JP6196052B2 - 複数ガス注入システム - Google Patents
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Description
102 試料真空室
104 試料ステージ
106 加工物
110 ビーム
112 荷電粒子ビーム・カラム
113 荷電粒子源
114 集束レンズ
130 針
132 複数ガス注入システム(MGIS)弁
Claims (18)
- 少なくとも1つのガス源を含むビーム処理システム用のガス注入システムであって、
前記少なくとも1つのガス源からのガスを真空室内の加工物の表面の局所エリアに導く針と、
前記針へのガス流を制御する弁であって、1または複数のガス入口および1つの排気出口を含み、前記少なくとも1つのガス源からのガスが前記針を通して導かれる第1の構成と、前記少なくとも1つのガス源からの前記ガスが前記針からそらされて前記排気出口を通して代替経路へ導かれる第2の構成とを有する弁と
を備え、前記代替経路へ前記ガスを導くことが、前記ガスが前記針を通して導かれていないときに前記ガスの流量を調整することを可能にし、
前記第1の構成では前記針が前記加工物に向かって延出し、前記第2の構成では前記針が前記加工物から後退し、
前記針を延出させると、前記代替経路が閉じ、前記針を通る経路が開くように、前記弁が構成された、
ガス注入システム。 - 可変速真空ポンプをさらに備え、前記代替経路が前記可変速真空ポンプへ通じている、請求項1に記載のガス注入システム。
- 前記少なくとも1つのガス源が2つ以上のガス源を含み、前記2つ以上のガス源からのガスを前記針を通して導きまたは前記代替経路へ導くように、前記弁を構成することができる、請求項1または2に記載のガス注入システム。
- 前記弁が、前記針を通して導かれる前に前記2つ以上のガス源からのガスが混ざり合う混合室を含む、請求項3に記載のガス注入システム。
- 前記代替経路内に測定装置をさらに備え、前記測定装置が、前記ガスの流量を調整するために使用される、請求項1から4のいずれか一項に記載のガス注入システム。
- 前記測定装置が流量計を含む、請求項5に記載のガス注入システム。
- 前記流量計が圧力測定装置を含む、請求項6に記載のガス注入システム。
- 前記弁が、前記弁内の領域を分割する複数の摺動Oリングを含む、請求項1から7のいずれか一項に記載のガス注入システム。
- 前記ガス注入システムを用いて前記少なくとも1つのガス源からのガスを前記真空室内の加工物の表面の局所エリアに導くときに、前記弁が、前記弁の内部を前記真空室の内部から隔てるベローズを含む、請求項1から8のいずれか一項に記載のガス注入システム。
- 前記少なくとも1つのガス源からの前記ガスの流量を調整するパルス幅変調弁をさらに備える、請求項1から9のいずれか一項に記載のガス注入システム。
- 前記少なくとも1つのガス源が、加熱可能なるつぼまたはタンクを備える、請求項1から10のいずれか一項に記載のガス注入システム。
- 前記針を担持した前記弁の部分を延出させまたは後退させるアクチュエータをさらに備える、請求項1から11のいずれか一項に記載のガス注入システム。
- 前記針を延出させることと前記ガスの流路を変更することとが独立して実行されるように前記弁が構成された、請求項12に記載のガス注入システム。
- ビームを使用して第1のガスの存在下で加工物を処理するシステムにおいて前記加工物の表面に前記第1のガスを供給する方法であって、前記システムが、前記第1のガスを供給する第1のガス源と、前記ビームを供給するビーム源と、前記第1のガス源からの前記第1のガスを前記加工物に供給する針とを含み、前記方法が、
前記第1のガス源から弁へ前記第1のガスが第1の経路に沿って流れるようにするステップと、
前記針へ通じていない第2の経路に前記第1のガスをそらすように前記弁が構成されている間に、前記第1のガスの流量を調整することによって、前記第1のガスの第1の所望の流量を確立するステップと、
前記第1の所望の流量が確立された後に、前記第1のガスを前記針へ導くステップであって、前記加工物の表面に前記第1のガスを前記第1の所望の流量で供給するステップと
を含み、
前記第1のガスを前記針へ導くステップが、前記針を延出させて、前記針へ通じるガス流路を開き、前記針へ通じていないガス流路を閉じる方法。 - 前記第1の所望の流量を確立するステップが、前記第1のガスを可変速真空ポンプへそらすように前記弁が構成されている間に前記第1のガスの所望の流量を確立するステップを含む、請求項14に記載の方法。
- 前記第1の所望の流量を確立するステップが、前記第2の経路内の前記ガスの流量の測定値を得るステップを含む、請求項14または請求項15に記載の方法。
- 前記第1のガスを前記針へ導く前に、
第2のガス源から前記弁へ第2のガスが流れるようにするステップと、
前記第2のガスに対する第2の所望の流量を確立するステップと
をさらに含む、請求項14から16のいずれか一項に記載の方法。 - 前記第2のガスに対する第2の所望の流量を確立するステップが、
前記第2の経路内の前記第1のガスの流量を測定するステップと、
前記第2の経路内の前記第1および前記第2のガスの総流量を測定するステップと、
前記総流量から前記第1のガスの流量を差し引くことによって、前記第2のガスの流量を決定するステップと
を含む、請求項17に記載の方法。
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KR20000025128A (ko) | 반도체 고에너지 이온주입설비의 가스공급장치 |
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