JP6261210B2 - 走査回路、光電変換装置、および撮像システム - Google Patents
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Description
図1は、本実施例に係る光電変換装置の構成を示すブロック図である。光電変換装置01は、複数の画素02が行列状に配された画素アレイ03と、列信号処理部04と、を含む。光電変換装置01は、さらに、画素02の動作を行単位で制御する行選択部としての垂直走査回路05と、水平走査回路06と、制御部07と、を含む。各列の画素02は信号線を介して列信号処理部04と接続される。列信号処理部04の各々は、例えば、画素02から出力された信号をバッファするバッファや、増幅器、CDS(Correlated Double Sampling)回路などのノイズ低減回路を含む。
図5(a)は、本実施例に係る光電変換装置01’の構成を示す回路図である。図2との相違点は、ゲート部10が設けられた点である。これにより、いわゆるローリングシャッタ動作が可能になる。
図8は、本実施例に係る光電変換装置01’’の構成を示す回路図である。実施例1および2との相違点は、走査用シフトレジスタ08が、メモリ部09の機能の一部を兼ねている点である。本実施例では、メモリ部09に、スキップ情報を保持する機能のみを持たせ、スキップ情報を伝送する第2のシフトレジスタとしての機能は、第1のシフトレジスタである走査用シフトレジスタ08に担わせる。下記では、先述の実施例とは異なる点を中心に説明する。図8では、制御部07を省略している。
図10は、本実施例に係る撮像システムの構成を示す図である。撮像システム800は、例えば、光学部810、撮像素子100、映像信号処理部830、記録・通信部840、タイミング制御回路部850、システム制御部860、及び再生・表示部870を含む。撮像装置820は、撮像素子100及び映像信号処理部830を有する。撮像素子100は、先の各実施例で説明した光電変換装置が用いられる。
上記の各実施例では、第1のシフトレジスタが2個の単位レジスタ毎にスキップできる構成を説明したが、スキップする単位レジスタの数は2個に限定されるものではない。
02 画素
03 画素アレイ
04 列信号処理部
05 垂直走査回路
06 水平走査回路
07 制御部
08 走査用シフトレジスタ
09 メモリ部
Claims (6)
- 直列に接続された複数のレジスタを含み、前記複数のレジスタのうち、走査をスキップするレジスタを指定可能な第1のシフトレジスタと、
前記スキップするレジスタを指定するためのスキップ情報を伝送する、第2のシフトレジスタと、
前記複数のレジスタに対応して設けられた複数のバイパス部と、
それぞれが前記複数のレジスタの連続する2つの出力ノードと入力ノードとを接続する、複数のスイッチと、を備え、
前記第2のシフトレジスタは前記スキップ情報に基づいて前記複数のバイパス部および前記複数のスイッチを、オン状態とオフ状態とに制御し、
前記第2のシフトレジスタは、前記複数のレジスタに含まれる1つのレジスタの入力ノードに接続された前記バイパス部と、前記1つのレジスタの出力ノードに接続された前記スイッチとに対して、互いに逆位相の信号を供給すること、
を特徴とする走査回路。 - 前記第2のシフトレジスタによって、前記スキップ情報を伝送した後に、前記第1のシフトレジスタが走査を開始することを特徴とする請求項1に記載の走査回路。
- 複数の画素が行列状に配列された画素アレイと、
前記画素アレイの行を選択する行選択部と、を含む光電変換装置であって、
前記行選択部は、請求項1または2に記載の走査回路を含むこと
を特徴とする光電変換装置。 - 前記行選択部は、前記第1のシフトレジスタの出力をゲーティングするゲート部をさらに備えることを特徴とする請求項3に記載の光電変換装置。
- 請求項3または4に記載の光電変換装置と、
前記複数の画素に像を形成する光学系と、
前記光電変換装置から出力された信号を処理して画像データを生成する映像信号処理部と、を備えたこと
を特徴とする撮像システム。 - 直列に接続された複数のレジスタを含み、前記複数のレジスタのうち、走査をスキップするレジスタを指定可能な第1のシフトレジスタと、
前記スキップするレジスタを指定するためのスキップ情報を伝送する、第2のシフトレジスタと、
前記複数のレジスタに対応して設けられた複数のバイパス部と、
それぞれが前記複数のレジスタの連続する2つの出力ノードと入力ノードとを接続する入力ノードとを接続する、複数のスイッチと、を備え、
前記第2のシフトレジスタは前記スキップ情報に基づいて前記複数のバイパス部および前記複数のスイッチを、オン状態とオフ状態とに制御し、
前記第2のシフトレジスタは、前記複数のレジスタに含まれる1つのレジスタの入力ノードに接続された前記バイパス部と、前記1つのレジスタの出力ノードに接続された前記スイッチとに対して、互いに逆位相の信号を供給する走査回路の製造方法であって、
前記第1および第2のシフトレジスタの一部が、同一のマスクパターンを複数回用いて半導体基板上に形成されること
を特徴とする走査回路の形成方法。
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