JP6173303B2 - レーザ光源装置及びレーザ光源装置の製造方法 - Google Patents
レーザ光源装置及びレーザ光源装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6173303B2 JP6173303B2 JP2014507674A JP2014507674A JP6173303B2 JP 6173303 B2 JP6173303 B2 JP 6173303B2 JP 2014507674 A JP2014507674 A JP 2014507674A JP 2014507674 A JP2014507674 A JP 2014507674A JP 6173303 B2 JP6173303 B2 JP 6173303B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser light
- optical element
- laser
- light source
- source device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 29
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 166
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 67
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 64
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 64
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 64
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 49
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims description 19
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 33
- 230000008569 process Effects 0.000 description 19
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 3
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 3
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000003550 marker Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 230000000191 radiation effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 1
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/022—Mountings; Housings
- H01S5/023—Mount members, e.g. sub-mount members
- H01S5/02325—Mechanically integrated components on mount members or optical micro-benches
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K1/00—Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
- B23K1/0008—Soldering, e.g. brazing, or unsoldering specially adapted for particular articles or work
- B23K1/0016—Brazing of electronic components
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K31/00—Processes relevant to this subclass, specially adapted for particular articles or purposes, but not covered by only one of the preceding main groups
- B23K31/02—Processes relevant to this subclass, specially adapted for particular articles or purposes, but not covered by only one of the preceding main groups relating to soldering or welding
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/10—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void
- G01J1/20—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void intensity of the measured or reference value being varied to equalise their effects at the detectors, e.g. by varying incidence angle
- G01J1/28—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void intensity of the measured or reference value being varied to equalise their effects at the detectors, e.g. by varying incidence angle using variation of intensity or distance of source
- G01J1/30—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void intensity of the measured or reference value being varied to equalise their effects at the detectors, e.g. by varying incidence angle using variation of intensity or distance of source using electric radiation detectors
- G01J1/32—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void intensity of the measured or reference value being varied to equalise their effects at the detectors, e.g. by varying incidence angle using variation of intensity or distance of source using electric radiation detectors adapted for automatic variation of the measured or reference value
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0004—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed
- G02B19/0019—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having reflective surfaces only (e.g. louvre systems, systems with multiple planar reflectors)
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0004—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed
- G02B19/0028—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed refractive and reflective surfaces, e.g. non-imaging catadioptric systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/1006—Beam splitting or combining systems for splitting or combining different wavelengths
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/14—Beam splitting or combining systems operating by reflection only
- G02B27/141—Beam splitting or combining systems operating by reflection only using dichroic mirrors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/022—Mountings; Housings
- H01S5/0225—Out-coupling of light
- H01S5/02255—Out-coupling of light using beam deflecting elements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
- H01S5/4025—Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
- H01S5/4025—Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
- H01S5/4087—Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar emitting more than one wavelength
- H01S5/4093—Red, green and blue [RGB] generated directly by laser action or by a combination of laser action with nonlinear frequency conversion
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K13/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or adjusting assemblages of electric components
- H05K13/04—Mounting of components, e.g. of leadless components
- H05K13/046—Surface mounting
- H05K13/0465—Surface mounting by soldering
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/303—Surface mounted components, e.g. affixing before soldering, aligning means, spacing means
Description
1.熱膨張係数差の残留応力による部品破壊が発生しない。
2.部品に対する熱ストレスがなく部品の機能劣化が生じない。
3.無加熱および固相接合であるため、実装時の位置ずれが生じない。
4.他部品への熱影響が生じない。
5.原子の直接接合であるため、接合層の経時劣化が生じない。
Claims (5)
- レーザ光源装置の製造方法であって、
シリコン基板に、厚み方向の段差によって第1の平面と前記第1の平面より低い位置に第2の平面を形成し、
前記第1の平面上にAuから構成されるマイクロバンプ構造を有する第1の接合部を形成し、
前記第2の平面上にAuから構成されるマイクロバンプ構造を有する第2の接合部を形成し、
前記第1の接合部に表面活性化接合技術により、レーザ光を出射する第1の光素子及び第2の光素子を接合し、
前記第2の接合部に表面活性化接合技術により、前記第2の光素子からのレーザ光を直接受光し、前記第1の光素子からのレーザ光及び前記第2の光素子からのレーザ光を合波する合波器を接合し、
前記第1の光素子、前記第2の光素子及び前記合波器を、前記第1及び第2の接合部を介して前記シリコン基板に接合後に、前記第1及び第2の光素子からレーザ光を出射させて、前記第1の光素子からのレーザ光と前記第2の光素子からのレーザ光の光路が重なるように、前記第1の光素子からのレーザ光を前記合波器へ向けて反射する反射部材の位置を調整し、
前記第2の接合部に表面活性化接合技術により、調整された位置に、前記反射部材を接合する、工程を有し、
前記第1の光素子及び前記反射部材の間の距離と、前記第2の光素子及び前記合波器の間の距離とを異ならせることによって、前記第1の光素子から前記合波器までの光路長と前記第2の光素子から前記合波器までの光路長とが等しくなるように設定されている、
ことを特徴とするレーザ光源装置の製造方法。 - レーザ光を出射する第3の光素子、及び前記合波器によって合波された前記第1の光素子からのレーザ光及び前記第2の光素子からのレーザ光と前記第3の光素子からのレーザ光とを合波する第2の合波器を更に有し、
前記反射部材の位置を調整する工程では、前記合波器によって合波された前記第1の光素子からのレーザ光及び前記第2の光素子からのレーザ光と、前記第3の光素子からのレーザ光との光路が重なるように、前記反射部材の位置を調整する、請求項1に記載のレーザ光源装置の製造方法。 - 前記シリコン基板の前記厚み方向の段差は、前記第1の平面の水平方向において、階段状に形成され、前記第1及び第2の光素子は、前記厚み方向の段差の階段状に形成された端面に配置されている、請求項1に記載のレーザ光源装置の製造方法。
- 前記第1及び第2の光素子はレーザ素子であり、前記合波器はダイクロイックミラープリズムである、請求項1に記載のレーザ光源装置の製造方法。
- 前記第1及び第2の光素子を駆動する駆動ICを前記シリコン基板上に搭載する、工程を更に有する、請求項1に記載のレーザ光源装置の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012069467 | 2012-03-26 | ||
JP2012069467 | 2012-03-26 | ||
PCT/JP2013/057264 WO2013146313A1 (ja) | 2012-03-26 | 2013-03-14 | レーザ光源装置及びレーザ光源装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2013146313A1 JPWO2013146313A1 (ja) | 2015-12-10 |
JP6173303B2 true JP6173303B2 (ja) | 2017-08-02 |
Family
ID=49259576
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014507674A Active JP6173303B2 (ja) | 2012-03-26 | 2013-03-14 | レーザ光源装置及びレーザ光源装置の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9142936B2 (ja) |
JP (1) | JP6173303B2 (ja) |
CN (1) | CN104221233B (ja) |
WO (1) | WO2013146313A1 (ja) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6097253B2 (ja) | 2014-07-02 | 2017-03-15 | 住友電気工業株式会社 | 三色光光源 |
JP6340999B2 (ja) * | 2014-08-26 | 2018-06-13 | 住友電気工業株式会社 | 光アセンブリ |
JP6624899B2 (ja) * | 2015-11-18 | 2019-12-25 | 住友電気工業株式会社 | 光モジュール及び光モジュールの製造方法 |
US10333270B2 (en) | 2015-11-18 | 2019-06-25 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical module and method for manufacturing the optical module |
CN105576496A (zh) * | 2015-11-25 | 2016-05-11 | 全普光电科技(上海)有限公司 | 激光模块及激光束生成方法 |
KR101795218B1 (ko) * | 2016-03-07 | 2017-11-08 | 현대자동차주식회사 | 차량용 조명 장치 |
KR101822259B1 (ko) * | 2016-03-09 | 2018-01-26 | 현대자동차주식회사 | 차량용 조명 장치 |
WO2017188097A1 (ja) * | 2016-04-25 | 2017-11-02 | 住友電気工業株式会社 | 光モジュール |
DE202017003048U1 (de) * | 2016-06-10 | 2017-09-13 | ChiSquare Bioimaging LLC | Optischer Kaskaden-Strahlteiler |
CN109417268A (zh) * | 2016-06-29 | 2019-03-01 | 夏普株式会社 | 光模块 |
WO2018034055A1 (ja) * | 2016-08-19 | 2018-02-22 | ソニー株式会社 | 光源モジュールおよび光源モジュールの製造方法ならびに投射型表示装置 |
CN107121782A (zh) * | 2017-05-26 | 2017-09-01 | 武汉光迅科技股份有限公司 | 一种紧凑型多波长光组件及其使用方法 |
JP6958122B2 (ja) * | 2017-08-29 | 2021-11-02 | 住友電気工業株式会社 | 光モジュール |
CN111095698B (zh) * | 2017-09-19 | 2021-12-28 | 京瓷株式会社 | 发光元件收纳用构件、阵列构件及发光装置 |
JP7332960B2 (ja) * | 2018-10-23 | 2023-08-24 | 日亜化学工業株式会社 | 偏光制御部材及び発光装置 |
CN111404020B (zh) * | 2020-03-30 | 2022-03-08 | 成都英思嘉半导体技术有限公司 | 一种激光二极管芯片安装基板 |
JP2022051125A (ja) | 2020-09-18 | 2022-03-31 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
CN114578574A (zh) * | 2020-12-01 | 2022-06-03 | 深圳市中光工业技术研究院 | 光源装置 |
WO2022153643A1 (ja) * | 2021-01-18 | 2022-07-21 | 住友電気工業株式会社 | 光モジュール |
CN113540291B (zh) * | 2021-07-15 | 2023-03-14 | 浙江爱旭太阳能科技有限公司 | 两端钙钛矿叠层电池的制作方法以及两端钙钛矿叠层电池 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5768098A (en) * | 1980-10-16 | 1982-04-26 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor laser synthesizer |
JPH04111381A (ja) * | 1990-08-30 | 1992-04-13 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体レーザ装置 |
JP3219172B2 (ja) * | 1993-08-27 | 2001-10-15 | ソニー株式会社 | 合波装置 |
JP2002203329A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-19 | Sankyo Seiki Mfg Co Ltd | レーザ光源装置、レーザ光源装置における光軸調整方法、および光ヘッド装置 |
JP2003198031A (ja) * | 2001-12-26 | 2003-07-11 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 発光モジュールおよび光増幅器 |
JP4129733B2 (ja) * | 2003-02-10 | 2008-08-06 | 株式会社リコー | 半導体レーザモジュール、ホログラムレーザユニット、光ピックアップ装置及び光ディスク装置 |
JP2006108547A (ja) | 2004-10-08 | 2006-04-20 | Fujikura Ltd | 光モジュール |
WO2007023916A1 (ja) | 2005-08-26 | 2007-03-01 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 投写型ディスプレイ装置 |
JP2007135123A (ja) * | 2005-11-14 | 2007-05-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光空間伝送装置及び光空間伝送方法 |
CN201017148Y (zh) * | 2006-09-07 | 2008-02-06 | 福州高意通讯有限公司 | 一种合束光学结构 |
DE102007009820A1 (de) * | 2007-02-28 | 2008-09-04 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optische Anordnung und optisches Verfahren |
JP5281923B2 (ja) * | 2009-02-26 | 2013-09-04 | 株式会社日立製作所 | 投射型表示装置 |
JP2011028099A (ja) * | 2009-07-28 | 2011-02-10 | Sanyo Electric Co Ltd | 投写型映像表示装置 |
WO2011040290A1 (ja) * | 2009-10-01 | 2011-04-07 | アルプス電気株式会社 | 発光装置及びその製造方法 |
WO2011048667A1 (ja) * | 2009-10-20 | 2011-04-28 | パイオニア株式会社 | レーザ光源ユニットおよびそのレーザ光源ユニットを備えた画像表示装置並びにレーザ光源ユニットの製造方法 |
JP2011109002A (ja) * | 2009-11-20 | 2011-06-02 | Citizen Holdings Co Ltd | 集積デバイスおよび集積デバイスの製造方法 |
JP5449041B2 (ja) * | 2010-06-09 | 2014-03-19 | シチズンホールディングス株式会社 | 光デバイスの製造方法 |
WO2012014798A1 (ja) * | 2010-07-30 | 2012-02-02 | ソニー株式会社 | 光源ユニット、照明装置および表示装置 |
JP5095797B2 (ja) * | 2010-10-12 | 2012-12-12 | パイオニア株式会社 | レーザ光源ユニットおよびそのレーザ光源ユニットを備えた画像表示装置 |
-
2013
- 2013-03-14 CN CN201380017146.0A patent/CN104221233B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2013-03-14 US US14/386,818 patent/US9142936B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2013-03-14 JP JP2014507674A patent/JP6173303B2/ja active Active
- 2013-03-14 WO PCT/JP2013/057264 patent/WO2013146313A1/ja active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN104221233A (zh) | 2014-12-17 |
US20150048147A1 (en) | 2015-02-19 |
US9142936B2 (en) | 2015-09-22 |
JPWO2013146313A1 (ja) | 2015-12-10 |
WO2013146313A1 (ja) | 2013-10-03 |
CN104221233B (zh) | 2017-04-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6173303B2 (ja) | レーザ光源装置及びレーザ光源装置の製造方法 | |
US10168019B2 (en) | Illumination unit, projection display unit, and direct-view display unit | |
US8905554B2 (en) | Illumination unit having a plurality of light sources including a light source emitting two or more different wavelengths | |
JP5335873B2 (ja) | レーザ光源モジュールおよびそれを備えた走査型画像表示装置 | |
EP3541069B1 (en) | Illumination unit | |
JP6680051B2 (ja) | 光源装置、光源装置の製造方法およびプロジェクター | |
TW202215559A (zh) | 經由脈衝雷射選擇性地接合發光裝置 | |
WO2016185850A1 (ja) | 光変換装置および光源装置、ならびにプロジェクタ | |
JP6880855B2 (ja) | 光源装置およびプロジェクター | |
WO2018034055A1 (ja) | 光源モジュールおよび光源モジュールの製造方法ならびに投射型表示装置 | |
JP2017139444A (ja) | 光源装置、光源装置の製造方法およびプロジェクター | |
US10976651B2 (en) | Image display apparatus and light source apparatus | |
JP7110851B2 (ja) | 光源装置およびプロジェクター | |
JP6485002B2 (ja) | 光源装置 | |
WO2018020850A1 (ja) | 合成光学系ユニットおよびプロジェクタ | |
JP2017211569A (ja) | 光源装置、プロジェクター、および光源装置の製造方法 | |
JP6504142B2 (ja) | 光アセンブリ | |
US11281080B2 (en) | Light source device and projector | |
JP6870215B2 (ja) | 光源装置及びプロジェクター | |
JP2009043766A (ja) | 光源装置およびその製造方法、プロジェクタ、モニター装置 | |
JP2008300488A (ja) | 光源装置、プロジェクタ、モニタ装置 | |
JP6759714B2 (ja) | 光源装置およびプロジェクター | |
JP2011191484A (ja) | レーザー光源 | |
JP2012064719A (ja) | 光源装置、ディスプレイ装置 | |
JP2006153922A (ja) | 光源装置及びその製造方法、並びにプロジェクタ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151202 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170110 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170208 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170606 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170704 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6173303 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |