JP5871055B2 - 成膜装置 - Google Patents
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- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
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Description
ることを有効に防止することが可能となる。
2 射出成型機
3 搬送装置
4 ハンド
10 チャンバー
11 本体
12 開閉部
13 ワーク載置部
14 絶縁部材
15 揺動軸
19 接地部
20 電極
21 電極部
22 磁石
23 ターゲット材料
31 シャッター
32 アーム部材
33 アーム部材
34 軸
35 板バネ
36 絶縁部材
38 当接面
39 アーム
41 直流電源
42 フィルター
43 マッチングボックス
44 高周波電源
45 スイッチ
46 スイッチ
48 庇部
49 LF電源
51 開閉弁
52 流量調整弁
53 不活性ガスの供給部
54 開閉弁
55 流量調整弁
56 原料ガスの供給部
57 メカニカルブースタポンプ
58 ドライポンプ
100 膜
W ワーク
Claims (13)
- 単一のチャンバー内において、ワークに対してスパッタリングによる成膜とプラズマCVDによる成膜とを実行する成膜装置であって、
ターゲット材料を備えた電極と、
前記電極に高周波電圧を印加する高周波電源と、
前記チャンバー内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部と、
前記チャンバー内に原料ガスを供給する原料ガス供給部と、
前記チャンバー内を減圧する減圧手段と、
前記ターゲット材料と接触した状態で当該ターゲット材料を覆う状態と、前記ターゲット材料を開放する状態とを切替可能なシャッターを備えたシャッター機構とを備え、
前記スパッタリングによる成膜時には前記シャッターを開放することにより前記ターゲット材料を備えた電極をスパッタリング用の電極として機能させ、
前記プラズマCVDによる成膜時には前記シャッターにより前記ターゲット材料を前記ターゲット材料と接触した状態で覆うことにより、前記ターゲット材料を備えた電極と前記シャッターとをプラズマCVD用の電極として機能させることを特徴とする成膜装置。
- 請求項1に記載の成膜装置において、
前記電極は、マグネトロン電極である成膜装置。 - 請求項2に記載の成膜装置において、
前記シャッターは、伝導体から構成される成膜装置。 - 請求項1または請求項2に記載の成膜装置において、
前記シャッターは、前記プラズマCVDによる成膜により形成される膜と共通の元素をもつ材質から構成される成膜装置。 - 請求項1または請求項2に記載の成膜装置において、
前記シャッターは、伝導体と、前記伝導体における前記ワーク側の表面に形成された前記プラズマCVDによる成膜により形成される膜と共通の元素をもつ材質とから構成される成膜装置。 - 請求項1に記載の成膜装置において、
前記シャッターは、非磁性体から構成される成膜装置。 - 請求項1に記載の成膜装置において、
前記シャッターは、少なくともその一部が磁性体から構成される成膜装置。 - 請求項1に記載の成膜装置において、
前記電極に直流電圧を印加する直流電源をさらに備える成膜装置。 - 請求項1に記載の成膜装置において、
前記シャッター機構は、一対のシャッターと、この一対のシャッターをチャンバーに連結された揺動軸を中心に揺動させるアームとを備え、前記一対のシャッターが中央から両側に向かって互いに異なる方向に揺動することにより開放状態となる構造を有する成膜装置。 - 請求項9に記載の成膜装置において、
前記一対のシャッターの先端部は、前記電極から前記ワークに向かう方向と交差する方向を向く当接面において互いに当接する成膜装置。 - 請求項1に記載の成膜装置において、
前記シャッター機構は、前記シャッターをチャンバーに連結された揺動軸を中心に揺動させるアームを備え、
前記シャッターは、前記アームに対して揺動可能に配設される成膜装置。 - 請求項11に記載の成膜装置において、
前記アームは、前記揺動軸と平行に延びる軸を中心として互いに蝶動可能な一対のアーム部材と、これら一対のアーム部材の姿勢を直線状とするための、前記一対のアーム部材のうちの一方のアーム部材に付設され、他方のアーム部材を挟持する一対の板バネと、を備える成膜装置。 - 請求項1に記載の成膜装置において、
前記シャッター機構は、前記シャッターをチャンバーに連結された揺動軸を中心に揺動させるアームを備え、
前記アームと前記シャッターとの間に、前記スパッタリングによる成膜時に前記アームと前記シャッターとにわたる膜が形成されることを防止するための庇部が形成された絶縁部材を配設した成膜装置。
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