JP6195926B2 - [2,2]パラシクロファンおよび関連化合物の形成ならびにシクロファンからのポリマーの形成方法 - Google Patents
[2,2]パラシクロファンおよび関連化合物の形成ならびにシクロファンからのポリマーの形成方法 Download PDFInfo
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真空堆積(0.1トール)
(反応1用装置の説明)
ここで図1を参照すると、供給出発材料1は供給液体または固体用のポンピング機構(図示せず)の利用によりチャンバー4中に導入される。一般的にはチャンバー4は供給出発材料1を揮発する加熱された管または他の蒸発装置である。供給出発材料1はチャンバー4において蒸発され、不活性ガス2と混合される。不活性ガス2はこれに限定されないがアルゴンのような不活性ガスの群のいずれかであってもよい。得られる揮発性混合物3はチャンバー6まで輸送され、その後亜酸化窒素5と混合され、化学反応混合物7が生成される。反応チャンバー8は一般的には約450℃〜800℃まで加熱され、反応を引き起こし、反応生成物を気化させ、生成物9として収集表面10上に排出させる。
ここで図2を参照すると、供給出発材料1は供給液体または固体用のポンピング機構(図示せず)の利用によりチャンバー4中に導入される。一般的にはチャンバー4は供給出発材料1を揮発する加熱された管または他の蒸発装置である。供給出発材料1はチャンバー4において蒸発され、不活性ガス2と混合される。不活性ガス2はこれに限定されないがアルゴンのような不活性ガスの群のいずれかであってもよい。得られる揮発性混合物3はチャンバー6まで輸送される。導体14によって電気プラズマ発生器13に電気的に接続したチャンバー12からガスプラズマ5が形成される。供給ガス11はチャンバー12中への導入によるガスプラズマ5への変換に適したガスである。揮発性混合物3はその後チャンバー6においてガスプラズマ5と混合され、化学反応混合物7が生成され、これは反応チャンバー8まで輸送される。反応チャンバー8は一般的には約450℃〜800℃まで加熱され、反応を引き起こし、反応生成物を気化させ、生成物9として収集表面10上に排出させる。
ここで図1を参照すると、供給出発材料1は供給液体または固体用のポンピング機構(図示せず)の利用によりチャンバー4中に導入される。一般的にはチャンバー4は供給出発材料1を揮発する加熱された管または他の蒸発装置である。供給出発材料1はチャンバー4において加熱される。得られる揮発性混合物3はチャンバー6まで輸送され、その後亜酸化窒素5と混合され、化学反応混合物7が生成される。反応チャンバー8は一般的には約450℃〜800℃まで加熱され、反応を引き起こし、反応生成物を気化させ、生成物9として収集表面10上に排出させる。
ここで図2を参照すると、供給出発材料1は供給液体または固体用のポンピング機構(図示せず)の利用によりチャンバー4中に導入される。一般的にはチャンバー4は供給出発材料1を揮発する加熱された管または他の蒸発装置である。供給出発材料1はチャンバー4において蒸発される。得られる揮発性混合物3はチャンバー6まで輸送される。導体14によって電気プラズマ発生器13に電気的に接続したチャンバー12からガスプラズマ5が形成される。供給ガス11はチャンバー12中への導入によるガスプラズマ5への変換に適したガスである。揮発性混合物3はその後チャンバー6においてガスプラズマ5と混合され、化学反応混合物7が生成され、反応チャンバー8まで輸送される。反応チャンバー8は一般的には約450℃〜800℃まで加熱され、反応を引き起こし、反応生成物を気化させ、生成物9として収集表面10上に排出させる。
反応性中間体p−キシリレンを形成するため、熱分解反応管を構成した。加熱領域における主な要素はInconel(ニッケル合金600)管(外径0.325インチ×内径0.277インチ×長さ60インチ、Grainger #3ACP8)だった。管は指定温度まで電気的に加熱した。アルゴン(Airgas #UM1006)のキャリアガス中のキシレン蒸気(Aldrich #134449−4L)を含む亜酸化窒素(Airgas #UM1070)からなるアルゴンガス混合物の流動流を20〜100mL/分の総流速、450℃〜630℃の温度および大気圧で管に導入した。ガスの比率は約1:1(キシレン対亜酸化窒素)のモル化学量論比をもたらすように調節する。流出ガスは透明無色の反応性ガス流を含んだ。冷却されたガラス容器上へのガスの凝縮は無色〜クリーム色の固体の堆積をもたらした。この固体は95%エタノールに部分的に可溶性である。GC分析(SRI #310、15m、メガボアカラム、FID検出器)により固体を[2,2’]パラシクロファン(Aldrich #P225−5G−A)の試料と比較し、保持時間が同じであることを示した。より高温(650℃〜800℃)では反応管の生成物は十分に熱く、単量体p−キシリレンはモノマー形態に維持される。表面上へのモノマーの急速な冷却はモノマーの液体凝縮およびモノマーのポリマーへの急速な重合をもたらす。こうして生成される膜はゴーハムプロセスにより生成されるパリレン膜と比較して同じように見える(測定された誘電率はともに3、電気的破壊強度は同じ100V/ミクロン、熱い溶媒および冷たい溶媒両方への溶解度は検出可能レベル未満である)。
直径3/8インチ×長さ12インチの石英管に、ガス源(例えばアルゴンまたは窒素)に接続した1/16インチの316ステンレス鋼管を取り付ける。ステンレス鋼管は接地電極から短距離(約5mm〜15mm)に配置する。プラズマ発生器(InfoUnlimited PVM−400、20〜50kHz、0〜6000V)を1/16インチの管および接地電極に接続する。接地電極はガスが接地電極を通過後にアルゴン/p−キシレン混合物と混合することができるように配置および接続する。得られた混合物は直径3/8インチ×長さ12インチの管に周囲温度〜800℃の範囲内の温度で通す。発生器にはキシレンまたは他の出発材料の反応をほぼ完了まで進めるのに十分な電力を供給する。出発材料の完全反応は必要でない。より低温(周囲温度〜500℃)では、流出管中に固体が形成される。高温(500〜650℃)では、管の生成物は冷却ガスと混合および/または冷却された固体もしくは液体標的に誘導し、ダイマーを凝縮させることができる。さらにより高温(650〜800℃)では、管の生成物は冷却ガスと混合および/または冷却された固体もしくは液体標的に誘導し、モノマーを凝縮させることができる。凝縮したモノマーのその後の重合は急速に起こる傾向がある。
上述した反応の生成物について、反応生成物のガス流を冷たい固体表面に誘導する。表面標的はネオジム磁石(S84、K&J Magnetics)によりもたらされるような磁場に浸漬させる。モノマーの凝縮およびその後の重合は磁場中で急速に進むことができる。標的および磁石が重合プロセス中に同じ相対配向を維持する場合、誘電率のベースラインは上昇することとなる。標的に対する磁場の配向関係が重合または固相凝縮プロセス中に回転する場合、得られる誘電率は低下することとなる。
上述した反応の生成物について、反応生成物のガス流を冷たい固体表面に誘導する。表面標的は高圧電源(G40、Emco、リード間隔2インチ、4000V)によりもたらされるような電場に浸漬させる。モノマーの凝縮およびその後の重合は電場中で急速に進むことができる。標的および電場が重合プロセス中に同じ相対配向を維持する場合、誘電率のベースラインは上昇することとなる。標的に対する電場の配向関係が重合または固相縮縮プロセス中に回転する場合、得られる誘電率は低下することとなる。
Claims (16)
- 芳香族環のα位に少なくとも1つの水素原子を含有する有機出発材料からオリゴマーおよびポリマーを生成する方法であって、前記方法が:
芳香族環のα位に少なくとも1つの水素原子を含有する有機出発材料を不活性ガスの流動流中に導入するステップ;
亜酸化窒素を前記不活性ガスの流動流中の前記有機出発材料と混合して反応混合物を形成するステップ;
前記反応混合物を大気圧で反応温度まで加熱し、前記有機出発材料を酸化して、モノマーを形成するステップ;および
前記モノマーを凝縮してオリゴマーおよびポリマーからなる群から選択される生成化合物を形成するステップ
を含み、
前記有機出発材料がキシレンを含み、前記モノマーがキシリレンを含む、方法。 - 前記モノマーを凝縮して前記生成化合物を形成するステップが前記モノマーを冷たい不活性ガスと混合することを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記モノマーを凝縮して前記生成化合物を形成するステップが、
背圧装置を適用することにより前記反応混合物の大気圧から圧力を増加すること;および
前記反応生成物を膨張弁を通じて流して膨張冷却と凝縮をもたらすこと
を含む、請求項1に記載の方法。 - プラズマガスを、前記不活性ガスの流動流、前記有機出発材料および亜酸化窒素と混合し、前記不活性ガス、前記有機出発材料、前記亜酸化窒素、および前記プラズマガスを含む、反応混合物を形成するステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記生成化合物を凝縮中に磁場に露出させるステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記生成化合物を凝縮中に電場に露出させるステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 芳香族環のα位に少なくとも1つの水素原子を含有する有機出発材料からオリゴマーおよびポリマーを生成する方法であって、前記方法が:
芳香族環のα位に少なくとも1つの水素原子を含有する有機出発材料をガスの流動流中に導入するステップ;
一原子酸素を前記有機出発材料を含む前記ガスの流動流に導入して反応混合物を形成するステップであって、一原子酸素を導入することが、プラズマガスを前記ガスの流動流および前記有機出発材料と混合することを含む、ステップ;
前記反応混合物を、大気圧で反応温度まで加熱し、前記有機出発材料を酸化し、その後モノマーを形成するステップ;および
前記モノマーを凝縮してオリゴマーおよびポリマーからなる群から選択される生成化合物を形成するステップ
を含み、
前記有機出発材料がキシレンを含み、前記モノマーがキシリレンを含む、方法。 - 前記モノマーを凝縮して前記生成化合物を形成するステップが、前記モノマーを冷たい不活性ガスと混合することを含む、請求項7に記載の方法。
- 前記モノマーを凝縮して前記生成化合物を形成するステップが、
背圧装置を適用することにより前記反応混合物の大気圧から圧力を増加すること;および
前記反応生成物を膨張弁を通じて流して膨張冷却と凝縮をもたらすこと
を含む、請求項7に記載の方法。 - 前記生成化合物を凝縮中に磁場に露出させるステップをさらに含む、請求項7に記載の方法。
- 前記生成化合物を凝縮中に電場に露出させるステップをさらに含む、請求項7に記載の方法。
- シクロファン系化合物を生成する方法であって:
一原子酸素をガス状キシレンを含む出発化合物と混合された状態にするステップ;
前記一原子酸素と前記出発化合物を450℃〜630℃の反応温度まで加熱し、[n,n’]シクロファンを含む気化した反応生成物を生成するステップ;ならびに
前記気化した反応生成物を基質上に凝縮させるステップ
を含む方法。 - 前記気化した反応生成物を冷却し、前記気化した反応生成物の前記基質上への凝縮を促進するステップをさらに含む、請求項12に記載の方法。
- 前記気化した反応生成物を前記基質上に凝縮させる間、前記反応生成物を誘電率を向上させる場に露出させるステップをさらに含み、前記誘電率を向上させる場が磁場および電場からなる群から選択される場であるステップをさらに含む、請求項13に記載の方法。
- 前記有機出発材料がp−キシレンを含み、前記反応温度が650℃より高い、請求項7に記載の方法。
- 前記キシレンと前記一原子酸素のモル化学量論比が1:1である、請求項7に記載の方法。
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