JP6238592B2 - 光学系の偏芯量算出方法及びそれを用いた光学系の調整方法 - Google Patents

光学系の偏芯量算出方法及びそれを用いた光学系の調整方法 Download PDF

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Description

本発明は光学系の偏心量を容易に算出することができ、しかも光学系を構成する各光学素子の位置を容易に調整することができる光学系の偏芯量算出方法及びそれを用いた調整方法に関する。
高い光学性能を有する光学系では、光学系を構成する各光学素子には偏心が少ないことが要望される。レンズ,ミラー等の光学素子を複数個組み立てて光学系を構成するとき、各光学素子の組立によって発生した偏芯を調整することを必要とする光学系では、使用する像高や画角に合わせた光線を光学系に入射させる。そして光学系を通過した光を用いて光学系の光学評価を行い、所望の結像性能が得られるように各光学素子の偏芯の調整を行うことが知られている(特許文献1)。
特許文献1の収差補正系では、使用する像高や画角に合わせた光線を光学系に入射させて波面収差を測定し、zernike多項式のアス成分を補正するように各光学素子を回転させる。または、zernike多項式のコマ成分を補正するように光軸に対して各光学素子を偏芯調整している。
一方、天体観察等における反射望遠鏡においては、大気分散に起因して色収差が多く発生してくる。従来、反射望遠鏡において主鏡(反射鏡)の結像位置近傍に配置して大気分散による色収差を良好に補正した主焦点補正光学系が知られている(特許文献2)。
特開平6−230274号公報 特開2009−036976号公報
天体観察用の反射望遠鏡等の大型の光学系や、他の光学系と組合せて収差を補正するような収差補正光学系の場合、使用する像高や画角に合わせた光線を測定する光学系に入射させるためには、より大型な光学系が必要となる。この他、あらかじめ収差が確認されている別の光学系を使用する必要がある。前者は大型の光学系を用いるため測定が困難になる。後者はあらかじめ別の光学系を準備する必要があるため、やはり測定が困難になる。
例えば天体観察用の反射望遠鏡の一部を構成する大型の主鏡によって発生する収差を補正する収差補正光学系を構成する各光学素子の偏心を測定し、光学素子を調整する場合には、実際に使用する像高や画角に合わせた光線を収差補正光学系に入射させる必要がある。このためには、大型の主鏡、または別途複雑な光学系を必要とする。大型の主鏡や複雑な光学系を用意して反射望遠鏡の光学性能を測定することは大変困難である。
本発明は、測定対象となる光学系が大型であっても光学系を構成する光学素子の組立精度を容易に測定することができる光学系の偏心量算出方法の提供を目的とする。更に所望の結像性能が得られるように光学素子の偏芯等の光学調整が行える光学系の調整方法、そして全体としての光学系の光学性能を求めることができる光学系の光学性能の評価方法の提供を目的とする。
本発明の光学系の偏心量算出方法は、光源からの光束を第1測定光学系を介して光学系に入射させ、前記光学系を介した光束を検出手段で検出することにより前記光学系の波面収差を測定する第1測定工程と
前記光源からの光束を、前記第1測定光学系とは異なる第2測定光学系を介して、前記第1測定光学系からの光束が前記光学系に入射する光路とは異なる光路で前記光学系に入射させ、前記光学系を介した光束を前記検出手段で検出することにより、前記光学系の波面収差を測定する第2測定工程と、
前記第1測定工程で得られた波面収差と前記第2測定工程で得られた波面収差より前記光学系を構成する各光学素子の偏心量を算出する算出工程と
を有することを特徴としている。
本発明によれば、測定対象となる光学系が大型であっても光学系を構成する光学素子の組立精度を容易に測定することができ、しかも所望の結像性能が得られるように光学素子の偏芯等の光学調整が行える光学系の偏心量算出方法が得られる。
本発明の光学系の偏心量算出方法等のフローチャートである。 光学系を有する反射望遠鏡の要部概略図である。 補正光学系の詳細図である。 (A),(B) 波面収差の測定形態の概略図である。 算出した偏芯量を光学モデルに組込み光学性能を評価した(横収差)図である。 図4の第1,第2測定系の説明図である。
以下、図を用いて本発明の実施例について説明する。本発明の光学系の偏心量算出方法では次の第1測定工程と第2測定工程を有する。第1測定工程では、光源からの光束を第1測定光学系を介して光学系に入射させ、光学系を介した光束を検出手段で検出することにより光学系の波面収差を測定する。第2測定工程では、光源からの光束を、第1測定光学系とは異なる第2測定光学系を介して、第1測定光学系からの光束が光学系に入射する光路とは異なる光路で光学系に入射させ、光学系を介した光束を検出手段で検出することにより、光学系の波面収差を測定する。そして第1測定工程で得られた波面収差と第2測定工程で得られた波面収差より、光学系を構成する各光学素子の偏心量を算出する算出工程と、を有する。ここで、後述するように、光学系は、反射望遠鏡を構成する主鏡と、撮像素子と、主鏡が反射した光を撮像素子に導く補正光学系のうちの補正光学系に該当する。
また本発明の光学系の調整方法では、前述した偏心量算出方法により得られた、光学系を構成する各光学素子の偏心量を用いて、各光学素子の位置を調整する調整工程を有する。また本発明の光学系の製造方法では、主鏡と、主鏡からの光を受ける光学系を組み立てる組立工程と、前述した光学系の偏心量算出方法を用いて、光学系を構成する各光学素子の偏心量を算出する算出工程と、算出工程によって算出された各光学素子の偏心量に基づいて各光学素子の位置を調整する調整工程と、を有する。また本発明の光学系の評価方法では、前述した光学系の偏心量算出方法における算出工程で算出された偏心量を用いて、光学系の各光学素子に関する偏心光学モデルを作成し、作成した偏心光学モデルを用いて光学系が他の光学系の一部に装着されて実際に使用される状態を想定してシミュレーションを行い、光学系の光学性能の評価を行う評価工程を有する。
以下、簡単のため、第1測定光学系を第1測定系、第2測定光学系を第2測定系、第1測定工程を第1工程、第2測定工程を第2工程という。
まず本発明の光学系の偏心量算出方法における光学系の構成について説明する。ここで光学系は例えば天体観察を行うときの反射望遠鏡の主鏡と共に用いられる補正光学系である。補正光学系は主鏡の収差を補正するとともに、大気分散による色収差を補正する機能を有している。
図2は本発明の光学系の偏心量算出方法で偏心量の算出対象とする光学系(補正光学系)を有する反射望遠鏡の光学配置の説明図である。図3は図2の光学系の拡大説明図である。図2において、1は反射望遠鏡である。M1は結像作用のある主鏡、100は光学系である。主鏡M1は凹形状の回転双曲面(反射鏡)よりなっている。光学系100は主鏡M1の焦点又はその近傍に配置され、主鏡M1によって発生する収差を補正する。天体からの光束は図中右方から主鏡M1に入射し、主鏡M1で反射したあとに光学系100を介して撮像素子(撮像手段)が配置される撮像面C1に結像する。
図3に示した光学系100の構成について説明する。光学系100はレンズ(光学素子)L11からレンズL15、複合レンズ(光学素子)A1を有している。反射望遠鏡1ではレンズL11からレンズL15の5枚のレンズの形状を最適化している。具体的には光学系は主鏡M1から撮像面C1に向かって順に第1レンズL11、第2レンズL12、2枚の単レンズからなる大気分散補正用(大気色分解の補正用)の複合レンズ(ADC)A1を有する。更に第3レンズL13、第4レンズL14、第5レンズL15を有する。
天体からやってきた光は主鏡M1で反射されたあと、光学系100の第1レンズL11、第2レンズL12、複合レンズ(A1)、第3レンズL13、第4レンズL14、第5レンズL15を順に通過したあと、撮像面C1に天体の像を結像する。これにより視野角1.6度の範囲内で良好に収差を補正している。光学系100は有効視野角は1.5度としている。F1とW1は透過波長帯域を選択するためのフィルタとCCDデュワーの窓材の厚みに相当する平行平面板である。
複合レンズA1は大気分散を補正するため、分散の異なる材料よりなる2つのレンズA11,A12より構成されている。アクチュエータ(移動機構)により複合レンズA1を光軸に対し直交する方向の成分を持つように(図の矢印方向)に移動させることにより、大気分散による色ずれを補正する。
複合レンズA1は屈折率が近く、互いに分散の異なる材料よりなる一対のレンズA11,A12を接合又は僅かの空気間隔(空気層)を隔てて隣接配置して構成している。具体的にはレンズA11を構成する材料(商品名BSL7Y)の屈折率ndが1.51633、アッベ数νdが64.2である。またレンズA12を構成する材料(商品名PBL1Y)の屈折率ndが1.54814、アッベ数νdが45.8である。このときレンズA11とレンズA12の材料の屈折率の比は
1.51633/1.54814=0.979
である。即ち屈折率は互いに2.1%異なっている。
本実施例の複合レンズA1は材料の屈折率が互いに0.5%以上(好ましくは0.5%〜5%の範囲内)異なる正レンズ(レンズA12)と負レンズ(レンズA11)を光軸方向に隣接配置して構成されている。これらの材料の組み合わせ、しかも対向するレンズ面に同程度(曲率半径で±5%以内の差)の曲率を持たせている。これにより、複合レンズA1を光軸に対して直交する方向に移動させて大気分散の補正を行う場合に、必要な量の色収差を発生させている。なお、屈折率ndはd線(587.6nm)に対する屈折率である。アッベ数νdは以下によって定義される。
νd=(nd−1)/(nF−nC)
但し、nd:d線(587.6nm)に対する屈折率
nF:F線(486.1nm)に対する屈折率
nC:C線(656.3nm)に対する屈折率
また、レンズA11は物体側(主鏡M1側)の面が平面、レンズA12は撮像面(IP)側のレンズ面が平面となっている。すなわち、複合レンズA1の光入射面と光出射面は共に平面となっている。
これにより単色光線に対しては、複合レンズA1を光軸に対して直交する方向に移動させたときの項かは単純な平板ガラスを移動させた場合と大差がなくなり、単色収差の変化を小さく保っている。
次に表1に反射望遠鏡1の数値データを示す。表中の面番号は天体側から光束の進行順に各面に付した番号である。iは天体からの面の順序を示す。Riは各面の曲率半径、diは第i面と第(i+1)面との間の間隔を示す。R1は主鏡、R2からR15は光学系100の面である。
材料には石英(SILICA)と商品名BSL7Yと商品名PBL1Yの3種類の材料を用いている。詳細には、石英(SILICA)は屈折率ndが1.45846、アッベ数νdが67.8である。材料BSL7Yは屈折率ndが1.51633、アッベ数νdが64.2である。材料PBL1Yは屈折率ndが1.54814、アッベ数νdが45.8である。実施例中の材料名は(株)オハラのガラス名を使用したが、同等品を使用しても良い。
本実施例の光学系100は5つの非球面を有する。非球面形状は、光軸方向にz軸、光軸と垂直方向にh軸、光の進行方向を正とし、Rを近軸曲率半径、kを円錐定数、A〜Gを4次〜16次の非球面係数としたとき、
なる式で表わしている。また、表1においてfは主鏡M1と光学系100の合成焦点距離、FNOはFナンバー、2ωは全画角(視野角)(度)を表す。
[表1]
f = 18334.3mm FNO = 2.25 2ω= 1.5°
面番号 曲率半径R 面間隔d 材質 有効径
1(主鏡) 30000.0000(非球面) 13456.4205 8200.0
2 760.000 100.0000 SILICA 820.0
3 1375.5000(非球面) 372.8500 801.0
4 -3530.0000(非球面) 46.0000 BSL7Y 320.8
5 656.2498 318.0000 574.6
6(ADC) 平面 40.0000 BSL7Y 611.0
7(ADC) 1058.0000 3.0000 611.0
8(ADC) 1040.0000 82.0000 PBL1Y 611.9
9(ADC) 平面 274.3000 611.2
10 -840.0002(非球面) 40.0000 PBL1Y 552.2
11 9800.0000 90.00000 568.9
12 480.0000(非球面) 102.0000 BSL7Y 628.0
13 4021.4590 100.2000 628.0
14 4176.7483 88.0000 SILICA 616.0
15 -1272.8222(非球面) 90.0412 616.0
16(Filter) ∞ 15.0000 SILICA 520.6
17(Filter) ∞ 32.5000 510.3
18(Window) ∞ 37.0000 SILICA 520.6
19(Window) ∞ 15.0000 510.3
20 像面 ∞ --- --- 500.3
(非球面)
面1
k=-1.00835 A(4次)=0.00000 B(6次)=0.00000 C(8次)=0.00000
D(10次)=0.00000 E(12次)=0.00000 F(14次)=0.00000 G(16次)=0.00000

面3
k=0.00000 A(4次)=-1.49749E-11 B(6次)=-7.57907E-17
C(8次)=-7.70529 E-22 D(10次)=1.026626E-26 E(12次)=-7.07883E-32
F(14次)=2.559601E-37 G(16次)=-3.76155E-43

面4
k=0.00000 A(4次)=6.914718E-11 B(6次)=6.03728E-16
C(8次)=-1.53262E-20 D(10次)=3.61811E-25 E(12次)=-4.74168E-30
E(12次)=3.217309E-35 G(16次)=-8.85988E-41

面10
k=0.00000 A(4次)=2.768476E-09 B(6次)=-4.8556E-14
C(8次)=7.176113E-19 D(10次)=-1.07637E-24 E(12次)=1.187443E-28
F(14次)=-7.98382E-34 G(16次)=2.393557E-39

面12
k=0.00000 A(4次)=-4.35553E-09 B(6次)=3.635868E-14
C(8次)=-5.95127E-19 D(10次)=7.658840E-24 E(12次)=-7.19412E-29
F(14次)=3.942821E-34 G(16次)=-9.54343E-40

面15
k=0.00000 A(4次)=-1.06469E-09 B(6次)=3.377750E-14
C(8次)=-1.10265E-19 D(10次)=2.282369E-24 E(12次)=-2.74304E-29
F(14次)=1.755771E-34 G(16次)=-4.82195E-40
次に本発明の光学系の偏心量算出方法、光学系の調整方法、そして光学系の光学性能の表方法等(以下「光学系の調整方法等」という。)について説明する。本発明に係る光学系は、天体観察用の反射望遠鏡等の大型で高重量であり、本来の使用状態において光学性能を測定することが困難な光学系を測定対象としている。
図1は本発明の光学系の調整方法等のフローチャートである。図1のフローチャートは、例として図2に示す反射望遠鏡1で用いる光学系(補正光学系)を対象としている。本実施例では、本来の用途に近い画角(観察視野)、像高で光学性能を評価できない光学系を、光学系を通過する光路が互いに異なる光路を放射する第1測定系と第2測定系の2つの測定系によって光学系の波面収差を測定する(ステップS1)。その2つの波面収差からzernike係数のコマ成分をそれぞれ算出する(ステップS2)。
光学系に関し、実測した屈折率、屈折率分布、面形状、レンズ肉厚を加味した設計値モデルをそれぞれ作成する(表4)。それぞれ算出したコマ収差を目標、光学系の各レンズ(各光学素子)の偏芯を変数にして、光学設計ソフトによって最適化する。最適化後の各レンズの偏芯量は光学系の光軸を基準とした偏芯量となる(表5)(ステップS3)。
ここで、偏芯量が許容できない場合は、光学系の再組立(調整)を行う(ステップS4a)。また偏芯量のみで判定できない場合やより詳細な判定を行う場合、偏心光学モデルを作成する(ステップS4)。次いで実測した屈折率、屈折率分布、面形状、レンズ肉厚を加味した設計値に偏芯量も加味して、シミュレーションにより光学系の光学性能を評価する(ステップS5)。その後完成する(ステップS6)。
図4(A),(B)は光学系100を通過する光路が互いに異なる光束を放射する第1測定系と第2測定系の2つの測定形態での波面測定を示す概念図である。1100a,110bは各々第1測定系と第2測定系である。第1測定系1100aでは光学系100の光軸中心を通過する光束を放射する。
第2測定系1100bでは光学系100の有効径全体を通過する光束を放射する。第1測定系1100aと第2測定系1100bは各々干渉計を有している。L1,L2はそれぞれの波面測定形態で光学系100の波面収差を補正する測定光学系である。M2,M3は光学系100を通過した光束を測定系側へ折り返すミラー(凹面ミラー)である。表2に図4(A)の波面測定形態1における測定光学系L1の数値データを示す。
[表2]
面番号 曲率半径R 面間隔d 材質 有効径
1 平面 89.564
2 -97.428 10.000 BSL7Y 52
3 -446.097 20.000 56
4 -131.553 15.000 BSL7Y 68
5 -88.858 30.000 74
6 1272.822(非球面) 88.000 SILICA 661
7 -4176.748 100.200 661
8 -4021.459(非球面) 102.000 BSL7Y 646.26
9 -480.000(非球面) 90.000 674
10 -9800.000 40.000 PBL1Y 610
11 840.000(非球面) 274.300 561.62
12 平面 82.000 PBL1Y 636
13 -1040.201 3.000 636
14 -1058.165 40.000 BSL7Y 618
15 平面 318.000 638
16 -656.249 46.000 BSL7Y 626
17 3530.000(非球面) 372.85 662
18 -1375.500(非球面) 100.000 SILICA 821.24
19 -760.0000 156.400 854
20 -1700 -156.4 MIRROR 960
21 -760.0000 -100.000 SILICA 854
22 -1375.500(非球面) -372.85 821.24
23 3530.500(非球面) -46.000 BSL7Y 662
24 -656. 249 -318.000 626
25 平面 -40.000 BSL7Y 638
26 -1058.165 -3.000 618
27 -1040.201 -82.000 PBL1Y 636
28 平面 274.300 636
29 840.000(非球面) -40.000 PBL1Y 561.62
30 -9801.893 -90.000 610
31 -480.000(非球面) -102.000 BSL7Y 674
32 -4021.459(非球面) -100.200 646.26
33 -4176.798 -88.000 SILICA 661
34 1272.838(非球面) - 30.000 661
35 -88.8581 -15.000 BSL7Y 74
36 -131.553 -20.000 68
37 -446.097 -10.000 BSL7Y 56
38 -97.4287 -89.564 52
39 平面
(非球面)
面18, 22
k=-1.00835 A(4次)=0.00000 B(6次)=0.00000 C(8次)=0.00000
D(10次)=0.00000 E(12次)=0.00000 F(14次)=0.00000
G(16次)=0.00000

面17, 23
k=0.00000 A(4次)=-1.49749E-11 B(6次)=-7.57907E-17
C(8次)=-7.70529 E-22 D(10次)=1.026626E-26 E(12次)=-7.07883E-32
F(14次)=2.559601E-37 G(16次)=-3.76155E-43

面11, 29
k=0.00000 A (4次)=6.914718E-11 B(6次)=6.03728E-16
C(8次)=-1.53262E-20 D(10次)=3.61811E-25 E(12次)=-4.74168E-30
F(14次)=3.217309E-35 G(16次)=-8.85988E-41

面9, 31
k=0.00000 A (4次)=2.768476E-09 B(6次)=-4.8556E-14
C(8次)=7.176113E-19 D(10次)=-1.07637E-24 E(12次)=1.187443E-28
F(14次)=-7.98382E-34 G(16次)=2.393557E-39


面8, 32
k=0.00000 A (4次)=-4.35553E-09 B(6次)=3.635868E-14
C(8次)=-5.95127E-19 D(10次)=7.658840E-24 E(12次)=-7.19412E-29
F(14次)=3.942821E-34 G(16次)=-9.54343E-40

面6, 34
k=0.00000 A (4次)=-1.06469E-09 B(6次)=3.377750E-14
C(8次)=-1.10265E-19 D(10次)=2.282369E-24 E(12次)=-2.74304E-29
F(14次)=1.755771E-34 G(16次)-4.82195E-40
表3に図4(B)の波面測定形態2における測定光学系L2の数値データを示す。
[表3]
面番号 曲率半径R 面間隔d 材質 有効径
1 ∞ 315.730
2 -163.089 35.000 BSL7Y 150
3 -115.189 9.100 160
4 352.573 25.000 BSL7Y 170
5 151.4205 780.000 160
6 1272.822(非球面) 88.000 SILICA 661
7 -4176.748 100.200 661
8 -4021.459(非球面) 102.000 BSL7Y 646.26
9 -480.000(非球面) 90.000 674
10 -9800.000 40.000 PBL1Y 610
11 840.000(非球面) 274.300 561.62
12 平面 82.000 PBL1Y 636
13 -1040.201 3.000 636
14 -1058.165 40.000 BSL7Y 618
15 平面 318.000 638
16 -656.249 46.000 BSL7Y 626
17 3530.000(非球面) 372.85 662
18 -1375.500(非球面) 100.000 SILICA 821.24
19 -760.0000 156.400 854
20 -1700 -156.4 MIRROR 960
21 -760.0000 -100.000 SILICA 854
22 -1375.500(非球面) -372.85 821.24
23 3530.500(非球面) -46.000 BSL7Y 662
24 -656. 249 -318.000 626
25 平面 -40.000 BSL7Y 638
26 -1058.165 -3.000 618
27 -1040.201 -82.000 PBL1Y 636
28 平面 -274.300 636
29 840.000(非球面) -40.000 PBL1Y 561.62
30 -9801.893 -90.000 610
31 -480.000(非球面) -102.000 BSL7Y 674
32 -4021.459(非球面) -100.200 646.26
33 -4176.798 -88.000 SILICA 661
34 1272.838(非球面) -780.000 661
35 151.420 -25.000 BSL7Y 160
36 352.573 -9.100 170
37 -115.189 -35.000 BSL7Y 160
38 -163.089 -315.73 150
39 ∞
(非球面)
面18, 22
k =-1.00835 A (4次)=0.00000 B(6次)=0.00000 C(8次)=0.00000
D(10次)=0.00000 E(12次)=0.00000 F(14次)=0.00000
G(16次)=0.00000

面17, 23
k =0.00000 A (4次)=-1.49749E-11 B(6次)=-7.57907E-17
C(8次)=-7.70529 E-22 D(10次)=1.026626E-26 E(12次)=-7.07883E-32
F(14次)=2.559601E-37 G(16次)=-3.76155E-43

面11, 29
k =0.00000 A (4次)= 6.914718E-11 B(6次)= 6.03728E-16
C(8次)=-1.53262E-20 D(10次)=3.61811E-25 E(12次)=-4.74168E-30
F(14次)= 3.217309E-35 G(16次)=-8.85988E-41

面9, 31
k =0.00000 A (4次)=2.768476E-09 B(6次)=-4.8556E-14
C(8次)=7.176113E-19 D(10次)=-1.07637E-24 E(12次)=1.187443E-28
F(14次)=-7.98382E-34 G(16次)2.393557E-39


面8, 32
k =0.00000 A (4次)=-4.35553E-09 B(6次)=3.635868E-14
C(8次)=-5.95127E-19 D(10次)=7.658840E-24 E(12次)=-7.19412E-29
F(14次)=3.942821E-34 G(16次)=-9.54343E-40

面6, 34
k=0.00000 A (4次)=-1.06469E-09 B(6次)=3.377750E-14
C(8次)=-1.10265E-19 D(10次)=2.282369E-24 E(12次)=-2.74304E-29
F(14次)=1.755771E-34 G(16次)=-4.82195E-40
表2,表3においてRは曲率半径、dは面間隔を表す。表2において、面番号6〜19,21〜34は各々光学系100である。面番号2〜5,35〜38は各々測定光学系L1である。面番号20はミラーM1である。表3において面番号6〜19,21〜34は各々光学系である。面番号2〜5,35〜38は各々測定光学系L2である。面番号20はミラーM2である。
今、便宜上、図4(A),(B)の第1測定系1100aと第2測定系1100bの波面測定形態1,2において、光学系100のレンズL11からL15までが、表4に示すように偏芯したと仮定する。また表4においてミラーM2、ミラーM3の偏芯量は、レンズL11からL15までの偏芯によって発生したチルト成分(zernike2項、3項)を補正するために、ミラーM2、ミラーM3をそれぞれの偏芯させた量とする。
[表4]
レンズ名 X偏芯量 Y偏芯量
L11 +50.000um -50.000um
L12 -50.000um +50.000um
L13 +50.000um +50.000um
L14 -50.000um +50.000um
L15 +50.000um +50.000um
M2 -39.900um +58.170um
M3 -56.820um +64.570um
このとき、波面測定形態1,2における波面収差のコマ成分の計算値は表5に示すようになる。
[表5]
波面測定形態1 波面測定形態2
zernike7 -1.051458λ -7.837996λ
zernike8 0.921803λ 1.738226λ
zernike14 0.068602λ -1.227027λ
zernike15 -0.032967λ -0.012590λ
zernike23 -5.1506E-4λ -0.374624λ
zernike24 -1.005759E-3λ -0.012639λ
λ=632.8nm

表5の波面収差のコマ成分を目標に、光学系の各レンズL11〜L15の偏芯とミラーM2,ミラーM3の偏芯を変数にして、光学設計ソフトによって最適化した計算結果が表6となる。
[表6]
レンズ名 X偏芯算出結果 Y偏芯算出結果
L11 +50.000um -50.000um
L12 -50.000um +50.000um
L13 +50.000um +50.000um
L14 -50.000um +50.000um
L15 +50.000um +50.000um
M2 -39.900um +58.170um
M3 -56.820um +64.570um
表4,表6の数値は一致し、これより偏心量を求めるために計算した光学設計最適化手法が正しく信頼できるものであることがわかる。表4と表5より、第1測定系1100aと第2測定系1100bの2つの測定形態での波面測定の結果から、光学系のレンズL11からレンズL15まで偏芯(表5)を正しく算出できることがわかる。
図5は表5を算出した偏芯の算出結果(算出方法)を光学ソフトのモデルに組込み、図2に示す反射望遠鏡1の光学性能をシミュレーションによって計算した横収差である。
本発明の光学系の調整方法等では光学系の波面収差を改善するように調整するだけではなく、各レンズの偏芯を求めて光学ソフトのモデルに組み込む。これにより、図5に示すように実際に使用する図2に示すような画角や像高で測定できない場合でも光学性能をシミュレーションによって評価することができるようにしている。
図6は図4(A),(B)で示す実施例の第1測定系1100aと第2測定系1100bで用いる一例としてのフィゾー型の干渉計の説明図である。図6においてレーザ光源11から放射されたレーザ光(波長632.8nm)はビームエクスパンダ12とコリメータレンズ13によって平行光となり、ハーフミラー14に入射する。ハーフミラー14のハーフミラー面14aを通過したレーザ光の一部は参照光学系15のハーフミラーよりなる参照面15aで反射し、参照光となりハーフミラー面14aで反射し、結像レンズ16で集光されて検出手段17に入射する。
一方、参照光学系15を通過したレーザ光は集光された後に、図4に示す測定光学系L1(L2)に入射する。測定光学系L1(L2)を通過したレーザ光は図4(A),(B)に示すように光学系100、ミラーM1(M2)を介して戻り、参照光学系15、ハーフミラー14a、結像レンズ16を介して検出手段17に入射する。そして、参照面15aで反射したレーザ光と干渉して干渉パターンを形成する。検出手段17で干渉パターンのフリンジを検出することによって、光学系100の波面収差を測定する(図1のステップ1)。
尚、光学系100の波面収差の測定は、この干渉方法に限らず、どのような方法であっても良い。
以上のように本発明によれば、測定対象となる光学系が大型であっても光学系を構成する光学素子の組立精度を容易に測定することができ、しかも所望の結像性能が得られるように光学素子の偏芯等の光学調整が容易に行える。
1 反射望遠鏡 100 光学系 L11〜L15 光学部材
M1,M2 ミラー 1100a 第1測定系 1100b 第2測定系
L1,L2 測定光学系

Claims (5)

  1. 光源からの光束を第1測定光学系を介して光学系に入射させ、前記光学系を介した光束を検出手段で検出することにより前記光学系の波面収差を測定する第1測定工程と
    前記光源からの光束を、前記第1測定光学系とは異なる第2測定光学系を介して、前記第1測定光学系からの光束が前記光学系に入射する光路とは異なる光路で前記光学系に入射させ、前記光学系を介した光束を前記検出手段で検出することにより、前記光学系の波面収差を測定する第2測定工程と、
    前記第1測定工程で得られた波面収差と前記第2測定工程で得られた波面収差より前記光学系を構成する各光学素子の偏心量を算出する算出工程と
    を有することを特徴とする光学系の偏心量算出方法。
  2. 前記光学系は、反射望遠鏡を構成する主鏡と、撮像素子と、該主鏡が反射した光を前記撮像素子に導く補正光学系のうち、前記補正光学系に該当する、
    ことを特徴とする請求項1に記載の光学系の偏心量算出方法。
  3. 請求項1又は2に記載の偏心量算出方法により得られた、前記光学系を構成する各光学素子の偏心量を用いて、前記各光学素子の位置を調整する調整工程を有することを特徴とする光学系の調整方法。
  4. 主鏡と、該主鏡からの光を受ける光学系を組み立てる組立工程と、
    請求項1又は2に記載の偏心量算出方法を用いて、前記光学系を構成する各光学素子の偏心量を算出する算出工程と、
    該算出工程によって算出された前記各光学素子の偏心量に基づいて前記各光学素子の位置を調整する調整工程と、
    を有することを特徴とする光学系の製造方法。
  5. 請求項1又は2に記載の光学系の偏心量算出方法における前記算出工程で算出された偏心量を用いて、前記光学系の各光学素子に関する偏心光学モデルを作成し、作成した偏心光学モデルを用いて前記光学系が他の光学系の一部に装着されて実際に使用される状態を想定してシミュレーションを行い、前記光学系の光学性能の評価を行う評価工程を有することを特徴とする光学系の評価方法。
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