JP6161149B2 - 金属被覆部材の製造方法およびその真空製造装置 - Google Patents
金属被覆部材の製造方法およびその真空製造装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6161149B2 JP6161149B2 JP2013049470A JP2013049470A JP6161149B2 JP 6161149 B2 JP6161149 B2 JP 6161149B2 JP 2013049470 A JP2013049470 A JP 2013049470A JP 2013049470 A JP2013049470 A JP 2013049470A JP 6161149 B2 JP6161149 B2 JP 6161149B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal
- vacuum
- film
- forming
- plasma
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Description
アンダーコート層102としては、樹脂塗料を塗布した樹脂層(特許文献1)や、HMDS(ヘキサメチルジシロキサン)を原料ガスとしてプラズマCVD法で形成した酸化シリコン膜(特許文献2)が用いられる。保護膜104は、塗装膜(特許文献1)や、HMDSを原料ガスとしてプラズマCVD法で形成したはっ水性重合体膜(酸化シリコン膜)(特許文献2)が用いられる。また、特許文献2の技術では、アンダーコート層102の表面をアルゴンガスを用いたボンバード処理して活性化処理層を形成し、保護膜(はっ水性重合体膜)の表面をボンバード処理して親水処理層を形成している。
前記樹脂カバーとハウジングとで区画された空間内に配置した光源および樹脂基材上に金属反射膜を形成した金属被覆部材とを備えた照明装置に用いる前記金属被覆部材の製造方法であって、
3次元形状に形成した樹脂基材を用意する工程と、
前記樹脂基材を真空装置内に設置して、真空に排気する工程と、
真空に排気した真空装置内にニトロ化合物を導入し、減圧化で前記ニトロ化合物のプラズマ放電に前記樹脂基材を曝す金属反射膜形成前プラズマ処理工程と、
前記樹脂基材の上に、真空雰囲気で金属膜を成膜する金属膜形成工程と、
前記金属膜の上に、真空雰囲気で保護膜を形成する保護膜形成工程とを、
順に行い、
前記金属反射膜形成前プラズマ処理工程が、高周波プラズマを用いたプラズマ放電を使用し、
前記金属膜形成工程が、前記ニトロエタンのプラズマを停止させた後に、真空状態を保ったまま蒸着法またはスパッタ法を用いて金属膜を成膜する工程であり、
前記保護膜形成工程が、前記金属膜の成膜を停止させた後に、真空状態を保ったまま高周波プラズマによる重合法を用いて重合膜を形成する工程であることを特徴とする。
前記保護膜形成工程の後に、さらに同じ真空装置内において真空雰囲気を保ったまま前記保護膜をプラズマ放電にさらして親水化する処理を行う親水化処理工程を、行うことを特徴とする請求項1に記載の金属被覆部材の製造方法、である。
透光性の樹脂カバーと、前記樹脂カバーと接合するハウジングと、
前記樹脂カバーとハウジングとで区画された空間内に配置した光源および樹脂基材上に金属反射膜を形成した金属被覆部材とを備えた照明装置に用いる前記金属被覆部材の製造装置において、
3次元形状に形成した樹脂基材を用意する工程と、
前記樹脂基材を真空装置内に設置して、真空に排気する工程と、
真空に排気した真空装置内にニトロ化合物を導入し、減圧化で前記ニトロ化合物のプラズマ放電に前記樹脂基材を曝す金属反射膜形成前プラズマ処理工程と、
前記樹脂基材の上に、真空雰囲気で金属膜を成膜する金属膜形成工程と、
前記金属膜の上に、真空雰囲気で保護膜を形成する保護膜形成工程とを、
順に行う金属被覆部材の製造方法を実施するものとされ、
前記樹脂基材を真空装置内に設置して、真空に排気する工程を行う第1の処理室と、
前記第1の処理室とゲートバルブを介して接続され、ニトロエタンの導入口とプラズマ放電用電極を備えた前記金属反射膜形成前プラズマ処理工程を行う第2の処理室と、
前記第2の処理室とゲートバルブを介して接続され、前記樹脂基材の上にスパッタ法または真空蒸着法にて金属膜を成膜する工程を行う第3の処理室と、
前記第3の処理室とゲートバルブを介して接続され、保護膜材料ガスの導入口とプラズマ放電用電極を備え、前記金属膜の上に当該プラズマ放電用電極により形成したプラズマ雰囲気下で前記保護膜形成工程を行う第4の処理室とを、有し、
前記樹脂基材を第1の処理室、第2の処理室、第3の処理室および第4の処理室の順に順次移動させる運搬機構と、
前記第2の処理室、第3の処理室および第4の処理室において、それぞれの工程を同時に実施可能に制御する制御機構を備えることを特徴とする真空製造装置、である。
透光性の樹脂カバーと、前記樹脂カバーと接合するハウジングと、
前記樹脂カバーとハウジングとで区画された空間内に配置した光源および樹脂基材上に金属反射膜を形成した金属被覆部材とを備えた照明装置に用いる前記金属被覆部材の製造装置において、
3次元形状に形成した樹脂基材を用意する工程と、
前記樹脂基材を真空装置内に設置して、真空に排気する工程と、
真空に排気した真空装置内にニトロ化合物を導入し、減圧化で前記ニトロ化合物のプラズマ放電に前記樹脂基材を曝す金属反射膜形成前プラズマ処理工程と、
前記樹脂基材の上に、真空雰囲気で金属膜を成膜する金属膜形成工程と、
前記金属膜の上に、真空雰囲気で保護膜を形成する保護膜形成工程とを、
順に行う金属被覆部材の製造方法を実施するものとされ、
真空に排気する排気装置が接続された真空装置と、
前記真空装置内に設けられた樹脂基材を設置する基材支持部と、
前記真空装置内に、ニトロエタンの導入口とプラズマ放電用電極を備えた前記金属反射膜形成前プラズマ処理工程を行う処理部と、
スパッタ法または真空蒸着法にて金属膜を成膜する工程を行う処理部と、
保護膜材料ガスの導入口とプラズマ放電用電極を備え、当該プラズマ放電用電極により形成したプラズマ雰囲気下で前記保護膜形成工程を行う処理部とを、有し、
前記金属反射膜形成前プラズマ処理工程を行う処理部、前記金属膜を成膜する工程を行う処理部および前記保護膜形成工程を行う処理部の順に前記樹脂基材を相対的に移動させる移動機構とを備えることを特徴とする真空製造装置、である。
最初に図4に示すステップS1において、基材21となる樹脂材料を用いてリフレクタ形状を射出成形にて形成したリフレクタ基材を用意する。リフレクタの形状は、所望の配光特性に合わせた凹面鏡とする。例えば光源30の位置に焦点を有する回転放物面形状に射出成形を行うと、3次元形状に形成され、光源30から出射した光を平行光線として照射方向前方に向けて反射することができる。基材21の材質としては、PPS(Polyphenylenesulfide)、BMC(Bulk Molding Compound)、PET/PBT(Polyethylene Terephthalate / Polybutylene Terephthalate)、PC(polycarbonate)などを好適に用いることができる。
次にステップS1で成形したリフレクタ基材21を図示しない射出成型機から取り出した後、ステップS2からステップS8のステップを行う成膜装置70に設置する。成膜装置70としては枚葉式の成膜装置でも、インライン式の成膜装置でも良い。インライン式の成膜装置の場合には連続処理を行うことができ生産性を高めることができる。
次にステップS3で排気装置72にて真空チャンバー71内を排気する。処理室R1内の図示しない支持ホルダにセットした後に処理室R1内の排気を実施する。なお、各室内の排気を個別に行う際には、ゲートバルブ78を閉めた状態とし隣り合う処理室から独立して真空度を制御可能としている。
所定の減圧状態に到達した後に、処理室R1と処理室R2の間のゲートバルブ78を開いてリフレクタ基材21を処理室R2に移動する。ゲートバルブ78を閉めた後に、ガス供給部73よりニトロエタンガスを真空チャンバー71内に導入する。処理室R2における符号77がガス導入口である。また、図示しない高周波電源に接続した放電電極74を用いてプラズマ発生部76にニトロエタンガスのプラズマを発生させる。このニトロエタンガスプラズマ内により基材21の被成膜面を処理するステップS4を実施する。なお、プラズマ処理は所定の減圧雰囲気下で行い、所定の処理が終了後にニトロエタンガスの供給を停止する。
次し、ステップS5で金属膜の成膜形成を行う。具体的には、処理室R2でから処理室R3に真空状態を保ったままゲートバルブを開いて、金属膜の成膜を行うリフレクタ基材21を移動し、処理室R3にて金属膜の成膜を実施する。各処理室R2およびR3は各々の排気装置72にて真空チャンバー71内が排気されており、ステップS4とステップS5は連続して実施する。
次にステップS6として処理室R4にて保護膜形成を行う。処理室R3から処理室R4への基材21の移動は、処理室R2から処理室R3への移動に同期して、真空雰囲気を保ったまま同様に実施する。
次にガス供給部73より原料モノマーの供給のみを停止して、重合膜(保護膜)23の表面をプラズマ発生部76に生成したプラズマにて処理を行い重合膜23の表面を親水化する。ステップS7で行うプラズマ処理で用いるプラズマ生成のために、ステップS6で用いたキャリアガスや、真空チャンバー71内の残存ガスを用いることも可能である。好ましくはガス供給部よりアルゴンガスや酸素ガス等の重合膜23の親水化処理に適したガスを用いたプラズマを生成させて行うことが好ましい。
最後にし成膜が完了したリフレクタ20を処理室R5に移動してステップS8を行う。ステップS8は図示しない排気弁を閉めた後に処理室R5の真空チャンバー71内の圧力を大気圧に戻し、金属膜22および重合膜23が形成してある基材21(リフレクタ20)を取り出す。これにより、目的とする金属被覆部材が得られる。
一方、本実施形態の製造工程では、図4に示すように樹脂基材21の上に緩衝用の重合体膜を形成する工程(P2)が不要となっていることが分かる。
メンテナンス時間が短縮でき、生産効率が向上し、製造コストが低減できる。
ポリカーボネート(polycarbonate)樹脂を原料として、照明装置の光源位置に焦点を有する回転放物面の凹面を備えたパラボラ形状の基材21を射出成形により平均厚み2.0mmにて形成した。同一樹脂を用いて密着力測定用の平板基板(平均厚み2.0mm)も射出成形にて形成した。
実施例1のアルミニウム膜23成膜の前に行うニトロエタンのプラズマによる処理の条件を次のように変更した。他の工程および条件は実施例1と同様にして、実施例2のリフレクタを製造した。また、実施例1ではパラボラ形状の樹脂基材21と同じ樹脂製の平板基板を用いたが、以後の実施例および比較例では平板基板のみを用いて評価を実施した。
真空チャンバー71内にニトロエタンを導入し、10Paを保った状態で13.56MHzの高周波でプラズマ放電を生成させた。プラズマ生成時の入力電力は200W、プラズマ処理時間を実施例1の2倍の10秒とした。
実施例1のアルミニウム膜23成膜の前に行うニトロエタンのプラズマによる処理の条件を次のように変更した。他の工程および条件は実施例1と同様にして、実施例3のリフレクタを製造した。
真空チャンバー71内にニトロエタンを導入し、10Paを保った状態で13.56MHzの高周波でプラズマ放電を生成させた。プラズマ生成時の入力電力は200W、プラズマ処理時間を実施例1の3倍の15秒とした。
実施例1のアルミニウム膜23成膜の前に行うニトロエタンのプラズマによる処理の条件を次のように変更した。他の工程および条件は実施例1と同様にした。
真空チャンバー71内にアルゴンガスを導入し、10Paを保った状態で13.56MHzの高周波でプラズマ放電を生成させた。プラズマ生成時の入力電力は200W、プラズマ処理時間は実施例1と同じ5秒とした。
実施例1のアルミニウム膜23成膜の前に行う工程を次のように変更した。他の工程および条件は実施例1と同様にした。
緩衝用重合体膜形成工程は、原料ガスとしてHMDS(ヘキサメチルジシロキサン)を導入し、13.56MHzの高周波プラズマ放電を生成させて行うプラズマCVD法で厚さ約30nmの成膜した。プラズマ生成時の入力電力は200W、プラズマ処理時間は5秒とした。
アルゴンプラズマ処理工程は、10Paを保った状態で13.56MHzの高周波でプラズマ放電を生成させた。プラズマ生成時の入力電力は200W、プラズマ処理時間は実施例1と同じ5秒とした。
実施例1,2,3および比較例1,2の試料について密着力評価試験を行った。具体的には、平板基板に形成した被膜上からカッターで碁盤目に100等分の切れ目を入れ、その上からニチバン株式会社製のセロテープ(登録商標)を貼り、テープの剥離を行った。その際に碁盤目の全てのエリアにおいて金属膜および保護膜の剥離の無いものを○、金属膜および/または保護膜の剥離があったものを×として評価した。評価結果を表1に示す。
実施例1,2,3および比較例1,2のサンプルについて、350nm〜800nmの可視光域の反射率を調べた。その結果、いずれの試料も可視光域全体で85%以上の高い反射率を示した。この値から、実施例の試料はリフレクタとして十分な反射率であることが確認された。
実施例1のパロボラ形状の基材に成膜したサンプルについて、外観観察を実施した。白濁などの問題点のない均一な金属光沢色の反射鏡の外観を示した。また、光源をセットして照射配向の観察も実施した。設計したパラボラ形状に対応した配光が観察された。
20 リフレクタ
21 基材
22 金属膜
23 重合膜(保護膜)
30 光源(光源バルブ)
40 レンズカバー
50 ハウジング
60 灯室
70 成膜装置
71 真空チャンバー
72 排気装置(真空ポンプ)
73 ガス供給部
74 放電電極
75 金属材料供給部
76 プラズマ発生部
77 ガス導入口
78 ゲートバルブ
R1,R2,R3,R4,R5 処理室
Claims (4)
- 透光性の樹脂カバーと、前記樹脂カバーと接合するハウジングと、
前記樹脂カバーとハウジングとで区画された空間内に配置した光源および樹脂基材上に金属反射膜を形成した金属被覆部材とを備えた照明装置に用いる前記金属被覆部材の製造方法であって、
3次元形状に形成した樹脂基材を用意する工程と、
前記樹脂基材を真空装置内に設置して、真空に排気する工程と、
真空に排気した真空装置内にニトロ化合物を導入し、減圧化で前記ニトロ化合物のプラズマ放電に前記樹脂基材を曝す金属反射膜形成前プラズマ処理工程と、
前記樹脂基材の上に、真空雰囲気で金属膜を成膜する金属膜形成工程と、
前記金属膜の上に、真空雰囲気で保護膜を形成する保護膜形成工程とを、
順に行い、
前記金属反射膜形成前プラズマ処理工程が、高周波プラズマを用いたプラズマ放電を使用し、
前記金属膜形成工程が、前記ニトロエタンのプラズマを停止させた後に、真空状態を保ったまま蒸着法またはスパッタ法を用いて金属膜を成膜する工程であり、
前記保護膜形成工程が、前記金属膜の成膜を停止させた後に、真空状態を保ったまま高周波プラズマによる重合法を用いて重合膜を形成する工程であることを特徴とする金属被覆部材の製造方法。 - 前記保護膜形成工程の後に、さらに同じ真空装置内において真空雰囲気を保ったまま前記保護膜をプラズマ放電にさらして親水化する処理を行う親水化処理工程を、行うことを特徴とする請求項1に記載の金属被覆部材の製造方法。
- 透光性の樹脂カバーと、前記樹脂カバーと接合するハウジングと、
前記樹脂カバーとハウジングとで区画された空間内に配置した光源および樹脂基材上に金属反射膜を形成した金属被覆部材とを備えた照明装置に用いる前記金属被覆部材の製造装置において、
3次元形状に形成した樹脂基材を用意する工程と、
前記樹脂基材を真空装置内に設置して、真空に排気する工程と、
真空に排気した真空装置内にニトロ化合物を導入し、減圧化で前記ニトロ化合物のプラズマ放電に前記樹脂基材を曝す金属反射膜形成前プラズマ処理工程と、
前記樹脂基材の上に、真空雰囲気で金属膜を成膜する金属膜形成工程と、
前記金属膜の上に、真空雰囲気で保護膜を形成する保護膜形成工程とを、
順に行う金属被覆部材の製造方法を実施するものとされ、
前記樹脂基材を真空装置内に設置して、真空に排気する工程を行う第1の処理室と、
前記第1の処理室とゲートバルブを介して接続され、ニトロエタンの導入口とプラズマ放電用電極を備えた前記金属反射膜形成前プラズマ処理工程を行う第2の処理室と、
前記第2の処理室とゲートバルブを介して接続され、前記樹脂基材の上にスパッタ法または真空蒸着法にて金属膜を成膜する工程を行う第3の処理室と、
前記第3の処理室とゲートバルブを介して接続され、保護膜材料ガスの導入口とプラズマ放電用電極を備え、前記金属膜の上に当該プラズマ放電用電極により形成したプラズマ雰囲気下で前記保護膜形成工程を行う第4の処理室とを、有し、
前記樹脂基材を第1の処理室、第2の処理室、第3の処理室および第4の処理室の順に順次移動させる運搬機構と、
前記第2の処理室、第3の処理室および第4の処理室において、それぞれの工程を同時に実施可能に制御する制御機構を備えることを特徴とする真空製造装置。 - 透光性の樹脂カバーと、前記樹脂カバーと接合するハウジングと、
前記樹脂カバーとハウジングとで区画された空間内に配置した光源および樹脂基材上に金属反射膜を形成した金属被覆部材とを備えた照明装置に用いる前記金属被覆部材の製造装置において、
3次元形状に形成した樹脂基材を用意する工程と、
前記樹脂基材を真空装置内に設置して、真空に排気する工程と、
真空に排気した真空装置内にニトロ化合物を導入し、減圧化で前記ニトロ化合物のプラズマ放電に前記樹脂基材を曝す金属反射膜形成前プラズマ処理工程と、
前記樹脂基材の上に、真空雰囲気で金属膜を成膜する金属膜形成工程と、
前記金属膜の上に、真空雰囲気で保護膜を形成する保護膜形成工程とを、
順に行う金属被覆部材の製造方法を実施するものとされ、
真空に排気する排気装置が接続された真空装置と、
前記真空装置内に設けられた樹脂基材を設置する基材支持部と、
前記真空装置内に、ニトロエタンの導入口とプラズマ放電用電極を備えた前記金属反射膜形成前プラズマ処理工程を行う処理部と、
スパッタ法または真空蒸着法にて金属膜を成膜する工程を行う処理部と、
保護膜材料ガスの導入口とプラズマ放電用電極を備え、当該プラズマ放電用電極により形成したプラズマ雰囲気下で前記保護膜形成工程を行う処理部とを、有し、
前記金属反射膜形成前プラズマ処理工程を行う処理部、前記金属膜を成膜する工程を行う処理部および前記保護膜形成工程を行う処理部の順に前記樹脂基材を相対的に移動させる移動機構とを備えることを特徴とする真空製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013049470A JP6161149B2 (ja) | 2013-03-12 | 2013-03-12 | 金属被覆部材の製造方法およびその真空製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013049470A JP6161149B2 (ja) | 2013-03-12 | 2013-03-12 | 金属被覆部材の製造方法およびその真空製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014173178A JP2014173178A (ja) | 2014-09-22 |
JP6161149B2 true JP6161149B2 (ja) | 2017-07-12 |
Family
ID=51694728
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013049470A Active JP6161149B2 (ja) | 2013-03-12 | 2013-03-12 | 金属被覆部材の製造方法およびその真空製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6161149B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016084495A (ja) * | 2014-10-24 | 2016-05-19 | 株式会社日本製鋼所 | 金属膜と保護膜とを形成する成膜方法および成膜装置 |
EP4001878A1 (en) * | 2020-11-23 | 2022-05-25 | Marelli Automotive Lighting Italy S.p.A. Con Socio Unico | A system and method for determining the reflectance of a reflector of a lamp of a motor vehicle |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6013225A (ja) * | 1983-07-02 | 1985-01-23 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 透光部材およびそれを用いた光線照射装置 |
JPH064695B2 (ja) * | 1986-04-16 | 1994-01-19 | 日本合成ゴム株式会社 | プラズマ重合処理方法 |
JPS6347360A (ja) * | 1986-08-13 | 1988-02-29 | Nisshin Steel Co Ltd | 着色金属材料の製造方法 |
JPH06192837A (ja) * | 1991-05-22 | 1994-07-12 | Nippon Steel Corp | 硬質炭素膜被覆非晶質磁性合金薄帯 |
JP3732250B2 (ja) * | 1995-03-30 | 2006-01-05 | キヤノンアネルバ株式会社 | インライン式成膜装置 |
DE19704947A1 (de) * | 1997-02-10 | 1998-08-13 | Leybold Systems Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Schutzbeschichtung von Verspiegelungsschichten |
JP4450368B2 (ja) * | 2004-03-04 | 2010-04-14 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | マイクロ流路チップの製造方法、マイクロ流路チップ、そのマイクロ流路チップを用いる生体分子の分離方法、およびそのマイクロ流路チップを有する電気泳動装置 |
JP5235104B2 (ja) * | 2008-06-20 | 2013-07-10 | 株式会社アルバック | 成膜方法 |
-
2013
- 2013-03-12 JP JP2013049470A patent/JP6161149B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014173178A (ja) | 2014-09-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4401516B2 (ja) | プラズマポリマのバリアコーティングを有するランプ反射鏡 | |
GB2105729A (en) | Surface processing of a substrate material | |
JP6161149B2 (ja) | 金属被覆部材の製造方法およびその真空製造装置 | |
JP5046074B2 (ja) | 光学的薄膜を形成する方法及び装置 | |
US8221551B2 (en) | Apparatus for producing a reflector | |
JP2010257714A (ja) | 車両用灯具、車両用灯具のレンズ、および、その製造方法 | |
US6736532B2 (en) | Headlight assembly | |
US6458428B2 (en) | Line-type film-forming method | |
JP5529459B2 (ja) | コーティング方法 | |
JP2010001542A (ja) | 成膜方法及び成膜装置 | |
JP2008105313A (ja) | ハードコート構造を備えた透明体、およびハードコート構造 | |
US10544499B1 (en) | Reflector for vehicle lighting | |
JP5890111B2 (ja) | 反射鏡および照明装置 | |
JP3836549B2 (ja) | 保護膜形成方法 | |
KR101928150B1 (ko) | 진공증착을 이용한 리플렉터 제조방법 | |
EP2840305B1 (en) | Method for preparing reflector | |
JP2013538279A (ja) | 高分子系の表面処理材料から成る自動車部品 | |
JP6928309B2 (ja) | 反射鏡の製造方法 | |
JP2014181357A (ja) | プラズマ重合装置および製造方法 | |
KR20180086449A (ko) | 연속 진공에서 다중 플라즈마 코팅층의 적용 | |
JP7479905B2 (ja) | 反射材およびその製造方法 | |
JP2012014117A (ja) | 反射鏡、照明装置、および、反射鏡の製造方法 | |
JP4040306B2 (ja) | 灯具及びリフレクタ製造方法 | |
JPH03162561A (ja) | プラスチック基板への成膜方法 | |
Munzert et al. | PVD coating for optical applications on temperature-resistant thermoplastics |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160210 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20161028 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161115 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161227 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170516 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170609 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6161149 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |