JP5235104B2 - 成膜方法 - Google Patents
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Description
ところで、近年では、環境負荷物質となる有機溶剤の使用を避ける風潮があり、このための代替手段として、アンダーコート層を形成しないポリカーボネート樹脂表面にプラズマ処理(ボンバード処理)を行い、樹脂表面に直接アルミニウム薄膜を形成することも提案されている。
なお、樹脂上に形成された金属薄膜の密着性を向上させるための先行技術としては、例えば、特許文献1に示されたものが知られている。
本発明では、前記成膜対象物が、反射鏡を構成する立体的な部材である場合にも効果的である。
また、本発明によれば、構成の簡素化及びコストダウンが可能な反射膜用成膜装置を提供することができる。
図1は、本実施の形態の成膜装置の内部構成を示す断面図である。
図1に示すように、本実施の形態の成膜装置1は、図示しない真空排気系に接続された真空処理槽2を有している。
この真空処理槽2は、それぞれ真空処理槽2の外部に設けられた処理ガス導入部3とモノマー導入部4が接続されている。
本実施の形態の保持機構5は、真空処理槽2の中央領域において、例えば鉛直方向に向けて設けられた直線状の保持部6を有している。
本例においては、図1に示す成膜装置1を用い、ポリカーボネート(PC)樹脂からなる成膜対象物20上に成膜を行う場合を例にとって説明する。
次に、モノマー供給源40から重合体膜形成用の原料モノマーを供給し、成膜対象物20を回転移動させながらプラズマ発生源9を動作させ、成膜対象物20の成膜面20a上に緩衝用重合体膜21を形成する(プロセスP2、図3(a))。
この緩衝用重合体膜21の原料モノマーとしては、例えばヘキサメチルジシロキサン(HMDS)等のシリコン系材料を含むモノマーを好適に用いることができる。
なお、本発明の場合、緩衝用重合体膜21を形成する前には、成膜対象物20の表面のプラズマ処理(ボンバード処理)は行わない。
さらに、流量調整弁31を制御して真空処理槽2内に処理ガスを導入して所定の圧力にする(プロセスP4)。
本発明の場合、特に限定されることはないが、安定したプラズマを維持する観点からは、真空処理槽2内の圧力を0.1Pa〜10Paに調整することが好ましい。
その後、保持機構5を動作させて成膜対象物20を回転移動させながら真空蒸着を行う(プロセスP6)。
これにより、図3(c)に示すように、成膜対象物20上の活性化重合体膜22上に例えばアルミニウムからなる反射膜(金属薄膜)23が形成される。
本発明の場合、特に限定されることはないが、反射膜23の機能を確保し且つ反射膜23を剥離しにくくする観点からは、反射膜23の厚さを50nm〜100nmに調整することが好ましい。
この撥水性重合体膜24は、反射膜23の酸化及び腐食を防止するための耐アルカリ性の保護膜として機能するもので、その原料モノマーとしては、例えばヘキサメチルジシロキサン(HMDS)等のシリコン系材料を含むモノマーを好適に用いることができる。
さらに、流量調整弁31を制御して真空処理槽2内に処理ガスとして例えばアルゴンガスを導入して所定の圧力にする(プロセスP9)。
本発明の場合、特に限定されることはないが、安定したプラズマを維持する観点からは、真空処理槽2内の圧力を0.1Pa〜10Paに調整することが好ましい。
これにより、目的とする保護膜付反射膜26が得られる。
また、本実施の形態によれば、構成の簡素化及びコストダウンが可能な反射膜用成膜装置を提供することができる。
例えば、上述の実施の形態においては、同一の真空処理槽において緩衝用重合体膜形成、活性化処理、反射膜形成、撥水性重合体膜形成及び親水化処理を行うようにしたが、本発明は、これら各工程を異なる真空処理槽において行う場合をも含むものである。
<実施例>
図1に示す装置を使用し、ポリカーボネート(PC)からなる成膜対象物上に、原料モノマーとしてヘキサメチルジシロキサンを用い、厚さ50nmの緩衝用重合体膜をプラズマ重合により直接形成した。
そして、真空排気後、真空処理槽内にアルゴンガスを導入してプラズマ化し、緩衝用重合体膜の表面に対してボンバード処理を行った。
さらに、真空排気後、蒸発材料としてアルミニウム(Al)を用い、厚さ100nmの反射膜を抵抗加熱蒸着により形成した。
この場合、真空処理槽内の圧力は、10Paとし、プラズマの周波数は、40kHzとした。
この場合、真空処理槽内の圧力は、10Paとし、プラズマの周波数は40kHzとした。また、ボンバード処理の時間は、30秒とした。
以上のプロセスにより実施例のサンプルを作成した。
PC成膜対象物上に実施例と同一の条件で直接反射膜を形成した。さらに、この反射膜上に実施例と同一の条件で撥水性重合体膜を形成してボンバード処理を行い比較例1のサンプルを作成した。
PC成膜対象物上に緩衝用重合体膜を形成し、この膜に対してボンバード処理を行うことなく反射膜を形成した以外は、実施例と同一の条件で他の成膜を行い比較例2のサンプルを作成した。
PC成膜対象物上に緩衝用重合体膜を形成せずその表面に対してボンバード処理を行った以外は、実施例と同一の条件で他の成膜を行い比較例3のサンプルを作成した。
接着テープ(住友3M社製:スコッチメンディングテープ810)を実施例及び比較例1〜3のサンプルに貼付し、それぞれの被膜に対して接着テープを直角に保ちながら接着テープを急速に引き剥がした。そして、各サンプルの被膜表面を目視で観察した。その結果を表1に示す。
表1から理解されるように、PC成膜対象物上に緩衝用重合体膜を形成してボンバード処理を行った後にAl反射膜を形成した実施例にあっては、Al反射膜がPC成膜対象物上に残っており、樹脂と金属薄膜との密着性を向上させることができた。
以上より、本発明による効果を確認することができた。
Claims (2)
- 成膜対象物の樹脂からなる成膜面上に真空中で緩衝用重合体膜を形成する緩衝用重合体膜形成工程と、
前記緩衝用重合体膜上に真空中でアルゴンのプラズマによるボンバード処理を施し、前記緩衝用重合体膜の表面を活性化させて活性化重合体膜を形成するプラズマ処理工程と、
当該プラズマ処理された前記緩衝用重合体膜上に、真空蒸着によって光反射性の金属薄膜を形成する反射膜形成工程とを有し、
前記成膜対象物の成膜面がポリカーボネート樹脂からなるとともに、前記光反射性の金属薄膜がアルミニウムからなる成膜方法。 - 前記成膜対象物が、反射鏡を構成する立体的な部材である請求項1記載の成膜方法。
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