JP6151364B2 - ミラー素子の配向を決定する監視系およびeuvリソグラフィシステム - Google Patents
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Description
赤=x;緑=y;青=1−0.5*(x+y)。
赤=0.5*x;緑=0.5*y;青=1−0.5*(x+y)。
Claims (25)
- 光学系であって、
複数のミラー素子(23)を有するミラー系(19)であって、該ミラー素子の配向を相互に独立して設定することのできるミラー系(19)と、
前記ミラー素子(23)の配向を決定するようになされた監視系(52)とを備え、該監視系が、
複数の異なる波長を有する光(55)で複数のミラー素子を照射するようになされた監視放射源(57)と、
物体面(61)、像面(63)および該物体面と該像面との間に配置された瞳面(77)を有する監視レンズ(59)と、
異なる位置において相互に異なる波長依存透過特性を有するカラーフィルタ(78)と、 検出面(65)を有する空間分解および波長分解の光検出器(67)とを備え、
前記ミラー素子(23)が前記監視レンズ(59)の前記物体面(61)における領域に配置され、
前記光検出器(67)の前記検出面(65)が前記監視レンズ(59)の前記像面(63)における領域に配置され、
前記カラーフィルタ(78)が前記監視レンズ(59)の前記瞳面(77)における領域に配置される光学系。 - 請求項1に記載の光学系において、前記光検出器によって検出された光強度を分析して前記ミラー素子の配向を決定するようになされたコントローラをさらに備え、各々のミラー素子の配向が、それぞれのミラー素子と関連する前記検出器の前記検出面上の位置で検出される波長に依存して決定される光学系。
- 請求項2に記載の光学系において、前記ミラー系が他のミラー素子に対する前記ミラー素子の内の少なくともいくつかの配向を変更するようになされた複数のアクチュエータを有し、前記コントローラが前記ミラー素子のうちの少なくとも1つの決定された配向に基づいて前記アクチュエータを駆動するようにさらになされた光学系。
- 請求項1〜3の何れか1項に記載の光学系において、前記監視放射源が2.0mm未満の直径を有する光学系。
- 請求項1〜3の何れか1項に記載の光学系において、前記監視放射源が1.0mm未満の直径を有する光学系。
- 請求項1〜5の何れか1項に記載の光学系において、前記監視系が相互に離れて配置された複数の監視放射源を有する光学系。
- 請求項6に記載の光学系において、前記複数の監視放射源の各々が、所定の時間的強度変調を有する放射線を放射し、少なくとも2つの監視放射源の時間強度変調が相互に異なる光学系。
- 請求項1〜7の何れか1項に記載の光学系において、前記監視系が複数の監視レンズ、複数のカラーフィルタおよび複数の光検出器を有し、
前記ミラー素子が個々の監視レンズにおける前記物体面の領域に配置され、
前記複数の光検出器の各々の前記検出面が前記監視レンズの各々の前記像面における領域に配置され、
前記複数のカラーフィルタの内の1つが前記監視レンズの各々の前記瞳面における領域に配置される光学系。 - 請求項1〜8の何れか1項に記載の光学系において、前記検出面の上流におけるビーム経路に多孔マスクが配置され、該多孔マスクの穿孔が前記ミラー素子の位置に対応する位置に配置される光学系。
- 請求項1〜9の何れか1項に記載の光学系において、前記カラーフィルタが少なくとも1つの波長に対して線形空間依存プロファイルを有し、前記少なくとも1つの波長の光に対する前記カラーフィルタの透過度のプロファイル値が前記カラーフィルタ上の空間座標の値に比例して変化する光学系。
- EUVビーム経路を有するEUVリソグラフィシステムであって、該EUVリソグラフィシステムが
前記EUVビーム経路に配置され、被結像構造を配置させることのできる物体面が感光性構造体を配置させることのできる像面に結像されるようになされた結像光学系と、
請求項1〜10の何れか1項に記載の光学系と、
EUV放射源とを備え、
前記ミラー系の前記ミラー素子が前記EUV放射源と前記結像光学系の前記物体面との間の前記EUVビーム経路に配置されるEUVリソグラフィシステム。 - 請求項11に記載のEUVリソグラフィシステムにおいて、前記ミラー系が1,000より多いミラー素子を有するEUVリソグラフィシステム。
- 請求項11または12に記載のEUVリソグラフィシステムにおいて、前記ミラー素子の反射面が反射面全体において相互に隣接して配置され、該反射面全体の直径が100mmより大きいEUVリソグラフィシステム。
- 請求項11または12に記載のEUVリソグラフィシステムにおいて、前記ミラー素子の反射面が反射面全体において相互に隣接して配置され、該反射面全体の直径が150mmより大きいEUVリソグラフィシステム。
- 請求項11〜14のいずれか1項に記載のEUVリソグラフィシステムにおいて、前記ミラー素子の前記反射面がそれぞれ1mm2未満の面積を有するEUVリソグラフィシステム。
- 請求項11〜15のいずれか1項に記載のEUVリソグラフィシステムにおいて、前記ミラー素子の内の少なくとも1つの配向が±0.05radを超えて変更可能なEUVリソグラフィシステム。
- 請求項11〜15のいずれか1項に記載のEUVリソグラフィシステムにおいて、前記ミラー素子の内の少なくとも1つの配向が±0.1radを超えて変更可能なEUVリソグラフィシステム。
- 請求項11〜17のいずれか1項に記載のEUVリソグラフィシステムにおいて、前記ミラー素子の配向が2つの線形独立方向に変更可能なEUVリソグラフィシステム。
- 請求項11〜18のいずれか1項に記載のEUVリソグラフィシステムにおいて、前記監視レンズの前記像面における前記監視レンズの前記物体面の像の線形倍率が0.6未満であるEUVリソグラフィシステム。
- 請求項11〜18のいずれか1項に記載のEUVリソグラフィシステムにおいて、前記監視レンズの前記像面における前記監視レンズの前記物体面の像の線形倍率が0.3未満であるEUVリソグラフィシステム。
- 請求項11〜20のいずれか1項に記載のEUVリソグラフィシステムにおいて、前記光検出器が複数の検出器ピクセルを有し、該検出器ピクセルの数が前記監視レンズの物体視野に配置されるミラー素子の数の5倍以上であるEUVリソグラフィシステム。
- 請求項11〜20のいずれか1項に記載のEUVリソグラフィシステムにおいて、前記光検出器が複数の検出器ピクセルを有し、該検出器ピクセルの数が前記監視レンズの物体視野に配置されるミラー素子の数の10倍以上であるEUVリソグラフィシステム。
- 請求項21または22に記載のEUVリソグラフィシステムにおいて、前記検出器ピクセルの各々がカラーフィルタを有し、直接隣接する検出器ピクセルが相互に異なるカラーフィルタを有するEUVリソグラフィシステム。
- 請求項21または22に記載のEUVリソグラフィシステムにおいて、前記光検出器が少なくとも1つの二色性ビームスプリッタと、該二色性ビームスプリッタの下流のビーム経路内における異なるビーム経路に配置された少なくとも2つの検出器ピクセル群とを有するEUVリソグラフィシステム。
- 請求項11〜24のいずれか1項に記載のEUVリソグラフィシステムにおいて、前記ミラー素子が真空容器内に配置され、前記監視放射源および/または前記監視レンズが前記真空容器の外に配置されるEUVリソグラフィシステム。
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