JP6267505B2 - レーザダイシング方法 - Google Patents
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Images
Description
R=((na-nb)/(na+nb))^2
で表される。
つまり、naとnbの差が小さいほど分子の値が小さくなり、反射率Rが小さくなることがわかる。
12 レーザヘッド
13 加工部
14 ロードポート
15 搬送手段
16 反転アームユニット
17 コントロールパネル
18 X移動軸
19 ウェーハテーブル
20 撮像手段
21 レーザ発振器
22 コリメートレンズ
23 ミラー
24 コンデンスレンズ
25 保護部材
26 上下移動軸
27 移動ブロック
28 回転軸
29 反転アーム
30 シート材
31 糊
F フレーム
L レーザ光
P 改質層
T 粘着シート
W 半導体ウェーハ(基板)
Claims (3)
- 表面に電子デバイス又は電極パターンが形成され、かつ、裏面に粘着シートが貼り付けられた基板の内部に集光点を合わせて、レーザ光を前記基板の裏面から前記粘着シートを通して入射させ、前記基板の割断予定ラインに沿って前記基板の内部に改質層を形成するレーザダイシング方法において、
前記粘着シートに、シート材と該シート材の裏面に密着して配設される糊とでなる粘着シートを使用するとともに、
前記糊に、前記基板の研削痕を埋めて前記基板の裏面と前記シート材の裏面との間を密に接着可能な柔らかい糊を使用する、
ことを特徴とするレーザダイシング方法。 - 前記糊が、前記基板の屈折率に近い屈折率を有した糊であることを特徴とする請求項1に記載のレーザダイシング方法。
- 前記シート材がアクリル系樹脂であり、前記糊がエポキシ系樹脂であることを特徴とする請求項1又は2に記載のレーザダイシング方法。
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