JP6265702B2 - 基板洗浄装置及び基板洗浄方法 - Google Patents
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Description
本発明において楕円状とは、細長い楕円形、長円形など丸みを帯びた形状を含む概念である。
例えば、基板表面上のロール洗浄部材が正面からみて右方向(時計回り方向)に回転している時、ロール洗浄部材を挟んで分かれる2つの基板表面エリアのうち、ロール洗浄部材の回転によって洗浄液が掻き出されるエリア、つまり左側のエリアがロール掻出し側エリアとなる。このロール掻出し側エリアに洗浄液を供給することで、基板の回転中心を挟んで、基板の回転速度の向きとロール洗浄部材の回転速度の向きが互いに逆向きになってロール洗浄部材と基板が互いに接触することで高い物理洗浄性が得られる、逆方向洗浄エリアに効果的に洗浄液を供給することができる。
例えば、基板表面上のロール洗浄部材が正面からみて右方向(時計回り方向)に回転している時、基板表面のロール洗浄部材を挟んで分かれる2つのエリアのうち、ロール洗浄部材の回転によって洗浄液が巻き込まれるエリア、つまり右側のエリアがロール巻込み側エリアとなる。このように、ロール巻込み側エリアでロール洗浄部材に洗浄液を供給することで、ロール洗浄部材に洗浄液を保持させて洗浄エリアに効果的に洗浄液を供給することができる。
このように、基板表面のロール掻出し側エリアとロール巻込み側エリアの双方に洗浄液を供給することで、洗浄効果を更に高めることができる。
これにより、基板とロール洗浄部材とが互いに接触する洗浄エリアに、ロール洗浄部材の近傍からより均一に薬液を供給することができる。
これにより、基板の回転中心及びその近傍に第1薬液供給ノズルから薬液を確実に供給することができる。
これにより、第1薬液供給ノズルから供給された薬液が、基板とロール洗浄部材とが互いに接触する洗浄エリアに達する前に基板の側方から外部に流出してしまうことを防止することができる。
これにより、基板の回転中心及びその近傍に第2薬液供給ノズルから薬液を確実に供給することができる。
これにより、基板の回転中心及びその近傍にリンス液供給ノズルからリンス液を確実に供給することができる。
これにより、基板に供給される薬液を基板に供給されるリンス液で希釈することができる。
図1は、本発明の実施形態に係る基板洗浄装置を備えた基板処理装置の全体構成を示す平面図である。図1に示すように、基板処理装置は、略矩形状のハウジング10と、多数の半導体ウエハ等の基板をストックする基板カセットが載置されるロードポート12を備えている。ロードポート12は、ハウジング10に隣接して配置されている。ロードポート12には、オープンカセット、SMIF(Standard Manufacturing Interface)ポッド、またはFOUP(Front Opening Unified Pod)を搭載することができる。SMIF、FOUPは、内部に基板カセットを収納し、隔壁で覆うことにより、外部空間とは独立した環境を保つことができる密閉容器である。
基板表面のロール巻込み側エリアRIとは、ロール洗浄部材44の回転によって洗浄液が巻き込まれるほうの片側エリア(図3において右側)であり、基板表面のロール掻出し側エリアROとは、ロール洗浄部材44の回転によって洗浄液が掻き出されるほうの片側エリア(図3において左側)である。
更に、片側エリアRIと片側エリアROをさらにX軸を境に基板Wの回転方向に対して上流側エリアと下流側エリアに分ける。片側エリアRIのうち、X軸上方の上流側エリアをロール巻込み上流側エリアRI−WUと定義し、X軸下方の下流側エリアをロール巻込み下流側エリアRI−WDと定義する。片側エリアROのうち、X軸下方の上流側エリアをロール掻出し上流側エリアRO−WUと定義し、X軸上方の下流側エリアをロール掻出し下流側エリアRO−WDと定義する。
VRの相対回転速度の大きさが、両者の回転速度の大きさの差の絶対値となって相対的に低くなり、低い物理洗浄性しか得られない。しかも、基板Wの回転速度VWとロール洗浄部材44の回転速度VRの大きさによっては、両者の相対回転速度の大きさがゼロ(VW=VR)となって、基板Wが洗浄されない領域が生じることがある。この基板Wが洗浄されない領域は、基板Wとロール洗浄部材44とが単に接触しているだけで、基板Wの表面のロール洗浄部材44によるスクラブ洗浄が行われず、逆にロール洗浄部材44に付着した残渣等が基板Wの表面に押付けられて再付着し、基板Wの表面の汚染の原因となると考えられる。
とロール洗浄部材44の最外周を基板Wの表面に投影した線との距離A1は、例えば5mm程度、或いはそれ以下であることが望ましい。
図7に示すように、第1薬液供給ノズル60の薬液噴射中心線O3と基板表面に沿った水平面とのなす角θ2は、5°〜60°(5°≦θ2≦60°)に設定されている。角度θ2は、基板Wに対する第1薬液の供給角度と考えられる。図7における薬液噴射中心線は、ノズルから噴射された液体が広がった角度(正面図における噴射角度)を等分する中心線をいい、正面図からみた場合のノズルの向きの方向性を表している。このように第1薬液供給ノズル60を設置することにより、図8に示すように、基板Wの表面に接触した新鮮な薬液が、接触後第1接触領域60aを中心に横方向に均等に拡がって、逆向洗浄エリア54に、より均等に行き渡るようになっている。図8は、第1薬液供給ノズルから基板に供給される薬液が、基板に接触した後に拡がる状態を示している。
この第3薬液供給ノズル80は、図12及び図13に示すように、細長く長尺状に延びる第4接触領域80aで薬液がロール巻込み側エリアRIに位置するロール洗浄部材44の表面に接触するようにロール洗浄部材44に向けて薬液を供給する扇状ノズルから構成されている。ここでは、第1薬液供給ノズル及び第3薬液供給ノズルとして扇状ノズルを使用し、第2薬液供給ノズル、リンス液供給ノズル及び第2リンス液供給ノズルとして円錐ノズルを使用しているが、いずれもノズル形状がこれらに限定されることはない。また、楕円状とは細長い楕円形や長円形も含む概念である。
16 第1洗浄ユニット
18 第2洗浄ユニット
20 乾燥ユニット
24 搬送ユニット
40 上部ロールホルダ
42 下部ロールホルダ
44 上部ロール洗浄部材
46 下部ロール洗浄部材
50 洗浄エリア
52 順方向洗浄エリア
54 逆方向洗浄エリア
60,70 第1薬液供給ノズル
60a,70a 第1接触領域
62,72 第2薬液供給ノズル
62a,72a 第2接触領域
64,74 リンス液供給ノズル
64a,74a 第3接触領域
80 第3薬液供給ノズル
80a 第4接触領域
82 第2リンス液供給ノズル
Claims (18)
- 基板の直径のほぼ全長に亘って直線状に水平に延びるロール洗浄部材と基板とをそれぞれ一方向に回転させつつ、洗浄液の存在下で、前記ロール洗浄部材と基板表面とを互いに接触させて基板表面をスクラブ洗浄する基板洗浄装置において、
基板表面の前記ロール洗浄部材を挟んで分かれる2つのエリアのうちの一つの片側エリアに薬液を供給する第1薬液供給ノズル及び第2薬液供給ノズルと、
基板表面にリンス液を供給するリンス液供給ノズルとを有し、
前記第1薬液供給ノズルは、細長く長尺状に延びる第1接触領域で薬液が基板に接触するように基板に向けて薬液を供給するノズルから構成され、前記第2薬液供給ノズルは、楕円状に広がる第2接触領域で薬液が基板に接触するように基板に向けて薬液を供給するノズルから構成され、
前記第1薬液供給ノズルと前記第2薬液供給ノズルは、前記第1接触領域が基板の回転方向に沿った前記第2接触領域の下流側に位置するように配置され、
前記リンス液供給ノズルは、基板の回転方向に沿った前記第2接触領域の上流側でリンス液が基板に接触するように配置されていることを特徴とする基板洗浄装置。 - 前記片側エリアは、前記ロール洗浄部材の回転によって洗浄液が掻き出されるロール掻出し側エリアであることを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄装置。
- 前記ロール洗浄部材の回転によって洗浄液が巻き込まれるロール巻込み側エリアの方向から、前記ロール洗浄部材に洗浄液を供給することを特徴とする請求項2に記載の基板洗浄装置。
- 前記片側エリアは、前記ロール洗浄部材の回転によって洗浄液が掻き出されるロール掻出し側エリアと、前記ロール洗浄部材の回転によって洗浄液が巻き込まれるロール巻込み側エリアの双方であることを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄装置。
- 前記第1接触領域は、前記片側エリアにおいて基板の回転方向に沿った下流側に位置し、前記ロール洗浄部材と平行に延びていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
- 前記第1接触領域は、基板の外周端部付近から基板の回転中心を通り前記ロール洗浄部材と直交して水平に延びる直線を越えて前記ロール洗浄部材と平行に延びていることを特徴とする請求項5に記載の基板洗浄装置。
- 前記第1薬液供給ノズルの薬液噴射中心線を基板表面上に投影した線と、前記第1接触領域内で前記投影した線と交わる前記ロール洗浄部材の回転軸に直交する直線とのなす角は、前記直交する直線から時計回り方向にみた角度を正の角度θ1とした場合、−80°≦θ1≦60°であることを特徴とする請求項6に記載の基板洗浄装置。
- 前記第2薬液供給ノズルの薬液噴射中心線を基板表面上に投影した線は、基板の回転中心または該回転中心よりも基板の回転方向に沿った下流側で前記ロール洗浄部材の回転軸に沿って延びる線と交叉することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
- 前記第2薬液供給ノズルの薬液噴射中心線を基板表面上に投影した線と前記ロール洗浄部材の回転軸に沿って延びる線とのなす角は、30°以上で90°未満であることを特徴とする請求項8に記載の基板洗浄装置。
- 前記リンス液供給ノズルのリンス液噴射中心線を基板表面上に投影した線は、基板の回転中心または該回転中心よりも基板の回転方向に沿った下流側で前記ロール洗浄部材の回転軸に沿って延びる線と交叉することを特徴とする請求項1乃至9のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
- 前記リンス液供給ノズルのリンス液噴射中心線を基板表面上に投影した線と前記ロール洗浄部材の回転軸に沿って延びる線とのなす角は、10°以上で60°以下であることを特徴とする請求項10に記載の基板洗浄装置。
- 基板の直径のほぼ全長に亘って直線状に水平に延びるロール洗浄部材と基板とをそれぞれ一方向に回転させつつ、洗浄液の存在下で、前記ロール洗浄部材と基板表面とを互いに接触させて基板表面をスクラブ洗浄する基板洗浄方法において、
基板表面の前記ロール洗浄部材を挟んで分かれる2つのエリアのうちの一つの片側エリアの細長く延びる第1接触領域で薬液が基板に接触し、該第1接触領域より基板の回転方向に沿った上流側に位置する楕円状に広がる第2接触領域で薬液が基板に接触するように薬液を供給しつつ、前記ロール洗浄部材を基板表面に接触させて基板表面を洗浄し、
前記ロール洗浄部材を基板表面から離間させ薬液の供給を停止した後、前記第2接触領域より基板の回転方向に沿った上流側にリンス液を供給して基板表面をリンスすることを特徴とする基板洗浄方法。 - 前記片側エリアは、前記ロール洗浄部材の回転によって洗浄液が掻き出されるロール掻出し側エリアであることを特徴とする請求項12に記載の基板洗浄方法。
- 前記ロール洗浄部材の回転によって洗浄液が巻き込まれるロール巻込み側エリアの方向から、前記ロール洗浄部材に洗浄液を供給することを特徴とする請求項13に記載の基板洗浄方法。
- 前記片側エリアは、前記ロール洗浄部材の回転によって洗浄液が掻き出されるロール掻出し側エリアと、前記ロール洗浄部材の回転によって洗浄液が巻き込まれるロール巻込み側エリアの双方であることを特徴とする請求項12に記載の基板洗浄方法。
- 前記第2接触領域より基板の回転方向に沿った上流側に位置する第3接触領域でリンス液が基板に接触するようにリンス液を更に供給することを特徴とする請求項12乃至15のいずれか一項に記載の基板洗浄方法。
- 前記第1接触領域は、前記片側エリアにおいて基板の回転方向に沿った下流側に位置し、前記ロール洗浄部材と平行に延びていることを特徴とする請求項12乃至16のいずれか一項に記載の基板洗浄方法。
- 前記第1接触領域は、基板の回転中心を通り前記ロール洗浄部材と直交して水平に延びる直線を越えて前記ロール洗浄部材と平行に延びていることを特徴とする請求項17に記載の基板洗浄方法。
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