JP6177511B2 - タッチパネル及びタッチパネルを含む表示装置 - Google Patents

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Description

本発明はタッチパネル及びタッチパネルを具備する表示装置に関する。より詳細に、本発明は少なくとも1つの地位位相遅延層、及び/または、偏光板上に直接形成できるタッチ感知構造物を含むタッチパネルとこのようなタッチパネルを具備する表示装置に関する。
有機発光表示(OLED)装置、液晶表示(LCD)装置などのような表示装置に適用可能なタッチスクリーンパネル(TSP)は通常的に人の手、または、物体の接触を電気的信号に変換して接触する位置を把握することができる。このようなタッチパネルは表示パネルに付着されて表示装置を構成する。
従来のタッチパネルは光学的に高い透過度を具現するように通常的にITO(indium tin oxide)パターン、位相差層、偏光板、接着層などを具備する。例えば、韓国特許出願公開第2011−0039088号には接着層、タッチセンサの伝導性フィルム(パターン化インジウム錫酸化物(ITO)層)、位相差層、偏光板などを具備して画像表示パネル上に配置されるタッチパネルが開示されている。しかし、従来のタッチパネルの場合には、表示パネル上に偏光板、位相差層、タッチセンサなどがそれぞれ別に配置されるのでタッチパネルの厚さを薄型化することが難しく、表示パネル上にいくつかの層を積層してタッチパネルを構成するので表示装置の製造工程の工程効率と収率が低下するという問題点がある。
本発明の一目的は、位相遅延層、及び/または、偏光板に直接形成されることのできるタッチ感知構造物を具備して薄型化が可能であり、且つ、光の損失を減少させることのできるタッチパネルを提供することにある。
本発明の他の目的は、位相遅延層、及び/または、偏光板に直接形成されることのできるタッチ感知構造物を具備して薄型化が可能であり、且つ、光の損失を減少させることのできるタッチパネルを含む表示装置を提供することにある。
本発明が解決しようとする課題は前述した課題によって限定されるのではなく、本発明の思想及び領域から逸脱しない範囲内で多様に拡張することができる。
上述した本発明の一目的を達成するために、本発明の例示的な実施形態に係るタッチパネルは、少なくとも1つの位相遅延層、前記少なくとも1つの位相遅延層上に配置される偏光板、前記位相遅延層の少なくとも1つの面上に、及び/または、前記偏光板の少なくとも1つの面上に直接形成される少なくとも一種類の感知パターンを含むタッチ感知構造物、前記偏光板上に配置される接着層、そして前記接着層上に配置されるウインドウを具備することができる。
例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は前記位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第1感知パターンと前記位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第2感知パターンを含むことができる。この場合、前記第1感知パターンと前記第2感知パターンは、互いに直交する方向に沿って延長することができ、前記位相遅延層はλ/4位相差フィルムを含むことができる。
他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第1感知パターンと前記偏光板の底面上に直接形成される複数の第2感知パターンを含むことができる。
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第1感知パターンと前記偏光板の底面上に直接形成される複数の第2感知パターンを含むことができる。
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第1感知パターンと前記偏光板の上面上に直接形成される複数の第2感知パターンを含むことができる。
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第1感知パターンと前記偏光板の上面上に直接形成される複数の第2感知パターンを含むことができる。
また他の例示的な実施形態において、前記少なくとも1つの位相遅延層は、第1位相遅延層と前記第1位相遅延層上に配置される第2位相遅延層を含むことができる。例えば、前記第1位相遅延層はλ/4位相差フィルムを含むことができ、前記第2位相遅延層はλ/2位相差フィルムを含むことができる。
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第1位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第1感知パターンと前記第1位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第2感知パターンを含むことができる。
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第1位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第1感知パターンと前記第2位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第2感知パターンを含むことができる。
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第2位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第1感知パターンと前記第2位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第2感知パターンを含むことができる。
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第1位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第1感知パターンと前記第2位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第2感知パターンを含むことができる。
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第2位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第1感知パターンと前記偏光板の底面上に直接形成される複数の第2感知パターンを含むことができる。
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第1位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第1感知パターンと前記偏光板の底面上に直接形成される複数の第2感知パターンを含むことができる。
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第2位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第1感知パターンと前記偏光板の底面上に直接形成される複数の第2感知パターンを含むことができる。
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第2位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第1感知パターンと前記偏光板の上面上に直接形成される複数の第2感知パターンを含むことができる。
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第2位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第1感知パターンと前記偏光板の上面上に直接形成される複数の第2感知パターンを含むことができる。
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第1位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第1感知パターンと前記偏光板の上面上に直接形成される複数の第2感知パターンを含むことができる。
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第1位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第1感知パターンと前記第2位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第2感知パターンを含むことができる。
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第2位相遅延層の上面上に直接形成される複数の感知パターンを含むことができる。
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第2位相遅延層の底面上に直接形成される複数の感知パターンを含むことができる。
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第1位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第1感知パターンを含むことができる。
また他の例示的な実施形態において、前記位相遅延層はλ/4位相差フィルムを含むことができ、前記タッチ感知構造物は前記位相遅延層の上面上に直接形成される複数の感知パターンを含むことができる。
また他の例示的な実施形態において、前記位相遅延層はλ/4位相差フィルムを含むことができ、前記タッチ感知構造物は前記位相遅延層の底面上に直接形成される複数の感知パターンを含むことができる。
上述した本発明の他の目的を達成するために本発明の例示的な実施形態に係る表示装置は、表示パネル上に配置されるタッチパネルを具備することができる。前記タッチパネルは、少なくとも1つの位相遅延層、前記少なくとも1つの位相遅延層上に配置される偏光板、前記位相遅延層の少なくとも1つの面上に、及び/または、前記偏光板の少なくとも1つの面上に直接形成される少なくとも一種類の感知パターンを含むタッチ感知構造物、前記偏光板上に配置される接着層、そして前記接着層上に配置されるウインドウを具備することができる。
例示的な実施形態において、前記少なくとも1つの位相遅延層はλ/4位相差フィルムを具備する第1位相遅延層と、前記第1位相遅延層上に配置されてλ/2位相差フィルムを具備する第2位相遅延層を含むことができる。
例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第1位相遅延層の底面上に直接形成される第1感知パターンと、前記第1位相遅延層の上面上に直接形成される第2感知パターンを含むことができる。
他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第1位相遅延層の底面上に直接形成される第1感知パターンと、前記第2位相遅延層の底面上に直接形成される第2感知パターンを含むことができる。
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第2位相遅延層の上面上に直接形成される第1感知パターンと、前記偏光板の上面上に直接形成される第2感知パターンを含むことができる。
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第2位相遅延層の上面上に直接形成される第1感知パターンと、前記偏光板の底面上に直接形成される第2感知パターンを含むことができる。
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第2位相遅延層の底面上に直接形成される第1感知パターンと、前記偏光板の上面上に直接形成される第2感知パターンを含むことができる。
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第1位相遅延層の上面上に直接形成される第1感知パターンと、前記偏光板の上面上に直接形成される第2感知パターンを含むことができる。
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第1位相遅延層の底面上に直接形成される第1感知パターンと、前記第2位相遅延層の底面上に直接形成される第2感知パターンを含むことができる。
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記位相遅延層の上面上に直接形成される第1感知パターンと、前記偏光板の上面上に直接形成される第2感知パターンを含むことができる。
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記位相遅延層の底面上に直接形成される第1感知パターンと前記偏光板の底面上に直接形成される第2感知パターンを含むことができる。
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記位相遅延層の底面上に直接形成される第1感知パターンと、前記偏光板の上面上に直接形成される第2感知パターンを含むことができる。
本発明の例示的な実施形態に係るタッチパネルは、少なくとも1つの位相遅延層及び/または偏光板上に直接的に形成されるタッチ感知構造物を含むことができるから、厚い厚さを有するベースフィルムが要求されないので前記タッチパネルの厚さを減少させることができる。また、前記タッチ感知構造物が前記位相遅延層及び/または前記偏光板上に直接形成されることができるので、表示装置の表示パネルから放出される光の透過率を増加させることができ、光の反射率は相対的に減少させることができるので、光損失を大きく減少させることができる。さらに、従来のタッチパネルに比べて要求される層の数を減少させることができるので、タッチパネルを含む表示装置の工程収率と効率を大きく増加させることができる。
本発明の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を示す断面図である。 本発明の例示的な実施形態に係る表示装置の表示パネルを示す断面図である。 本発明の例示的な実施形態に係る位相遅延層とタッチ感知構造物を説明するための分解図である。 本発明の他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を説明するための断面図である。 本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を示す断面図である。 本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を説明するための断面図である。 本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を示す断面図である。 本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を示す断面図である。 本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を説明するための断面図である。 本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を説明するための断面図である。 本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を示す断面図である。 本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を説明するための断面図である。 本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を説明するための断面図である。 本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を説明するための断面図である。 本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を示す断面図である。 本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を示す断面図である。 本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を説明するための断面図である。 本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を説明するための断面図である。 本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を示す断面図である。 本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を説明するための断面図である。 本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を説明するための断面図である。
以下、添付する図面を参照して本発明の例示的な実施形態に係るタッチパネル、タッチパネルを具備する表示装置及びタッチパネルを具備する表示装置の製造方法について説明するが、本発明が下記実施形態によって制限されるのではなく、該当分野で通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想を逸脱しなし範囲内で本発明を多様な他の形態で具現することができる。
本明細書において、特定の構造的ないし機能的説明は、単に本発明の実施形態を説明するための目的で例示されたものであり、本発明の実施形態は多様な形態で実施することができ、本明細書に説明された実施形態に限定されるものではなく、本発明の思想及び技術範囲に含まれるすべての変更、均等物ないし代替物を含むと理解するべきである。ある構成要素が他の構成要素に「接続されて」いる、または「接触されて」いると記載された場合には、他の構成要素に直接的に接続されていたり、接触されていることも意味するが、中間に他の構成要素が存在する場合も含むと理解するべきである。また、ある構成要素が他の構成要素に「直接接続されて」いる、または「直接接触されて」いると記載された場合には、中間に他の構成要素が存在しないと理解すべきである。構成要素の間の関係を説明する他の表現、例えば、「〜間に」と「直接〜間に」または「〜に隣接する」と「〜に直接隣接する」等も同じように解釈すべきである。
本明細書で使用した用語は単に特定の実施形態を説明するために使用したもので、本発明を限定するものではない。単数の表現は文脈上明白に異なるように意味しない限り、複数の表現を含む。本明細書で、「含む」または「有する」等の用語は明細書上に記載された特徴、数字、段階、動作、構成要素、部品または、これらを組み合わせたのが存在するということを示すものであって、1つまたはそれ以上の他の特徴や数字、段階、動作、構成要素、部品または、これらを組み合わせたものなどの存在、または、付加の可能性を予め排除するわけではないと理解すべきである。また、別に定義しない限り、技術的或いは科学的用語を含み、本明細書中において使用される全ての用語は本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者であれば、一般的に理解するのと同一の意味を有する。一般的に使用される辞書において定義する用語と同じ用語は関連技術の文脈上に有する意味と一致する意味を有するものと理解するべきであり、本明細書において明白に定義しない限り、理想的或いは過度に形式的な意味として解釈してはならない。
第1、第2、第3等の用語は多様な構成要素を説明するのに使用することができるが、これらの構成要素はこのような用語によって限定されてはならない。前記用語は1つの構成要素を他の構成要素から区別する目的で使われる。例えば、本発明の権利範囲から逸脱せずに第1構成要素は第2構成要素または第3構成要素等と命名することができ、類似に第2及び第3構成要素も交互に命名することができる。
図1は本発明の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を示す断面図であり、図2は本発明の例示的な実施形態に係る表示装置の表示パネルを示す断面図である。
図1を参照すれば、前記表示装置は表示パネル10と、表示パネル10上に配置されるタッチパネルを具備することができる。例示的な実施形態において、前記タッチパネルは、位相遅延層20、タッチ感知構造物(touch sensing structure)30、偏光板35、接着層40、及びウインドウ45を含むことができる。そこで、タッチ感知構造物30は、第1感知パターン15と第2感知パターン25で構成されることができる。他の例示的な実施形態によれば、表示パネル10と前記タッチパネルとの間の結合力を向上させるために、表示パネル10と前記タッチパネルとの間には追加的な接着層(図示せず)が配置されることもできる。
図1及び図2を参照すれば、表示パネル10は、第1基板50、スイッチング素子(switching device)、第1電極95、発光構造物105、第2電極110、第2基板120等を具備することができる。
第1基板50上には、バッファ層55が配置することができる。第1基板50は、透明絶縁基板を含むことができる。例えば、第1基板50は、ガラス基板、石英基板、透明樹脂基板などで構成されることができる。この場合、前記透明樹脂基板は、ポリイミド系(polyimide−based)樹脂、アクリル系(acryl−based)樹脂、ポリアクリレート系(polyacrylate−based)樹脂、ポリカーボネート系(polycarbonate−based)樹脂、ポリエーテル系(polyether−based)樹脂、スルホン酸系(sulfonic acid−based)樹脂、ポリエチレンテレフタラート系(polyethyleneterephthalate−based)樹脂などを含むことができる。
例示的な実施形態において、バッファ層55は、第1基板50から金属原子や不純物が拡散される現象を防ぐことができ、アクティブ層60を形成するための結晶化工程の間、熱の伝達速度を調節して実質的に均一なアクティブ層60を収得できるようにすることができる。また、バッファ層55は、第1基板50が表面が均一でない場合、第1基板50の表面の平坦度を向上させる役割を遂行することもできる。バッファ層55はシリコン化合物を使って形成できる。例えば、バッファ層55は、シリコン酸化物(SiOx)、シリコン窒化物(SiNx)、シリコン酸窒化物(SiOxNy)、シリコン酸炭化物(SiOxCy)、シリコン炭窒化物(SiCxNy)などを含むことができる。これらは単独または互いに組合わせて使うことができる。また、バッファ層55は、スピンコーティング(spin coating)工程、化学気相蒸着(CVD)工程、プラズマ増大化学気相蒸着(PECVD)工程、高密度プラズマ−化学気相蒸着(HDP−CVD)工程、プリンティング(printing)工程などを利用して収得することができる。バッファ層55は、シリコン化合物を含む断層構造または多層構造を有することができる。例えば、バッファ層55は、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、シリコン酸窒化膜、シリコン酸炭化膜、及び/または、シリコン炭窒化膜を含む断層構造または多層構造で第1基板50上に形成されることができる。
前記スイッチング素子は、バッファ層55上には配置することができる。例示的な実施形態において、前記スイッチング素子はシリコンを含有するアクティブ層60を具備する薄膜トランジスタTFTを含むことができる。この場合、前記スイッチング素子は、アクティブ層60、ゲート絶縁膜65、ゲート電極70、ソース電極80、ドレーン電極85などを含むことができる。他の例示的な実施形態によれば、前記スイッチング素子は半導体酸化物を含むアクティブ層を具備する酸化物半導体素子を含むこともできる。
前記スイッチング素子が薄膜トランジスタを含む場合、アクティブ層60は、バッファ層55上に配置することができる。アクティブ層60は不純物がそれぞれドーピングされたソース領域とドレーン領域を含むことができ、このようなソースとドレーン領域との間に提供されるチャネル領域を具備することができる。
例示的な実施形態によれば、バッファ層55上に半導体層(図示せず)を形成した後、前記半導体層をパターニングしてバッファ層55上に予備アクティブ層(図示せず)を形成することができる。続いて、前記予備アクティブ層に対して結晶化工程を遂行することによって、バッファ層55上にアクティブ層60を形成することができる。ここで、前記半導体層は、化学気相蒸着工程、プラズマ増大化学気相蒸着工程、低圧化学気相蒸着工程、スパッタリング工程などを利用して形成することができる。前記半導体層がアモルファスシリコンを含む場合、アクティブ層60は、ポリシリコンで構成されることができる。また、前記予備アクティブ層からアクティブ層60を収得するための結晶化工程は、レーザー照射工程、熱処理工程、触媒を利用する熱処理工程などを含むことができる。他の例示的な実施形態において、前記半導体層及び/または前記予備アクティブ層を形成した後、前記半導体層及び/または前記予備アクティブ層に対して脱水素工程を遂行できる。このような脱水素工程により前記半導体層及び/または前記予備アクティブ層内の水素原子の濃度を減少させることができるので、結果的にアクティブ層610の電気的な特性を向上させることができる。
ゲート絶縁膜65は、アクティブ層60をカバーしながらバッファ層55上に配置することができる。ゲート絶縁膜65は、化学気相蒸着工程、スピンコーティング工程、プラズマ増大化学気相蒸着工程、スパッタリング工程、真空蒸着工程、高密度プラズマ−化学気相蒸着工程、プリンティング工程などを利用して収得されることができる。また、ゲート絶縁膜65は、シリコン酸化物、金属酸化物などを使って形成することができる。例えば、ゲート絶縁膜65を構成する金属酸化物はハフニウム酸化物(HfOx)、アルミニウム酸化物(AlOx)、ジルコニウム酸化物(ZrOx)、チタン酸化物(TiOx)、タンタル酸化物(TaOx)などを含むことができる。これらは単独または互いに組合わせて使うことができる。例示的な実施形態において、ゲート絶縁膜65は、アクティブ層60のプロファイル(profile)に沿ってバッファ層55上に実質的に均一な厚さで形成されることができる。この場合、ゲート絶縁膜65は、相対的に薄い厚さを有することができ、ゲート絶縁膜65にはアクティブ層60に隣接する段差部が生成されることができる。他の例示的な実施形態によれば、ゲート絶縁膜65は、アクティブ層60を充分にカバーしながら実質的に平坦な上面を有することができる。
ゲート電極70はゲート絶縁膜65上に配置することができる。ゲート電極70はゲート絶縁膜65中に、下にアクティブ層60が位置する部分上に形成されることができる。例示的な実施形態によれば、ゲート絶縁膜65上に第1導電膜(図示せず)を形成した後、写真エッチング工程または追加的なエッチングマスクを利用するエッチング工程などを利用して前記第1導電膜をパターニングすることによって、ゲート電極70を収得することができる。ここで、前記第1導電膜はプリンティング工程、スパッタリング工程、化学気相蒸着工程、パルスレーザー蒸着(PLD)工程、真空蒸着工程、原子層積層(ALD)工程などを利用して形成することができる。ゲート電極70は、金属、合金、金属窒化物、導電性金属酸化物、透明導電性物質などを使って形成することができる。例えば、ゲート電極70は、アルミニウム(Al)、アルミニウムを含有する合金、アルミニウム窒化物(AlNx)、銀(Ag)、銀を含有する合金、タングステン(W)、タングステン窒化物(WNx)、銅(Cu)、銅を含有する合金、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)、クロム窒化物(CrNx)、モリブデン(Mo)、モリブデンを含有する合金、チタン(Ti)、チタン窒化物(TiNx)、白金(Pt)、タンタル(Ta)、タンタル窒化物(TaNx)、ネオジム(Nd)、スカンジウム(Sc)、ストロンチウムルテニウム酸化物(SRO)、亜鉛酸化物(ZnOx)、インジウム錫酸化物(ITO)、錫酸化物(SnOx)、インジウム酸化物(InOx)、ガリウム酸化物(GaOx)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)などを含むことができる。これらは単独または互いに組合わせて使うことができる。また、ゲート電極70は、金属膜、合金膜、金属窒化物膜、導電性金属酸化物膜、及び/または、透明導電性物質膜を含む断層構造または多層構造を有することができる。
図示はしていないが、ゲート電極70を形成する間、ゲート絶縁膜65上にはゲートラインが形成されることができる。ゲート電極70は、前記ゲートラインに接続されることができ、前記ゲートラインは、ゲート絶縁膜65上で第1方向に沿って延びることができる。
ゲート絶縁膜65上にはゲート電極70をカバーする層間絶縁膜75が配置することができる。層間絶縁膜75は、ソース電極80とドレーン電極85からゲート電極70を電気的に絶縁させることができる。層間絶縁膜75は、ゲート電極70のプロファイルに沿ってゲート絶縁膜65上に実質的に均一な厚さで形成されることができ、これに伴い、層間絶縁膜75にはゲート電極70に隣接する段差部が生成されることができる。層間絶縁膜75は、シリコン化合物を使って形成することができる。例えば、層間絶縁膜75は、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン酸窒化物、シリコン酸窒化物、シリコン酸炭化物などを使って形成することができる。これらは、単独または互いに組合わせて使うことができる。また、層間絶縁膜75は、スピンコーティング工程、化学気相蒸着工程、プラズマ増大化学気相蒸着工程、高密度プラズマ−化学気相蒸着工程などを利用して収得されることができる。例示的な実施形態において、層間絶縁膜75は、シリコン酸化物膜、シリコン窒化物膜、シリコン酸窒化物膜、シリコン酸窒化物膜及び/またはシリコン酸炭化物膜を含む断層構造または多層構造を有することができる。
図2に図示したように、ソース電極80及びドレーン電極85は、層間絶縁膜75上に配置することができる。ソース電極80及びドレーン電極85は、ゲート電極70を中心に実質的に所定の間隔で互いに離隔されることができる。ソース電極80及びドレーン電極85は、層間絶縁膜75を貫通してアクティブ層60の前記ソース及びドレーン領域にそれぞれ接触することができる。例示的な実施形態によれば、層間絶縁膜75を部分的にエッチングして前記ソース及びドレーン領域を露出させるホールを形成した後、このようなホールを満たしながら層間絶縁膜750上に第2導電膜(図示せず)を形成することができる。以後に、前記第2導電膜をパターニングしてソース電極80及びドレーン電極85を収得することができる。ここで、前記第2導電膜は、スパッタリング工程、化学気相蒸着工程、パルスレーザー蒸着工程、真空蒸着工程、原子層積層工程、プリンティング工程などを利用して収得されることができる。また、ソース電極80及びドレーン電極85は、それぞれ金属、合金、金属窒化物、導電性金属酸化物、透明導電性物質などで構成されることができる。例えば、ソース電極80及びドレーン電極85は、それぞれアルミニウム、アルミニウムを含有する合金、アルミニウム窒化物、銀、銀を含有する合金、タングステン、タングステン窒化物、銅、銅を含有する合金、ニッケル、クロム、クロム窒化物、モリブデン、モリブデンを含有する合金、チタン、チタン窒化物、白金、タンタル、タンタル窒化物、ネオジム、スカンジウム、ストロンチウムルテニウム酸化物、亜鉛酸化物、インジウム錫酸化物、錫酸化物、インジウム酸化物、ガリウム酸化物、インジウム亜鉛酸化物などを含むことができる。これらは単独または互いに組合わせて使うことができる。ソース電極80及びドレーン電極85は、それぞれ金属膜、合金膜、金属窒化物膜、導電性金属酸化物膜及び/または透明導電性物質膜を含む断層構造または多層構造で形成されることができる。
図示はしていないが、ソース電極80及びドレーン電極85を形成する間、層間絶縁膜75上には第2方向に沿って延びるデータラインが形成されることができる。ここで、前記データラインが延長する第2方向は、前記ゲートラインが延長する第1方向と実質的に直交することができ、ソース電極80が前記データラインに接続されることができる。
図2に図示したように、層間絶縁膜75上にソース電極80及びドレーン電極85が形成されることによって、第1基板50上には、前記表示装置のスイッチング素子としてアクティブ層60、ゲート絶縁膜65、ゲート電極70、ソース電極80及びドレーン電極85を含む薄膜トランジスタが提供できる。
層間絶縁膜75上にはソース電極80及びドレーン電極85をカバーする絶縁層90が配置することができる。絶縁層90は断層構造で形成できるが、少なくとも2つ以上の絶縁膜を含む多層構造で形成されることもできる。例示的な実施形態において、絶縁層90の表面平坦度を向上させるために絶縁層90に対して平坦化(planarization)工程を遂行できる。例えば、絶縁層90に対して化学機械的研磨(CMP)工程、エッチバック(etch−back)工程などを遂行することによって、絶縁層90が実質的に平坦な上面を有することができる。絶縁層90は、有機物質を使って形成することができる。例えば、絶縁層90は、フォトレジスト、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、シロキサン系(siloxane−based)樹脂などを含むことができる。これらは、単独または互いに組合わせて使うことができる。他の例示的な実施形態によれば、絶縁層90は、シリコン化合物、金属、金属酸化物などの無機物質を使って形成されることもできる。例えば、絶縁層90は、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン酸窒化物、シリコン酸炭化物、シリコン炭窒化物、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、ハフニウム、ジルコニウム、チタン、タンタル、アルミニウム酸化物、チタン酸化物、タンタル酸化物、マグネシウム酸化物、亜鉛酸化物、ハフニウム酸化物、ジルコニウム酸化物、チタン酸化物などを含むことができる。これらは単独または互いに組合わせて使うことができる。絶縁層90の構成物質によりスピンコーティング工程、プリンティング工程、スパッタリング工程、化学気相蒸着工程、原子層積層工程、プラズマ増大化学気相蒸着工程、高密度プラズマ−化学気相蒸着工程、真空蒸着工程などを利用して絶縁層90を収得することができる。
写真エッチング工程や追加的なマスクを使うエッチング工程を通じて絶縁層90を部分的にエッチバックすることによって、絶縁層90を貫いて前記スイッチング素子のドレーン電極85を部分的に露出させるコンタクトホールを形成することができる。例示的な実施形態において、前記コンタクトホールは所定の角度に傾斜した側壁を有することができる。例えば、前記コンタクトホールは、下部幅より実質的に広い上部幅を有することができる。
第1電極95は前記コンタクトホールを埋めつつ、絶縁層90上に配置することができる。第1電極95は前記コンタクトホールを通じて露出するドレーン電極85に接触することができる。他の例示的な実施形態によれば、ドレーン電極85上に前記コンタクトホールを埋めるコンタクト、プラグ、またはパッドを形成した後、第1電極95を形成することもできる。この場合、第1電極95は、前記コンタクト、前記プラグまたは、前記パッドを通じてドレーン電極85に電気的に接触することができる。
前記表示装置の発光方式により、第1電極95は反射性を有する物質または透光性を有する物質を使って形成することができる。例えば、第1電極95はアルミニウム、アルミニウムを含有する合金、アルミニウム窒化物、銀、銀を含有する合金、タングステン、タングステン窒化物、銅、銅を含有する合金、ニッケル、クロム、クロム窒化物、モリブデン、モリブデンを含有する合金、チタン、チタン窒化物、白金、タンタル、タンタル窒化物、ネオジム、スカンジウム、ストロンチウムルテニウム酸化物、亜鉛酸化物、インジウム錫酸化物、錫酸化物、インジウム酸化物、ガリウム酸化物、インジウム亜鉛酸化物などを含むことができる。これらは単独または互いに組合わせて使うことができる。また、第1電極95は、プリンティング工程、スパッタリング工程、化学気相蒸着工程、原子層積層工程、真空蒸着工程、パルスレーザー蒸着工程などを利用して形成されることができる。例示的な実施形態において、第1電極95は、金属膜、合金膜、金属窒化物膜、導電性金属酸化物膜、及び/または、透明導電性物質膜を含む断層構造または多層構造で形成されることができる。
第1電極95上には画素定義膜100が配置することができる。画素定義膜100は、有機物質、無機物質などを使って形成することができる。例えば、画素定義膜100は、フォトレジスト、ポリアクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、シリコン化合物などを使って形成することができる。また、画素定義膜100は、スピンコーティング工程、スプレー工程、プリンティング工程、化学気相蒸着工程などを利用して第1電極95上に形成されることができる。例示的な実施形態によれば、画素定義膜100をエッチングして第1電極95を部分的に露出させる開口(opening)を形成することができる。このような画素定義膜100の開口によって前記表示装置の表示領域と非表示領域が定義されることができる。例えば、画素定義膜100の開口が位置する部分が前記表示領域に該当でき、前記非表示領域は画素定義膜100の開口に隣接する部分に該当することができる。
発光構造物105は画素定義膜100の開口を通じて露出する第1電極95上に配置することができる。また、発光構造物105は画素定義膜100の開口の側壁上に延びることができる。発光構造物105は、レーザー転写工程、プリンティング工程などを利用して収得することができる。例示的な実施形態において、発光構造物105は、有機発光層(EL)、正孔注入層(HIL)、正孔輸送層(HTL)、電子輸送層(ETL)、電子注入層(EIL)などを含む多層構造を有することができる。発光構造物105の有機発光層は、前記表示装置の各画素により赤色光、緑色光、青色光などのような、互いに異なる色光を発生させることのできる発光物質を使って形成することができる。他の例示的な実施形態によれば、発光構造物105の有機発光層は、赤色光、緑色光、青色光などの互いに異なる色光を具現できる複数の発光物質が積層されて白色光を発光する構造を有することもできる。
第2電極110は画素定義膜100と発光構造物105上に配置することができる。前記表示装置の発光方式により、第2電極110も透光性を有する物質または、反射性を有する物質を含むことができる。例えば、第2電極110は、アルミニウム、アルミニウムを含有する合金、アルミニウム窒化物、銀、銀を含有する合金、タングステン、タングステン窒化物、銅、銅を含有する合金、ニッケル、クロム、クロム窒化物、モリブデン、モリブデンを含有する合金、チタン、チタン窒化物、白金、タンタル、タンタル窒化物、ネオジム、スカンジウム、ストロンチウムルテニウム酸化物、亜鉛酸化物、インジウム錫酸化物、錫酸化物、インジウム酸化物、ガリウム酸化物、インジウム亜鉛酸化物などを含むことができる。これらは単独または互いに組合わせて使うことができる。また、第2電極110は、プリンティング工程、スパッタリング工程、化学気相蒸着工程、原子層積層工程、真空蒸着工程、パルスレーザー蒸着工程などを利用して形成することができる。例示的な実施形態において、第2電極110も金属膜、合金膜、金属窒化物膜、導電性金属酸化物膜、及び/または、透明導電性物質膜を含む断層構造または多層構造で形成することができる。
第2電極110上には第2基板120が配置することができる。第2基板120は、透明絶縁基板を含むことができる。例えば、第2基板120は、ガラス、石英、透明絶縁樹脂などで構成されることができる。例示的な実施形態において、第2電極110と第2基板120との間には所定の空間が提供されることができ、このような第2電極110と第2基板120との間の空間には空気(air)或いは窒素(N)のような不活性カスが充填されることができる。
他の例示的な実施形態によれば、第2電極110と第2基板120との間には保護膜(図示せず)が追加的に配置することができる。この場合、前記保護膜は、フォトレジスト、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、シロキサン系樹脂などで構成されることができる。
図2においては、表示パネル10として有機発光表示装置の表示パネルを例示的に図示したが、電極間に介在される液晶層を具備する液晶表示装置の表示パネル上にも例示的な実施形態に係るタッチパネルが配置することができる。
また、図1を参照すれば、前記表示装置のタッチパネルは、有機発光表示パネルまたは、液晶表示パネルのような表示パネル10上に配置することができる。前記タッチパネルは、位相遅延層20、タッチ感知構造物30、偏光板35、接着層40、ウインドウ45などを含むことができる。上述した通り、前記タッチパネルと表示パネル10の間の結合力を向上させるために、追加的な接着層が表示パネル10と位相遅延層20との間に介在することができる。前記追加的な接着層は、表示パネル10と前記タッチパネルとの間の空間を埋めて表示パネル10と前記タッチパネルの接合面積を増加させることができ、表示パネル10と前記タッチパネルを固定することができる。例えば、前記追加的な接着層はゴム系(rubber−based)接着剤、アクリル系接着剤、ビニールエーテル系(vinyl ether−based)接着剤、シリコン系(silicon−based)接着剤、ウレタン系(urethane−based)接着剤などを含むことができる。他の例示的な実施形態により、前記追加的な接着層が感圧性(pressure−snesitive)接着剤を含む場合には、前記タッチパネル及び/または表示パネル10に加えられる圧力に従がって、前記追加的な接着層が介在した前記タッチパネルと表示パネル10との間の接着力がより増加することができる。
例示的な実施形態において、位相遅延層20は、λ/4位相差フィルムを含むことができる。このようなλ/4位相差フィルムは、位相遅延層20の光軸に実質的に平行し、互いに垂直する2つの偏光成分に対してλ/4程度の位相差を付与することができる。これに伴い、前記λ/4位相差フィルムは、線偏光を円偏光に変化させるか、または、円偏光を線偏光に変化させることができる。すなわち、位相遅延層20は、表示パネル10から放出される光を円偏光から線偏光に変化させるか、または、線偏光から円偏光に変化させることができる。位相遅延層20は入射光に対して所定の位相遅延値を付与することができる。例えば、位相遅延層20は、約100nm〜約200nm程度の位相遅延値を有することができる。
位相遅延層20は、ポリマーからなる複屈折性フィルム、液晶配向フィルム、所定の機材上に形成された液晶ポリマーの配向層などを含むことができる。例えば、位相遅延層20は、ポリカーボネート(polycarbonate)、ポリビニルアルコール(polyvinylalcohol)、ポリスチレン(polystyrene)、ポリメチルメタクリレート(polymethylmethacrylate)、ポリプロピレン(polypropylene)、ポリオレフィン(polyolefine)、ポリアリレート(polyarylate)、ポリアミド(ployamide)、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース(triacetylcelluose)等を使って形成することができる。
例示的な実施形態によれば、第1及び第2感知パターン15、25は、位相遅延層20の互いに対向する面上に集積形成されることができる。例えば、タッチ感知構造物30の第1感知パターン15は位相遅延層20の第1面(例えば、底面)上に配置されることができ、第2感知パターン25は、位相遅延層20の第1面に実質的に対向する位相遅延層20の第2面(例えば、上面)上に位置することができる。他の例示的な実施形態において、第1感知パターン15が位相遅延層20の第2面上に位置することができ、第2感知パターン25が位相遅延層20の第1面上に位置することもできる。また、他の例示的な実施形態によれば、第1感知パターン15は位相遅延層20の底面上に直接形成されることができ、第2感知パターン25の偏光板35の底面上に直接形成されることもできる。
図3は本発明の例示的な実施形態に係る位相遅延層とタッチ感知構造物を説明するための分解図である。
図1及び図3を参照すれば、タッチ感知構造物30は位相遅延層20の第1面上に配置される第1感知パターン15と位相遅延層20の第2面上に配置される第2感知パターン25を含むことができる。例示的な実施形態において、第1感知パターン15と第2感知パターン25は、互いに異なる方向に沿って延びることができる。例えば、第1及び第2感知パターン15、25は、それぞれ実質的に直交する方向に沿って延びることができる。
図3に図示したように、第1感知パターン15は複数の第1感知セル(sensing cells)18、複数の第1接続部17及び複数の第1パッド16で構成されることができる。例示的な実施形態において、第1感知セル18は、それぞれ菱状、または、ダイヤモンドのような形状を有することができる。隣接する第1感知セル18は、1つの第1接続部17を介在して離隔されることができ、このような方式で複数の第1感知セル18が複数の第1接続部17を介在して位相遅延層20の第1面上に規則的に配列されることができる。第1接続部17は、同じX座標またはY座標を有する第1感知セル18を互いに接続することができる。他の例示的な実施形態によれば、第1感知セル18は、それぞれ円形、楕円形または、多角形のような多様な形状を有することもできる。また、第1感知パターン15は、列単位で第1感知セル18に電気的に接続されるように第1パッド16を含むことができる。第1感知パターン15の第1パッド16は、列単位で位相遅延層20の第1面の上側または下側に互いに交互に配置することができる。また、第1パッド16が位相遅延層20の第1面の上側及び下側に全部備わることもできる。
例示的な実施形態において、第1感知パターン15は透明導電性物質を使って形成することができる。例えば、位相遅延層20の第1面上に第1透明導電膜(図示せず)を形成した後、このような第1透明導電膜をパターニングして位相遅延層20の第1面上に上述した構造を有する第1感知パターン15を直接形成することができる。この場合、前記第1透明導電膜は、インジウム錫酸化物(ITO)、亜鉛錫酸化物(ZTO)、ガリウム酸化物、インジウム亜鉛酸化物(IZO)、亜鉛酸化物、錫酸化物などを使って形成することができる。また、前記第1透明導電膜は、スパッタリング工程、メッキ工程、パルスレーザー蒸着工程、真空蒸着工程、プリンティング工程などを利用して形成されることができる。
第2感知パターン25は複数の第2感知セル28、複数の第2接続部27及び複数の第2パッド26を含むことができる。例示的な実施形態によれば、第2感知セル28もそれぞれ菱状または、ダイヤモンドの形状を有することができ、隣接する第2感知セル28が第2接続部27を介在して所定の間隔で離隔されることができる。このような方式で、複数の第2感知セル28が複数の第2接続部27を介在して位相遅延層20の第2面上に規則的に配置することができる。この場合、第2感知セル28は、第1感知セル18と実質的に重ならないように配置することができる。例えば、第1感知セル18と第2感知セル28が、位相遅延層20の第1面及び第2面上に交互的に配置することができる。また、第2接続部27は、同一のX座標またはY座標を有する第2感知セル28を互いに接続することができる。他の例示的な実施形態によれば、第2感知セル28はそれぞれ円形、楕円形または、多角形のような多様な形状を有することもできる。また、第2感知パターン25は列単位で第2感知セル28に電気的に接続されるように第2パッド26を含むことができる。第2感知パターン25の第2パッド26は列単位で位相遅延層20の第2面の左側、または、右側に互いに交互に配置することができる。また、第2パッド26が位相遅延層20の第2面の左側及び右側に全部形成することもできる。
例示的な実施形態によれば、第2感知パターン25も透明導電性物質を使って形成することができる。例えば、位相遅延層20の第2面上に第2透明導電膜(図示せず)を形成した後、このような第2透明導電膜をパターニングして位相遅延層20の第2面上に上述した構造を有する第2感知パターン25を集積形成することができる。例えば、前記第2透明導電膜は、インジウム錫酸化物、亜鉛錫酸化物、ガリウム酸化物、インジウム亜鉛酸化物、亜鉛酸化物などを使って形成することができる。また、前記第2透明導電膜もスパッタリング工程、メッキ工程、パルスレーザー蒸着工程、真空蒸着工程、プリンティング工程などを利用して形成することができる。一方、第2感知パターン25は、第1感知パターン15と実質的に同一であるか、または、実質的に類似の物質からなることもできるが、第1及び第2感知パターン15、25が互いに相異する透明導電性物質で構成することもできる。
上述した構成を有するタッチ感知構造物30を含むタッチパネルに人の手や物体が接触すれば、対応する第1及び第2感知パターン15、25、金属配線(図示せず)、位置検出ライン(図示せず)などを経由して駆動回路側で手や物体の接触位置による静電容量の変化が伝えられることができる。このような静電容量の変化を電気的信号に変換して前記タッチパネル上の接触位置を把握することができる。
他の例示的な実施形態によれば、位相遅延層20と第2感知パターン25上に追加的な保護膜(図示せず)が配置することができる。このような追加的な保護膜は透明絶縁物質を使って形成することができる。
本発明の例示的な実施形態によって前記タッチパネルが位相遅延層20上に直接的に形成されたタッチ感知構造物30を含む場合には、従来のタッチパネルのタッチ感知センサのために約0.1mm〜約0.5mm程度の厚い厚さを有するベースフィルムが要求されないので前記タッチパネルの厚さを減少させることができる。また、タッチ感知構造物30が位相遅延層20上に直接形成される場合、表示パネル10から放出される光の透過率を増加させることができ、光の反射率は相対的に減少させることがあるので、光損失を顕著に減少させることができる。さらに、従来のタッチパネルに比べて要求される層の数を減少させることができるので、前記タッチパネルを含む表示装置の工程収率と効率を大きく増加させることができる。
また、図1を参照すれば、第2感知パターン25が形成された位相遅延層20の第2面上に偏光板35が配置することができる。偏光板35は、外光反射を抑制して表示パネル10により表示される画面の視認性を向上させることができる。偏光板35は、位相遅延層20を通過した光の方向を整列することができ、入射光を互いに直交する2種類の偏光成分に分け、その一成分のみを通過させて他の成分は吸収または、分散させることができる。例えば、偏光板35はヨード系(iodine type)偏光フィルム、染料系(dye−based)偏光フィルム、ポリエン系(polyene−based)偏光フィルムなどを含むことができる。例示的な実施形態において、偏光板35は吸収軸と偏光軸を具備することができる。ここで、前記吸収軸は、ヨードイオン鎖、または、異色性染料が延伸配向された軸であることができる。前記吸収軸において、入射された光が偏光板35内の電子と相互作用し、光の電気的エネルギーが電子のエネルギーに変わって光の成分を消滅させることができる。前記偏光軸は、前記吸収軸に垂直の軸として前記偏光軸方向に振動する光を透過させることができる。
ウインドウ45は、接着層40を介在して偏光板35上に配置することができる。接着層40は、偏光板35とウインドウ40との間の結合力を増加させることができる。例えば、接着層40は、ゴム系接着剤、アクリル系接着剤、ビニールエーテル系接着剤、シリコン系接着剤、ウレタン系接着剤、感圧性接着剤などからなることができる。
ウインドウ45は、ガラス、石英、または、透明レジンと同じ透明な物質を含むことができる。ウインドウ45は、表示パネル10と前記タッチパネルを外部の衝撃、湿気、パーティクルなどから保護する役割を遂行することができる。
図4は、本発明の他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を説明するための断面図である。図4に例示的に図示した表示装置は、第1位相遅延層210及び第2位相遅延層225を除けば、図1〜図3を参照して説明した表示装置と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
図4を参照すれば、前記表示装置は表示パネル200とタッチパネルを具備することができ、前記タッチパネルは第1位相遅延層210、タッチ感知構造物220、第2位相遅延層225、偏光板230、接着層235及びウインドウ240を含むことができる。
タッチ感知構造物220の複数の第1感知パターン205は第1位相遅延層210の第1面(例えば、第1位相遅延層210の底面)上に配置されるか、または、タッチ感知構造物220の複数の第2感知パターン215は、第1位相遅延層210の第2面(例えば、第1位相遅延層210の上面)上に配置されるか、または、第2位相遅延層225の第1面(例えば、第2位相遅延層225の底面)上に位置することができる。例示的な実施形態によれば、第1及び第2感知パターン205、215を含むタッチ感知構造物220が第1位相遅延層210上に直接形成されることができる。他の例示的な実施形態において、タッチ感知構造物220の第1感知パターン205は、第1位相遅延層210上に直接形成されることができる一方、タッチ感知構造物220の第2感知パターン215は、第2位相遅延層225上に直接形成されることができる。ここで、タッチ感知構造物220の第1及び第2感知パターン205、215は、図3を参照して説明した第1及び第2感知パターン15、25と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
例示的な実施形態において、第1位相遅延層210は、λ/4位相差フィルムを含むことができ、第2位相遅延層225は、λ/2位相差フィルムを含むことができる。この場合、表示基板200から放出される光のX軸成分とY軸成分が第1位相遅延層210を通過しながらλ/4程度の位相差を有することができるので、第1位相遅延層210は、線偏光を円偏光に変更させたり、または、円偏光を線偏光に変更させることができる。第2位相遅延層225は、入射される光のX軸成分とY軸成分が互いにλ/2程度の位相差を有するようにできるため、線偏光を円偏光または、楕円偏光に変更させることができる。
偏光板230、接着層235、及びウインドウ240は、第2位相差遅延層225上に次々と配置することができる。偏光板230、接着層235、及びウインドウ240は、図1を参照して説明した偏光板35、接着層40、及びウインドウ45とそれぞれ実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
図5は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を説明するための断面図である。図5に例示した表示装置は、タッチ感知構造物260を除けば、図1〜図3を参照して説明した表示装置と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
図5に図示したように、前記表示装置はタッチパネルが液晶表示パネル、または、有機発光表示パネルと同じ表示パネル250上に配置される構成を有することができる。前記タッチパネルは位相遅延層255、タッチ感知構造物260、偏光板265、接着層270及びウインドウ275を含むことができる。
例示的な実施形態において、位相遅延層255は、λ/4位相差フィルムを含むことができ、表示パネル250上に配置することができる。この場合、位相遅延層255と表示パネル250との間の結合力向上のために追加的な接着層(図示せず)が表示パネル250と位相遅延層255との間に形成されることができる。
タッチ感知構造物260は、位相遅延層255上に直接配置されることができ、図3を参照して説明した第1感知パターン15及び第2感知パターン25のうち、一種類の感知パターンと実質的に同一または実質的に類似の構造を有する複数の感知パターンを含むことができる。他の例示的な実施形態によれば、タッチ感知構造物260は、図3に例示した第1感知パターン15及び第2感知パターン25が混合した構造を有する複数の感知パターンを含むこともできる。例えば、タッチ感知構造物260は、図3に例示した第1及び第2感知パターン15、25が、列または行に沿って交互に反復される構造を有する複数の感知パターンを含むことができる。
タッチ感知構造物260が形成された位相遅延層255上には偏光板265、接着層270、及びウインドウ275が次々と配置されることができる。ここで、偏光板265、接着層270、及びウインドウ275は、それぞれ図1を参照して説明した偏光板35、接着層40、及びウインドウ45と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
図6は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を示す断面図である。図6に図示した表示装置はタッチ感知構造物305を除けば、図1を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
図6を参照すれば、前記表示装置は表示パネル300とタッチパネルを具備することができ、前記タッチパネルはタッチ感知構造物305、位相遅延層310、偏光板315、接着層320、及びウインドウ325を含むことができる。ここで、偏光板315、接着層320及びウインドウ325はそれぞれ図1を参照して説明した偏光板35、接着層40及びウインドウ45と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
タッチ感知構造物305は、表示パネル300に対向する位相遅延層310の一面上に直接形成されることができる。この場合、タッチ感知構造物305は、図3を参照して説明した第1感知パターン15及び第2感知パターン25のうち、いずれか1つの種類の感知パターンと実質的に同一または実質的に類似の構成を有する複数の感知パターンを含むことができるが、第1及び第2感知パターン15、25が混合した構成を有する複数の感知パターンを含むこともできる。例えば、タッチ感知構造物305は、図3に例示した第1及び第2感知パターン15、25が列または行に沿って交互に反復される構造を有する複数の感知パターンで構成されることもできる。
図7は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を説明するための断面図である。図7において、前記表示装置はタッチ感知構造物375の配置を除けば、図1を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
図7を参照すれば、前記表示装置は表示パネル350とタッチパネルを含むことができ、前記タッチパネルは位相遅延層355、偏光板365、タッチ感知構造物375、接着層380、及びウインドウ385を具備することができる。ここで、位相遅延層355、偏光板365、接着層380、及びウインドウ385は、それぞれ図1を参照して説明した位相遅延層20、偏光板35、接着層40、及びウインドウ45と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。他の例示的な実施形態によれば、表示パネル350と位相遅延層355との間には表示パネル350と前記タッチパネルとの間の結合の安定性を増加させるために追加的な接着層(図示せず)が配置することができる。
タッチ感知構造物375は、位相遅延層355上に配置される複数の第1感知パターン360と偏光板365上に位置する複数の第2感知パターン370を含むことができる。例示的な実施形態によれば、第1感知パターン360は位相遅延層355上に直接形成されることができ、第2感知パターン370は偏光板365上に直接形成されることができる。この場合、第1感知パターン360が図3に例示した第2感知パターン25と実質的に同一または実質的に類似の構造を有することができ、第2感知パターン370が図3に例示した第1感知パターン15と実質的に同一または実質的に類似の構造を有することもある。他の例示的な実施形態によれば、第1感知パターン360が図3に例示した第1感知パターン15と実質的に同一または実質的に類似の構造を有することができ、第2感知パターン370が図3に例示した第2感知パターン25と実質的に同一または実質的に類似の構造を有することもできる。
図8は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を説明するための断面図である。図8に例示した表示装置はタッチ感知構造物420を除けば、図1を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
図8に図示したように、前記表示装置は表示パネル400と表示パネル400上に配置されるタッチパネルを具備することができる。前記タッチパネルは位相遅延層405、位相遅延層405上に配置されるタッチ感知構造物420、タッチ感知構造物420上に配置される偏光板425、偏光板425上に配置される接着層430、そして接着層430上に位置するウインドウ435を含むことができる。この場合、位相遅延層405、偏光板425、接着層430、及びウインドウ435は、それぞれ図1を参照して説明した位相遅延層20、偏光板35、接着層40、及びウインドウ45と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。一方、表示パネル400と位相遅延層405との間には追加的な接着層が介在することができる。
例示的な実施形態によれば、タッチ感知構造物420は、位相遅延層405上面上に位置する複数の第1感知パターン410と偏光板425の底面上に配置される複数の第2感知パターン415を含むことができる。例えば、第1感知パターン410は、位相遅延層405の上面上に直接形成されることができ、第2感知パターン415は、偏光板425の底面上に直接形成されることができる。ここで、第1感知パターン410及び第2感知パターン415は、それぞれ図3を参照して説明した第2感知パターン25及び第1感知パターン15と実質的に同一または実質的に類似の構造を有することができる。これとは異なって、第1及び第2感知パターン410、415は、それぞれ図3に例示した第1及び第2感知パターン15、25と実質的に同一または実質的に類似の構造を有することもできる。
図9は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を示す断面図である。図9に例示した表示装置はタッチ感知構造物470の第1及び第2感知パターン455、465の配置を除けば、図1を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
図9に図示した通り、前記表示装置は表示パネル450に結合されるタッチパネルを具備し、前記タッチパネルはタッチ感知構造物470、位相遅延層460、偏光板475、接着層480、及びウインドウ485を含むことができる。位相遅延層460、偏光板475、接着層480、及びウインドウ485は、それぞれ図1を参照して説明した位相遅延層20、偏光板35、接着層40、及びウインドウ45と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
タッチ感知構造物470は、それぞれ位相遅延層460の底面と上面上に直接形成される第1感知パターン455及び第2感知パターン465を含むことができる。この場合、第1感知パターン455及び第2感知パターン465は、それぞれ図3を参照して説明した第2感知パターン25及び第1感知パターン15と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。他の例示的な実施形態によれば、第1感知パターン455が位相遅延層460の底面上に直接形成されることができ、第2感知パターン465が偏光板475の底面上に直接形成されることができる。例えば、第1及び第2感知パターン455、465は、それぞれプリンティング工程、スプレー工程、真空蒸着工程、スパッタリング工程、パルスレーザー蒸着工程などを利用して収得されることができる。
図10は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を説明するための断面図である。図10に例示的に図示した表示装置はタッチ感知構造物525の配置を除けば図1を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
図10を参照すれば、前記表示装置は表示パネル500と上に配置されるタッチパネルを具備することができる。前記タッチパネルはタッチ感知構造物525、位相遅延層510、偏光板515、接着層530、及びウインドウ535を含むことができる。タッチ感知構造物525の第1感知パターン505は、位相遅延層510の底面上に直接形成されることができ、タッチ感知構造物525の第2感知パターン520は偏光板515の上面上に直接形成されることができる。これに従って、偏光板515と位相遅延層510が直接接触することができる。第1及び第2感知パターン505、520は、それぞれ図3を参照して説明した第2及び第1感知パターン25、15と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
本発明の例示的な実施形態によれば、前記タッチパネルが位相遅延層510及び偏光板515上に直接的に形成される第1及び第2感知パターン505、520を含むタッチ感知構造物525を具備できるから、厚い厚さを有するベースフィルムが要求されないので前記タッチパネルの厚さを減少させることができる。また、タッチ感知構造物525が、位相遅延層510及び偏光板515上に直接形成されることがあるので、前記表示装置の表示パネル500から放出される光の損失を減少させることができる。
図11は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を示す断面図である。図11に図示した表示装置は第1及び第2位相遅延層555、565とタッチ感知構造物575を除けば、図1を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
図11を参照すれば、前記表示装置は表示パネル550とタッチパネルを具備することができる。前記タッチパネルは第1位相遅延層555、第2位相遅延層565、第1及び第2感知パターン560、570を具備するタッチ感知構造物575、偏光板580、接着層585及びウインドウ590を含むことができる。第1及び第2位相遅延層(555、565)はそれぞれ図4を参照して説明した第1位相遅延層210及び第2位相遅延層225と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。また、偏光板580、接着層585及びウインドウ590はそれぞれ図1を参照して説明した偏光板35、接着層40及びウインドウ45と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
例示的な実施形態によれば、タッチ感知構造物575の第1感知パターン560は第1位相遅延層555の上面上に直接形成されるか、または、第2位相遅延層565の底面上に直接形成されることができる。第2感知パターン570は、第2位相遅延層565の上面または偏光板580の底面上に直接形成されることができる。第1及び第2感知パターン560、570は、それぞれ図3を参照して説明した第1及び第2感知パターン15、25と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
図12は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を示す断面図である。図12において、前記表示装置はタッチ感知構造物615を除けば図4を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
図12を参照すれば、前記表示装置は表示パネル600と表示パネル600上に付着するタッチパネルを具備することができる。前記タッチパネルは第1位相遅延層605、第2位相遅延層610、タッチ感知構造物615、偏光板620、接着層625及びウインドウ630を含むことができる。第1及び第2位相遅延層605、610は、それぞれ図4を参照して説明した第1位相遅延層210及び第2位相遅延層225と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。偏光板620、接着層625、及びウインドウ630はそれぞれ図1を参照して説明した偏光板35、接着層40、及びウインドウ45と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
例示的な実施形態によれば、タッチ感知構造物615は、第2位相遅延層610の上面上に直接形成されるか、または、偏光板620の底面上に直接形成されることができる。ここで、タッチ感知構造物615は、図3を参照して説明した第1感知パターン15及び第2感知パターン25のうち、一種類の感知パターンと実質的に同一または実質的に類似の構造を有する複数の感知パターンを含むことができる。他の例示的な実施形態によれば、タッチ感知構造物615は、図3に例示的に図示した第1感知パターン15及び第2感知パターン25が混合した構造を有する複数の感知パターンを含むこともできる。例えば、タッチ感知構造物615は、図3に例示した第1及び第2感知パターン15、25が列または行に沿って交互に反復される構造を有する複数の感知パターンを含むことができる。
図13は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を説明するための断面図である。図13に例示的に図示した表示装置は、タッチ感知構造物660を除けば図4を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
図13に図示した通り、前記表示装置は表示パネル650と表示パネル650に結合されるタッチパネルを具備することができる。前記タッチパネルは第1位相遅延層655、タッチ感知構造物660、第2位相遅延層665、偏光板670、接着層675、及びウインドウ680を含むことができる。第1及び第2位相遅延層655、665は、それぞれ図4を参照して説明した第1位相遅延層210及び第2位相遅延層225と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。また、偏光板670、接着層675、及びウインドウ680は、それぞれ図1を参照して説明した偏光板35、接着層40、及びウインドウ45と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
例示的な実施形態において、タッチ感知構造物660は、第1位相遅延層655の上面上に直接形成されるか、または、第2位相遅延層665の底面上に直接形成されることができる。タッチ構造物660は、図5を参照して説明したタッチ感知構造物260と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
図14は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を示す断面図である。図14に例示的に図示した表示装置はタッチ感知構造物730の配置を除けば図4を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
図14を参照すれば、前記表示装置は表示パネル700とタッチパネルを具備することができる。前記タッチパネルは、第1位相遅延層705、第2位相遅延層710、タッチ感知構造物730、偏光板720、接着層735、及びウインドウ740を含むことができる。第1位相遅延層705及び第2位相遅延層710は、それぞれ図4を参照して説明した第1位相遅延層210及び第2位相遅延層225と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。また、偏光板720、接着層735、及びウインドウ740は、それぞれ図1を参照して説明した偏光板35、接着層40、及びウインドウ45と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
例示的な実施形態によれば、タッチ感知構造物730は、第1感知パターン715及び第2感知パターン725で構成されることができる。第1感知パターン715は、第2位相遅延層710の上面上に直接形成されるか、または、偏光板720の底面上に直接形成されることができる。第2感知パターン725は、偏光板720の上面上に直接形成されることができる。第1感知パターン715及び第2感知パターン725は、それぞれ図3を参照して説明した第2感知パターン25及び第1感知パターン15と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
図15は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を説明するための断面図である。図15において、前記表示装置はタッチ感知構造物775の配置を除けば、図8を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
図15を参照すれば、前記表示装置は表示パネル750とタッチパネルを具備することができる。前記タッチパネルは第1位相遅延層755、第2位相遅延層760、タッチ感知構造物775、偏光板780、接着層785、及びウインドウ790を含むことができる。第1位相遅延層755及び第2位相遅延層760は、それぞれ図4を参照して説明した第1位相遅延層210及び第2位相遅延層225と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。偏光板780、接着層785及びウインドウ790は、それぞれ図1を参照して説明した偏光板35、接着層40、及びウインドウ45と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
例示的な実施形態によれば、タッチ感知構造物775は、第1感知パターン765及び第2感知パターン770で構成されることができる。第1感知パターン765は、第2位相遅延層760の上面上に形成されることができて、第2感知パターン770は、偏光板780の底面上に直接形成されることができる。ここで、第1感知パターン765及び第2感知パターン770は、それぞれ図3を参照して説明した第2感知及び第1感知パターン15と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
図16は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を説明するための断面図である。図16に例示的に図示した表示装置は、第1位相遅延層805及び第2位相遅延層815と、タッチ感知構造物825とを除けば図1を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
図16に図示した通り、前記表示装置は表示パネル800とタッチパネルを具備することができ、前記タッチパネルは第1位相遅延層805、タッチ感知構造物825、第2位相遅延層815、偏光板830、接着層835、及びウインドウ840を含むことができる。第1位相遅延層805及び第2位相遅延層815は、それぞれ図4を参照して説明した第1位相遅延層210及び第2位相遅延層225と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。他の例示的な実施形態において、前記タッチパネルは表示パネル800と第1位相遅延層805との間に配置される追加的な接着層を具備することもできる。また、偏光板830、接着層835、及びウインドウ840は、それぞれ図1を参照して説明した偏光板35、接着層40、及びウインドウ45と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
例示的な実施形態において、タッチ感知構造物825は、第1感知パターン810及び第2感知パターン820からなることができる。第1感知パターン810は、第1位相遅延層805の上面、または、第2位相遅延層815の底面上に直接形成されることができ、第2感知パターン820は、第2位相遅延層815の上面または、偏光板830の底面上に直接形成されることができる。第1感知パターン810及び第2感知パターン820は、それぞれ図3を参照して説明した第2感知パターン25及び第1感知パターン15と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
図17は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を説明するための断面図である。図17に例示した表示装置はタッチ感知構造物880の配置を除けば、図4を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
図17を参照すれば、前記表示装置は表示パネル850とタッチパネルとを具備することができ、前記タッチパネルは第1位相遅延層855、タッチ感知構造物880、第2位相遅延層865、偏光板870、接着層885、及びウインドウ890を含むことができる。第1位相遅延層855及び第2位相遅延層865は、それぞれ図4を参照して説明した第1位相遅延層210及び第2位相遅延層225と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。他の例示的な実施形態において、前記タッチパネルは表示パネル850と第1位相遅延層855との間に配置される追加的な接着層を具備することもできる。一方、偏光板870、接着層885、及びウインドウ890は、それぞれ図1を参照して説明した偏光板35、接着層40、及びウインドウ45と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
例示的な実施形態によれば、タッチ感知構造物880の第1感知パターン860は、第1位相遅延層855の上面、または、第2位相遅延層865の底面上に直接形成されることができ、タッチ感知構造物880の第2感知パターン875は、偏光板870の上面上に直接形成されることができる。また、第1感知パターン860及び第2感知パターン875は、それぞれ図3を参照して説明した第2感知パターン25及び第1感知パターン15と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
図18は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を示す断面図である。図18において、前記表示装置はタッチ感知構造物920の構造を除けば、図4を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
図18を参照すれば、前記表示装置は、表示パネル900とタッチパネルを具備することができる。前記タッチパネルは、第1感知パターン905及び第2感知パターン915を有するタッチ感知構造物920、第1位相遅延層910、第2位相遅延層925、偏光板930、接着層935、及びウインドウ940を含むことができる。
例示的な実施形態に係るタッチ感知構造物920において、第1感知パターン905は、第1位相遅延層910の底面上に直接形成されることができる。第2感知パターン915は、第1位相遅延層910の上面、または、第2位相遅延層925の底面上に直接形成されることができる。ここで、第1感知パターン905及び第2感知パターン915は、それぞれ図3を参照して説明した第2感知パターン25及び第1感知パターン15と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
図19は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を示す断面図である。図19に例示的に図示した表示装置はタッチ感知構造物970の構成を除けば、図4を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
図19に図示した通り、前記表示装置は表示パネル950とタッチパネルを具備することができる。前記タッチパネルは、第1位相遅延層955、第1感知パターン960及び第2感知パターン965を有するタッチ感知構造物970、第2位相遅延層975、偏光板980、接着層985、及びウインドウ990を具備することができる。
例示的な実施形態に係るタッチ感知構造物970において、第1感知パターン960は、第1位相遅延層955の底面上に直接形成されることができて、第2感知パターン965は、第2位相遅延層975の底面上に直接形成されることができる。この場合、第1感知パターン960及び第2感知パターン965は、それぞれ図3を参照して説明した第2感知パターン25及び第1感知パターン15と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
図20は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を説明するための断面図である。図20に例示した表示装置は第1位相遅延層1010及び第2位相遅延層1015とタッチ感知構造物1025の配置を除けば、図4を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
図20を参照すれば、前記表示装置は表示パネル(1000)と表示パネル(1000)に接合されるタッチパネルを含むことができる。前記タッチパネルは、第1感知パターン1005及び第2感知パターン1020を含むタッチ感知構造物1025、第1位相遅延層1010、第2位相遅延層1015、偏光板1030、接着層1035、及びウインドウ1040を具備することができる。
例示的な実施形態に係るタッチ感知構造物1025において、第1感知パターン1005は、第1位相遅延層1010の底面上に直接形成され、第2感知パターン1020は、第2位相遅延層1015の上面、または、偏光板1030の底面上に直接形成されることができる。第1感知パターン1005及び第2感知パターン1020は、それぞれ図3を参照して説明した第2感知パターン25及び第1感知パターン15と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
図21は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を示す断面図である。図21に例示的に図示した表示装置はタッチ感知構造物1075の構成を除けば、図4を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
図21を参照すれば、前記表示装置は、表示パネル1050と表示パネル1050に結合するタッチパネルを具備することができる。前記タッチパネルは第1位相遅延層1055、第1感知パターン1060及び第2感知パターン1070を含むタッチ感知構造物1075、第2位相遅延層1065、偏光板1080、接着層1085、及びウインドウ1090を含むことができる。第1位相遅延層1055及び第2位相遅延層1065は、それぞれ図4を参照して説明した第1位相遅延層210及び第2位相遅延層225と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。他の例示的な実施形態によれば、前記タッチパネルは、表示パネル1050と第1位相遅延層1055との間に配置される追加的な接着層を具備することもできる。また、偏光板1080、接着層1085、及びウインドウ1090は、それぞれ図1を参照して説明した偏光板35、接着層40、及びウインドウ45と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
例示的な実施形態に係るタッチ感知構造物1075において、第1感知パターン1060は、第1位相遅延層1055の上面、または、第2位相遅延層1065の底面上に直接形成されることができる。第2感知パターン1070は第2位相遅延層1065の上面、または、偏光板1080の底面上に直接形成されることができる。また、第1感知パターン1060及び第2感知パターン1070は、それぞれ図3を参照して説明した第2感知パターン25及び第1感知パターン15と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
本発明の例示的な実施形態に係る表示装置は、1つの位相遅延層、及び/または、偏光板上に直接的に配置されるタッチ感知構造物を含むタッチパネルを具備するから、前記タッチパネルの薄型化を通じて前記表示装置の厚さを減少させることができる。また、前記タッチ感知構造物を形成するための別途のベースフィルムが要求されないので、前記タッチ感知構造物の形成過程で発生されるむら(しみ)、パーティクルの残留などのような工程不良を防止することができる。さらに、前記タッチパネルを具備する前記表示装置は、表示パネルから放出される光の透過率を増加させることができるので、前記表示パネルの光損失を減少させることができる。これに伴い、前記表示装置をスリム化することができ、前記表示装置によって表示される画像の品質を向上させることができる。
10、200、250、300、350、400、450、500、550、600、650、700、750、800、850、900、950、1000…表示パネル
15、205、360、410、455、505、560、715、765、810、860、905、960、1005、1060…第1感知パターン
16…第1パッド
17…第1接続部
18…第1感知セル
20、255、310、355、405、460、510…位相遅延層
25、215、370、415、465、520、570、725、770、820、875、915、965、1020、1070…第2感知パターン
26…第2パッド
27…第2接続部
28…第2感知セル
30、220、260、305、375、420、470、525、575、615、660、730、775、825、880、920、970、1025…タッチ感知構造物
35、230、265、315、365、425、475、515、580、620、670、720、780、830、870、930、980、1030、1080…偏光板
40、235、270、320、380、430、480、530、585、625、675、735、785、835、885、935、985、1035、1085…接着層
45、240、275、325、385、435、485、535、590.630、680、740、790、840、890、940、990、1040、1090…ウインドウ
50…第1基板
55…バッファ層
60…アクティブ層
65…ゲート絶縁膜
70…ゲート電極
75…層間絶縁膜
80…ソース電極
85…ドレーン電極
90…絶縁層
95…第1電極
100…画素定義膜
105…発光構造物
110…第2電極
120…第2基板
210、555、605、655、705、755、805、、910、955、1010、1055…第1位相遅延層
225、565、610、665、710、760、815、865、925、975、1015、1065…第2位相遅延層

Claims (5)

  1. 少なくとも1つの位相遅延層と、
    前記少なくとも1つの位相遅延層上に配置される偏光板と、
    前記位相遅延層の少なくとも1つの面及び前記偏光板の少なくとも1つの面のうち、少なくとも1つの面上に直接形成される少なくとも一種類の感知パターンを含むタッチ感知構造物と、
    前記偏光板上に配置される接着層と、
    前記接着層上に配置されるウインドウと、を具備し、
    前記少なくとも1つの位相遅延層は、λ/4位相差フィルムを含む第1位相遅延層と、前記第1位相遅延層上であって前記偏光板の下に配置される、λ/2位相差フィルムを含む第2位相遅延層を含み、
    前記タッチ感知構造物は、前記第1位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第1感知パターンと前記偏光板の上面上に直接形成される複数の第2感知パターンとを含むことを特徴とするタッチパネル。
  2. 前記第1感知パターンと前記第2感知パターンは、互いに直交する方向に沿って延びていることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル。
  3. 表示パネル上に配置されるタッチパネルを具備し、
    前記タッチパネルは、
    少なくとも1つの位相遅延層と、
    前記少なくとも1つの位相遅延層上に配置される偏光板と、
    前記位相遅延層の少なくとも1つの面及び前記偏光板の少なくとも1つの面のうち、少なくとも1つの面上に直接形成される少なくとも一種の感知パターンを含むタッチ感知構造物と、
    前記偏光板上に配置される接着層と、
    前記接着層上に配置されるウインドウと、を具備し、
    前記少なくとも1つの位相遅延層は、λ/4位相差フィルムを具備する第1位相遅延層と、前記第1位相遅延層上であって前記偏光板の下に配置される、λ/2位相差フィルムを具備する第2位相遅延層とを含み、
    前記タッチ感知構造物は、前記第1位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第1感知パターンと前記偏光板の上面上に直接形成される複数の第2感知パターンとを含むことを特徴とする表示装置。
  4. 表示パネル上に配置されるタッチパネルを具備し、
    前記タッチパネルは、
    少なくとも1つの位相遅延層と、
    前記少なくとも1つの位相遅延層上に配置される偏光板と、
    前記位相遅延層の少なくとも1つの面及び前記偏光板の少なくとも1つの面のうち、少なくとも1つの面上に直接形成される少なくとも一種の感知パターンを含むタッチ感知構造物と、
    前記偏光板上に配置される接着層と、
    前記接着層上に配置されるウインドウと、を具備し、
    前記少なくとも1つの位相遅延層は、λ/4位相差フィルムを具備する第1位相遅延層と、前記第1位相遅延層上に配置されてλ/2位相差フィルムを具備する第2位相遅延層とを含み、
    前記タッチ感知構造物は、前記第2位相遅延層の上面上に直接形成される第1感知パターンと前記偏光板の上面上に直接形成される第2感知パターンとを含むことを特徴とする表示装置。
  5. 表示パネル上に配置されるタッチパネルを具備し、
    前記タッチパネルは、
    少なくとも1つの位相遅延層と、
    前記少なくとも1つの位相遅延層上に配置される偏光板と、
    前記位相遅延層の少なくとも1つの面及び前記偏光板の少なくとも1つの面のうち、少なくとも1つの面上に直接形成される少なくとも一種の感知パターンを含むタッチ感知構造物と、
    前記偏光板上に配置される接着層と、
    前記接着層上に配置されるウインドウと、を具備し、
    前記少なくとも1つの位相遅延層は、λ/4位相差フィルムを具備する第1位相遅延層と、前記第1位相遅延層上に配置されてλ/2位相差フィルムを具備する第2位相遅延層とを含み、
    前記タッチ感知構造物は、前記第2位相遅延層の底面上に直接形成される第1感知パターンと前記偏光板の上面上に直接形成される第2感知パターンとを含むことを特徴とする表示装置。
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