JP6256216B2 - 分光測定装置、液体クロマトグラフ及び分光器の波長校正方法 - Google Patents

Description

本発明は単独での測定装置として又は液体クロマトグラフなどの測定装置の検出器として使用される紫外可視分光光度計（ＵＶ）などの分光測定装置、その分光測定装置を検出器として備えた液体クロマトグラフ、及び分光器の波長校正方法に関するものである。液体クロマトグラフは高速液体クロマトグラフを含む。

分光測定装置には波長分散素子として回折格子を備え、その回折格子を回転させることにより出口スリットから取り出される回折光の波長を選択するものがある。回折格子を回転させるためにパルスモータを備え、そのパルスモータに制御部から所定数の制御パルスを送ることにより、回折格子を所定の角度だけ回転させて回折光の波長を選択する。

出口スリットから取り出される回折光の波長と回折格子を回転させる制御パルス数はあらかじめ理論的に求められており、制御部は目的とする波長に対応する制御パルス数をパルスモータに送る。

回折格子の取付け精度や部品の加工精度によって、所定の制御パルス数をパルスモータに送っても理論通りの波長が得られないことがある。そのため、波長が既知の輝線スペクトルを用いて校正を行う。

例えば、Ｄ₂（重水素）ランプのスペクトルから輝線を探してその位置を長波長側の基準位置６５６.１ｎｍと定義し、水銀ランプのスペクトルからも輝線を探してその位置を短波長側の基準位置２５３.７ｎｍと定義して、回折格子を回転させるパルスモータの回転位置の校正を行っている。輝線の位置は物理量で決まっているため、個体差がなく、校正する基準位置は変わることがない。

短波長側の基準位置を求めるために使用されている水銀ランプは、「危険物質に関する制限（ＲｏＨＳ）」による規制のために将来使用できなくなる可能性がある。そのため、水銀ランプの輝線波長に代わるものとして、Ｈｏ（ホロニウム）ガラスフィルタのＨｏ吸収スペクトルのピーク波長を使用することを検討した。Ｈｏは２４１.７ｎｍ（ＮＩＳＴ（国立標準技術研究所、米国）基準）に吸収ピークをもつので、それを水銀ランプの輝線波長に代わる短波長側の基準位置を求める基準吸収ピークとして使用しようという試みである。

しかし、市販のＨｏガラスフィルタの吸収スペクトルを測定すると、基準吸収ピークとなる２４１.７ｎｍの吸収ピークが基板の添加物由来の短波長側の大きな吸収ピークと重なり、基準吸収ピーク位置が２４１.７ｎｍからずれることが分かった。しかも、そのずれる量は、市販のＨｏガラスフィルタごとにばらついている。

その一例を図１１に示す。図１１は３つの市販のＨｏガラスフィルタの吸収スペクトルを示したものであり、２４１.７ｎｍ付近を示している。校正は実際に試料を測定する分析装置で行う。そのため、この吸収スペクトルの測定も試料測定用の分光光度計により行ったものであり、出口スリットのスリット幅が８ｍｍと広く、測定バンド幅が広くなっているが、吸収ピーク波長を求めることはできる。出口スリットのスリット幅を狭くして測定バンド幅を狭くすれば急峻なピーク波形が得られるが、出口スリットのスリット幅を狭くするほど測定用のセルに送られる回折光の光量が減少する。また、ピーク波形が急峻になったとしてもＨｏの吸収ピーク波長が基板の添加物由来の吸収ピークの影響を受けることに変わりはない。

本発明は、市販のＨｏガラスフィルタを使用してその特定の吸収ピーク波長を短波長側の基準波長として分光器の波長を校正できるようにすることを目的とするものである。

本発明の分光測定装置は分光器とその波長を校正する波長校正部を備えたものである。分光器は回折素子、前記回折素子への入射光を発生する光源、前記回折素子により分光された光を受光する位置に配置された光検出素子、及び制御パルスにより制御されて前記回折素子を前記入射光の入射方向に対して回転させる波長駆動部を備えている。

前記分光器は、前記光源にはＤ₂ランプを含み水銀ランプを含まない。Ｄ₂ランプの輝線ピーク波長は物理量として定まったものである。前記分光器は従来の分光測定装置のような波長校正のための基準波長として使用する水銀ランプは備えていないので、水銀ランプの輝線スペクトルの代わりにＨｏガラスフィルタの特定の吸収ピークスペクトルを使用する。そのために、前記光源と前記回折素子との間の光路にＨｏガラスフィルタを着脱可能に装着するフィルタ装着部を備えている。

Ｈｏガラスフィルタの吸収ピークで校正に使用しようとするＨｏの２４１.７ｎｍの吸収ピークの波長は使用するＨｏガラスフィルタごとに異なっているので、使用しようとするＨｏガラスフィルタの特定の吸収ピークについて別途測定された波長を基準波長として入力する基準波長入力部を備えている。

そして、前記波長校正部は、Ｄ₂ランプの特定の輝線ピークの波長と前記基準波長入力部から入力された基準波長を用いて前記分光器の波長を校正するように構成されている。前記波長校正部は、前記回折素子を回転させる制御パルス数とそれに対する回折光の波長との理論的な関係を示す変換テーブルを保持する変換テーブル保持部、及び前記変換テーブルからの制御パルス数を校正する制御バルス数校正部を備えている。

前記制御バルス数校正部は、前記変換テーブルから求めた制御パルス数であってＤ₂ランプの特定の輝線ピークの波長に対応する制御パルス数ｎ₀₁、前記変換テーブルから求めた制御パルス数であって前記基準波長に対応する制御パルス数ｎ₀₂、Ｄ₂ランプの輝線ピークを検出したときの校正前の制御パルス数ｎ₁、及び前記Ｈｏガラスフィルタの特定の吸収ピークを検出したときの校正前の制御パルス数ｎ₂に基づいて前記変換テーブルからの制御パルス数を校正するように構成されている。

液体クロマトグラフは、移動相が流れる流路の最も上流側に配置されて前記移動相を供給する送液部と、前記流路に試料を注入する試料注入部と、前記試料注入部の下流に配置された分離用カラムと、前記分離用カラムの下流に配置され、前記分離用カラムからの溶出液が流れるフローセルと、前記フローセルを流れる溶出液を光学的に検出するように配置された分光測定装置と、を備えている。

本発明の液体クロマトグラフは分光測定装置として本発明の分光測定装置を使用する点に特徴がある。その分光測定装置において、前記フローセルは前記分光器における前記回折素子から前記光検出素子への光路に配置される。

本発明の波長校正方法は、回折素子、前記回折素子への入射光を発生する光源、前記回折素子により分光された光を受光する位置に配置された光検出素子、及び制御パルス数に基づいて前記回折素子を回転させる波長駆動部を備えた分光器の波長を校正する波長校正方法であって、前記光源としてＤ₂ランプを含み水銀ランプを含まないものを使用する。

そして、本発明の波長校正方法は以下のステップを含んでいる。すなわち、
前記分光器において前記光源と前記回折素子との間の光路にＨｏガラスフィルタを装着するステップ、
前記Ｈｏガラスフィルタについて別途測定された特定の吸収ピーク波長を基準波長として設定するステップ、
前記回折素子を回転させる制御パルス数とそれに対する回折光の波長との理論的な関係を示す変換テーブルを保持するステップ、及び
前記変換テーブルから求めた制御パルス数であってＤ₂ランプの特定の輝線ピークの波長に対応する制御パルス数、前記変換テーブルから求めた制御パルス数であって前記基準波長に対応する制御パルス数、Ｄ₂ランプの前記輝線ピークを検出したときの校正前の制御パルス数、及び前記Ｈｏガラスフィルタの前記吸収ピークを検出したときの校正前の制御パルス数に基づいて前記変換テーブルからの制御パルス数を校正するステップである。

本発明によれば、Ｄ₂ランプのほかに水銀ランプを使用しなくても、水銀ランプの代わりにＨｏガラスフィルタを使用し、使用しようとするＨｏガラスフィルタについて別途測定された特定の吸収ピークの波長を基準波長として入力し、そのＨｏガラスフィルタのその特定の吸収ピークを検出してそのピーク波長が入力された基準波長であるとする。そのようにして、Ｄ₂ランプとＨｏガラスフィルタにより分光器の波長校正を行うようにしたので、ばらつきのあるＨｏガラスフィルタを使用しても正確な校正を行うことができるようになる。

一実施形態の分光測定装置を示す概略構成図である。 同実施形態における波長校正部を示すブロック図である。 平面回折格子における入射角、出射角と回折波長の関係を示す図である。 第１の実施形態における制御パルス数校正部を示すブロック図である。 同実施形態における校正動作を示すフローチャートである。 同実施形態における試料測定動作を示すフローチャートである。 第２の実施形態における制御パルス数校正部を示すブロック図である。 同実施形態における校正動作を示すフローチャートである。 同実施形態における試料測定動作を示すフローチャートである。 液体クロマトグラフの一実施例を示す概略構成図である。 ３つの市販のＨｏガラスフィルタの吸収スペクトルを示したものであり、２４１.７ｎｍに吸収ピーク波長をもつピーク付近を示したものである。

図１に分光測定装置の一実施形態を示す。分光器８は、回折素子２、回折素子２への入射光の光源としてのＤ₂ランプ４、回折素子２により分光された光を受光する位置に配置された光検出素子６ａ、６ｂ、及び回折素子２を入射光の入射方向に対して回転させる波長駆動部１４を備えている。光源としては水銀ランプを備えていないことが特徴であり、Ｄ₂ランプ４のみであってもよく、用途によってはＤ₂ランプとタングステンランプを備えたものであってもよい。Ｄ₂ランプは試料測定に使用するとともに、波長校正にも使用する。

分光器８において、Ｄ₂ランプ４からの光は入口スリット３ａを経て回折素子２に入射し、回折素子２で分光された光は出口スリット３ｃを経て取り出される。回折素子２は例えば平面回折格子であり、概略的に示された光学素子３ｂにより回折素子２への入射光４ａが入口スリット３ａの位置で結像し、回折素子２からの回折光４ｂが出口スリット３ｃの位置で結像するように構成されている。

回折素子２を回転させて出口スリット３ｃから出射する光の波長を選択するために波長駆動部１４が設けられている。波長駆動部１４は、波長校正時は校正前の制御パルス数に基づき、試料測定時は波長校正後の制御パルス数に基づいて、回折素子２を入射光４ａの入射方向に対して回転させる。

従来の分光器は波長校正用の１つの基準波長光を発生させるための水銀ランプを備えていたが、本発明での分光器は水銀ランプを備えていない。水銀ランプに代わるものとして、Ｈｏガラスフィルタ１０を使用する。Ｈｏガラスフィルタ１０は波長校正時にのみ使用し、試料測定時には使用しないため、分光器８は光源４と回折素子２との間の光路にＨｏガラスフィルタ１０を着脱可能に装着するフィルタ装着部１２を備えている。

出口スリット３ｃから取り出された回折光の光路にビームスプリッタ９が配置されて光路が２つに分割され、一方が検出光側の光路となり、他方が補償光側の光路となる。検出光側の光路には試料を測定する際に使用されるセル７が配置され、セル７を透過した光を受光する位置に光検出素子６ａが配置されている。補償光側の光路には光検出素子６ｂが配置されている。補償光側の光路は、試料の吸光度を測定するために使用される。

セル７としては、この分光測定装置が使用される分析装置に応じて、キュベット又はフローセルが使用される。セル７は校正時に光路から外されるか、外すことができないときはセル７に純水が満たされる。

光検出素子６ａ、６ｂの検出信号はＡ／Ｄ変換器４０によりデジタル信号に変換された後、データ処理部４２に取り込まれる。試料測定時は、データ処理部４２が所定の波長による吸光度を求め、その結果を記憶装置４４に記憶したり、外部に出力したりする。校正時はＤ₂ランプの特定の輝線ピークの検出と、Ｈｏガラスフィルタ１０の吸収スペクトルから基準波長に設定された特定の吸収ピークの検出を行う。一例として、Ｄ₂ランプの輝線ピークとしては波長６５６.１ｎｍのものを使用する。この波長は変動しない。一方、Ｈｏ吸収ピークとしては、一例として、ＮＩＳＴの基準波長２４１.７ｎｍのものを使用するが、この波長の吸収ピークはガラス基板への添加物によって変動する。

波長校正のために、波長校正部２２と、Ｈｏガラスフィルタ１０の吸収スペクトルから基準波長用に設定された吸収ピークについて別途測定されたＨｏ吸収ピーク波長値を基準波長値として波長校正部２２に入力する基準波長入力部１６が設けられている。

図２に示されるように、波長校正部２２は、回折素子２を回転させる制御パルス数とそれに対する回折光の波長との理論的な関係を示す変換テーブルを保持する変換テーブル保持部１８と、制御パルス数校正部２０とを備えている。波長校正部２２はデータ処理部４２、記憶装置４４とともにこの分光測定装置の専用のコンピュータにより、もしくはこの分光測定装置が搭載される液体クロマトグラフその他の分析装置の専用コンピュータにより、又は汎用のパーソナルコンピュータにより実現される。

図３に示されるように、回折格子２の法線に対する入射光４ａの入射角をｉ、回折光４ｂの反射角をθとするとき、
Ｎｍλ＝ｓｉｎθ−ｓｉｎｉ （１）
の関係がある。Ｎは回折格子２の刻線数（本／ｍｍ）、ｍは次数、λは回折光の分光波長（ｎｍ）である。入口スリット３ａと出口スリット３ｃの位置が固定されているので、回折格子２を回転させて入射角ｉと反射角θを変化させることにより回折光４ｂの分光波長λが決まる。回折格子２の回転角は波長駆動部１４に送られる制御パルスのパルス数により決まる。変換テーブルには、上記（１）により求められた関係、すなわち回折素子２を回転させる制御パルス数とそれに対する分光波長λとの関係がデータとして保持されている。そのデータは、例えば、分光波長λの１ｎｍごとの対応する制御パルス数が示されたものである。所望の分光波長λを得るにはそれに対応する数の制御パルスを波長駆動部１４に送りパルスモータを駆動して回折格子２を回転させる。この制御パルス数は校正前の制御パルス数である。

制御パルス数校正部２０は、変換テーブルから求めた２つの制御パルス数と、Ｄ₂ランプの特定の輝線ピーク及び特定のＨｏガラスフィルタの特定の吸収ピークをそれぞれ検出したときの校正前の制御パルス数とに基づいて変換テーブルからの制御パルス数を校正するように構成されている。変換テーブルから求めた２つの制御パルス数とは、変換テーブルから求めた制御パルス数であってＤ₂ランプの特定の輝線ピーク波長（６５６.１ｎｍ）に対応する制御パルス数と、変換テーブルから求めた制御パルス数であって基準波長入力部１６から入力された基準波長に対応する制御パルス数である。ピークを検出したときの校正前の制御パルス数とは、それぞれのピークを検出したときに波長駆動部１４に送られた校正前の制御パルス数である。

波長校正部２２は、一例として、Ｄ₂ランプの特定の輝線ピーク波長（６５６.１ｎｍ）を保持するＤ₂輝線ピーク波長保持部２４と、基準波長入力部１６から入力された基準波長を保持する基準波長保持部２６を備えている。その場合、制御パルス数校正部２０は、Ｄ₂ランプの特定の輝線ピーク波長に対応する制御パルス数としてＤ₂輝線ピーク波長保持部２４に保持された輝線ピーク波長に対応する制御パルス数を変換テーブルから求め、基準波長に対応する制御パルス数として基準波長保持部２６に保持された基準波長に対応する制御パルス数を変換テーブルから求めるように構成されている。

第１の実施形態を図４に示す。制御パルス数校正部２０は、ずれ量算出部２８及びずれ量保持部３２を備えるように構成されている。

ずれ量算出部２８は、Ｄ₂ランプの特定の輝線ピーク波長に対応する制御パルス数ｎ₀₁を変換テーブルから求め、Ｄ₂ランプのその輝線ピークを検出したときの校正前の制御パルス数ｎ₁とからその輝線ピーク波長における第１ずれ量Δｎ₁を算出し、基準波長に対応する制御パルス数ｎ₀₂を変換テーブルから求め、その基準波長に対応するＨｏガラスフィルタの吸収ピークを検出したときの校正前の制御パルス数ｎ₂とからその基準波長における第２ずれ量Δｎ₂を算出する。

ずれ量保持部３２はずれ量算出部２８により算出されたずれ量Δｎ₁、Δｎ₂を保持する。

この場合、波長駆動部１４は、波長校正時は変換テーブル保持部１８に保持されている変換テーブルの制御パルス数に基づき、試料測定時は変換テーブル保持部１８に保持されている制御パルス数をずれ量保持部３２に保持されているずれ量Δｎ₁、Δｎ₂により補正した波長校正後の制御パルス数に基づいて、回折素子２を回転させるように構成されている。

この実施形態の動作を図５と図６に示す。図５は校正時の制御パルス数校正部２０と波長駆動部１４の動作を示している。Ｈｏガラスフィルタ１０について別途測定されたＨｏ吸収ピーク波長を基準波長として入力し設定し、回折素子２を回転させる制御パルス数とそれに対する回折光の波長との理論的な関係を示す変換テーブルを保持しておく。分光器８において光源４と回折素子２との間の光路にＨｏガラスフィルタ１０を装着する。Ｈｏガラスフィルタ１０を装着するのは、Ｈｏ吸収ピークを検出する前であれば、特に限定されない。

特定のＤ₂輝線ピーク波長（６５６.１ｎｍ）に対応する制御パルス数ｎ₀₁と特定のＨｏ吸収ピークの基準波長に対応する制御パルス数ｎ₀₂を変換テーブル保持部１８の変換テーブルから取得する（ステップＳ１）。

Ｄ₂ランプ４の輝線ピーク（６５６.１ｎｍ）と基準波長（２４１.７ｎｍ）を設定したＨｏ吸収ピークを検出する（ステップＳ２）。これらのピーク検出のために、それぞれのピーク波長に対応する制御パルス数を変換テーブル保持部１８の変換テーブルから取得し、それぞれの制御パルス数を波長駆動部１４のパルスモータに送って回折素子２を回転させる。この段階では、それぞれの制御パルス数は校正されていないので、それぞれのピークを検出することができないかもしれないが、それぞれ回転位置のあたりを走査することによりピークを検出することができる。

これらのピーク検出は、分光器８において光源４と回折素子２との間の光路にＨｏガラスフィルタ１０を装着した状態で行ってもよく、Ｈｏ吸収ピークの検出はＨｏガラスフィルタ１０を装着した状態でなければ行うことができないが、Ｄ₂ランプ４の輝線ピークの検出はＨｏガラスフィルタ１０を装着しない状態で行ってもよい。

ステップＳ２でＤ₂ランプ４の輝線ピークとＨｏ吸収ピークを検出したときのそれぞれの校正前の制御パルス数ｎ₁、ｎ₂を求める（ステップＳ３）。これらの制御パルス数ｎ₁、ｎ₂はそれぞれのピークを検出したときに波長駆動部１４に送られた制御パルス数であり、波長校正部２２又は他の制御部から波長駆動部１４に制御パルスを送るときは波長校正部２２又は他の制御部側において検知することもでき、制御パルスを受け取った波長駆動部１４側において検知することもできる。

ステップＳ１とＳ２はどちらが先であってもよい。

その後、制御パルス数ｎ₀₁と制御パルス数ｎ₁とから輝線ピーク波長における第１ずれ量Δｎ₁を算出し、制御パルス数ｎ₀₂と制御パルス数ｎ₂とから基準波長における第２ずれ量Δｎ₂を算出する（ステップＳ４）。
Δｎ₁＝ｎ₁−ｎ₀₁
Δｎ₂＝ｎ₂−ｎ₀₂

算出したずれ量Δｎ₁、Δｎ₂を保持する（ステップＳ５）。

図６は試料測定時の制御パルス数校正部２０と波長駆動部１４の動作を示している。制御パルス数校正部２０は、測定波長に対応する制御パルス数ｎｏを変換テーブルから取得する（ステップＳ１１）。

この制御パルス数ｎｏを、保持されている、輝線ピーク波長（６５６.１ｎｍ）における第１ずれ量Δｎ₁と基準波長（２４１.７ｎｍ）における第２ずれ量Δｎ₂を用いて補正する（ステップＳ１２）。

この補正方法としては、例えば線形補間法によりずれ量Δｎ₁とΔｎ₂とから測定波長でのずれ量Δｎを求め、測定波長に対応する校正された制御パルス数ｎを、
ｎ＝ｎｏ＋Δｎ
として求めることができる。測定波長に対応する校正された制御パルス数ｎを求める方法は、線形補間法に限らず、他の方法でもよい。２つの基準波長にもとづいて任意の波長を校正する方法は、Ｄ₂ランプと水銀ランプの輝線ピークを用いた従来の装置でも行っていることであり、それらの装置で行われている方法をこの実施形態での波長校正方法として用いることができる。

校正された制御パルス数ｎを求めるステップは、波長校正部２２で行ってもよく、波長駆動部１４で行ってもよい。

波長駆動部１４は補正された制御パルス数ｎにより回折格子２を回転させるように駆動する（ステップＳ１３）。

第２の実施形態を図７に示す。制御パルス数校正部２０は、ずれ量算出部２８、変換テーブル補正部３４、及び校正ずみ変換テーブル保持部３６を備えるように構成されている。

ずれ量算出部２８は第１の実施形態におけるものと同じであり、輝線ピーク波長（６５６.１ｎｍ）における第１ずれ量Δｎ₁と基準波長（２４１.７ｎｍ）における第２ずれ量Δｎ₂を算出する。

変換テーブル補正部３４は、ずれ量算出部２８により算出されたずれ量Δｎ₁、Δｎ₂により変換テーブルの制御パルス数を補正して校正ずみ変換テーブルを得るように構成されている。この補正方法としても、例えば線形補間法によりずれ量Δｎ₁とΔｎ₂とから各波長でのずれ量Δｎを求め、各波長に対応する補正された制御パルス数ｎを、
ｎ＝ｎｏ＋Δｎ
として求めることができる。この場合も各波長に対応する補正された制御パルス数ｎを求める方法は、線形補間法に限らず、従来の校正方法として使用されている他の方法でもよい。

校正ずみ変換テーブル保持部３６は変換テーブル補正部３４により補正された校正ずみ変換テーブルを保持する。

この場合、波長駆動部１４は、波長校正時は変換テーブル保持部１８に保持されている校正前の変換テーブルの制御パルス数に基づき、試料測定時は校正ずみ変換テーブル保持部３６に保持されている校正ずみ変換テーブルの制御パルス数に基づいて、回折素子２を入射光の入射方向に対して回転させるように構成されている。

校正前の変換テーブルにデータとして、例えば、分光波長λの１ｎｍごとの対応する制御パルス数が示されたものであるとすれば、校正ずみ変換テーブルもやはり分光波長λの１ｎｍごとの対応する制御パルス数が示されたものとなる。校正ずみ変換テーブルの制御パルス数は校正後の制御パルス数である。校正後に所望の分光波長λを得るには、それに対応する数の制御パルスを校正ずみ変換テーブルから読み取って波長駆動部１４に送って回折格子２を回転させる。

この実施形態の動作を図８と図９に示す。図８は校正時の制御パルス数校正部２０と波長駆動部１４の動作を示している。Ｈｏガラスフィルタ１０について別途測定されたＨｏ吸収ピーク波長を基準波長として入力して設定し、回折素子２を回転させる制御パルス数とそれに対する回折光の波長との理論的な関係を示す校正前の変換テーブルを保持しておくことは第１の実施形態と同じである。この実施形態でも、分光器８において光源４と回折素子２との間の光路にＨｏガラスフィルタ１０を装着するが、Ｈｏガラスフィルタ１０を装着するのは、Ｈｏ吸収ピークを検出する前であれば特に限定されない点も第１の実施形態と同じである。

特定のＤ₂輝線ピーク波長（６５６.１ｎｍ）に対応する制御パルス数ｎ₀₁と特定のＨｏ吸収ピークの基準波長に対応する制御パルス数ｎ₀₂を変換テーブル保持部１８の変換テーブルから取得し、Ｄ₂ランプ４の輝線ピーク（６５６.１ｎｍ）と基準波長（２４１.７ｎｍ）を設定したＨｏ吸収ピークを検出し、それぞれのピークを検出したときの校正前の制御パルス数ｎ₁、ｎ₂を求め、輝線ピーク波長における第１ずれ量Δｎ₁を算出し、基準波長における第２ずれ量Δｎ₂を算出するまでのステップＳ２１からＳ２４の工程は、第１の実施形態における図５でのステップＳ１からＳ４の工程と同じである。

第１の実施形態では、試料測定時に回折素子を回転させる制御パルスをずれ量Δｎ₁、Δｎ₂により補正するが、この実施形態では変換テーブルの制御パルス数をあらかじめ補正して校正ずみ変換テーブルとして用意しておく点で異なっている。

そのため、この実施形態ではずれ量Δｎ₁、Δｎ₂により変換テーブルの制御パルス数を補正して校正ずみ変換テーブルを得る（ステップＳ２４）。その方法として、上述のような線形補間法を用いてもよく、他の方法を用いてもよい。

補正された校正ずみ変換テーブルを保持する（ステップＳ２５）。

図９は試料測定時の制御パルス数校正部２０と波長駆動部１４の動作を示している。制御パルス数校正部２０は、測定波長に対応する制御パルス数を校正ずみ変換テーブルから取得する（ステップＳ３１）。

波長駆動部１４はその取得された制御パルス数により回折格子２を回転させるように駆動する（ステップＳ３２）。

本発明の分光測定装置は単独で吸光光度計として利用することもできるし、分析装置の検出器として利用することもできる。その一実施形態として、一実施例の分光測定装置を検出器として利用した液体クロマトグラフを図１０に示す。

移動相１０２が流れる流路１０６の最も上流側に移動相１０２を供給する送液部１００が配置されている。送液部１００は送液ポンプ１０４を備え、移動相を流路１０６に送り出す。送液部１００は概略的に示されており、移動相の数は１つに限らず、複数の移動相を混合する場合や、その混合比を時間とともに変化させるグラジエント分析用の送液部も含んでいる。

流路１０６には試料を注入する試料注入部１０８が配置されている。試料注入部１０８は自動試料注入装置（オートサンブラ）であってもよい。試料注入部１０８の下流に分離用カラム１１０が配置されている。分離用カラム１１０はその温度を一定に保つカラムオーブン１１２に収容されている。

分離用カラム１１０の下流には分離用カラム１１０からの溶出液が流れるフローセル１１４が配置されている。フローセル１１４を流れる溶出液を光学的に検出するように一実施形態の分光測定装置１１６が配置されている。分光測定装置１１６は図１に示された分光器８、基準波長入力部１６及び波長校正部２２を備えて構成されており、フローセル１１４は分光器８におけるセル７の位置にくるように配置されている。

２ 回折素子
４ Ｄ₂ランプ
６ａ、６ｂ 光検出素子
８ 分光器
１０ Ｈｏガラスフィルタ
１２ フィルタ装着部
１４ 波長駆動部
１６ 基準波長入力部
１８ 変換テーブル保持部
２０ 制御パルス数校正部
２２ 波長校正部
２４ Ｄ₂輝線ピーク波長保持部
２６ 基準波長保持部
２８ ずれ量算出部
３４ 変換テーブル補正部
３６ 校正ずみ変換テーブル保持部
１００ 送液部
１０２ 移動相
１０４ 送液ポンプ
１０６ 流路
１０８ 試料注入部
１１０ 分離用カラム
１１２ カラムオーブン
１１４ フローセル
１１６ 分光測定装置

Claims (6)

1. 回折素子、前記回折素子への入射光を発生するためにＤ₂ランプを含み水銀ランプを含まない光源、前記回折素子により分光された光を受光する位置に配置された光検出素子、及び制御パルスにより制御されて前記回折素子を回転させる波長駆動部を備えた分光器と、
   前記分光器において前記光源と前記回折素子との間の光路にＨｏガラスフィルタを着脱可能に装着するフィルタ装着部と、
   前記Ｈｏガラスフィルタについて別途測定された２４０ｎｍ付近の特定の吸収ピークの波長を基準波長として入力する基準波長入力部と、
   前記回折素子を回転させる制御パルス数とそれに対する回折光の波長との理論的な関係を示す変換テーブルを保持する変換テーブル保持部、並びにＤ ₂ ランプの特定の輝線ピークの波長の位置を長波長側の基準位置、前記Ｈｏガラスフィルタの前記基準波長の位置を短波長側の基準位置としてそれぞれ用い、前記変換テーブルから求めた制御パルス数であってＤ₂ランプの特定の輝線ピークの波長に対応する制御パルス数ｎ₀₁、前記変換テーブルから求めた制御パルス数であって前記基準波長入力部から入力された前記基準波長に対応する制御パルス数ｎ₀₂、Ｄ₂ランプの前記輝線ピークを検出したときの校正前の制御パルス数ｎ₁、及び前記Ｈｏガラスフィルタの前記吸収ピークを検出したときの校正前の制御パルス数ｎ₂に基づいて前記変換テーブルからの制御パルス数を校正する制御パルス数校正部を備えた波長校正部と、を備えた分光測定装置。
2. 前記波長校正部はＤ₂ランプの前記輝線ピークの波長を保持するＤ₂輝線ピーク波長保持部、及び前記基準波長入力部から入力された前記基準波長を保持する基準波長保持部を備え、
   前記制御パルス数校正部は、前記変換テーブルから制御パルス数を求める際に前記Ｄ₂輝線ピーク波長保持部に保持された輝線ピーク波長及び前記基準波長保持部に保持された基準波長を使用するように構成されている請求項１に記載の分光測定装置。
3. 前記制御パルス数校正部は、前記変換テーブルにおける前記輝線ピーク波長に対応する前記制御パルス数ｎ₀₁とＤ₂ランプの前記輝線ピークを検出したときの校正前の前記制御パルス数ｎ₁とから前記輝線ピーク波長における第１ずれ量Δｎ₁を算出し、前記変換テーブルにおける前記基準波長に対応する制御パルス数ｎ₀₂と前記吸収ピークを検出したときの校正前の制御パルス数ｎ₂とから前記基準波長における第２ずれ量Δｎ₂を算出するずれ量算出部と、
   前記ずれ量算出部により算出されたずれ量Δｎ₁、Δｎ₂を保持するずれ量保持部と、を備えており、
   前記波長駆動部は、波長校正時は前記変換テーブル保持部に保持されている変換テーブルの制御パルス数に基づき、試料測定時は前記変換テーブル保持部に保持されている制御パルス数を前記ずれ量保持部に保持されているずれ量Δｎ₁、Δｎ₂により補正した波長校正後の制御パルス数に基づいて、前記回折素子を回転させるように構成されている請求項１又は２に記載の分光測定装置。
4. 前記制御パルス数校正部は、前記変換テーブルにおける前記輝線ピーク波長に対応する前記制御パルス数ｎ₀₁とＤ₂ランプの前記輝線ピークを検出したときの校正前の前記制御パルス数ｎ₁とから前記輝線ピーク波長における第１ずれ量Δｎ₁を算出し、前記変換テーブルにおける前記基準波長に対応する制御パルス数ｎ₀₂と前記吸収ピークを検出したときの校正前の制御パルス数ｎ₂とから前記基準波長輝における第２ずれ量Δｎ₂を算出するずれ量算出部と、
   前記ずれ量算出部により算出されたずれ量Δｎ₁、Δｎ₂により前記変換テーブルの制御パルス数を校正する変換テーブル補正部と、
   前記変換テーブル補正部により校正された校正ずみ変換テーブルを保持する校正ずみ変換テーブル保持部と、を備えており、
   前記波長駆動部は、波長校正時は前記変換テーブル保持部に保持されている変換テーブルの制御パルス数に基づき、試料測定時は前記校正ずみ変換テーブル保持部に保持されている校正ずみ変換テーブルの制御パルス数に基づいて、前記回折素子を回転させるように構成されている請求項１又は２に記載の分光測定装置。
5. 移動相が流れる流路の最も上流側に配置されて前記移動相を供給する送液部と、
   前記流路に試料を注入する試料注入部と、
   前記試料注入部の下流に配置された分離用カラムと、
   前記分離用カラムの下流に配置され、前記分離用カラムからの溶出液が流れるフローセルと、
   前記フローセルを流れる溶出液を光学的に検出するように配置された請求項１から４のいずれかに記載の分光測定装置であって、前記フローセルが前記分光器における前記回折素子から前記光検出素子への光路に配置されている分光測定装置と、
   を備えた液体クロマトグラフ。
6. 回折素子、前記回折素子への入射光を発生する光源、前記回折素子により分光された光を受光する位置に配置された光検出素子、及び制御パルス数に基づいて前記回折素子を前記入射光の入射方向に対して回転させる波長駆動部を備えた分光器の波長を校正する波長校正方法であって、
   前記光源としてＤ₂ランプを含み水銀ランプを含まないものを使用し、
   前記分光器において前記光源と前記回折素子との間の光路にＨｏガラスフィルタを装着するステップと、
   前記Ｈｏガラスフィルタについて別途測定された２４０ｎｍ付近のＨｏ吸収ピーク波長を基準波長として設定するステップと、
   前記回折素子を回転させる制御パルス数とそれに対する回折光の波長との理論的な関係を示す変換テーブルを保持するステップと、
   Ｄ ₂ ランプの特定の輝線ピークの波長の位置を長波長側の基準位置、前記Ｈｏガラスフィルタの前記基準波長の位置を短波長側の基準位置としてそれぞれ用い、前記変換テーブルから求めた制御パルス数であってＤ₂ランプの特定の輝線ピークの波長に対応する制御パルス数、前記変換テーブルから求めた制御パルス数であって前記基準波長に対応する制御パルス数、Ｄ₂ランプの前記輝線ピーを検出したときの校正前の制御パルス数、及び前記Ｈｏガラスフィルタの前記吸収ピークを検出したときの校正前の制御パルス数に基づいて前記変換テーブルからの制御パルス数を校正するステップと、を含む波長校正方法。

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