JP6271875B2 - インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法 - Google Patents

インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6271875B2
JP6271875B2 JP2013127986A JP2013127986A JP6271875B2 JP 6271875 B2 JP6271875 B2 JP 6271875B2 JP 2013127986 A JP2013127986 A JP 2013127986A JP 2013127986 A JP2013127986 A JP 2013127986A JP 6271875 B2 JP6271875 B2 JP 6271875B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mold
substrate
pattern
shift amount
imprint
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2013127986A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2015002344A (ja
JP2015002344A5 (enExample
Inventor
山本　健司
健司 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2013127986A priority Critical patent/JP6271875B2/ja
Priority to KR1020140069912A priority patent/KR101863987B1/ko
Priority to US14/302,566 priority patent/US9971256B2/en
Priority to CN201410262315.3A priority patent/CN104238263B/zh
Priority to CN201811028474.1A priority patent/CN109062004B/zh
Publication of JP2015002344A publication Critical patent/JP2015002344A/ja
Publication of JP2015002344A5 publication Critical patent/JP2015002344A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6271875B2 publication Critical patent/JP6271875B2/ja
Priority to KR1020180060464A priority patent/KR101981006B1/ko
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
    • H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
    • H01L21/0274—Photolithographic processes
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
JP2013127986A 2013-06-18 2013-06-18 インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法 Active JP6271875B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013127986A JP6271875B2 (ja) 2013-06-18 2013-06-18 インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法
KR1020140069912A KR101863987B1 (ko) 2013-06-18 2014-06-10 임프린트 장치, 임프린트 방법 및 물품의 제조 방법
US14/302,566 US9971256B2 (en) 2013-06-18 2014-06-12 Imprint apparatus, imprint method, and method of manufacturing article
CN201811028474.1A CN109062004B (zh) 2013-06-18 2014-06-13 压印装置、压印方法和制造物品的方法
CN201410262315.3A CN104238263B (zh) 2013-06-18 2014-06-13 压印装置、压印方法和制造物品的方法
KR1020180060464A KR101981006B1 (ko) 2013-06-18 2018-05-28 임프린트 장치, 임프린트 방법 및 물품의 제조 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013127986A JP6271875B2 (ja) 2013-06-18 2013-06-18 インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017254394A Division JP6560736B2 (ja) 2017-12-28 2017-12-28 インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2015002344A JP2015002344A (ja) 2015-01-05
JP2015002344A5 JP2015002344A5 (enExample) 2016-08-04
JP6271875B2 true JP6271875B2 (ja) 2018-01-31

Family

ID=52018554

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013127986A Active JP6271875B2 (ja) 2013-06-18 2013-06-18 インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9971256B2 (enExample)
JP (1) JP6271875B2 (enExample)
KR (2) KR101863987B1 (enExample)
CN (2) CN104238263B (enExample)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6333039B2 (ja) 2013-05-16 2018-05-30 キヤノン株式会社 インプリント装置、デバイス製造方法およびインプリント方法
JP6315904B2 (ja) * 2013-06-28 2018-04-25 キヤノン株式会社 インプリント方法、インプリント装置及びデバイスの製造方法
JP6138189B2 (ja) 2015-04-08 2017-05-31 キヤノン株式会社 インプリント装置および物品の製造方法
JP6726987B2 (ja) * 2016-03-17 2020-07-22 キヤノン株式会社 インプリント装置および物品製造方法
JP7060961B2 (ja) * 2018-01-05 2022-04-27 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法
JP7116552B2 (ja) * 2018-02-13 2022-08-10 キヤノン株式会社 インプリント装置、および、物品製造方法
JP7134717B2 (ja) * 2018-05-31 2022-09-12 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法
JP7278135B2 (ja) * 2019-04-02 2023-05-19 キヤノン株式会社 インプリント装置および物品製造方法
JP7433861B2 (ja) * 2019-11-27 2024-02-20 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、物品の製造方法、基板、および、型
WO2022027925A1 (zh) * 2020-08-05 2022-02-10 上海鲲游光电科技有限公司 一体成型的树脂匀光元件和doe及其制造方法
US12124165B2 (en) * 2021-10-25 2024-10-22 Canon Kabushiki Kaisha Apparatus and method for optimizing actuator forces
JP2024011582A (ja) * 2022-07-15 2024-01-25 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、及び物品の製造方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006165371A (ja) 2004-12-09 2006-06-22 Canon Inc 転写装置およびデバイス製造方法
JP2010283207A (ja) * 2009-06-05 2010-12-16 Toshiba Corp パターン形成装置およびパターン形成方法
JP5662741B2 (ja) * 2009-09-30 2015-02-04 キヤノン株式会社 インプリント装置および物品の製造方法
US9000325B2 (en) * 2010-06-16 2015-04-07 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Roller mold manufacturing device and manufacturing method
JP2012084732A (ja) * 2010-10-13 2012-04-26 Canon Inc インプリント方法及び装置
JP2012178470A (ja) * 2011-02-25 2012-09-13 Canon Inc インプリント装置及びデバイスの製造方法
JP2013021194A (ja) 2011-07-12 2013-01-31 Canon Inc インプリント装置及び物品の製造方法
JP5864929B2 (ja) * 2011-07-15 2016-02-17 キヤノン株式会社 インプリント装置および物品の製造方法
JP6004738B2 (ja) * 2011-09-07 2016-10-12 キヤノン株式会社 インプリント装置、それを用いた物品の製造方法
JP6140966B2 (ja) * 2011-10-14 2017-06-07 キヤノン株式会社 インプリント装置、それを用いた物品の製造方法
JP6159072B2 (ja) * 2011-11-30 2017-07-05 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20140147015A (ko) 2014-12-29
CN104238263B (zh) 2018-09-14
CN109062004A (zh) 2018-12-21
KR101863987B1 (ko) 2018-07-04
CN109062004B (zh) 2022-03-29
CN104238263A (zh) 2014-12-24
JP2015002344A (ja) 2015-01-05
US9971256B2 (en) 2018-05-15
US20140367874A1 (en) 2014-12-18
KR101981006B1 (ko) 2019-05-21
KR20180062449A (ko) 2018-06-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6271875B2 (ja) インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法
US9261802B2 (en) Lithography apparatus, alignment method, and method of manufacturing article
JP5960198B2 (ja) パターン形成方法、リソグラフィ装置、リソグラフィシステムおよび物品製造方法
US9442370B2 (en) Imprinting method, imprinting apparatus, and device manufacturing method
JP6362399B2 (ja) インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法
JP6418773B2 (ja) インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法
JP6029494B2 (ja) インプリント方法およびインプリント装置、それを用いた物品の製造方法
KR102032095B1 (ko) 미경화 재료를 경화시키는 방법 및 물품 제조 방법
JP6497954B2 (ja) インプリント方法、インプリント装置、および物品の製造方法
JP6029268B2 (ja) インプリント装置、それを用いた物品の製造方法
JP6555868B2 (ja) パターン形成方法、および物品の製造方法
JP2016063054A (ja) インプリント方法、インプリント装置、および物品の製造方法
JP2010080631A (ja) 押印装置および物品の製造方法
JP6329353B2 (ja) インプリント装置、および物品の製造方法
JP6560736B2 (ja) インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法
JP2016021440A (ja) インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法
JP6792669B2 (ja) パターン形成方法、リソグラフィ装置、リソグラフィシステムおよび物品製造方法
KR20210065854A (ko) 임프린트 장치, 임프린트 방법, 물품의 제조 방법, 기판, 및 몰드

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160614

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160614

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20170317

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170327

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170523

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170929

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20171108

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20171204

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20171228

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6271875

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151