JP6238899B2 - モノリス型分離膜構造体の欠陥検出方法、補修方法、およびモノリス型分離膜構造体 - Google Patents
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Description
図1に、本発明に係るモノリス型分離膜構造体1の一実施形態を示す。モノリス型分離膜構造体1(以下、単に分離膜構造体ともいう)は、モノリス型の基材30(モノリス基材)と、分離膜33とを備える(本明細書では、基材30を、モノリス型多孔質体9(または、単に多孔質体9)ともいう。)。本発明における「モノリス型の基材」とは、長手方向の一方の端面から他方の端面まで複数のセルが形成された形状あるいはハニカム状の基材を言う。
基材30の材質は、セラミックス、金属、樹脂など多孔質であれば、特に限定されない。そのなかでも多孔質セラミックであることが好ましい。より好ましくは、骨材粒子が、アルミナ(Al2O3)、チタニア(TiO2)、ムライト(Al2O3・SiO2)、セルベン及びコージェライト(Mg2Al4Si5O18)等である。これらの中でも、粒径が制御された原料(骨材粒子)を入手し易く、安定な坏土を形成でき、かつ、耐食性が高いアルミナが更に好ましい。
分離膜33は、複数の細孔が形成され、その平均細孔径が多孔質体9(基材30、または、中間層、表面層を設けた場合は、それらも含む。)の平均細孔径に比して小さく、セル4内の壁面(内壁面4s)に配置されたものである。
次に、本実施形態の分離膜構造体1を用いて複数種類が混合した流体から一部の成分を分離する方法について説明する。図2Aに示すように、本実施形態の分離膜構造体1を用いて流体を分離する際には、分離膜構造体1を、流体入口52及び流体出口53を有する筒状のハウジング51内に収納し、ハウジング51の流体入口52から流入させた被処理流体F1を分離膜構造体1で分離し、分離された被処理流体(処理済流体F2)を流体出口53から排出することが好ましい。
(基材)
次に、本発明に係る分離膜構造体1の製造方法について説明する。最初に、多孔質体の原料を成形する。例えば、真空押出成形機を用い、押出成形する。これによりセル4を有するモノリス型の未焼成の基材30を得る。他にプレス成形、鋳込み成形などがあり、適宜選択できる。次いで、未焼成の基材30を、例えば、900〜1450℃で焼成する。なお、セル4内に、中間層、表面層を形成してもよい。
次に、セル4の内壁面4s上に分離膜33を形成する。分離膜33として、ゼオライト膜、シリカ膜、炭素膜を形成する場合を例として、説明する。
分離膜33としてゼオライト膜を配設する場合について説明する。本発明に用いるゼオライト膜は従来既知の方法により合成できる。たとえば、図4に示すように、シリカ源、アルミナ源、有機テンプレート、アルカリ源、水などの原料溶液(ゾル67)を作製し、耐圧容器65内に多孔質体9(基材30)と調合した原料溶液(ゾル67)を入れた後、これらを乾燥器68に入れ、100〜200℃にて1〜240時間、加熱処理(水熱合成)を行うことにより、ゼオライト膜を製造する。
セル4の内壁面4s上に、分離膜33としてシリカ膜を配設する場合について説明する。シリカ膜となる前駆体溶液(シリカゾル液)は、テトラエトシキシランを硝酸の存在下で加水分解してゾル液とし、エタノールで希釈することで調製することができる。また、エタノールで希釈する代わりに、水で希釈することも可能である。そして、多孔質体9の上方から、シリカ膜となる前駆体溶液(シリカゾル液)を流し込み、セル4を通過させ、あるいは、一般的なディッピングによって、前駆体溶液を、セル4の内壁面に付着させる。その後、10〜100℃/時にて昇温し、350〜600℃で1〜100時間保持した後、10〜100℃/時で降温する。このような流し込み、乾燥、昇温、降温の操作を3〜10回繰り返すことによって、シリカ膜を配設することができる。以上により、分離膜33がシリカ膜である分離膜構造体1が得られる。
セル4の内壁面4s上に、分離膜33として炭素膜を配設する場合について説明する。この場合、ディップコート、浸漬法、スピンコート、スプレーコーティング等の手段によって、炭素膜となる前駆体溶液を多孔質体9の表面に接触をさせ、成膜すればよい。フェノ一ル樹脂、メラミン樹脂、ユリヤ樹脂、フラン樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂や、ポリエチレン等の熱可塑性樹脂、又はセルロース系樹脂等、あるいは、それら樹脂の前駆体物質を、メタノール、アセトン、テトラヒドロフラン、NMP、トルエン等の有機溶媒や水等に混合、溶解させれば、前駆体溶液を得ることができる。前駆体溶液を成膜する際には、それに含まれる樹脂の種類に応じて、適切な熱処理を施してもよい。こうして得られた、前駆体膜を炭化して、炭素膜を得る。
上記のようにして作製した分離膜構造体1は、分離膜33に欠陥がある場合がある。分離膜33に欠陥があると、そのままでは、製品として使用することができない。そのため欠陥の有無を検出する必要がある。そこで、まず、欠陥検出方法について図6を用いて説明する。欠陥検出方法の第1の方法は、セル4外からセル4ごとにガスで加圧して、ガスがセル4内に透過する透過量を測定し、透過量が(全セルの平均値+A)(ただしAは、σ〜6σの所定の値、σは標準偏差)よりも多いセル4を欠陥とする方法である。
上記のようにして欠陥があると判断された分離膜構造体は、そのままでは、製品として使用することができない。そこで、欠陥を補修する方法を説明する。
モノリス型基材30を作製し、そのセル4内に分離膜33を形成した。まず、基材30の作製について説明する。
平均粒径50μmのアルミナ粒子(骨材粒子)100質量部に対して無機結合材(焼結助剤)20質量部を添加し、更に、水、分散剤、及び増粘剤を加えて混合し混練することにより坏土を調製した。得られた坏土を押出成形し、モノリス型の未焼成の基材30を作成した。
(DDR膜の形成)
分離膜33としてDDR膜をセル4の内壁面4s上に形成した。
M. J. den Exter, J. C. Jansen, H. van Bekkum, Studies in Surface Science and Catalysis vol.84, Ed. by J. Weitkamp et al., Elsevier(1994)1159−1166、または特開2004−083375号公報に記載のDDR型ゼオライトを製造する方法を基に、DDR型ゼオライト結晶粉末を製造し、これをそのまま、または必要に応じて粉砕して種結晶として使用した。合成後または粉砕後の種結晶を水に分散させた後、粗い粒子を除去し、種結晶分散液を作製した。
(1)で作製した種結晶分散液をイオン交換水またはエタノールで希釈し、DDR濃度0.001〜0.36質量%(スラリー64中の固形分濃度)になるように調整し、スターラーで300rpmで攪拌し、種付け用スラリー液(スラリー64)とした。広口ロート62の下端に多孔質の多孔質体9を固着し、多孔質体9の上部から160mlの種付け用スラリー液を流し込みセル4内を通過させた(図3参照)。スラリー64を流下させた多孔質体9は、室温または80℃、風速3〜6m/sの条件で10〜30minセル内を通風乾燥させた。スラリー64の流下、通風乾燥を1〜6回繰り返してサンプルを得た。乾燥させた後、電子顕微鏡による微構造観察を行った。DDR粒子が多孔質体9の表面に付着していることを確認した。
フッ素樹脂製の100mlの広口瓶に7.35gのエチレンジアミン(和光純薬工業製)を入れた後、1.156gの1−アダマンタンアミン(アルドリッチ製)を加え、1−アダマンタンアミンの沈殿が残らないように溶解した。別の容器に98.0gの30質量%のコロイダルシリカ(スノーテックスS,日産化学製)と116.55gのイオン交換水を入れ軽く攪拌した後、これをエチレンジアミンと1−アダマンタンアミンを混ぜておいた広口瓶に加えて強く振り混ぜ、原料溶液を調製した。原料溶液の各成分のモル比は1−アダマンタンアミン/SiO2=0.016、水/SiO2=21である。その後、原料溶液を入れた広口瓶をホモジナイザーにセットし、1時間攪拌した。内容積300mlのフッ素樹脂製内筒付きステンレス製耐圧容器65内に(2)でDDR粒子を付着させた多孔質体9を配置し、調合した原料溶液(ゾル67)を入れ、140℃にて50時間、加熱処理(水熱合成)を行った(図4参照)。なお、水熱合成時は、原料のコロイダルシリカとエチレンジアミンによって、アルカリ性であった。走査型電子顕微鏡で膜化させた多孔質体9の破断面を観察したところ、DDR膜の膜厚は、10μm以下であった。
被覆できた膜を電気炉で大気中450または500℃で50時間加熱し、細孔内の1−アダマンタンアミンを燃焼除去した。X線回折により、結晶相を同定し、DDR型ゼオライトであることを確認した。また膜化後、多孔質体9がDDR型ゼオライトで被覆されていることを確認した。
(シリカ膜の形成)
次に、分離膜33としてシリカ膜を内壁面4s上に形成した。シリカ膜となる前駆体溶液(シリカゾル液)は、テトラエトシキシランを硝酸の存在下で加水分解してゾル液とし、エタノールで希釈することで調製した。内壁面4sが形成された多孔質体9の上方から、シリカ膜となる前駆体溶液(シリカゾル液)を流し込み、セル4を通過させ、前駆体溶液を、セル4の内壁面に付着させた。その後、100℃/時にて昇温し、500℃で1時間保持した後、100℃/時で降温した。このような流し込み、乾燥、昇温、降温の操作を3〜5回繰り返すことによって、シリカ膜を配設した。
(炭素膜の形成)
分離膜33として炭素膜をセル4の内壁面4s上に形成した。フェノ一ル樹脂を有機溶媒に混合、溶解させ、前駆体溶液を得た。ディップコーティングによって、炭素膜となる前駆体溶液を多孔質体9の表面に接触をさせ、成膜した。その後、300℃、1時間の熱処理を行い炭素膜の前駆体であるポリイミド樹脂を表面に配設した。そして、得られたポリイミド樹脂層配設基材を、非酸化雰囲気下600℃、5時間の条件で熱処理し炭素膜を得た。
真空度測定による方法、ガス透過量測定による方法を用いて、分離膜33が形成された分離膜構造体1の欠陥を検出した。
図7に示すように、各セル4の真空度を測定した。セル4の一方を真空ポンプ(アズワン型番G−20DA、排気速度24L/min、到達圧力1.3×10−1Pa、2段式)で吸引し、他方のセル4に真空計(GE Sensing社製キャリブレーター、型番:DPI800)を接続してセル内を真空引きし、セル4内の到達真空度を測定した。
図6に示すように、膜の細孔径以上の分子径を有するガスを、セル4内に導入し、ガス透過量から欠陥を調べた。DDR膜の場合、四フッ化メタンを用いた。まずは測定したいセル4の片端をシリコン栓で封じ、セル4の他方を石鹸膜流量計に接続した後、モノリス基材の外表面から四フッ化メタンを0.2MPaで供給し、セルから四フッ化メタンが0.5cc漏れるまでの時間を計測して四フッ化メタンの透過量を算出した。シリカ膜、炭素膜の場合、六フッ化硫黄を用いた。
表1(実施例1)、表2(実施例3)に示したもの以外のもの(実施例2,4〜7)についても、同様にして欠陥を判定し、欠陥と判定されたセル4について、補修を行った。
(実施例1:エポキシ)
分離膜構造体1の真空度測定から検出した3つの欠陥セルにエポキシ樹脂(コニシ製E200)を端面から5mm流し込み、室温にて24時間乾燥させセル4を閉塞させた。
分離膜構造体1の真空度測定から検出した4つの欠陥セルにあらかじめ円錐型に成型されたシリコン栓(アズワン型式2ピンク)を差し込んで固定し、セル4を閉塞させた。
あらかじめ円錐型に成型されたパーフロ栓(エア・ウォーター・マッハ製)をガス透過量測定から検出した3つの欠陥セルに差し込んで固定し、セル4を閉塞させた。
実施例4のみ、外径180mm−全長1000mm、セル径が2.5mm、セル数が2050個の大型の多孔質体9を用いたものである。分離膜構造体1の真空度測定から検出した31個の欠陥セルにエポキシ樹脂(コニシ製E200)を端面から10mm流し込み、室温にて24時間乾燥させセル4を閉塞させた。
(実施例5:シリコン栓)
分離膜構造体1のガス透過量測定から検出した9つの欠陥セルにあらかじめ円錐型に成型されたシリコン栓(アズワン型式2ピンク)を欠陥セルに差し込んで固定し、セル4を閉塞させた。
あらかじめ円錐型に成型されたパーフロ栓(エア・ウォーター・マッハ製)を真空度測定から検出した7つの欠陥セルに差し込んで固定し、セル4を閉塞させた。
(実施例7:シリコン栓)
分離膜構造体1の真空度測定から検出した3つの欠陥セルにあらかじめ円錐型に成型されたシリコン栓(アズワン型式2ピンク)を欠陥セルに差し込んで固定し、セル4を閉塞させた。
分離膜33がDDR膜の場合、以下のようにして、補修前、補修後の分離係数を求めた。二酸化炭素(CO2)とメタン(CH4)の混合ガス(各ガスの体積比を50:50とし、各ガスの分圧を0.2MPaとした。)を、分離膜構造体1のセル4内に導入し、分離膜33を透過したガスを回収しガスクロマトグラフを用いて成分分析を行い、「分離係数α=(透過CO2濃度/透過CH4濃度)/(供給CO2濃度/供給CH4濃度)」の式により分離係数を算出した。
図2Aに示すように、補修後の分離膜構造体1を、流体入口52及び流体出口53を有する筒状のハウジング51内に収納し、ハウジング51の流体入口52から水を流入させて水により5MPaで加圧した後、乾燥機にて乾燥させた。その後、上記と同様にして、分離係数を算出した。
Claims (6)
- 長手方向の一方の端面から他方の端面まで多孔質の隔壁によって区画形成されたセルを複数個有する多孔質セラミックのモノリス基材と、前記セルの内壁面に成膜された無機材料で形成されている分離膜とを含み、
前記分離膜に欠陥のある前記セルの少なくとも両端部が、エポキシ、シリコン系、およびフッ素系のいずれかの合成樹脂の高分子化合物である、流体が流通しないシール部材で閉塞されており、
前記両端部が前記シール部材で閉塞されていない前記セルは、
前記セル外から前記セルごとにガスで加圧して、前記ガスが前記セル内に透過する透過量を測定したときに、いずれの前記セルも前記透過量が(全セルの平均値+A)(ただしAは、σ〜6σの所定の値、σは標準偏差)の範囲内、または、
前記セルごとに減圧して、前記セルの真空度を測定したときに、いずれの前記セルも前記真空度が(全セルの平均値+A)(ただしAは、σ〜6σの所定の値、σは標準偏差)の範囲内にあるモノリス型分離膜構造体。 - 前記無機材料がゼオライト、炭素、およびシリカのいずれかである請求項1に記載のモノリス型分離膜構造体。
- 使用耐圧が1MPa以上である請求項1または2に記載のモノリス型分離膜構造体。
- 長手方向の一方の端面から他方の端面まで多孔質の隔壁によって区画形成されたセルを複数個有する多孔質セラミックのモノリス基材の前記セルの内壁面に無機材料で形成されている分離膜が成膜されたモノリス型分離膜構造体の前記分離膜に欠陥のあるセルの少なくとも両端部を、エポキシ、シリコン系、およびフッ素系のいずれかの合成樹脂の高分子化合物であらかじめ成型された、流体が流通しないシール部材を差し込んで塞ぐモノリス型分離膜構造体の補修方法。
- 長手方向の一方の端面から他方の端面まで多孔質の隔壁によって区画形成されたセルを複数個有する多孔質セラミックのモノリス基材の前記セルの内壁面に無機材料で形成されている分離膜が成膜されたモノリス型分離膜構造体の欠陥検出方法であって、
前記セル外から前記セルごとにガスで加圧して、前記ガスが前記セル内に透過する透過量を測定し、前記透過量が(全セルの平均値+A)(ただしAは、σ〜6σの所定の値、σは標準偏差)よりも多いセルを欠陥とするモノリス型分離膜構造体の欠陥検出方法。 - 長手方向の一方の端面から他方の端面まで多孔質の隔壁によって区画形成されたセルを複数個有する多孔質セラミックのモノリス基材の前記セルの内壁面に無機材料で形成されている分離膜が成膜されたモノリス型分離膜構造体の欠陥検出方法であって、
前記セルごとに減圧して、前記セルの真空度を測定し、前記真空度が(全セルの平均値+A)(ただしAは、σ〜6σの所定の値、σは標準偏差)よりも悪い値のセルを欠陥とするモノリス型分離膜構造体の欠陥検出方法。
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