JP6239097B2 - SiCエピタキシャルウエハ - Google Patents
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Description
<構成>
図1は、典型的なキャロット欠陥の表面形状を示す図である。図1は、光学顕微鏡像を示している。
上記に説明したSiCエピタキシャルウエハの製造方法を、以下に説明する。
以下に、本実施形態による効果を例示する。
<構成>
以下では、上記実施形態で説明した構成と同様の構成については同じ符号を付して図示し、その詳細な説明については適宜省略する。
以下に、本実施形態による効果を例示する。
第1実施形態では、図8に示されるように、SiC基板1上に欠陥低減層2を形成した後、直接ドリフト層3を形成する手法が示されている。
以下に、本実施形態による効果を例示する。
第1実施形態では、図8に示されるように、SiC基板1上にキャリア濃度が1×1017cm−3以上5×1018cm−3以下の範囲内となるように窒素流量を制御して欠陥低減層2bを形成した後、ドリフト層3を形成する手法が示されている。
以下に、本実施形態による効果を例示する。
Claims (9)
- 炭化珪素基板と、
前記炭化珪素基板上に形成された欠陥低減層と、
前記欠陥低減層上に形成されたドリフト層とを備え、
前記欠陥低減層と前記炭化珪素基板との界面近傍以外から発生したキャロット欠陥数が、前記欠陥低減層と前記炭化珪素基板との界面近傍から発生したキャロット欠陥数の4.5倍以上7.5倍以下であることを満たす、
SiCエピタキシャルウエハ。 - 前記欠陥低減層および前記ドリフト層において、前記欠陥低減層のキャリア濃度分布が10%以上であり、前記ドリフト層のキャリア濃度分布が10%以下である、
請求項1に記載のSiCエピタキシャルウエハ。 - 前記欠陥低減層の厚さは、1[μm]より大きく100[μm]以下である、
請求項1または請求項2に記載のSiCエピタキシャルウエハ。 - 前記ドリフト層の厚さは、5[μm]以上200[μm]以下である、
請求項1または請求項2に記載のSiCエピタキシャルウエハ。 - 前記炭化珪素基板は、4H−SiCである、
請求項1から請求項4のうちのいずれか1項に記載のSiCエピタキシャルウエハ。 - 前記欠陥低減層のキャリア濃度は、前記ドリフト層のキャリア濃度と等しい、
請求項1から請求項4のうちのいずれか1項に記載のSiCエピタキシャルウエハ。 - 前記欠陥低減層と前記炭化珪素基板との間に形成された、濃度傾斜層をさらに備え、
前記濃度傾斜層のキャリア濃度は、前記炭化珪素基板と接触する側から前記欠陥低減層と接触する側へ向かうにつれて、連続的に、または、段階的に減少する、
請求項1から請求項4のうちのいずれか1項に記載のSiCエピタキシャルウエハ。 - 前記欠陥低減層と前記ドリフト層との間に形成された、濃度傾斜層をさらに備え、
前記濃度傾斜層のキャリア濃度は、前記欠陥低減層と接触する側から前記ドリフト層と接触する側へ向かうにつれて、連続的に、または、段階的に減少する、
請求項1から請求項4のうちのいずれか1項に記載のSiCエピタキシャルウエハ。 - 前記欠陥低減層のキャリア濃度は、前記炭化珪素基板と接触する側から前記ドリフト層と接触する側へ向かうにつれて、連続的に、または、段階的に減少する、
請求項1から請求項4のうちのいずれか1項に記載のSiCエピタキシャルウエハ。
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