスク40の回転方向(θ方向)の位置関係を相対的に調整することができるように構成されている。In addition, the control means includes the positions of the
Then, in this
なお、この露光装置10は、フォトマスク40の上方で、撮像手段60a,60b,60cに対向する位置に、複数の照明手段70a,70b,70cがそれぞれ配設されている。
照明手段70a〜70cは、フォトマスク40に近接して配置された発光部71と、発光部71よりも露光光源30側に設けられ、撮像手段60a〜60cに照射される露光光源30の露光光を遮る遮光部72とを有している。発光部71としては、撮像手段60a〜60cによって、ワーク1の端部1a,1bや透過窓42a〜42cを適切に撮像することができる波長(例えば、400nm〜800nm)を発生する発光体が用いられる。なお、ワーク1の感光層を感光させることのできる波長と重なる場合は、カットフィルタの追加などにより、発光部71の光で露光されてしまわないような措置を取ることが好ましい。In the
The illumination means 70a-70c are the
次に、上述の露光装置10を用いてワーク1に露光処理を行う方法について説明する。
Next, a method for performing an exposure process on the
まず、ワーク搬送手段20によって、帯状のワーク1を長手方向(X方向)に搬送し、露光処理部11に位置させた状態で、ワーク保持手段25によって、ワーク1を吸引保持する。
First, the
次に、撮像手段60a〜60cによって、フォトマスク40の透過窓42a〜42cをそれぞれ撮像する。その際、照明手段70a〜70cで、透過窓42a〜42cに照明光を照射する。
Next, the
そして、撮像することにより得られた、透過窓42a〜42cの位置と、透過窓42a〜42cから認識されるワーク1の一対の端部1a,1bの位置との関係から、ワーク1とフォトマスク40の位置関係が目標とする位置関係になるように、ワーク1とフォトマスク40の位置関係を相対的に調整する。
Then, from the relationship between the positions of the
具体的には、以下に示す方法によって位置関係を調整する。 Specifically, the positional relationship is adjusted by the following method.
まず、制御手段によって、撮像して得られたワーク1の幅方向の端部1a,1bと、方形状の透過窓42a〜42cの幅方向(Y方向)に直交する縁部fとの距離y1(y1a,y1b,y1c)を、それぞれの透過窓42a〜42cについて求める。
First, the distance y1 between the widthwise ends 1a and 1b of the
次に、ワーク1の幅方向の一対の端部1a,1bをそれぞれ認識できるように、幅方向(Y方向)に隣り合って配設された透過窓42a,42bについて求めたそれぞれの距離y1(y1a,y1b)が等しくなるように(または距離の差が所定範囲内になるように)、幅方向の位置調整手段51を駆動させ、ワーク1に対するフォトマスク40の幅方向(Y方向)の位置を調整する。
また、ワーク1の一方側端部1aを2箇所において認識できるように、長手方向(X方向)に隣り合って配設された透過窓42a,42cについて求めたそれぞれの距離y1(y1a,y1c)が等しくなるように(または距離の差が所定範囲内になるように)、回転方向の位置調整手段52を駆動させ、ワーク1に対するフォトマスク40の回転方向(θ方向)の位置を調整する。Next, in order to recognize the pair of
Further, the distances y1 (y1a, y1c) obtained for the
そして、ワーク1に対するフォトマスク40の位置調整が終了した後、露光光源30によりワーク1に露光光を照射する。
Then, after the position adjustment of the
露光処理を行った後、ワーク1を長手方向に搬送し、ワーク1の露光処理が行われた領域pnを露光処理部11から排出するとともに、ワーク1の次に露光処理が行われるべき領域pn+1を露光処理部11に搬送する。After performing the exposure process, the
なお、ワーク1は、ワーク保持手段25の吸引孔26から気体が噴出されることにより、ワーク保持手段25から浮上した状態で搬送される。
このとき、ワーク1が照明手段70a〜70cに接触して損傷するおそれがある場合には、図5に示すように、フォトマスク40と照明手段70a〜70cを上下移動させるための上下移動手段53を設け、フォトマスク40と照明手段70a〜70cを上方に退避させた後、ワーク保持手段25の吸引孔26から気体を噴出して、ワーク1を浮かせて搬送するように構成することも可能である。The
At this time, if there is a possibility that the
以降、上述したような工程を繰り返すことにより、露光処理を順次行うことができる。 Thereafter, the exposure process can be sequentially performed by repeating the above-described steps.
本発明の一実施形態にかかる上述の露光装置は、撮像手段で撮像することにより得られる透過窓の位置と、透過窓から認識されるワークの端部の位置との関係から、ワークとフォトマスクの位置関係が目標とする位置関係になるように、位置調整手段により、ワークとフォトマスクの位置関係を調整するようにしているので、ワークのアライメントマークに依存することなく帯状のワークとフォトマスクの位置関係を調整することができる。 The above-described exposure apparatus according to an embodiment of the present invention is based on the relationship between the position of the transmission window obtained by imaging with the imaging unit and the position of the end of the workpiece recognized from the transmission window. Since the positional adjustment means adjusts the positional relationship between the work and the photomask so that the positional relationship becomes the target positional relationship, the strip-shaped workpiece and the photomask are not dependent on the alignment mark of the workpiece. Can be adjusted.
したがって、ワークにアライメントマークを形成することを不要にして、効率よく精度の高い露光処理を行うことが可能になる。
そして、その結果、帯状のワークに露光処理を行う工程を経て製造される電子部品などの製品を効率よく製造することが可能になる。Accordingly, it becomes unnecessary to form alignment marks on the workpiece, and the exposure process can be performed efficiently and with high accuracy.
As a result, it is possible to efficiently manufacture products such as electronic components manufactured through a process of performing exposure processing on the strip-shaped workpiece.
なお、上記実施形態では、ワーク1とフォトマスク40との相対位置関係を調整するために、フォトマスク40側を移動させる態様を示したが、ワーク1側を移動させる態様とすることも可能である。
すなわち、図6に示すように、ワーク保持手段25に幅方向の位置調整手段51と回転方向の位置調整手段52を取り付け、ワーク保持手段25に保持されたワーク1を移動させることで、ワーク1とフォトマスク40との相対位置関係を調整することも可能である。この場合においても、上述した実施形態における効果と同様の効果を得ることができる。In the above embodiment, the mode in which the
That is, as shown in FIG. 6, the position adjusting means 51 in the width direction and the position adjusting means 52 in the rotational direction are attached to the work holding means 25, and the
また、上記実施形態では、撮像手段60a〜60cをワーク1の他方の主面1i側に配設するような構成としたが、撮像手段60a〜60cをワーク1の一方の主面1h側に配設して撮像することも可能である(図6参照)。
なお、本発明において、撮像手段をワークの一方または他方の主面に対向するように配置するとは、レンズやセンサを含む撮像手段本体をワークの一方または他方の主面に対向するように配置する場合に限らず、撮像手段を構成するミラーやプリズムなどの部材を、ワークの一方または他方の主面に対向するように配置する場合も含む広い概念である。In the above embodiment, the imaging means 60 a to 60 c are arranged on the other main surface 1 i side of the
In the present invention, arranging the imaging means so as to oppose one or the other main surface of the workpiece means arranging the imaging means main body including a lens or a sensor so as to oppose one or the other main surface of the workpiece. This is a wide concept including not only the case but also a case where members such as a mirror and a prism constituting the imaging means are arranged to face one or the other main surface of the workpiece.
また、上記実施形態では、撮像手段60a〜60cで撮像することにより得られた位置関係(透過窓42a〜42cの位置と、ワーク1の幅方向の端部1a,1bの位置との関係)を用いて、露光処理部11に搬送されたワーク1に対してフォトマスク40の位置調整を行い、その後、露光処理を行う態様を示したが、撮像することにより得られた上記位置関係の情報を、次のショットで露光処理を行う際に、使用することも可能である。
すなわち、ワーク1の、次の露光処理が行われるべき領域pn+1を、露光処理部11に搬送する際に、露光処理部11における上記位置関係が目標とする位置関係になるように事前にフォトマスク40の位置調整を行い、上記領域pn+1が露光処理部11に搬送された後は、位置調整を行わずに露光処理を実行するように構成することも可能である。この場合においても、上述した実施形態における効果と同様の効果を得ることができる。In the above embodiment, the positional relationship (relationship between the positions of the
That is, when the region pn + 1 of the
また、ワーク1のロスを少なくして、コストの低減を図る見地からは、露光処理が行われる各領域の間隔は、できるだけ小さくすることが好ましい。
なお、具体的には、上記の各領域の間隔を、例えば、0mm〜4mmとすることが可能である。Further, from the viewpoint of reducing the loss of the
Specifically, the interval between the above-described regions can be set to, for example, 0 mm to 4 mm.
また、本発明におけるフォトマスク40の透過窓42a〜42cの形状に特別の制約はなく、多角形、円形または楕円形とすることも可能である。
また、上記実施形態では、制御手段によって、撮像して得られたワーク1の幅方向の端部1a,1bと、方形状の透過窓42a〜42cの幅方向(Y方向)に直交する縁部fとの距離y1(y1a,y1b,y1c)を、それぞれの透過窓42a〜42cについて求めているが、ワークの幅方向の端部と対向する位置であれば、方形状の透過窓42a〜42cの幅方向(Y方向)に直交する縁部f以外のフォトマスク40の所定の箇所との距離を求めてもよい。Moreover, there is no special restriction | limiting in the shape of the
Moreover, in the said embodiment, the
また、本発明において、ワーク1が複数層により構成される多層シートである場合に、撮像手段60a〜60cでワーク1の端部1a,1bを撮像する際は、複数層のうちの所定の層を撮像対象とすることが可能である。
In the present invention, when the
なお、本発明の露光装置では、露光処理を行うときの露光光を用いて、ワークに回路パターンを形成するとともに、アライメントマークを形成することもできる。その場合、この露光装置を用いて形成したアライメントマークを基準に、例えば、積層、接合、実装工程などの後工程を実行することが可能になる。 In the exposure apparatus of the present invention, it is possible to form an alignment mark while forming a circuit pattern on a workpiece using exposure light for performing an exposure process. In that case, it becomes possible to execute post-processes such as stacking, bonding, and mounting processes based on the alignment marks formed using the exposure apparatus.
本発明はさらにその他の点においても上記の実施形態に限定されるものではなく、発明の範囲内において種々の応用、変形を加えることが可能である。 The present invention is not limited to the above-described embodiment in other points, and various applications and modifications can be made within the scope of the invention.
1 ワーク
1a ワークの幅方向の端部(一方側端部)
1b ワークの幅方向の端部(他方側端部)
1h ワークの一方の主面
1i ワークの他方の主面
10 露光装置
11 露光処理部
20 ワーク搬送手段
25 ワーク保持手段
26 吸引孔
30 露光光源
40 フォトマスク
41 露光パターン部
41p 露光光を通過させてワークへの露光を行うための露光パターン部に対応する領域
42a,42b,42c フォトマスクの透過窓
43a,43b,43c フォトマスクの透過窓の領域内
45 マスク外周部
47 マスク保持手段
48 支持部材
51 幅方向の位置調整手段
52 回転方向の位置調整手段
60a,60b,60c 撮像手段
70a,70b,70c 照明手段
71 発光部
72 遮光部
e フォトマスクの透過窓の縁部
f フォトマスクの透過窓の縁部
pn-1 ワークの、露光処理部の外側の領域
pn ワークの、露光処理が行われる領域(所定の領域)
pn+1 ワークの、次に露光処理が行われるべき領域
X ワークの長手方向
Y ワークの幅方向
Z ワークの長手方向と幅方向に垂直な方向
θ ワークの主面に平行な回転方向
y1(y1a,y1b,y1c) ワークの幅方向の端部と、透過窓の縁部fとの距離1
1b End of the workpiece in the width direction (end on the other side)
1h One main surface of the work 1i The other main surface of the
p n + 1 area of the workpiece to be exposed next X longitudinal direction of the workpiece Y transverse direction of the workpiece Z longitudinal direction of the workpiece and the direction perpendicular to the width direction θ rotating direction parallel to the main surface of the workpiece y1 ( y1a, y1b, y1c) The distance between the end in the width direction of the workpiece and the edge f of the transmission window
Claims (5)
前記ワークの一方の主面に対向するように配設され、前記ワークに照射する露光光を発生させる露光光源と、
前記ワーク搬送手段により搬送される前記ワークと、前記露光光源との間に配設されるフォトマスクであって、前記ワークの幅方向の端部と対向する位置に配置された、光を透過させる複数の透過窓を有するフォトマスクと、
前記ワークの一方の主面または他方の主面に対向するように配設され、前記フォトマスクの複数の前記透過窓を、前記ワークの前記端部が前記透過窓のそれぞれの領域内に位置する態様で撮像する撮像手段と、
前記ワークと前記フォトマスクの位置関係を相対的に調整する位置調整手段と
を備え、
前記撮像手段で撮像することにより得られる、前記透過窓から認識される前記ワークの前記端部の位置と、前記ワークの前記端部と対向する前記透過窓の縁部の位置との関係から、前記ワークと前記フォトマスクの位置関係が目標とする位置関係になるように、前記位置調整手段により、前記ワークと前記フォトマスクの位置関係を相対的に調整することができるように構成されていること
を特徴とする露光装置。 A work transport means for transporting a strip-shaped work to be exposed;
An exposure light source that is disposed to face one main surface of the workpiece and generates exposure light to be irradiated to the workpiece;
A photomask disposed between the work transported by the work transporting means and the exposure light source, which is disposed at a position facing an end in the width direction of the work and transmits light. A photomask having a plurality of transmission windows;
The plurality of transmission windows of the photomask are arranged so as to face one main surface or the other main surface of the work, and the end portions of the work are located in respective regions of the transmission windows. Imaging means for imaging in an aspect;
A position adjusting means for relatively adjusting the positional relationship between the work and the photomask;
Obtained by imaging by the imaging means, the relationship between the pre-SL and position of the edge portion of the workpiece to be recognized from the transmission window, the position of the edge of the transmission window that faces the end portion of the workpiece The positional adjustment means can relatively adjust the positional relationship between the workpiece and the photomask so that the positional relationship between the workpiece and the photomask becomes a target positional relationship. An exposure apparatus characterized by comprising:
前記位置調整手段が、前記ワークと前記フォトマスクの、前記ワークの幅方向の位置関係を相対的に調整することができるように構成されており、
前記撮像手段で撮像することにより得られる、複数の前記透過窓から認識される前記ワークの前記一対の端部の位置と、前記ワークの前記一対の端部とそれぞれ対向する前記透過窓の縁部の位置との関係から、前記ワークと前記フォトマスクの幅方向における位置関係が目標とする位置関係になるように、前記位置調整手段により、前記ワークと前記フォトマスクの前記幅方向の位置関係を相対的に調整することができるように構成されていること
を特徴とする請求項1記載の露光装置。 The photomask includes a plurality of transmission windows facing each of the pair of end portions in the width direction of the workpiece,
The position adjusting means is configured to be able to relatively adjust the positional relationship of the workpiece and the photomask in the width direction of the workpiece,
Edge of the transmission window the obtained by imaging by the imaging means, the position of the pair of end portions of the workpiece to be recognized from the transmission window of the multiple faces respectively with said pair of end portions of the workpiece The positional relationship between the workpiece and the photomask in the width direction is adjusted by the position adjusting means so that the positional relationship in the width direction between the workpiece and the photomask becomes a target positional relationship. The exposure apparatus according to claim 1, wherein the exposure apparatus is configured to be relatively adjustable.
前記位置調整手段が、前記ワークと前記フォトマスクの、前記ワークの主面に平行な回転方向の位置関係を相対的に調整することができるように構成されており、
前記撮像手段で撮像することにより得られる、複数の前記透過窓から認識される前記ワークの前記一方側端部の位置と、前記ワークの前記一方側端部と対向する複数の前記透過窓の縁部の位置との関係から、前記ワークと前記フォトマスクの回転方向における位置関係が目標とする位置関係になるように、前記位置調整手段により、前記ワークと前記フォトマスクの前記回転方向の位置関係を相対的に調整することができるように構成されていること
を特徴とする請求項1または2記載の露光装置。 The photomask includes a plurality of transmission windows facing one end of the pair of end portions in the width direction of the workpiece,
The position adjusting means is configured to be able to relatively adjust the positional relationship between the workpiece and the photomask in the rotational direction parallel to the main surface of the workpiece,
Obtained by imaging by the imaging means, the position of the one side end portion of the workpiece to be recognized from the transmission window of the multiple, the plurality of the transmission window that faces the one side edge portion of the workpiece Position of the workpiece and the photomask in the rotational direction is adjusted by the position adjustment means so that the positional relationship in the rotational direction of the workpiece and the photomask becomes a target positional relationship from the relationship with the position of the edge. The exposure apparatus according to claim 1, wherein the exposure apparatus is configured such that the relationship can be relatively adjusted.
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