JP6253039B1 - 薄膜形成装置 - Google Patents
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Abstract
Description
(薄膜形成装置)
図1は、本発明の実施形態にかかる薄膜形成装置におけるメインチャンバの蓋部材に各ワークチャンバを当接しロードロックスペースのワークチャンバを外部に開放した状態の図5のA−A′線断面図であり、図2は、当該装置を密閉し各ワークチャンバをメインチャンバ内に開放した状態の図5のA−A′線断面図であり、図3は、当該装置におけるメインチャンバの蓋部材に各ワークチャンバを当接した状態の図5のB−B′線断面図であり、図4は、当該装置を密閉し各ワークチャンバをメインチャンバ内に開放した状態の図5のB−B′線断面図である。
次に、図1〜図4を参照しつつ、薄膜形成装置1の基本的な動作について説明する。
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明の基本的構成は上述した実施形態に限定されるものではない。例えば、本実施形態では、各スペース及びワークチャンバの平面視した形状をそれぞれ略正方形状としたが、この形状に限定されず、略円形状、略楕円形状、多角形状等の各種の平面視の形状としてもよい。
10 架台
11,31,32 高真空排気ポンプ
12 メインチャンバ
13,20a〜20d 上部開口
14 蓋部材
15 開閉機構
16a ロードロックスペース
16b 第1の表面処理スペース
16c スパッタ処理スペース
16d 第2の表面処理スペース
17a〜17d ワークチャンバ
18 搬送テーブル
19 搬送機構
21a〜21d 開閉蓋
22a〜22d 保持部材
23a〜23d,24a〜24d 係合凹部
25a〜25d,26a〜26d 係合凸部
27 回転駆動機構
28b〜28d 回転軸部材
29a〜29d 接続部材
30a〜30d,55a〜55d 下部開口
33a,33b,33d 蛇腹排気管
34〜36,57 排気管
37a,37b,37d,39a,39b,39d,221a〜221d 貫通孔
38a,38b,38d,40a,40b,40d 当接板
41a〜41d,42a,42b,42d 移動機構
43a〜43d,44a,44b,44d 伸縮部
45a,45b,45d 真空破壊弁
46 調整板
47 当接部材
48,49 高周波電極
50 成膜用スパッタ源
51 成膜用マグネット
52 マグネット駆動機構
53 制御部
54a〜54d 開口
56a〜56d 開口部
W ワーク
Claims (5)
- ロードロックスペースと、第1の表面処理スペースと、スパッタ処理スペースと、第2の表面処理スペースとの4つのスペースを、回転対称位置に有するメインチャンバと、
前記メインチャンバ内に収容され、前記4つのスペースの何れかに配置される、上下方向に開口した4つのワークチャンバと、
前記4つのワークチャンバを、鉛直方向で異なる第1の位置と第2の位置とに移動する移動手段と、
前記4つのワークチャンバを保持し、前記4つのワークチャンバが前記第2の位置に移動された場合において、前記4つのワークチャンバを同時に回転して前記4つのスペースの何れかから他の何れかに搬送する搬送手段と、
前記メインチャンバ内を排気する排気手段と、
前記メインチャンバの上部開口を封止する蓋部材であって、前記4つのワークチャンバが前記第1の位置に移動された場合において、前記ロードロックスペースに配置する何れかのワークチャンバの上部開口を開放可能とすると共に、他の3つのワークチャンバの上部開口を封止する蓋部材と、
前記4つのワークチャンバが前記第1の位置に移動された場合において、前記4つのワークチャンバの前記上部開口を前記蓋部材で封止した状態で前記4つのワークチャンバの下部開口を介してそれぞれを独立して排気する個別排気手段と、
前記4つのワークチャンバが前記第1の位置に移動された場合において、前記ロードロックスペース以外の3つの処理スペースにおいて被処理物に対して個別処理を行う処理手段と、
前記スパッタ処理スペースにおいて、被処理物にスパッタ処理を施して均一な金属薄膜を成膜するスパッタ処理手段と、
前記スパッタ処理手段において、前記金属薄膜の成膜材料として用いる、銅製のベースプレートと、アルミニウム製のターゲットと、エンボス状の銅板とが接着され、前記エンボス状の銅板が前記銅製のベースプレートと前記アルミニウム製のターゲットとの間に配置されてなるアルミニウムを含むターゲット材と、を備え、
前記第1の位置では、前記ロードロックスペースにおいて被処理物の導入又は取り出しが行われ、且つ前記ロードロックスペース以外の3つの処理スペースにおいて被処理物に対して個別処理が行われ、
前記第2の位置では、前記4つのワークチャンバの上部開口及び下部開口の両方が前記メインチャンバ内に開放され、前記4つのワークチャンバが前記メインチャンバを介して前記排気手段で排気された状態で、前記搬送手段により搬送可能となることを特徴とする薄膜形成装置。 - 前記ロードロックスペース以外の3つの処理スペースに配置するワークチャンバのうちの所定スペースに配置する1つのワークチャンバを排気する前記個別排気手段は、前記排気手段を兼ねており、
前記第1の位置では、前記所定スペースに配置する1つのワークチャンバが、前記メインチャンバに連通する前記下部開口を介して前記排気手段で排気され、他の3つのワークチャンバが、前記下部開口に接続された前記個別排気手段で排気され、
前記第2の位置では、前記4つのワークチャンバの前記上部開口が前記メインチャンバ内に開放され、且つ前記所定スペースの1つのワークチャンバの前記下部開口が前記メインチャンバ内に開放されると、前記他の3つのワークチャンバの前記下部開口には前記個別排気手段が接続された状態と、前記4つのワークチャンバの前記上部開口及び前記下部開口の両方が前記メインチャンバ内に開放され、前記搬送手段により搬送が可能な状態と、があることを特徴とする請求項1に記載の薄膜形成装置。 - 前記第1の表面処理スペースにおいて、高周波プラズマを用いて前記被処理物に前処理を施す第1の表面処理手段と、
前記第2の表面処理スペースにおいて、高周波プラズマを用いて前記被処理物に後処理を施す第2の表面処理手段とを備えることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の薄膜形成装置。 - 前記4つのワークチャンバ内に着脱自在にそれぞれ設けられた、前記被処理物を所定の姿勢で保持する保持部材と、
前記ワークチャンバ内で前記保持部材を回転して前記被処理物を所定の姿勢に変更する変更手段とを備えることを特徴とする請求項1〜請求項3の何れか1項に記載の薄膜形成装置。 - 前記スパッタ処理スペースに配置するワークチャンバ内で、前記変更手段による前記被処理物の姿勢の変更に連動して、スパッタ処理用マグネットの駆動速度を制御する制御手段を備えることを特徴とする請求項4に記載の薄膜形成装置。
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