JP6270205B2 - 有機elデバイスの製造装置 - Google Patents
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Description
さらに、これらの問題を解決する際に低コストに対応したいという要求があった。
さらに、基板の全面においては、成膜状態検査から漏れた領域がないように、しかも、一回の動作で、一度に基板の成膜状態に対する検査を精度よくおこない、製造工程における検査にかかる時間を短縮したいという要求があった。
1.同一チャンバ内で検査をおこない、検査精度を確保すること。
2.処理雰囲気および検査雰囲気におけるリーク発生や真空度の低下を低コストに防止すること。
3.メンテナンス性の低下を安価に防止すること。
4.歩留まりの向上と有機ELデバイスの製造コスト低減とを図ること。
前記複数のゾーンとして、
保持手段を用いて前記被処理体の裏面を保持する第一ゾーン、
前記保持手段により保持された前記被処理体の表面上に蒸着膜を形成する第二ゾーン、
前記保持手段から前記被処理体の保持を解除する第三ゾーン、
が順に並んで構成されており、
前記第二ゾーンにおける成膜終了後に前記被処理体の成膜状態を検査する検査手段を有する第三ゾーンが設けられ、
前記検査手段が前記内部空間に対して密閉された大気ボックスに内蔵されるとともに、前記検査手段による検査領域が前記被処理体の幅方向全域をカバーするように前記検査手段が前記被処理体の幅方向に複数設けられることにより上記課題を解決した。
本発明は、前記検査手段が前記被処理体の搬送方向に複数列設けられることが好ましい。
本発明は、前記大気ボックスには、前記計測対象を所定の波長の照射光で照らすための照射手段が搭載されることができる。
前記複数のゾーンとして、
保持手段(基板チャック)を用いて前記被処理体の裏面(一面)を保持する第一ゾーン、
前記保持手段により保持された前記被処理体の表面(他面)上に(陽極として機能するITOなどの)第一導電膜を蒸着し、前記第一導電膜上に正孔輸送層を蒸着し、前記正孔輸送層上に発光層を蒸着し、前記発光層上に電子輸送層を蒸着し、前記電子輸送層上に(陰極として機能する)第二導電膜を蒸着する第二ゾーン、
が順に並んで構成されており、
前記第二ゾーンンの各蒸着位置のいずれかにおける成膜終了後に前記被処理体の成膜状態を検査する検査手段を有する第三ゾーンが設けられ、
前記検査手段が前記内部空間に対して密閉された大気ボックスに内蔵されるとともに、前記検査手段による検査領域が前記被処理体の幅方向全域をカバーするように前記検査手段が前記被処理体の幅方向に複数設けられることにより、成膜後ただちに同一チャンバ内において、大気圧中でないと動作保証がされていないデバイスを備えた検査装置を用いてその精度を確保して検査をおこなうことが可能となる。同時に、蒸着をおこなった成膜雰囲気から、搬送雰囲気、検査雰囲気と切り替える必要がないので、蒸着した膜への雰囲気切り替えによる影響をなくすことができる。
さらに、基板の全面において漏れがないように、しかも、一回の動作で、一度に基板の成膜状態に対する検査を精度よくおこない、製造工程における検査にかかる時間を短縮することができる。同時に、検査手段(光学系カメラ)におけるWD(Working distance)を所定の範囲内に設定して、成膜室内の真空度の低下やリークを生じることなく、メンテナンスの作業性の低下を防止でき、製品コストの増大を防止することが可能となる、という効果を奏することができる。
図1は、本実施形態における有機ELデバイスの製造装置を示す模式正面図であり、図において、符号10は、有機ELデバイスの製造装置である。
次いで、第一ゾーンZ1において、基板チャック(保持手段)Tを用いて基板(被処理体)Wの裏面(一面)を保持する。
C30…検査手段
C31,C31a,C32,C32a,C33,C33a,C34,C34a,C35,C36,…撮像手段(カメラ)
Z1〜Z3…ゾーン
L1…基板搬送部(搬送手段)
BO1,BO2,BO3…大気ボックス
Bb…検査窓部
H…搬送方向(進行方向)
Hb…基板幅方向
M…マスク
E…蒸着源
W…基板(被処理体)
T…基板チャック(保持手段)
S…チャンバ(成膜室)
S1…内部空間
XY…XYステージ(調整手段)
L,L36…照射手段
A1,B1…仕切りバルブ
Claims (3)
- 前段のプロセスを行う処理室Aと後段のプロセスを行う処理室Bとの間に設けられた、減圧可能な単一の内部空間を有する成膜室を備え、前記処理室Aから前記成膜室へ搬入された被処理体が、該成膜室の内部空間内に配された複数のゾーンを通過して前記処理室Bへ搬出されることにより有機ELデバイスを製造する装置であって、
前記複数のゾーンとして、
保持手段を用いて前記被処理体の裏面を保持する第一ゾーン、
前記保持手段により保持された前記被処理体の表面上に蒸着膜を形成する第二ゾーン、
前記保持手段から前記被処理体の保持を解除する第三ゾーン、
が順に並んで構成されており、
前記第二ゾーンにおける成膜終了後に前記被処理体の成膜状態を検査する検査手段を有する第三ゾーンが設けられ、
前記検査手段が前記内部空間に対して密閉された大気ボックスに内蔵されるとともに、前記検査手段による検査領域が前記被処理体の幅方向全域をカバーするように前記検査手段が前記被処理体の幅方向に複数設けられることを特徴とする有機ELデバイスの製造装置。 - 前記検査手段が前記被処理体の搬送方向に複数列設けられることを特徴とする請求項1記載の有機ELデバイスの製造装置。
- 前記大気ボックスには、前記計測対象を所定の波長の照射光で照らすための照射手段が搭載されることを特徴とする請求項1または2に記載の有機ELデバイスの製造装置。
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