JP6187457B2 - 光配向法用の液晶配向剤、液晶配向膜、及び液晶表示素子 - Google Patents
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Description
現在、工業的に最も普及している方法によれば、この液晶配向膜は、電極基板上に形成されたポリアミック酸及び/又はこれをイミド化したポリイミドからなる膜の表面を、綿、ナイロン、ポリエステル等の布で一方向に擦る、いわゆるラビング処理を行うことで作製されている。
特許文献1では、主鎖にシクロブタン環などの脂環構造を有するポリイミド膜を光配向法に用いることが提案されている。ポリイミドを用いた光配向用配向膜に用いた場合、他に比べて高い耐熱性を有することからその有用性が期待されている。
しかし、本願発明者らが検討した結果、シクロブタンなどの脂環構造を有するテトラカルボン酸二無水物及びその誘導体と芳香族ジアミンからなるポリイミド前駆体及びそのイミド化重合体を塗布、焼成して得られる光配向法用の液晶配向膜は、水や2−プロパノールなどの有機溶媒を主成分とする洗浄液で洗浄することによって著しく特性が悪化することがわかった。具体的には、得られた膜を洗浄することで、長期交流駆動によって残像が発生することがわかった。
1.下記式(1)で表される構造単位を有するポリイミド前駆体及び該ポリイミド前駆体のイミド化重合体からなる群から選ばれる少なくとも1種を含む重合体と有機溶媒とを含有することを特徴とする光配向法用の液晶配向剤。
3.上記式(1)において、X1が式(X1−1)で表される構造である上記1又は2のいずれかに記載の光配向法用の液晶配向剤。
6.上記重合体の含有量が、1重量%以上10重量%以下である上記1〜4のいずれかに記載の光配向法用の液晶配向剤。
7.上記1〜6のいずれかに記載の光配向法用の液晶配向剤を塗布、焼成して得られる液晶配向膜。
8.上記1〜6のいずれかに記載の光配向法用の液晶配向剤を塗布、焼成し、次いで、直線に偏光された紫外線を照射し、洗浄することによって得られる液晶配向膜。
9.上記7又は8に記載の液晶配向膜を具備する液晶表示素子。
本発明の液晶配向剤から得られる液晶配向膜は、少ない照射エネルギーで良好な残像特性を示す。
本発明の液晶配向剤は、下記式(1)で表される構造単位を有するポリイミド前駆体及び該ポリイミド前駆体のイミド化重合体からなる群から選ばれる少なくとも1種類の重合体と有機溶媒とを含有することを特徴とする光配向法用の液晶配向剤である。
また、ポリイミド前駆体及びポリイミドの有機溶媒に対する溶解性の向上が期待できるため、Y2の構造としては、Y−8、Y−20、Y−21、Y−22、Y−28、Y−29、Y−30、Y−71,Y−72、Y−73、又はY−85がより好ましい。
本発明に用いられるポリイミド前駆体であるポリアミック酸エステルは、以下に示す(1)、(2)又は(3)の方法で合成することができる。
(1)ポリアミック酸から合成する場合
ポリアミック酸エステルは、テトラカルボン酸二無水物とジアミンから得られるポリアミック酸をエステル化することによって合成することができる。
エステル化剤としては、精製によって容易に除去できるものが好ましく、N,N−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール、N,N−ジメチルホルムアミドジエチルアセタール、N,N−ジメチルホルムアミドジプロピルアセタール、N,N−ジメチルホルムアミドジネオペンチルブチルアセタール、N,N−ジメチルホルムアミドジ−t−ブチルアセタール、1−メチル−3−p−トリルトリアゼン、1−エチル−3−p−トリルトリアゼン、1−プロピル−3−p−トリルトリアゼン、4−(4,6−ジメトキシ−1,3,5−トリアジンー2−イル)−4−メチルモルホリニウムクロリドなどが挙げられる。エステル化剤の添加量は、ポリアミック酸の繰り返し単位1モルに対して、2〜6モル当量が好ましい。
ポリアミック酸エステルは、テトラカルボン酸ジエステルジクロリドとジアミンから合成することができる。
具体的には、テトラカルボン酸ジエステルジクロリドとジアミンとを塩基と有機溶剤の存在下で−20℃〜150℃、好ましくは0℃〜50℃において、30分〜24時間、好ましくは1〜4時間反応させることによって合成することができる。
ポリアミック酸エステルは、テトラカルボン酸ジエステルとジアミンを重縮合することにより合成することができる。
前記縮合剤には、トリフェニルホスファイト、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩、N,N’−カルボニルジイミダゾール、ジメトキシ−1,3,5−トリアジニルメチルモルホリニウム、O−(ベンゾトリアゾール−1−イル)−N,N,N’,N’−テトラメチルウロニウム テトラフルオロボラート、O−(ベンゾトリアゾール−1−イル)−N,N,N’,N’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスファート、(2,3−ジヒドロ−2−チオキソ−3−ベンゾオキサゾリル)ホスホン酸ジフェニルなどが使用できる。縮合剤の添加量は、テトラカルボン酸ジエステルに対して2〜3倍モルが好ましい。
また、上記反応において、ルイス酸を添加剤として加えることで反応が効率的に進行する。ルイス酸としては、塩化リチウム、臭化リチウムなどのハロゲン化リチウムが好ましい。ルイス酸の添加量はジアミン成分に対して0〜1.0倍モルが好ましい。
上記のようにして得られるポリアミック酸エステルの溶液は、よく撹拌させながら貧溶媒に注入することで、ポリマーを析出させることができる。析出を数回行い、貧溶媒で洗浄後、常温あるいは加熱乾燥して精製されたポリアミック酸エステルの粉末を得ることができる。貧溶媒は、特に限定されないが、水、メタノール、エタノール、ヘキサン、ブチルセロソルブ、アセトン、トルエン等が挙げられる。
本発明に用いられるポリイミド前駆体であるポリアミック酸は、以下に示す方法により合成することができる。
具体的には、テトラカルボン酸二無水物とジアミンとを有機溶媒の存在下で−20℃〜150℃、好ましくは0℃〜50℃において、30分〜24時間、好ましくは1〜12時間反応させることによって合成できる。
本発明に用いられるポリイミドは、前記ポリアミック酸エステル又はポリアミック酸をイミド化することにより製造することができる。ポリアミック酸エステルからポリイミドを製造する場合、前記ポリアミック酸エステル溶液、又はポリアミック酸エステル樹脂粉末を有機溶媒に溶解させて得られるポリアミック酸溶液に塩基性触媒を添加する化学的イミド化が簡便である。化学的イミド化は、比較的低温でイミド化反応が進行し、イミド化の課程で重合体の分子量低下が起こりにくいので好ましい。
前記貧溶媒は、特に限定されないが、メタノール、アセトン、ヘキサン、ブチルセルソルブ、ヘプタン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、エタノール、トルエン、ベンゼン等が挙げられる。
本発明に用いられる液晶配向剤は、特定構造の重合体が有機溶媒中に溶解された溶液の形態を有する。上記式(1)で表される構造単位を有するポリイミド前駆体及び該ポリイミド前駆体のイミド化重合体から選ばれる少なくとも1種の重合体の分子量は、重量平均分子量で2,000〜500,000が好ましく、より好ましくは5,000〜300,000であり、さらに好ましくは、10,000〜100,000である。また、数平均分子量は、好ましくは、1,000〜250,000であり、より好ましくは、2,500〜150,000であり、さらに好ましくは、5,000〜50,000である。
本発明の液晶配向膜は、液晶配向剤を基板に塗布し、焼成する工程、得られた膜に偏光された紫外線を照射する工程、紫外線を照射した膜を水や2−プロパノールを主成分とする洗浄液で洗浄する工程を含む液晶配向膜の製造方法によって、製造されることが好ましい。
上記のようにして得られた液晶配向剤を基板に塗布し、乾燥、焼成することによりポリイミド膜、又はポリイミド前駆体がイミド化した膜が得られる。
本発明に用いたれる液晶配向剤を塗布する基板としては透明性の高い基板であれば特に限定されず、ガラス基板、窒化珪素基板、アクリル基板やポリカーボネート基板等のプラスチック基板等を用いることができ、液晶駆動のためのITO電極等が形成された基板を用いることがプロセスの簡素化の点から好ましい。また、反射型の液晶表示素子では片側の基板のみにならばシリコンウエハー等の不透明な物でも使用でき、この場合の電極はアルミ等の光を反射する材料も使用できる。本発明に用いられる液晶配向剤の塗布方法としては、スピンコート法、印刷法、インクジェット法などが挙げられる。
上記(1)の方法で得られた膜に、偏光された紫外線を照射する(以下、光配向処理とも言う)ことにより、異方性が付与される。
偏光された紫外線の消光比が高いほど、より高い異方性が付与できるため、好ましい。具体的には、直線に偏光された紫外線の消光比は、10:1以上が好ましく、20:1以上がより好ましい。
前記放射線の照射量は、1〜10,000mJ/cm2の範囲にあることが好ましく、100〜5,000mJ/cm2の範囲にあることが特に好ましい。
本発明の液晶配向剤から得られる液晶配向膜は、水や2−プロパノールを主成分とする洗浄液で洗浄することによって、液晶配向膜として良好な特性を発現することを特徴とする。2−プロパノールは、水よりも膜中の有機物を溶解しやすいため、本発明の液晶配向膜の洗浄液としては、2−プロパノールを含有する洗浄液がより好ましい。
本発明の液晶表示素子は、前記液晶配向膜の製造方法によって得られた液晶配向膜を具備することを特徴とする。
本発明の液晶表示素子は、上記した手法によって本発明に記載の液晶配向処理剤から前記液晶配向膜の製造方法によって液晶配向膜付きの基板を得た後、公知の方法で液晶セルを作製し、それを使用して液晶表示素子としたものである。
まず、透明なガラス製の基板を準備し、一方の基板の上にコモン電極を、他方の基板の上にセグメント電極を設ける。これらの電極は、例えばITO電極とすることができ、所望の画像表示ができるようパターニングされる。次いで、各基板の上に、コモン電極とセグメント電極を被覆するようにして絶縁膜を設ける。絶縁膜は、例えば、ゾル−ゲル法によって形成されたSiO2−TiO2からなる膜とすることができる。
BCS:ブチルセロソルブ
DA−2:下記式(DA−2)
DA−3:下記式(DA−3)
DAH−1:下記式(DAH−1)
添加剤A:N−α―(9−フルオレニルメトキシカルボニル)−N−τ−t−ブトキシカルボニル−L−ヒスチジン
合成例において、ポリイミド前駆体溶液の粘度は、E型粘度計TVE−22H(東機産業社製)を用い、サンプル量1.1mL)、コーンロータTE−1(1°34’、R24)、温度25℃で測定した。
また、ポリイミド前駆体及び該イミド化重合体の分子量はGPC(常温ゲル浸透クロマトグラフィー)装置によって測定し、ポリエチレングリコール、ポリエチレンオキシド換算値として数平均分子量(以下、Mnとも言う。)と重量平均分子量(以下、Mwとも言う。)を算出した。
GPC装置:Shodex社製(GPC−101)
カラム:Shodex社製(KD803、KD805の直列)
カラム温度:50℃
溶離液:N,N−ジメチルホルムアミド(添加剤として、臭化リチウム−水和物(LiBr・H2O)が30mmol/L、リン酸・無水結晶(o−リン酸)が30mmol/L、テトラヒドロフラン(THF)が10ml/L)
流速:1.0mL/分
フリンジフィールドスィッチング(Fringe Field Switching:以下、FFSという)モード液晶表示素子の構成を備えた液晶セルを作製する。
始めに、電極付きの基板を準備した。基板は、30mm×50mmの大きさで、厚さが0.7mmのガラス基板である。基板上には第1層目として対向電極を構成する、ベタ状のパターンを備えたITO電極が形成されている。第1層目の対向電極の上には第2層目として、CVD法により成膜されたSiN(窒化珪素)膜が形成されている。
上記した残像評価に使用した液晶セルと同様の構造の液晶セルを準備した。
この液晶セルを用い、60℃の恒温環境下、周波数60Hzで±5Vの交流電圧を200時間印加した。その後、液晶セルの画素電極と対向電極との間をショートさせた状態にし、そのまま室温に一日放置した。
合成例におけるポリイミドのイミド化率は次のようにして測定した。ポリイミド粉末20mgをNMRサンプル管(NMRサンプリングチューブスタンダード,φ5(草野科学製))に入れ、重水素化ジメチルスルホキシド(DMSO−d6,0.05%TMS(テトラメチルシラン)混合品)(0.53mL)を添加し、超音波をかけて完全に溶解させた。この溶液をNMR測定機(JNW−ECA500)(日本電子データム製)にて500MHzのプロトンNMRを測定した。
イミド化率(%)=(1−α・x/y)×100
上記式において、xはアミド酸のNH基由来のプロトンピーク積算値、yは基準プロトンのピーク積算値、αはポリアミド酸(イミド化率が0%)の場合におけるアミド酸のNH基プロトン1個に対する基準プロトンの個数割合である。
撹拌装置付き及び窒素導入管付きの100mL四つ口フラスコに、1,2−ビス(4−アミノフェノキシ)エタンを4.89g(20.02mmol)取り、NMPを69.75g加えて、窒素を送りながら撹拌し溶解させた。このジアミン溶液を撹拌しながら1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物を3.72g(18.97mmol)添加し、更に固形分濃度が10質量%になるようにNMPを加え、室温で24時間撹拌してポリアミック酸(PAA−1)の溶液を得た。このポリアミック酸溶液の温度25℃における粘度は143mPa・sであった。また、このポリアミック酸の分子量はMn=12777、Mw=29720であった。
撹拌装置付き及び窒素導入管付きの2000mL四つ口フラスコに、1,2−ビス(4−アミノフェノキシ)エタンを110.47g(452mmol)、DA−2を18.94g(79.5mmol)取り、NMPを1587g加えて、窒素を送りながら撹拌し溶解させた。このジアミン溶液を撹拌しながら1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物を111.18g(496mmol)添加し、更に固形分濃度が12質量%になるようにNMPを加え、40℃で20時間撹拌してポリアミック酸(PAA−2)の溶液を得た。このポリアミック酸溶液の温度25℃における粘度は183mPa・sであった。また、このポリアミック酸の分子量はMn=12356、Mw=25544であった。
撹拌装置付き及び窒素導入管付きの3000mL四つ口フラスコに得られたポリアミック酸溶液(PAA−2)を950g取り、NMPを678g加え、30分撹拌した。得られたポリアミック酸溶液に、無水酢酸を77.11g、ピリジンを19.92g加えて、60℃で3時間加熱し、化学イミド化を行った。得られた反応液を6600mLのメタノールに撹拌しながら投入し、析出した沈殿物をろ取し、続いて、6600mLのメタノールで3回洗浄し、2000mLのメタノールで2回洗浄した。得られた樹脂粉末を60℃で12時間乾燥することで、ポリイミド樹脂粉末を得た。
このポリイミド樹脂粉末のイミド化率は、75%、分子量はMn=8156、Mw=17408であった。
撹拌子を入れた200mL三角フラスコに得られたポリイミド樹脂粉末20.69gを取り、NMPを151.71g加え、40℃で24時間撹拌し溶解させて、ポリイミド溶液(PI−1)を得た。
撹拌装置付き及び窒素導入管付きの200mL四つ口フラスコに、1,2−ビス(4−アミノフェノキシ)エタンを4.20g(17.19mmol)、DA−3を7.70g(25.81mmol)取り、NMPを158g加えて、窒素を送りながら撹拌し溶解させた。このジアミン溶液を撹拌しながらDAH−1を12.02g(40.85mmol)添加し、更に固形分濃度が12質量%になるようにNMPを加え、室温で24時間撹拌してポリアミック酸(PAA−6)の溶液を得た。このポリアミック酸溶液の温度25℃における粘度は390mPa・sであった。
撹拌装置付き及び窒素導入管付きの500mL四つ口フラスコに、4,4’−ジアミノジフェニルエタンを8.81g(44.0mmol)、DA−3を19.69g(65.99mmol)取り、NMPを146g加えて、窒素を送りながら撹拌し溶解させた。このジアミン溶液を撹拌しながら1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物を6.54g(33.0mmol)添加し、更に固形分濃度が15質量%になるようにNMPを加え、室温で2時間撹拌した。
次に、NMPを146g加えて、DAH−1を22.01g(74.81mmol)添加し、更に固形分濃度が12質量%になるようにNMPを加えて、室温で24時間撹拌し、ポリアミック酸(PAA−7)の溶液を得た。このポリアミック酸溶液の温度25℃における粘度は399mPa・sであった。
撹拌装置付き及び窒素導入管付きの1000mL四つ口フラスコに、DA−3を59.75g(200mmol)取り、NMPを284g加えて、窒素を送りながら撹拌し溶解させた。このジアミン溶液を撹拌しながら1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物を11.89g(60.01mmol)添加し、更に固形分濃度が15質量%になるようにNMPを加え、室温で2時間撹拌した。
次に、NMPを284g加えて、DAH−1を39.43g(134mmol)添加し、更に固形分濃度が12質量%になるようにNMPを加えて、室温で24時間撹拌し、ポリアミック酸(PAA−8)の溶液を得た。このポリアミック酸溶液の温度25℃における粘度は405mPa・sであった。
撹拌装置付き及び窒素導入管付きの2000mL四つ口フラスコに、4,4’−ジアミノジフェニルアミンを63.76g(320mmol)、3,5−ジアミノ安息香酸を12.17g(79.99mmol)取り、NMPを1094g加えて、窒素を送りながら撹拌し溶解させた。このジアミン溶液を撹拌しながら、DAH−1を112.59g(383mmol)添加し、更に固形分濃度が12質量%になるようにNMPを加えて、室温で24時間撹拌し、ポリアミック酸(PAA−9)の溶液を得た。このポリアミック酸溶液の温度25℃における粘度は384mPa・sであった。
撹拌装置付き及び窒素導入管付きの2000mL四つ口フラスコに、DA−3を119.35g(400mmol)取り、NMPを1536g加えて、窒素を送りながら撹拌し溶解させた。このジアミン溶液を撹拌しながら、DAH−1を39.43g(386mmol)添加し、更に固形分濃度が12質量%になるようにNMPを加えて、室温で24時間撹拌し、ポリアミック酸(PAA−10)の溶液を得た。このポリアミック酸溶液の温度25℃における粘度は372mPa・sであった。
撹拌装置付き及び窒素導入管付きの100mL四つ口フラスコに、4,4’−ジアミノ−1,2−ジフェニルエタンを4.25g(20.02mmol)取り、NMPを70.85g加えて、窒素を送りながら撹拌し溶解させた。このジアミン溶液を撹拌しながら1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物を3.82g(19.48mmol)添加し、更に固形分濃度が10質量%になるようにNMPを加え、室温で24時間撹拌してポリアミック酸(PAA−3)の溶液を得た。このポリアミック酸溶液の温度25℃における粘度は156mPa・sであった。また、このポリアミック酸の分子量はMn=13966、Mw=33163であった。
撹拌装置付き及び窒素導入管付きの100mL四つ口フラスコに、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)プロパンを5.17g(20.01mmol)取り、NMPを72.03g加えて、窒素を送りながら撹拌し溶解させた。このジアミン溶液を撹拌しながら1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物を3.79g(19.33mmol)添加し、更に固形分濃度が10質量%になるようにNMPを加え、室温で24時間撹拌してポリアミック酸(PAA−4)の溶液を得た。このポリアミック酸溶液の温度25℃における粘度は162mPa・sであった。また、このポリアミック酸の分子量はMn=25902、Mw=40413であった。
撹拌装置付き及び窒素導入管付きの3000mL四つ口フラスコに、NMPを1378g加えて、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物を98.05g(0.502mol)添加した。このテトラカルボン酸二無水物のスラリー液を撹拌しながら、p−フェニレンジアミンを52.18g(0.483mol)添加し、更に固形分濃度が8質量%になるようにNMPを加え、室温で24時間撹拌してポリアミック酸(PAA−5)の溶液を得た。このポリアミック酸溶液の温度25℃における粘度は182mPa・sであった。また、このポリアミック酸の分子量はMn=18712、Mw=41702であった。
撹拌子を入れた20mLサンプル管に、合成例1で得られたポリアミック酸溶液(PAA−1)を12.00g取り、NMPを4.03g、及びBCSを4.00g加えて、マグネチックスターラーで30分間撹拌し液晶配向剤(A−1)を得た。
撹拌子を入れた20mLサンプル管に、比較合成例1で得られたポリアミック酸溶液(PAA−3)を12.06g取り、NMPを4.09g、及びBCSを4.03g加えて、マグネチックスターラーで30分間撹拌し液晶配向剤(B−1)を得た。
撹拌子を入れた20mLサンプル管に、比較合成例2で得られたポリアミック酸溶液(PAA−4)を12.06g取り、NMPを4.02g、及びBCSを4.13g加えて、マグネチックスターラーで30分間撹拌し液晶配向剤(B−2)を得た。
撹拌子を入れた20mLサンプル管に、比較合成例3で得られたポリアミック酸溶液(PAA−5)を5.02g取り、NMPを3.00g、及びBCSを2.00g加えて、マグネチックスターラーで30分間撹拌し液晶配向剤(B−3)を得た。
参考例1で得られた液晶配向剤(A−1)を1.0μmのフィルターで濾過した後、準備された上記電極付き基板と裏面にITO膜が成膜されている高さ4μmの柱状スペーサーを有するガラス基板に、スピンコート塗布にて塗布した。80℃のホットプレート上で5分間乾燥させた後、230℃の熱風循環式オーブンで20分間焼成を行い、膜厚100nmの塗膜を形成させた。この塗膜面に偏光板を介して消光比26:1の直線偏光した波長254nmの紫外線を1.0J/cm2照射した。
配向膜付き基板の洗浄を水で行った以外は、参考例2と同様の方法でFFS駆動液晶セルを作製した。このFFS駆動液晶セルについて、長期交流駆動による残像評価を実施した。長期交流駆動後におけるこの液晶セルの角度Δの値は、0.61度であった。
比較例1で得られた液晶配向剤(B−1)を用いた以外は、参考例2と同様の方法でFFS駆動液晶セルを作製した。このFFS駆動液晶セルについて、長期交流駆動による残像評価を実施した。長期交流駆動後におけるこの液晶セルの角度Δの値は、0.74度であった。
比較例2で得られた液晶配向剤(B−2)を用いた以外は、参考例2と同様の方法でFFS駆動液晶セルを作製した。このFFS駆動液晶セルについて、長期交流駆動による残像評価を実施した。長期交流駆動後におけるこの液晶セルの角度Δの値は、1.28度であった。
比較例3で得られた液晶配向剤(B−3)を用い、偏光板を介して254nmの紫外線を1.5J/cm2照射した以外は、参考例3と同様の方法でFFS駆動液晶セルを作製した。このFFS駆動液晶セルについて、長期交流駆動による残像評価を実施した。長期交流駆動後におけるこの液晶セルの角度Δの値は、1.02度であった。
撹拌子を入れた20mLサンプル管に、合成例3で得られたポリイミド溶液(PI−1)を10.73g取り、NMPを5.27g、及びBCSを4.00g加えて、マグネチックスターラーで30分間撹拌し液晶配向剤(A−2)を得た。
撹拌子を入れた20mLサンプル管に、合成例3で得られたポリイミド溶液(PI−1)を5.56g、合成例4で得られたポリアミック酸溶液(PAA−6)を5.47g取り、NMPを4.97g、BCSを4.01g、及び添加剤Aを0.19g加えて、マグネチックスターラーで30分間撹拌し液晶配向剤(A−3)を得た。
撹拌子を入れた20mLサンプル管に、合成例3で得られたポリイミド溶液(PI−1)を5.54g、合成例5で得られたポリアミック酸溶液(PAA−7)を5.07g取り、NMPを5.38g、BCSを4.01g、及び添加剤Aを0.19g加えて、マグネチックスターラーで30分間撹拌し液晶配向剤(A−4)を得た。
撹拌子を入れた20mLサンプル管に、合成例3で得られたポリイミド溶液(PI−1)を5.52g、合成例6で得られたポリアミック酸溶液(PAA−8)を5.49g取り、NMPを4.99g、BCSを4.00g、及び添加剤Aを0.19g加えて、マグネチックスターラーで30分間撹拌し液晶配向剤(A−5)を得た。
撹拌子を入れた20mLサンプル管に、合成例3で得られたポリイミド溶液(PI−1)を5.49g、合成例7で得られたポリアミック酸溶液(PAA−9)を5.22g取り、NMPを5.28g、BCSを4.03g、及び添加剤Aを0.19g加えて、マグネチックスターラーで30分間撹拌し液晶配向剤(A−6)を得た。
撹拌子を入れた20mLサンプル管に、合成例3で得られたポリイミド溶液(PI−1)を5.54g、合成例8で得られたポリアミック酸溶液(PAA−10)を5.48g取り、NMPを4.98g、BCSを4.01g、及び添加剤Aを0.19g加えて、マグネチックスターラーで30分間撹拌し液晶配向剤(A−7)を得た。
実施例4で得られた液晶配向剤(A−2)を孔径1.0μmのフィルターで濾過した後、準備された上記電極付き基板と裏面にITO膜が成膜されている高さ4μmの柱状スペーサーを有するガラス基板に、スピンコート塗布にて塗布した。80℃のホットプレート上で5分間乾燥させた後、230℃の熱風循環式オーブンで20分間焼成を行い、膜厚100nmの塗膜を形成させた。この塗膜面に偏光板を介して消光比26:1の直線偏光した波長254nmの紫外線を0.2J/cm2照射した。
実施例5で得られた液晶配向剤(A−3)を用いた以外は、実施例10と同様の方法でFFS駆動液晶セルを作製した。このFFS駆動液晶セルについて、長期交流駆動による残像評価を実施した。長期交流駆動後におけるこの液晶セルの角度Δの値は、0.51度であった。
実施例6で得られた液晶配向剤(A−4)を用いた以外は、実施例10と同様の方法でFFS駆動液晶セルを作製した。このFFS駆動液晶セルについて、長期交流駆動による残像評価を実施した。長期交流駆動後におけるこの液晶セルの角度Δの値は、0.55度であった。
実施例7で得られた液晶配向剤(A−5)を用いた以外は、実施例10と同様の方法でFFS駆動液晶セルを作製した。このFFS駆動液晶セルについて、長期交流駆動による残像評価を実施した。長期交流駆動後におけるこの液晶セルの角度Δの値は、0.50度であった。
実施例8で得られた液晶配向剤(A−6)を用いた以外は、実施例10と同様の方法でFFS駆動液晶セルを作製した。このFFS駆動液晶セルについて、長期交流駆動による残像評価を実施した。長期交流駆動後におけるこの液晶セルの角度Δの値は、0.48度であった。
実施例9で得られた液晶配向剤(A−7)を用いた以外は、実施例10と同様の方法でFFS駆動液晶セルを作製した。このFFS駆動液晶セルについて、長期交流駆動による残像評価を実施した。長期交流駆動後におけるこの液晶セルの角度Δの値は、0.51度であった。
配向膜付き基板の洗浄を水と2−プロパノール混合溶液(水:2−プロパノール=50:50)で行った以外は、実施例10と同様の方法でFFS駆動液晶セルを作製した。このFFS駆動液晶セルについて、長期交流駆動による残像評価を実施した。長期交流駆動後におけるこの液晶セルの角度Δの値は、0.40度であった。
Claims (8)
- 上記重合体が、式(1)で表される構造単位を全構造単位1モルに対して、60モル%以上含有するポリイミド前駆体及び該ポリイミド前駆体のイミド化重合体からなる群から選ばれる少なくとも1種類である請求項1に記載の光配向法用の液晶配向剤。
- 上記式(1)で表される構造単位を有するポリイミド前駆体又は該ポリイミド前駆体のイミド化重合体が、5000〜300000の重量平均分子量を有する請求項1又は2に記載の光配向法用の液晶配向剤。
- 上記重合体の含有量が、1重量%以上10重量%以下である請求項1〜3のいずれかに記載の光配向法用の液晶配向剤。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の液晶配向剤から得られる光配向法用の液晶配向膜。
- 請求項5に記載の液晶配向膜を具備する液晶表示素子。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の液晶配向剤を基板上に塗布、焼成する光配向法用の液晶配向膜の製造方法。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の液晶配向剤を基板上に塗布、焼成し、次いで、直線に偏光された紫外線を照射し、洗浄液で洗浄する光配向法用の液晶配向膜の製造方法。
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