JP6266322B2 - 表示装置製造用の位相シフトマスクブランク、表示装置製造用の位相シフトマスク及びその製造方法、並びに表示装置の製造方法 - Google Patents

表示装置製造用の位相シフトマスクブランク、表示装置製造用の位相シフトマスク及びその製造方法、並びに表示装置の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6266322B2
JP6266322B2 JP2013242209A JP2013242209A JP6266322B2 JP 6266322 B2 JP6266322 B2 JP 6266322B2 JP 2013242209 A JP2013242209 A JP 2013242209A JP 2013242209 A JP2013242209 A JP 2013242209A JP 6266322 B2 JP6266322 B2 JP 6266322B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
phase shift
film
shift mask
pattern
wavelength
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2013242209A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2015102633A (ja
JP2015102633A5 (OSRAM
Inventor
誠治 坪井
誠治 坪井
裕 吉川
吉川　　裕
正男 牛田
正男 牛田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoya Electronics Malaysia Sdn Bhd
Original Assignee
Hoya Electronics Malaysia Sdn Bhd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoya Electronics Malaysia Sdn Bhd filed Critical Hoya Electronics Malaysia Sdn Bhd
Priority to JP2013242209A priority Critical patent/JP6266322B2/ja
Priority to KR1020140161566A priority patent/KR20150059610A/ko
Priority to TW103140505A priority patent/TWI591422B/zh
Priority to TW106134106A priority patent/TWI655670B/zh
Priority to TW106114900A priority patent/TWI605299B/zh
Publication of JP2015102633A publication Critical patent/JP2015102633A/ja
Publication of JP2015102633A5 publication Critical patent/JP2015102633A5/ja
Priority to KR1020170134755A priority patent/KR101935171B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of JP6266322B2 publication Critical patent/JP6266322B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/26—Phase shift masks [PSM]; PSM blanks; Preparation thereof
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
JP2013242209A 2013-11-22 2013-11-22 表示装置製造用の位相シフトマスクブランク、表示装置製造用の位相シフトマスク及びその製造方法、並びに表示装置の製造方法 Active JP6266322B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013242209A JP6266322B2 (ja) 2013-11-22 2013-11-22 表示装置製造用の位相シフトマスクブランク、表示装置製造用の位相シフトマスク及びその製造方法、並びに表示装置の製造方法
KR1020140161566A KR20150059610A (ko) 2013-11-22 2014-11-19 표시 장치 제조용의 위상 시프트 마스크 블랭크, 표시 장치 제조용의 위상 시프트 마스크 및 그 제조 방법, 및 표시 장치의 제조 방법
TW106134106A TWI655670B (zh) 2013-11-22 2014-11-21 顯示裝置製造用相偏移光罩基底、顯示裝置製造用相偏移光罩及其製造方法、以及顯示裝置之製造方法
TW106114900A TWI605299B (zh) 2013-11-22 2014-11-21 顯示裝置製造用相偏移光罩基底、顯示裝置製造用相偏移光罩及其製造方法、以及顯示裝置之製造方法
TW103140505A TWI591422B (zh) 2013-11-22 2014-11-21 顯示裝置製造用相偏移光罩基底、顯示裝置製造用相偏移光罩及其製造方法、以及顯示裝置之製造方法
KR1020170134755A KR101935171B1 (ko) 2013-11-22 2017-10-17 표시 장치 제조용의 위상 시프트 마스크 블랭크, 표시 장치 제조용의 위상 시프트 마스크 및 그 제조 방법, 및 표시 장치의 제조 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013242209A JP6266322B2 (ja) 2013-11-22 2013-11-22 表示装置製造用の位相シフトマスクブランク、表示装置製造用の位相シフトマスク及びその製造方法、並びに表示装置の製造方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017171738A Division JP6532919B2 (ja) 2017-09-07 2017-09-07 表示装置製造用の位相シフトマスクブランク、表示装置製造用の位相シフトマスク、及び表示装置の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2015102633A JP2015102633A (ja) 2015-06-04
JP2015102633A5 JP2015102633A5 (OSRAM) 2016-02-04
JP6266322B2 true JP6266322B2 (ja) 2018-01-24

Family

ID=53378379

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013242209A Active JP6266322B2 (ja) 2013-11-22 2013-11-22 表示装置製造用の位相シフトマスクブランク、表示装置製造用の位相シフトマスク及びその製造方法、並びに表示装置の製造方法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP6266322B2 (OSRAM)
KR (2) KR20150059610A (OSRAM)
TW (3) TWI605299B (OSRAM)

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6767735B2 (ja) * 2015-06-30 2020-10-14 Hoya株式会社 フォトマスク、フォトマスクの設計方法、フォトマスクブランク、および表示装置の製造方法
JP6726553B2 (ja) * 2015-09-26 2020-07-22 Hoya株式会社 フォトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法
JP6626813B2 (ja) * 2016-03-16 2019-12-25 エスアンドエス テック カンパニー リミテッド 位相反転ブランクマスク及びフォトマスク
JP6812236B2 (ja) * 2016-12-27 2021-01-13 Hoya株式会社 位相シフトマスクブランク及びこれを用いた位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
CN108319104B (zh) * 2017-01-16 2023-05-02 Hoya株式会社 显示装置制造用相移掩模坯料、显示装置制造用相移掩模的制造方法及显示装置的制造方法
CN108319103B (zh) * 2017-01-16 2023-11-28 Hoya株式会社 相移掩模坯料及使用其的相移掩模的制造方法、以及显示装置的制造方法
JP6983641B2 (ja) * 2017-01-16 2021-12-17 Hoya株式会社 表示装置製造用の位相シフトマスクブランク、表示装置製造用の位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
JP7176843B2 (ja) * 2017-01-18 2022-11-22 Hoya株式会社 表示装置製造用の位相シフトマスクブランク、表示装置製造用の位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
KR102568807B1 (ko) * 2017-03-28 2023-08-21 호야 가부시키가이샤 위상 시프트 마스크 블랭크 및 그것을 사용한 위상 시프트 마스크의 제조 방법, 그리고 패턴 전사 방법
CN111373324A (zh) * 2017-11-06 2020-07-03 Asml荷兰有限公司 用于降低应力的金属硅氮化物
JP7037919B2 (ja) * 2017-11-14 2022-03-17 アルバック成膜株式会社 マスクブランク、ハーフトーンマスクおよびその製造方法
CN109960105B (zh) * 2017-12-26 2024-06-18 Hoya株式会社 光掩模坯料及光掩模的制造方法、显示装置的制造方法
JP2018173644A (ja) * 2018-05-31 2018-11-08 Hoya株式会社 位相シフトマスクブランク及びこれを用いた位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
JP6927177B2 (ja) * 2018-09-26 2021-08-25 信越化学工業株式会社 位相シフト型フォトマスクブランク及び位相シフト型フォトマスク
JP6840807B2 (ja) * 2019-09-10 2021-03-10 Hoya株式会社 フォトマスクの設計方法および製造方法、並びに表示装置の製造方法
JP7731678B2 (ja) 2020-03-16 2025-09-01 Hoya株式会社 フォトマスク、及び表示装置の製造方法
US12366798B2 (en) * 2021-06-07 2025-07-22 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Lithography mask and methods
JP7346527B2 (ja) * 2021-11-25 2023-09-19 Hoya株式会社 マスクブランク、転写用マスク、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び表示装置の製造方法
JP2023108276A (ja) * 2022-01-25 2023-08-04 Hoya株式会社 マスクブランク、転写用マスク、転写用マスクの製造方法、及び表示装置の製造方法
US20230317452A1 (en) * 2022-03-31 2023-10-05 Nanya Technology Corporation Hard mask structure

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5674647A (en) * 1992-11-21 1997-10-07 Ulvac Coating Corporation Phase shift mask and manufacturing method thereof and exposure method using phase shift mask
US7011910B2 (en) * 2002-04-26 2006-03-14 Hoya Corporation Halftone-type phase-shift mask blank, and halftone-type phase-shift mask
US7045255B2 (en) * 2002-04-30 2006-05-16 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Photomask and method for producing the same
JP3727331B2 (ja) * 2002-04-30 2005-12-14 松下電器産業株式会社 パターン形成方法
JP4249509B2 (ja) * 2003-02-27 2009-04-02 大日本印刷株式会社 位相シフトレチクルの製造方法および位相シフター欠陥修正方法
KR101143005B1 (ko) * 2004-12-14 2012-05-08 삼성전자주식회사 마스크 및 이를 이용한 반도체 소자의 제조 방법 및 박막트랜지스터 표시판의 제조 방법
JP2007271696A (ja) * 2006-03-30 2007-10-18 Hoya Corp グレートーンマスクブランク及びフォトマスク
JP4840879B2 (ja) * 2007-08-10 2011-12-21 エスアンドエス テック カンパニー リミテッド グレートーンブランクマスク及びグレートーンフォトマスク並びにそれらの製造方法
JP4849276B2 (ja) * 2008-08-15 2012-01-11 信越化学工業株式会社 グレートーンマスクブランク、グレートーンマスク、及び製品加工標識又は製品情報標識の形成方法
WO2010032753A1 (ja) * 2008-09-18 2010-03-25 株式会社ニコン 開口絞り、光学系、露光装置及び電子デバイスの製造方法
TWI440964B (zh) * 2009-01-27 2014-06-11 Hoya Corp 多調式光罩、多調式光罩之製造方法及圖案轉印方法
JP5662032B2 (ja) * 2010-02-05 2015-01-28 アルバック成膜株式会社 マスクブランクス及びハーフトーンマスク
TWI461833B (zh) * 2010-03-15 2014-11-21 Hoya Corp 多調式光罩、多調式光罩之製造方法及圖案轉印方法
JP5357341B2 (ja) * 2010-09-30 2013-12-04 Ｈｏｙａ株式会社 マスクブランク及びその製造方法並びに転写用マスク
KR101151685B1 (ko) * 2011-04-22 2012-07-20 주식회사 에스앤에스텍 블랭크 마스크 및 포토마스크
JP5286455B1 (ja) * 2012-03-23 2013-09-11 Ｈｏｙａ株式会社 マスクブランク、転写用マスクおよびこれらの製造方法
JP5538513B2 (ja) * 2012-12-12 2014-07-02 Ｈｏｙａ株式会社 多階調フォトマスク、パターン転写方法及び薄膜トランジスタの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW201527866A (zh) 2015-07-16
TWI655670B (zh) 2019-04-01
KR101935171B1 (ko) 2019-01-03
JP2015102633A (ja) 2015-06-04
TWI605299B (zh) 2017-11-11
TW201727354A (zh) 2017-08-01
KR20150059610A (ko) 2015-06-01
TW201801148A (zh) 2018-01-01
TWI591422B (zh) 2017-07-11
KR20170119324A (ko) 2017-10-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6266322B2 (ja) 表示装置製造用の位相シフトマスクブランク、表示装置製造用の位相シフトマスク及びその製造方法、並びに表示装置の製造方法
KR102246114B1 (ko) 위상 시프트 마스크 블랭크 및 그 제조 방법, 위상 시프트 마스크의 제조 방법, 및 표시 장치의 제조 방법
JP6367401B2 (ja) 位相シフトマスクブランク及びその製造方法、位相シフトマスク及びその製造方法、並びに表示装置の製造方法
JP6396118B2 (ja) 位相シフトマスクブランク及びその製造方法、並びに位相シフトマスクの製造方法
US11022875B2 (en) Mask blank, phase shift mask, and method of manufacturing semiconductor device
JP7176843B2 (ja) 表示装置製造用の位相シフトマスクブランク、表示装置製造用の位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
JP6544964B2 (ja) マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び、半導体デバイスの製造方法
TWI758382B (zh) 相移光罩基底、相移光罩之製造方法、及顯示裝置之製造方法
US20230314929A1 (en) Mask blank, phase shift mask, and method of manufacturing semiconductor device
JP2015225280A (ja) 位相シフトマスクブランク及びその製造方法、並びに位相シフトマスクの製造方法
JP2021144237A (ja) 位相シフトマスクブランクおよびこれを用いた位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
WO2020066591A1 (ja) マスクブランク、転写用マスクおよび半導体デバイスの製造方法
JP7558861B2 (ja) マスクブランク、位相シフトマスク及び半導体デバイスの製造方法
WO2020066590A1 (ja) マスクブランク、転写用マスクおよび半導体デバイスの製造方法
JP6532919B2 (ja) 表示装置製造用の位相シフトマスクブランク、表示装置製造用の位相シフトマスク、及び表示装置の製造方法
JP5906143B2 (ja) マスクブランク、転写用マスク、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法
JP2018165817A (ja) 位相シフトマスクブランク及びそれを用いた位相シフトマスクの製造方法、並びにパターン転写方法
CN108319104B (zh) 显示装置制造用相移掩模坯料、显示装置制造用相移掩模的制造方法及显示装置的制造方法
JP7543116B2 (ja) マスクブランク、位相シフトマスク及び半導体デバイスの製造方法
JP7221261B2 (ja) マスクブランク、位相シフトマスク、及び半導体デバイスの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20151209

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20151209

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20160909

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160920

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20161219

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20170516

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170907

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20170907

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20171002

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20171121

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6266322

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250