WO2012042822A1

WO2012042822A1 - フレキシブルディスプレイ及びその製造方法

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Publication number: WO2012042822A1
Application number: PCT/JP2011/005390
Authority: WO
Inventors: 安松　拓人
Original assignee: シャープ株式会社
Priority date: 2010-10-01
Filing date: 2011-09-26
Publication date: 2012-04-05
Also published as: US20130308076A1

Abstract

　樹脂製ＴＦＴ側フィルム基板５及び樹脂製対向側フィルム基板７と液晶素子とを備えた液晶パネル３の上記ＴＦＴ側フィルム基板５及び対向側フィルム基板７に、ＴＦＴ側ラミネートフィルム１５及び対向側ラミネートフィルム１９がＴＦＴ側光硬化型透明接着剤層１７及び対向側光硬化型透明接着剤層２１を介して貼り合わされ、対向側ラミネートフィルム１９の反対向側フィルム基板７側のフィルム面にＣＦ２３が形成されている。これにより、素子層に割れがなく、かつフレキシブルフィルム基板に反りや隣接層との接合面に剥がれがなくて高信頼性で、しかも複数の機能層を設けても薄膜化を効果的に達成できるフレキシブルディスプレイを提供する。

Description

フレキシブルディスプレイ及びその製造方法

　この発明は、薄膜でありながら機能層を複数形成可能でかつ品質の優れた液晶ディスプレイ等のフレキシブルディスプレイ及びその製造方法に関するものである。

　特許文献１には、ベースフィルムにカラーフィルタ（ＣＦ）を形成して光学機能層としてのＣＦフィルムとし、これを透明基板と発光素子とを備えた表示パネルの上記透明基板に上記ベースフィルムを対面させた状態で、又はこれとは逆に透明基板に上記ＣＦを対面させた状態で貼り合わせてディスプレイを得る技術が開示されている。

　そして、上記ベースフィルムの例として、厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）が挙げられ、上記表示パネルの透明基板の例として、厚み１２５μｍのＰＥＴフィルムがそれぞれ挙げられている。また、ＣＦフィルムの貼り合わせには、紫外線硬化型接着剤が用いられている。

特開２００９－６４０１０号公報（段落００１２欄、段落００１３欄、段落００３６欄、段落００３７欄、図１、図２）

　ところで、樹脂製フレキシブルフィルム基板を用いたフレキシブルディスプレイは、薄くて軽量でかつ破損し難く、しかも曲面形状に形成することができることから、近年注目を集めている。

　しかし、上記フレキシブルフィルム基板は樹脂製であるため、耐熱性で剛性大なるガラス基板に比べて剛性が低くかつ熱変形し易く、このことは、ＰＥＴフィルムからなる透明基板を用いている上記の特許文献１の段落００３６欄等に、透明基板は電極等を形成する過程で機械的応力や熱により伸縮すると記載されていることからも明らかである。そして、特許文献１では、透明基板の伸縮に応じてＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の位置を調整してＣＦを形成しているが、透明基板の伸縮そのものについては何ら考慮されていない。

　特に、厚みが薄い樹脂製フレキシブルフィルム基板をフレキシブルディスプレイの構成材として用いると、熱変形等に起因してフレキシブルフィルム基板に大きな反りが生ずる。また、フレキシブルフィルム基板に大きな反りが生ずると、当該フレキシブルフィルム基板は割れなくても、素子層（薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor：ＴＦＴ）層）に使用されるゲート絶縁膜等の無機膜が割れ易くなったり、フレキシブルフィルム基板と隣接層との接合面に剥がれが生ずるおそれもある。

　この発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、素子層に割れがなく、かつフレキシブルフィルム基板に反りや隣接層との接合面に剥がれがなくて高信頼性で、しかも複数の機能層を設けても薄膜化を効果的に達成できるフレキシブルディスプレイを提供することである。

　上記の目的を達成するため、この発明は、フレキシブルフィルム基板をラミネートフィルムで補強するとともに、このラミネートフィルムに関連付けて機能層を設けたことを特徴とする。

　具体的には、第１～９の発明はフレキシブルディスプレイに関するものであり、第１０の発明はその製造方法に関するものであり、次のような解決手段を講じた。

　すなわち、第１の発明は、樹脂製フレキシブルフィルム基板と発光素子とを備えた表示パネルの上記フレキシブルフィルム基板に、ラミネートフィルムが光硬化型透明接着剤層を介して貼り合わされ、該ラミネートフィルムの上記フレキシブルフィルム基板側及び反フレキシブルフィルム基板側の少なくとも一方のフィルム面に、光学機能層、センサ機能層及びガスバリア機能層のうち１つ以上の機能層が形成されていることを特徴とする。

　第２の発明は、第１の発明において、上記フレキシブルフィルム基板は、ポリイミドからなることを特徴とする。

　第３の発明は、第１の発明において、上記ラミネートフィルムは、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート又はシクロオレフィンポリマーからなることを特徴とする。

　第４の発明は、第１の発明において、上記光硬化型透明接着剤層は、アクリレート系又はエポキシ系の光硬化型透明接着剤からなることを特徴とする。

　第５の発明は、第４の発明において、上記光硬化型透明接着剤層は、硬化後の弾性率が室温（２５℃）で１００ＭＰａ～２ＧＰａ、使用時の環境温度６０℃～７０℃で４０ＭＰａ以上であることを特徴とする。

　第６の発明は、第１の発明において、上記光学機能層は、カラーフィルタ（ＣＦ）、ＡＲフィルム（Anti-Reflection Film）、ＡＧフィルム（Anti-Glare Film）、位相差フィルム（Retardation Film）、偏光フィルム（Polarizing Film）又は３Ｄフィルム（3-Dimentional Film）からなることを特徴とする。

　第７の発明は、第１の発明において、上記センサ機能層は、静電容量式又は感圧式のタッチパネルからなることを特徴とする。

　第８の発明は、第１の発明において、上記ガスバリア機能層は、酸化シリコン系、酸窒化シリコン系、酸化アルミナ系又は酸化チタン系の材料からなる無機膜、又は該無機膜とポリビニルアルコール系、ポリ塩化ビニリデン系、アクリルニトリル系、アクリル酸系又はナイロン系の材料からなる有機膜との積層膜からなることを特徴とする。

　第９の発明は、第１の発明において、上記発光素子は、液晶素子、有機ＥＬ（Electro Luminescence）素子又は電気泳動素子であることを特徴とする。

　第１０の発明は、樹脂製フレキシブルフィルム基板と発光素子とを備えた表示パネルの上記フレキシブルフィルム基板に、光硬化型透明接着剤層を形成する接着剤層形成工程と、該接着剤層形成工程後に行われ、ラミネートフィルムを上記フレキシブルフィルム基板に真空雰囲気中で光硬化型透明接着剤層を介して貼り合わせるフィルム貼合工程と、該フィルム貼合工程後又はフィルム貼合工程前に行われ、上記ラミネートフィルムの上記フレキシブルフィルム基板側及び反フレキシブルフィルム基板側の少なくとも一方のフィルム面に、光学機能層、センサ機能層及びガスバリア機能層のうち１つ以上の機能層を形成する機能層形成工程と、上記フィルム貼合工程と併行又はフィルム貼合工程後でかつ機能層形成工程後に行われ、上記光硬化型透明接着剤層を光照射により硬化させる接着剤層硬化工程とを備えることを特徴とする。

　第１～１０の発明によれば、樹脂製フレキシブルフィルム基板をラミネートフィルムで補強しているので、フレキシブルフィルム基板に熱変形等による反りが生じず、ＴＦＴ層に使用されるゲート絶縁膜等の無機膜の割れが防止され、さらにはフレキシブルフィルム基板と隣接層との接合面に剥がれも生じ難くなり、信頼性を高めることができる。

　また、フレキシブルフィルム基板にラミネートフィルムを光硬化型透明接着剤層を介して貼り合わせているので、光硬化型透明接着剤の材質特性により反り防止と曲げ時の信頼性とを確保することができる。

　さらに、ラミネートフィルムの少なくとも一方のフィルム面に１つ以上の機能層を形成しているので、複数の機能層を設けても薄膜化を効果的に達成できるフレキシブルな液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ又は電気泳動ディスプレイとすることができる。

　特に、第５の発明によれば、上記光硬化型透明接着剤層を、硬化後の弾性率が室温（２５℃）で１００ＭＰａ～２ＧＰａ、使用時の環境温度６０℃～７０℃で４０ＭＰａ以上としているため、フレキシブルフィルム基板の反りを効果的に抑制し、フレキシブルフィルム基板の曲げ時の信頼性を向上させることができる。

　また、第１０の発明によれば、ラミネートフィルムのフレキシブルフィルム基板への貼り合わせを真空雰囲気中で行うことから、ラミネートフィルムとフレキシブルフィルム基板とが異種材料であっても、ラミネートフィルムをフレキシブルフィルム基板に確実に貼り合わせることができる。

図１は、実施形態１に係るフレキシブルディスプレイとしての液晶ディスプレイの断面図である。図２は、実施形態１に係るフレキシブルディスプレイとしての液晶ディスプレイの製造工程を示す断面図である。図３は、実施形態２に係るフレキシブルディスプレイとしての液晶ディスプレイの断面図である。図４は、実施形態３に係るフレキシブルディスプレイとしての液晶ディスプレイの断面図である。図５は、実施形態４に係るフレキシブルディスプレイとしての液晶ディスプレイの断面図である。図６は、実施形態５に係るフレキシブルディスプレイとしての液晶ディスプレイの断面図である。図７は、実施形態６に係るフレキシブルディスプレイとしての液晶ディスプレイの断面図である。図８は、実施形態７に係るフレキシブルディスプレイとしての液晶ディスプレイの断面図である。図９は、実施形態８に係るフレキシブルディスプレイとしての液晶ディスプレイの断面図である。

　以下、この発明の実施形態について図面に基づいて説明する。

　（実施形態１）
　図１は実施形態１に係るフレキシブルディスプレイを示し、本例では発光素子が液晶素子である液晶ディスプレイ１を示す。図１中、３は表示パネルとしてのアクティブマトリクス駆動型の液晶パネル３であり、該液晶パネル３にバックライト（図示せず）が組み付けられて上記液晶ディスプレイ１が構成されている。

　上記液晶パネル３は、図１で下側の樹脂製フレキシブルフィルム基板５と、該フレキシブルフィルム基板５に対向配置された図１で上側の樹脂製フレキシブルフィルム基板７とを備え、これら２枚の樹脂製フレキシブルフィルム基板５，７は共に、ポリイミドからなり、その厚みは、製品である液晶ディスプレイ１にフレキシブル性を十分に発揮させる観点から５０μｍ未満に設定されていることが望ましい。

　これらフレキシブルフィルム基板５，７のうち図１で下側のフレキシブルフィルム基板５上面には、画素電極と、この画素電極に接続されたＴＦＴとがマトリクス配置の複数の画素毎にそれぞれ形成されてＴＦＴ基板（アクティブマトリクス基板）を構成しているが、図１及び後述する製造工程図である図２では、これらは便宜上図示せず、フレキシブルフィルム基板５のみを表している。以下、このフレキシブルフィルム基板５をＴＦＴ側フィルム基板５と称呼するが、説明の都合上、ＴＦＴ基板として表現することもあり、この場合には、符号５′を用いてＴＦＴ基板５′とすることにする。

　一方、上記図１で上側のフレキシブルフィルム基板７下面には、共通電極が形成されて対向基板を構成しているが、共通電極はここでは便宜上図示せず、上記ＴＦＴ側フィルム基板５と同様に、図１及び後述する製造工程図である図２では、フレキシブルフィルム基板７のみを表している。また、このフレキシブルフィルム基板７にはＣＦは形成されていない。以下、このフレキシブルフィルム基板７を対向側フィルム基板７と称呼するが、説明の都合上、対向基板として表現することもあり、この場合には、符号７′を用いて対向基板７′とすることにする。

　また、上記ＴＦＴ基板５′及び対向基板７′の各々の対向面には、配向膜が形成されているが、この配向膜も便宜上図示していない。このように、ＴＦＴ側フィルム基板５（ＴＦＴ基板５′）及び対向側フィルム基板７（対向基板７′）のみを表して簡略表示していることは、後述する他の実施形態においても同様である。

　上記ＴＦＴ基板５′及び対向基板７′の両周縁部間には、例えば紫外線硬化型のエポキシ系樹脂からなる枠状のシール材９が全周に亘って配置されて、該シール材９でＴＦＴ基板５′と対向基板７′とを接合し、これらＴＦＴ基板５′と対向基板７′との間の上記シール材９で囲まれた内側空間に、例えば電気光学特性を有するネマチック液晶分子の液晶層１１が封入されている。

　また、上記ＴＦＴ側フィルム基板５の一辺側は、上記対向側フィルム基板７（対向基板７′）よりも側方に延出していて、当該延出部をドライバチップが実装される端子領域１３としている。

　上記ＴＦＴ側フィルム基板５（ＴＦＴ基板５′）の反液晶層１１側の面には、ラミネートフィルム１５が光硬化型透明接着剤層１７を介して貼り合わされている。以下、このラミネートフィルム１５をＴＦＴ側ラミネートフィルム１５と称呼し、光硬化型透明接着剤層１７をＴＦＴ側光硬化型透明接着剤層１７と称呼する。

　上記ＴＦＴ側ラミネートフィルム１５は、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）又はシクロオレフィンポリマー（ＣＯＣ）からなり、その厚みは、上記ＴＦＴ側フィルム基板５及び対向側フィルム基板７の補強効果を高めることと、フレキシブル性を阻害しないこととの両観点から５０μｍ以上に設定されていることが望ましい。

　上記ＴＦＴ側光硬化型透明接着剤層１７は、アクリレート系又はエポキシ系の光硬化型透明接着剤からなり、例えば東亞合成（株）のLCR0631,0632.0753.0239F等が好適である。また、その厚みは、５μｍ～２０μｍに設定されていることが望ましい。５μｍ未満の厚みにするのは、現状の塗布技術からして困難であるとともに、全体に占める気泡の割合が多くなって信頼性に乏しくなるからである。一方、厚みが２０μｍを超えると、プリント配線板（Printed Wiring Board：ＰＷＢ）とフレキシブルプリント基板（Flexible Printed Circuits：ＦＰＣ）との接続（１６０℃、３ＭＰａ、１０ｓｅｃ）時に、異方導電フィルム（Anisotropic Conductive Film：ＡＣＦ）の導電粒子（ＡＣＦ粒子）が扁平にならず、接続不良のおそれがあるからである。また、上記ＴＦＴ側光硬化型透明接着剤層１７は、硬化後の弾性率が室温（２５℃）で１００ＭＰａ～２ＧＰａ、使用時の環境温度６０℃～７０℃で４０ＭＰａ以上であることが好ましい。１００ＭＰａ未満では、曲げに対して弱く、剥がれや割れが発生するからであり、上限を２ＧＰａとしたのはフレキシブル性の観点からして現状では２ＧＰａを超える製品がなく、またその必要もないからである。

　上記対向側フィルム基板７（対向基板７′）の反液晶層１１側の面にも、ラミネートフィルム１９が光硬化型透明接着剤層２１を介して貼り合わされている。以下、このラミネートフィルム１９を対向側ラミネートフィルム１９と称呼し、光硬化型透明接着剤層２１を対向側光硬化型透明接着剤層２１と称呼する。この対向側ラミネートフィルム１９の種類及び厚みは、上記ＴＦＴ側ラミネートフィルム１５と同様である。対向側光硬化型透明接着剤層２１の種類、厚み及び硬化後の弾性率は、上記ＴＦＴ側光硬化型透明接着剤層１７と同様である。

　上記対向側ラミネートフィルム１９の反対向側フィルム基板７（対向基板７′）側のフィルム面には、ブラックマトリクス及びＲＧＢ（赤、緑、青）の三原色のパターンからなる光学機能層としてのＣＦ２３がフォトリソグラフィ法や印刷法等公知の方法にて形成されている。ＣＦ２３は予め対向側ラミネートフィルム１９に形成していてもよく、対向側ラミネートフィルム１９を対向側フィルム基板７（対向基板７′）に貼り合わせた後に形成してもよい。

　次に、実施形態１に係る液晶ディスプレイ１の製造方法について図２を参照しながら説明する。以下に括弧書で付した番号は製造工程の順番を示す。
（１）ガラス製支持体２５（以下、ＴＦＴ側支持体２５という）上にポリイミドを塗布して厚み５０μｍ未満のＴＦＴ側フィルム基板５を形成する。このＴＦＴ側フィルム基板５上に、図示しないが、互いに平行に延びる複数のゲート線を形成するとともに、各ゲート線に直交するように互いに平行に延びる複数のソース線を形成し、これらゲート線及びソース線の各交差部分にそれぞれＴＦＴを形成し、さらに、各ＴＦＴ毎に画素電極を接続してＴＦＴアレイ層を構成する。このＴＦＴアレイ層上に配向膜を形成してＴＦＴ基板５′とする（ＴＦＴ基板形成工程：図２（ａ）参照）。

　一方、同じくガラス製支持体２７（以下、対向側支持体２７という）上に、図示しないが共通電極を形成し、その上に配向膜を形成した後、ポリイミドを塗布して厚み５０μｍ未満の対向側フィルム基板７を形成して対向基板７′とする（対向基板形成工程：図２（ａ）参照）。
（２）ＴＦＴ基板５′の周縁部に全周に亘って例えば紫外線硬化型のエポキシ系樹脂を枠状に塗布し、これに対向基板７′を対向させて紫外線を照射することでエポキシ系樹脂を硬化させ、ＴＦＴ基板５′と対向基板７′とをシール材９を介して接合する。その後、これらＴＦＴ基板５′と対向基板７′との間のシール材９で囲まれた内側空間に、例えば電気光学特性を有するネマチック液晶を注入して液晶層１１を封入し、液晶パネル３を形成する（液晶パネル形成工程：図２（ａ）参照）。図２では、ＴＦＴ側フィルム基板５及び対向側フィルム基板７にマザー基板を用いて液晶パネル３を多数個取りする例を示す。
（３）ＴＦＴ側支持体２５側からレーザー光線Ｂ１を照射してＴＦＴ側支持体２５をＴＦＴ側フィルム基板５から剥離させる（剥離工程：図２（ｂ）参照）。機械的に剥離してもよい。
（４）アクリレート系又はエポキシ系の光硬化型透明接着剤をＴＦＴ側フィルム基板５の剥離面に塗布し、厚み５μｍ～２０μｍのＴＦＴ側光硬化型透明接着剤層１７を形成する（接着剤層形成工程：図２（ｃ）参照）。
（５）厚み５０μｍを超えるＴＦＴ側ラミネートフィルム１５を真空雰囲気中でプレスしてＴＦＴ側フィルム基板５にＴＦＴ側光硬化型透明接着剤層１７を介して貼り合わせる（フィルム貼合工程：図２（ｄ）参照）。
（６）ＴＦＴ側ラミネートフィルム１５側から紫外線（又は可視光）Ｂ２を照射してＴＦＴ側光硬化型透明接着剤層１７を硬化させる（接着剤層硬化工程：図２（ｅ）参照）。
（７）対向側支持体２７側からレーザー光線Ｂ１を照射して対向側支持体２７を対向側フィルム基板７から剥離させる（剥離工程：図２（ｆ）参照）。機械的に剥離してもよい。
（８）アクリレート系又はエポキシ系の光硬化型透明接着剤を対向側フィルム基板７の剥離面に塗布し、厚み５μｍ～２０μｍの対向側光硬化型透明接着剤層２１を形成する（接着剤層形成工程：図２（ｇ）参照）。
（９）厚み５０μｍを超える対向側ラミネートフィルム１９を真空雰囲気中でプレスして対向側フィルム基板７に対向側光硬化型透明接着剤層２１を介して貼り合わせた後、対向側ラミネートフィルム１９から紫外線（又は可視光）Ｂ２を照射して対向側光硬化型透明接着剤層２１を硬化させる（フィルム貼合工程、接着剤層硬化工程：図２（ｈ）参照）。
（１０）対向側ラミネートフィルム１９の反対向側フィルム基板７側のフィルム面に、光学機能層としてのＣＦ２３をフォトリソグラフィ法や印刷法等公知の方法にて形成し、反対向側フィルム基板７側とＴＦＴ側フィルム基板５（ＴＦＴ基板５′）側に偏光板を貼り合わせ、ＴＦＴ側フィルム基板５（ＴＦＴ基板５′）側にドライバチップやバックライト等を組み付けて完成品としての液晶ディスプレイ１を作製する（ＣＦ形成工程、液晶ディスプレイ作製工程：図２（ｈ），（ｉ）参照）。

　このようにして作製された液晶ディスプレイ１では、ＴＦＴ側フィルム基板５（ＴＦＴ基板５′）をＴＦＴ側ラミネートフィルム１５で、対向側フィルム基板７（対向基板７′）を対向側ラミネートフィルム１９でそれぞれ補強しているので、ＴＦＴ側フィルム基板５（ＴＦＴ基板５′）及び対向側フィルム基板７（対向基板７′）に熱変形等による反り発生をなくし、ＴＦＴ層に使用されるゲート絶縁膜等の無機膜の割れを防止することができ、さらにはＴＦＴ側フィルム基板５及び対向側フィルム基板７と配向膜等の隣接層との接合面に剥がれも生じ難くすることができ、機能層としてのＣＦ２３を最表面に有する高信頼性の液晶ディスプレイ１とすることができる。

　また、ＴＦＴ側フィルム基板５にＴＦＴ側ラミネートフィルム１５をＴＦＴ側光硬化型透明接着剤層１７を介して貼り合わせているとともに、対向側フィルム基板７に対向側ラミネートフィルム１９を対向側光硬化型透明接着剤層２１を介して貼り合わせているので、光硬化型透明接着剤の材質特性により反り防止と曲げ時の信頼性とを確保することができる。

　さらに、上記ＴＦＴ側光硬化型透明接着剤層１７及び対向側光硬化型透明接着剤層２１を、硬化後の弾性率が室温（２５℃）で１００ＭＰａ～２ＧＰａ、使用時の環境温度６０℃～７０℃で４０ＭＰａ以上としているので、ＴＦＴ側フィルム基板５（ＴＦＴ基板５′）及び対向側フィルム基板７（対向基板７′）の反りを効果的に抑制することができ、ＴＦＴ側フィルム基板５（ＴＦＴ基板５′）及び対向側フィルム基板７（対向基板７′）の曲げ時の信頼性を向上させることができる。

　さらにまた、ＴＦＴ側ラミネートフィルム１５のＴＦＴ側フィルム基板５への貼り合わせ、及び対向側ラミネートフィルム１９の対向側フィルム基板７への貼り合わせを真空雰囲気中で行っているので、ＴＦＴ側ラミネートフィルム１５及び対向側ラミネートフィルム１９とＴＦＴ側フィルム基板５及び対向側フィルム基板７との材質の違いによる貼付け強度低下を防止して、ＴＦＴ側ラミネートフィルム１５をＴＦＴ側フィルム基板５に、対向側ラミネートフィルム１９対向側フィルム基板７にそれぞれ確実に貼り合わせることができる。

　（実施形態２）
　図３は実施形態２に係るフレキシブルディスプレイとしての液晶ディスプレイ１を示す。

　この実施形態２では、図示しないが、ＣＦは液晶パネル３の対向基板７′に形成されている。また、対向側ラミネートフィルム１９の反対向側フィルム基板７側のフィルム面に、光学機能層としての３Ｄフィルム（3-Dimentional Film）２９をホットメルト接着剤層（図示せず）を介して貼り合わせている。そのほかは、実施形態１と同様に構成されているので、同一の構成要素には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。

　したがって、この実施形態２では、実施形態１で述べた効果に加えて、画像の立体表示を発現できる液晶ディスプレイ１とすることができる。

　（実施形態３）
　図４は実施形態３に係るフレキシブルディスプレイとしての液晶ディスプレイ１を示す。

　この実施形態３では、図示しないが、実施形態２と同様に、ＣＦは液晶パネル３の対向基板７′に形成されている。また、対向側ラミネートフィルム１９の反対向側フィルム基板７側のフィルム面に、センサ機能層としての投影型静電容量式のタッチパネル３１を高周波スパッタリング法（Radio Frequency Sputtering）により形成している。図４中、２１ａ，３１ｂはそれぞれ電極を表す。そのほかは、実施形態１と同様に構成されているので、同一の構成要素には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。

　したがって、この実施形態３では、実施形態１で述べた効果に加えて、タッチパネル機能を発現できる液晶ディスプレイ１とすることができる。

　（実施形態４）
　図５は実施形態４に係るフレキシブルディスプレイとしての液晶ディスプレイ１を示す。

　この実施形態４では、図示しないが、実施形態２と同様に、ＣＦは液晶パネル３の対向基板７′に形成されている。また、ＴＦＴ側光硬化型透明接着剤層１７とＴＦＴ側ラミネートフィルム１５との間、及び対向側光硬化型透明接着剤層２１と対向側ラミネートフィルム１９との間にガスバリア機能層３３がそれぞれ介在している。このガスバリア機能層３３は、ＴＦＴ側ラミネートフィルム１５及び対向側ラミネートフィルム１９に高周波スパッタリング法により形成している。ガスバリア機能層３３としては、水や酸素ガスにバリア性を有するものであり、例えば酸化シリコン系、酸窒化シリコン系、酸化アルミナ系又は酸化チタン系の材料からなる無機膜、又は該無機膜とポリビニルアルコール系、ポリ塩化ビニリデン系、アクリルニトリル系、アクリル酸系又はナイロン系の材料からなる有機膜との積層膜が挙げられる。そのほかは、実施形態１と同様に構成されているので、同一の構成要素には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。

　したがって、この実施形態４では、実施形態１で述べた効果に加えて、ガスバリア性の発現により液晶パネル３の保護を図ることができる液晶ディスプレイ１とすることができる。

　（実施形態５）
　図６は実施形態５に係るフレキシブルディスプレイとしての液晶ディスプレイ１を示す。

　この実施形態５では、実施形態１と実施形態３とを組み合わせたものである。つまり、対向側ラミネートフィルム１９の反対向側フィルム基板７側のフィルム面に、センサ機能層としての投影型静電容量式のタッチパネル３１が形成され、その上に光学機能層としてのＣＦ２３が形成されている。そのほかは、実施形態１と同様に構成されているので、同一の構成要素には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。

　したがって、この実施形態５では、実施形態１で述べた効果に加えて、実施形態３のタッチパネル機能をも発現できる液晶ディスプレイ１とすることができる。

　（実施形態６）
　図７は実施形態６に係るフレキシブルディスプレイとしての液晶ディスプレイ１を示す。

　この実施形態６では、実施形態３と実施形態４とを組み合わせたものである。つまり、ＴＦＴ側光硬化型透明接着剤層１７とＴＦＴ側ラミネートフィルム１５との間、及び対向側光硬化型透明接着剤層２１と対向側ラミネートフィルム１９との間にガスバリア機能層３３がそれぞれ介在している。さらに、対向側ラミネートフィルム１９の反対向側フィルム基板７側のフィルム面に、センサ機能層としての投影型静電容量式のタッチパネル３１が形成されている。そのほかは、実施形態１と同様に構成されているので、同一の構成要素には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。

　したがって、この実施形態６では、実施形態１で述べた効果に加えて、実施形態３のタッチパネル機能及び実施形態４のガスバリア機能をも発現できる液晶ディスプレイ１とすることができる。

　（実施形態７）
　図８は実施形態７に係るフレキシブルディスプレイとしての液晶ディスプレイ１を示す。

　この実施形態７では、実施形態１にガスバリア機能層３３を２層組み合わせたものである。つまり、実施形態１において、対向側ラミネートフィルム１９とＣＦ２３との間、及びＴＦＴ側ラミネートフィルム１５の反ＴＦＴ基板５′側のフィルム面にガスバリア機能層３３がそれぞれ形成されている。そのほかは、実施形態１と同様に構成されているので、同一の構成要素には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。

　したがって、この実施形態７では、実施形態１で述べた効果に加えて、ガスバリア機能をも発現できる液晶ディスプレイ１とすることができる。

　（実施形態８）
　図９は実施形態８に係るフレキシブルディスプレイとしての液晶ディスプレイ１を示す。

　この実施形態８では、実施形態１にセンサ機能層としての投影型静電容量式のタッチパネル３１を形成したものである。つまり、実施形態１において、対向側ラミネートフィルム１９の反対向基板７′基板側のフィルム面にタッチパネル３１が形成され、その上に光硬化型透明接着剤層３５を介してラミネートフィルム３７を貼り合わせ、さらに、その上にＣＦ２３が形成されている。そのほかは、実施形態１と同様に構成されているので、同一の構成要素には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。

　したがって、この実施形態８では、実施形態１で述べた効果に加えて、センサ機能層をも発現できる液晶ディスプレイ１とすることができる。

　なお、上記の各実施形態では、光学機能層として、ＣＦ２３を例示したが、ＡＲフィルム（Anti-Reflection Film）、ＡＧフィルム（Anti-Glare Film）、位相差フィルム（Retardation Film）又は偏光フィルム（Polarizing Film）を採用することもできる。また、センサ機能層として、投影型静電容量式のタッチパネル３１を例示したが、表面型静電容量式又は感圧式のタッチパネルを採用することもできる。また、光学機能層、センサ機能層及びガスバリア機能層の組み合わせも自在に適用することができる。

　さらに、実施形態１で説明した液晶ディスプレイ１の製造方法は、一例であり、機能層形成工程は、フィルム貼合工程前後のいずれに行ってもよく、接着剤層硬化工程も、フィルム貼合工程と併行又はフィルム貼合工程後でかつ機能層形成工程後に行ってもよい。

　また、上記の各実施形態では、フレキシブルディスプレイとして、発光素子が液晶素子である液晶ディスプレイ１を例示したが、発光素子が有機ＥＬ（Electro Luminescence）素子である有機ＥＬディスプレイや、発素素子が電気泳動素子である電気泳動ディスプレイにも適用することができる。

　この発明は、薄膜でありながら機能層を複数形成可能でかつ品質の優れた液晶ディスプレイ等のフレキシブルディスプレイ及びその製造方法として有用である。

１　　液晶ディスプレイ（フレキシブルディスプレイ）
３　　液晶パネル（表示パネル）
５　　ＴＦＴ側フィルム基板（フレキシブルフィルム基板）
７　　対向側フィルム基板（フレキシブルフィルム基板）
１５　ＴＦＴ側ラミネートフィルム
１７　ＴＦＴ側光硬化型透明接着剤層
１９　対向側ラミネートフィルム
２１　対向側光硬化型透明接着剤層
２３　ＣＦ（光学機能層）
２９　３Ｄフィルム（光学機能層）
３１　タッチパネル（センサ機能層）
３３　ガスバリア機能層

Claims

　樹脂製フレキシブルフィルム基板と発光素子とを備えた表示パネルの上記フレキシブルフィルム基板に、ラミネートフィルムが光硬化型透明接着剤層を介して貼り合わされ、
　該ラミネートフィルムの上記フレキシブルフィルム基板側及び反フレキシブルフィルム基板側の少なくとも一方のフィルム面に、光学機能層、センサ機能層及びガスバリア機能層のうち１つ以上の機能層が形成されていることを特徴とするフレキシブルディスプレイ。
　請求項１に記載のフレキシブルディスプレイにおいて、
　上記フレキシブルフィルム基板は、ポリイミドからなることを特徴とするフレキシブルディスプレイ。
　請求項１に記載のフレキシブルディスプレイにおいて、
　上記ラミネートフィルムは、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート又はシクロオレフィンポリマーからなることを特徴とするフレキシブルディスプレイ。
　請求項１に記載のフレキシブルディスプレイにおいて、
　上記光硬化型透明接着剤層は、アクリレート系又はエポキシ系の光硬化型透明接着剤からなることを特徴とするフレキシブルディスプレイ。
　請求項４に記載のフレキシブルディスプレイにおいて、
　上記光硬化型透明接着剤層は、硬化後の弾性率が室温（２５℃）で１００ＭＰａ～２ＧＰａ、使用時の環境温度６０℃～７０℃で４０ＭＰａ以上であることを特徴とするフレキシブルディスプレイ。
　請求項１に記載のフレキシブルディスプレイにおいて、
　上記光学機能層は、カラーフィルタ（ＣＦ）、ＡＲフィルム（Anti-Reflection Film）、ＡＧフィルム（Anti-Glare Film）、位相差フィルム（Retardation Film）、偏光フィルム（Polarizing Film）又は３Ｄフィルム（3-Dimentional Film）からなることを特徴とするフレキシブルディスプレイ。
　請求項１に記載のフレキシブルディスプレイにおいて、
　上記センサ機能層は、静電容量式又は感圧式のタッチパネルからなることを特徴とするフレキシブルディスプレイ。
　請求項１に記載のフレキシブルディスプレイにおいて、
　上記ガスバリア機能層は、酸化シリコン系、酸窒化シリコン系、酸化アルミナ系又は酸化チタン系の材料からなる無機膜、又は該無機膜とポリビニルアルコール系、ポリ塩化ビニリデン系、アクリルニトリル系、アクリル酸系又はナイロン系の材料からなる有機膜との積層膜からなることを特徴とするフレキシブルディスプレイ。
　請求項１に記載のフレキシブルディスプレイにおいて、
　上記発光素子は、液晶素子、有機ＥＬ（Electro Luminescence）素子又は電気泳動素子であることを特徴とするフレキシブルディスプレイ。
　樹脂製フレキシブルフィルム基板と発光素子とを備えた表示パネルの上記フレキシブルフィルム基板に、光硬化型透明接着剤層を形成する接着剤層形成工程と、
　該接着剤層形成工程後に行われ、ラミネートフィルムを上記フレキシブルフィルム基板に真空雰囲気中で光硬化型透明接着剤層を介して貼り合わせるフィルム貼合工程と、
　該フィルム貼合工程後又はフィルム貼合工程前に行われ、上記ラミネートフィルムの上記フレキシブルフィルム基板側及び反フレキシブルフィルム基板側の少なくとも一方のフィルム面に、光学機能層、センサ機能層及びガスバリア機能層のうち１つ以上の機能層を形成する機能層形成工程と、
　上記フィルム貼合工程と併行又はフィルム貼合工程後でかつ機能層形成工程後に行われ、上記光硬化型透明接着剤層を光照射により硬化させる接着剤層硬化工程とを備えることを特徴とするフレキシブルディスプレイの製造方法。