JP6143965B2 - ガスバリアフィルムおよび電子デバイスならびにガスバリアフィルムの製造方法 - Google Patents
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Description
ガスバリアフィルムは、一例として、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム等の樹脂フィルムを支持体として、その上に、ガスバリア性を有する材料からなるガスバリア層を形成した構成を有する。
また、特許文献1には、支持体に、包装袋の開封性を良好にするための傷痕加工を施すことが記載されている。さらに、特許文献1には、印刷層に、傷痕加工の形成位置を位置決めするための識別マーク(アイマーク)を形成することも記載されている。
有機無機の積層構造を有するガスバリアフィルムは、下地層となる有機層を有することにより、ガスバリア性を発現する無機層を連続膜として適正に形成できるため、非常に高いガスバリア性を有する。また、有機層と無機層との積層構造を、複数、有することにより、より高いガスバリア性が得られることも、知られている。
これに対し、近年では、軽量性やフレキシブル性に優れる電子デバイスが可能であることから、樹脂フィルムが基板として用いられはじめている。樹脂フィルムを電子デバイスの基板として用いることにより、ロール・トゥ・ロールでの製造が可能になるため、生産効率や生産コストの点でも有利である。
例えば、前述の特許文献2には、有機無機の積層構造を有するガスバリアフィルムを基板として、有機ELデバイスを作製することが記載されている。
また、電子デバイスの基板として用いられるガスバリアフィルムには、特許文献1に示される包装袋用のガスバリアフィルムのように、識別マークを形成できる印刷層は存在しない。
また、識別マークの形成面に形成される有機層は、識別マークによる凹凸を吸収して、平坦な表面を有するのが好ましい。
また、識別マークの形成面に形成される有機層は、識別マークの2倍以上の厚さを有するのが好ましい。
さらに、識別マークの厚さが200nm以下で、識別マークの形成面に形成される有機層の厚さが500nm以上であるのが好ましい。
また、有機層を、重合性化合物を含む組成物を用いる塗布法で形成するのが好ましい。
従って、本発明によれば、識別マークが形成された、高いガスバリア性を有するガスバリアフィルムを用いて、有機ELデバイス等の電子デバイスを製造できる。
図1に本発明のガスバリアフィルムの一例を概念的に示す。
後に詳述するが、無機層16の下層に形成される有機層14は、無機層16を適正に形成するための下地層(アンダーコート層)として作用する。すなわち、図1に示すガスバリアフィルム10は、下地となる有機層14と、その上の無機層16との組み合わせを2組有する。
例えば、図2(A)に概念的に示すガスバリアフィルム30のように、最上層に3層目の有機層14を有してもよい。この場合、最上層の有機層14は、無機層16を保護するための保護層として作用する。
あるいは、図2(B)に概念的に示すガスバリアフィルム32のように、無機層16と下地となる有機層14との組み合わせを1組のみ有する構成でもよい。あるいは、無機層16と下地となる有機層14との組み合わせを、3組以上、有する構成でもよい。
さらに、支持体12の上に無機層16を形成して、その上に、無機層16と下地となる有機層14との組み合わせを、1組以上、有する構成でもよい。有機層14は、基本的に、塗布法で形成されるが、有機層14を形成する組成物に支持体12を溶解する成分が含まれる場合には、この構成により、支持体12を保護できる。
また、本発明においては、このような樹脂材料製のフィルムの表面に、保護層、接着層、光反射層、反射防止層、遮光層、平坦化層、緩衝層、応力緩和層等の、各種の機能を得るための層(膜)が形成されているものを、支持体12として用いてもよい。
識別マーク20に関しては、後に詳述する。
なお、本例において、ガスバリアフィルム10の表とは、有機層および無機層を形成される側であり、裏とは、有機層および無機層が形成されない側である。
このような下地層となる有機層14を有することにより、支持体12の表面の凹凸や、支持体12の表面に付着している異物等を包埋して、無機層16の成膜面を、無機層16の成膜に適した状態にできる。これにより、支持体12の表面の凹凸や異物の影のような、無機層16となる無機化合物が着膜し難い領域を無くし、基板の表面全面に、隙間無く、適正な無機層16を成膜することが可能になる。
なお、図2(A)に示されるガスバリアフィルム30のように、ガスバリアフィルムの表面(最表層)に形成される有機層14は、無機層16を保護するための保護層(オーバーコート層)として作用するのは、前述のとおりである。
具体的には、ポリエステル、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレン、透明フッ素樹脂、ポリイミド、フッ素化ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、セルロースアシレート、ポリウレタン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、脂環式ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、フルオレン環変性ポリカーボネート、脂環変性ポリカーボネート、フルオレン環変性ポリエステル、アクリル化合物、などの熱可塑性樹脂、あるいはポリシロキサン、その他の有機ケイ素化合物の膜が好適に例示される。これらは、複数を併用してもよい。
中でも特に、上記ガラス転移温度や強度に加え、屈折率が低い、透明性が高く光学特性に優れる等の点で、アクリレートおよび/またはメタクリレートのモノマやオリゴマ等の重合体を主成分とするアクリル樹脂やメタクリル樹脂は、有機層14として好適に例示される。
その中でも特に、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート(DPGDA)、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート(TMPTA)、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート(DPHA)などの、2官能以上、特に3官能以上のアクリレートおよび/またはメタクリレートのモノマやオリゴマ等の重合体を主成分とするアクリル樹脂やメタクリル樹脂は、好適に例示される。また、これらのアクリル樹脂やメタクリル樹脂を、複数、用いるのも好ましい。
ここで、有機層14は、後述する識別マーク20を溶解する成分を含まないのが好ましい。
有機層14の厚さを500nm以上とすることにより、支持体12の表面の凹凸や、支持体12の表面に付着した異物を包埋して、有機層14の表面すなわち無機層16の成膜面を平坦化できる。
また、有機層14の厚さを5000nm以下とすることにより、有機層14が厚すぎることに起因する、有機層14のクラックや、ガスバリアフィルム10のカール等の問題の発生を、好適に抑制することができる。
以上の点を考慮すると、有機層14の厚さは、1000〜3000nmとするのが、より好ましい。
さらに、平坦な有機層14を形成するためには、識別マーク20を覆う有機層14は、識別マーク20の厚さの2倍以上の厚さを有するのが好ましい。すなわち、図1に示すガスバリアフィルム10においては、支持体12の表面に形成される有機層14は、識別マーク20の厚さの2倍以上の厚さを有するのが好ましい。
識別マーク20を覆う有機層14を、識別マーク20の厚さの2倍以上の厚さとすることにより、識別マーク20を有することによる支持体12の凹凸を吸収して、この有機層14の表面を平坦にできる。これにより、識別マーク20を覆う有機層14の上の無機層16を適正に形成できる。
後述するが、識別マーク20の厚さは、200nm以下が好ましい。そのため、識別マーク20を覆う有機層14の厚さを500nm以上とすることにより、より好適に識別マーク20を有することによる支持体12の凹凸を吸収して、この有機層14の表面を平坦にできる。
また、識別マーク20を中心とする半径1mmの範囲とは、識別マーク20を内接する円の中心と同じ中心を有する、半径1mmの円の内側である。
ガスバリアフィルム10におけるガスバリア性は、主に、無機層16が発現する。
具体的には、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化インジウムスズ(ITO)などの金属酸化物; 窒化アルミニウムなどの金属窒化物; 炭化アルミニウムなどの金属炭化物; 酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸炭化ケイ素、酸化窒化炭化ケイ素などのケイ素酸化物; 窒化ケイ素、窒化炭化ケイ素などのケイ素窒化物; 炭化ケイ素等のケイ素炭化物; これらの水素化物; これら2種以上の混合物; および、これらの水素含有物等の、無機化合物からなる膜が、好適に例示される。
特に、窒化ケイ素、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、酸化アルミニウムは、透明性が高く、かつ、優れたガスバリア性を発現できる点で、好適に利用される。中でも特に、窒化ケイ素は、優れたガスバリア性に加え、透明性も高く、好適に利用される。
無機層16の厚さを10nm以上とすることにより、十分なガスバリア性能を安定して発現する無機層16が形成できる。また、無機層16は、一般的に脆く、厚過ぎると、割れやヒビ、剥がれ等を生じる可能性が有るが、無機層16の厚さを200nm以下とすることにより、割れが発生することを防止できる。
また、このような点を考慮すると、無機層16の厚さは、15〜100nmにするのが好ましく、特に、20〜75nmとするのが好ましい。
ガスバリアフィルム10において、識別マーク20は、ガスバリアフィルム10を基板として用いる電子デバイスの製造等おいて、各種の用途に利用されるものである。
一例として、識別マーク20は、ロール・トゥ・ロール(Roll to Roll)などで長尺なガスバリアフィルム10を長手方向に搬送する際における、ガスバリアフィルム10の蛇行の制御等に利用可能である。以下の説明では、『ロール・トゥ・ロール』を『RtoR』とも言う。
また、識別マーク20は、張力が掛かった場合など、ガスバリアフィルム10が変形した場合における、張力や変形の制御にも利用可能である。
また、識別マーク20は、ガスバリアフィルム10を基板とする電子デバイスの製造において、電子デバイスを構成する電子素子等の1種あるいは複数種のパターン等を形成する際における、素子等の形成位置の位置合せ、ガスバリアフィルム10の変形の測定や補正、ガスバリアフィルム10とパターン等の形成装置とのギャップの測定や制御等にも利用可能である。
また、識別マーク20は、ガスバリアフィルム10同士の貼り合わせや、ガスバリアフィルム10とその他の基材との貼り合わせ等を行う場合における、位置合せ、タイミング合せ、ギャップの制御等にも利用可能である。
さらに、識別マーク20はガスバリアフィルム10の製造情報や、長尺なガスバリアフィルム10の長手方向の位置情報の取得等にも利用可能である。
すなわち、本発明のガスバリアフィルム10において、識別マーク20は、個々の部材の位置合わせや搬送の制御、各種の情報の提供などに利用されるものであってもよく、電子デバイス等の製造における位置の基準となる、いわゆるグローバルアライメントマークとして利用されるものであってもよい。
好ましくは、図1に示すガスバリアフィルム10のように、支持体12に識別マーク20および有機層14を形成する。
本発明は、このような構成を有することにより、有機無機の積層構造を有するガスバリアフィルムにおいて、有機ELデバイス等の基板として好適に利用可能なガスバリアフィルムを実現している。
有機無機の積層構造を有するガスバリアフィルムを電子デバイスの基板として用いるためには、電子デバイスを構成する電子素子のパターンの位置決めを行うためのアライメントマーク等の識別マークを形成する必要が有る。
ところが、本発明者の検討によれば、ガスバリアフィルム10の表面もしくは裏面に識別マーク20を形成すると、識別マーク20による凹凸によって、電子デバイスの製造工程やハンドリングの際の物理的な接触、電子デバイスの製造における加熱を伴う工程や薬液工程などにおいて、無機層16に局所的な力やストレスがかかり、無機層16が損傷してしまう可能性が有る。
有機無機の積層構造を有するガスバリアフィルム10において、ガスバリア性を発現するのは、無機層16である。従って、無機層16が損傷すると、ガスバリア性が低下してしまう。
しかしながら、この場合には、電子デバイスの取り都合すなわち面取り効率が悪くなり、電子デバイスの製造コストが増大してしまう。
しかしながら、このように識別マーク20の数を削減すると、電子デバイスを構成する各パターン間の位置合せ精度や、フィルム等の貼り合わせ位置精度が低下してしまう。
また、図5(A)および図5(B)において、符号36は封止材で、符号38は封止フィルムである。さらに、図5(A)において、左側の電子デバイスの封止材36は額縁封止を例示し、右側の電子デバイスの封止材36は全面封止を例示している。
さらに、ガスバリアフィルム10はRtoRで製造される場合が多く、かつ、RtoRで製造されたガスバリアフィルム10を利用する電子デバイスの製造工程等でもRtoRが利用される場合が多い。ここで、表面もしくは裏面に識別マーク20が有ると、識別マークによる凹凸で、ガスバリアフィルム10を巻き取った際に幅方向に識別マークの形成位置だけが盛り上がってしまい、均一な巻取りができない。
従って、本発明のガスバリアフィルム10においては、識別マーク20を有することによる凹凸を、有機層14で埋めることができる。そのため、物理的な接触、熱加熱を伴う工程や薬液工程において、無機層16に局所的な力やストレスがかかることを防止して、無機層16の損傷を防止できる。また、RtoRによって巻き取った際にも、ガスバリアフィルム10を均一に巻き取ることができる。
さらに、本発明のガスバリアフィルム10では、識別マーク20の形成位置や、その周辺部における平坦性およびガスバリア性が確保されている。そのため、図4(C)および図5(B)に概念的に示すように、ガスバリアフィルム10を有機ELデバイス等の電子デバイスの基板に用いた際に、電子デバイスの形成領域DAや封止端部Pと識別マーク20との間隔を最小化できる。その結果、電子デバイスの取り都合を向上して、電子デバイスの製造コストを低減できる。しかも、識別マーク20の数の削減も不要であるので、高い精度で電子デバイスを構成する各パターン間の位置合せや、フィルム等の貼り合わせを行うことができる。加えて、無機層16の損傷に起因する、水分等による電子デバイスへの悪影響も防止できる。
すなわち、識別マーク20は、有機層14の形成面であれば、積層方向の各層に形成可能である。例えば、図3に概念的に示すように、1層目の無機層16の表面に、識別マーク20および2層目の有機層14を形成してもよい。あるいは、異なる複数の層に、識別マーク20を形成してもよい。
但し、識別マーク20の形成の容易性、無機層16の損傷防止等を考慮すると、識別マーク20は、図1に示されるように、支持体12のみに形成して、支持体12の表面に有機層14を形成するのが好ましい。
一例として、識別マーク20を位置合せ、いわゆるアライメントマークとして用いる場合には、十字、印刷などで用いられるトンボ、四角形などの多角形、円や楕円やドット、モアレ干渉パターン等が例示される。
識別マーク20をフィルムの変形量測定用のマークとして用いる場合には、十字、印刷などで用いられるトンボ、四角形などの多角形、円や楕円やドット、モアレ干渉パターン等が例示される。
識別マーク20をギャップ制御に利用する場合には、各種の形状の光反射性の領域、モアレパターン等が例示される。
さらに、識別マークを製造情報、工程条件情報、長手の位置情報の各種の情報源として利用する場合は、文字、数字、各種の記号等が例示される。
一例として、光吸収性や光反射性を有する材料としては、クロムやアルミニウムなどの各種の金属材料、各種のインク等が例示される。また、透明・半透明な材料としては、酸化インジウム錫(ITO)や酸化亜鉛などの透明導電性材料や、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化ケイ素などの誘電体材料等が例示される。
なお、識別マーク20は、通常、可視光によって検出可能な材料で形成される。しかしながら、必要に応じて、赤外線のみで検出可能な材料や、紫外線のみで検出可能な材料など、特定波長の光のみで検出可能な材料で、識別マーク20を形成してもよい。
ここで、前述のように、識別マーク20の厚さは、有機層14の1/2以下であるのが好ましい。これにより、識別マーク20を有することによる支持体12の凹凸を吸収して、識別マーク20を覆う有機層14の表面を工程に平坦化できる。
具体的には、識別マーク20の厚さは、200nm以下が好ましく、100nm以下がより好ましく、50nm以下がさらに好ましい。前述のように、識別マーク20を覆う有機層14の厚さは、500nm以上が好ましい。そのため、識別マーク20の厚さを200nm以下とすることにより、識別マーク20を有することによる支持体12の凹凸を吸収して、より好適に識別マーク20を覆う有機層14の表面を平坦にできる。
識別マーク20の厚さを、識別マークの形成材料に応じて設定することにより、識別マーク20の検出を確実に行うことが可能になる等の点で好ましい。
識別マークが凹状である場合には、前述の識別マーク20の厚さは、識別マークの深さに置き換える。また、凹状の識別マークを、金属材料やインクで色付けしてもよい。
本発明の電子デバイスは、公知の各種の電子デバイスが、全て利用可能である。具体的には、有機ELデバイス、太陽電池、電子ペーパ、エレクトロクロミックデバイス、タッチパネル等が例示される。
なお、本発明のガスバリアフィルム10は、識別マーク20を有しているので、これを用いて、電子素子を構成するパターンの形成位置の位置決めや、RtoRにおけるガスバリアフィルム10の蛇行の制御を行うことができる。従って、本発明によれば、適正な電子デバイスを、安定して得ることができる。
周知のように、RtoRとは、長尺な被成膜材料をロール状に巻回してなる材料ロールから、被成膜材料を送り出し、被成膜材料を長手方向に搬送しつつ成膜を行い、成膜済の被成膜材料を、再度、ロール状に巻回する製造方法である。生産性を考慮すると、本発明の製造方法では、RtoRが好適に利用される。
なお、以下に示す製造方法は、基本的に、RtoRでも、枚様式でも同様である。
識別マーク20は、形成材料に応じて、公知の方法で形成すればよい。
例えば、識別マーク20を金属で形成する場合には、マスクを用いる金属膜の成膜による形成方法、支持体12に金属膜を成膜した後、フォトリソグラフィなどを利用してエッチングを行う形成方法、金属ペーストなどを用いる印刷による形成方法等が例示される。なお、金属膜の成膜は、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVD等の公知の気相堆積法によって形成すればよい。
また、識別マーク20をインクで形成する場合には、凸版印刷、グラビア印刷、スクリーン印刷、インクジェット等の公知の印刷方法で識別マーク20を形成すればよい。
有機層14は、形成する有機層14に応じて、公知の方法で形成すればよい。一例として、有機層14は、有機溶剤、有機層14となる重合性化合物(モノマ、ダイマ、トリマ、オリゴマ、ポリマ等)、界面活性剤、シランカップリング剤などを含む組成物を調製して、この塗布液を塗布、乾燥して、さらに、必要に応じて紫外線照射等によって重合性化合物を重合(架橋)する、いわゆる塗布法によって形成する。
ここで、前述のように、有機層14は、識別マーク20を溶解する成分を含まないのが好ましい。従って、塗布法で有機層14を形成する場合には、識別マーク20を溶解しない溶剤を用いて、有機層14となる組成物を調製するのが好ましい。また、有機層14となる組成物は、溶剤以外にも、識別マーク20を溶解する成分を含まないのが好ましい。
無機層16も、形成する無機層16に応じて、公知の方法で形成すればよい。一例として、無機層16は、CCP−CVDやICP−CVD等のプラズマCVD、マグネトロンスパッタリングや反応性スパッタリング等のスパッタリング、真空蒸着などの気相成膜法によって形成する。
さらに、2層目の有機層14の表面に、先と同様にして2層目の無機層16を形成して、ガスバリアフィルム10を作製する。
この有機層14と無機層16との形成を、さらに繰り返すことにより、下地の有機層14と無機層16との組み合わせを3組以上有するガスバリアフィルムが得られる。また、最上層に、無機層16を保護するための有機層14を、同様に形成してもよい。
次いで、識別マーク20を形成した無機層16の上に、先と同様にして2層目の有機層14および無機層16を形成すればよい。
[実施例1]
支持体12の上に、識別マーク20、1層目の有機層14、1層目の無機層16、2層目の有機層14、および、2層目の無機層16を有する、図1に示すようなガスバリアフィルム10を作製した。
支持体12のロールを、真空蒸着によって成膜を行うRtoRによる一般的な成膜装置の所定位置に装填し、支持体12を所定の搬送経路に挿通した。この装置を用いて、支持体12の全面に厚さ200nmのアルミニウム膜を形成して、ロール状に巻き取った。
次いで、アルミニウム膜を形成した支持体12のロールを、レジストの塗布・乾燥部を有するRtoRによる一般的な装置の所定位置に装填し、支持体12を所定の搬送経路に挿通した。この装置を用いて、支持体12に形成したアルミニウム膜の上に、厚さ500nmのレジスト膜を形成して、ロール状に巻き取った。
さらに、レジスト膜を形成した支持体12のロールを、コンタクト露光部、現像部、リンス部、エッチング部、洗浄部および乾燥部を有する、フォトリソグラフィでパターンを形成する、RtoRによる一般的な装置の所定位置に装填し、支持体12を所定の搬送経路に挿通した。この装置を用いて、支持体12の表面に、アルミニウムからなる厚さ200nmの識別マーク20を形成して、ロール状に巻き取った。
識別マーク20の形状は十字状で、線幅は50μm、縦横の長さは250μmとした。
識別マーク20は、支持体12の幅方向に20cmの間隔、支持体12の長手方向に30cmの間隔で形成した。
TMPTA(ダイセルサイテック社製)および光重合開始剤(ランベルティ社製、ESACURE KTO46)を、質量比率として95:5となるように秤量し、これらをMEKに溶解して、有機層14を形成するための固形分濃度15質量%の組成物を調製した。
ダイコータによる塗布部、温風による乾燥部、および、紫外線照射による硬化部を有する、RtoRによる一般的な成膜装置の塗布部の所定位置に、この塗布液を充填した。また、識別マーク20を形成した支持体12を巻回したロールを、この成膜装置の所定位置に装填して、支持体12を所定の搬送経路に挿通した。
成膜装置において、識別マーク20を形成した支持体12を長手方向に搬送しつつ、ダイコータによって塗布液を塗布し、50℃の乾燥部を3分間通過させた。その後、紫外線を照射(積算照射量約600mJ/cm2)して後にUV硬化にて硬化させ、巻き取って、支持体12の識別マーク20を形成した面に、有機層14を形成して、ロール状に巻き取った。有機層14の厚さは2000nmであった。
有機層14を形成した支持体12のロールを、CCP−CVD(容量結合形プラズマCVD)によって成膜を行う、RtoRによる一般的なCVD成膜装置の所定位置に装填し、支持体12を所定の搬送経路に挿通した。
このCVD成膜装置において、有機層14を形成した支持体12を長手方向に搬送しつつ、有機層14の上に、無機層16として窒化ケイ素膜を形成して、ロール状に巻き取った。
原料ガスは、シランガス(流量160sccm)、アンモニアガス(流量370sccm)、水素ガス(流量590sccm)および窒素ガス(流量240sccm)を用いた。電源は、周波数13.56MHzの高周波電源を用い、プラズマ励起電力は800Wとした。成膜圧力は40Paとした。無機層16の膜厚は30nmであった。
1層目の無機層16の上に、厚さを変えた以外は先と同様にして2層目の有機層14を形成し、さらに、2層目の有機層14の上に先と同様にして2層目の無機層を形成した。2層目の有機層14の膜厚は1000nm、2層目の無機層の膜厚は30nmであった。
支持体12の表面に識別マーク20を形成しない以外は、実施例1と同様にして、有機層14と無機層16とを、交互に2層ずつ形成したガスバリアフィルムを作製した。
支持体12の表面に識別マーク20を形成せずに、実施例1と同様にして、有機層14と無機層とを、交互に2層ずつ形成したガスバリアフィルムを作製し、2層目(最表層)の無機層16の表面に、実施例1と同様にして識別マーク20を形成した。
作製したガスバリアフィルムの水蒸気透過率を、カルシウム法によって測定した。具体的には、G.NISATO、P.C.P.BOUTEN、P.J.SLIKKERVEERらSID Conference Record of the International Display Research Conference 1435−1438ページに記載される方法を用いて、水蒸気透過率[g/(m2・day)]を測定した。
また、比較例1のガスバリアフィルムの水蒸気透過率は5.8×10-6g/(m2・day)であった。
さらに、比較例2のガスバリアフィルムの水蒸気透過率は2.8×10-4g/(m2・day)であった。
すなわち、本発明のガスバリアフィルム10は、識別マーク20を有しているにも関わらず、識別マーク20を有さない通常の有機無機の積層構造を有する比較例1のガスバリアフィルムと同等のガスバリア性を有している。これに対して、表面に識別マーク20を形成した比較例2のガスバリアフィルムは、識別マーク20に起因して無機層16が損傷してしまい、他の2つに比して、ガスバリア性が低下したと考えられる。
以上の結果より、本発明の効果は明らかである。
12 支持体
14 有機層
16 無機層
20 識別マーク
36 封止材
38 封止フィルム
Claims (9)
- 支持体と、前記支持体の上に形成される、少なくとも1層の有機層および少なくとも1層の無機層を有する、前記有機層および無機層を交互に積層してなる有機無機積層構造と、少なくとも1層の前記有機層の形成面に形成される識別マークとを有することを特徴とするガスバリアフィルム。
- 前記支持体の表面に、前記識別マークおよび前記有機層が形成される請求項1に記載のガスバリアフィルム。
- 前記識別マークの形成面に形成される有機層は、前記識別マークによる凹凸を吸収して、平坦な表面を有する請求項1または2に記載のガスバリアフィルム。
- 前記識別マークの形成面に形成される有機層は、前記識別マークの2倍以上の厚さを有する請求項1〜3のいずれか1項に記載のガスバリアフィルム。
- 前記識別マークの厚さが200nm以下で、前記識別マークの形成面に形成される有機層の厚さが500nm以上である請求項1〜4のいずれか1項に記載のガスバリアフィルム。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載のガスバリアフィルムの上に、電子デバイスを構成する電子素子を形成したことを特徴とする電子デバイス。
- 支持体の上に、少なくとも1層の有機層と少なくとも1層の無機層とを有する、前記有機層と無機層とを交互に積層してなる有機無機積層構造を形成すると共に、少なくとも1層の前記有機層を形成する前に、前記有機層の形成面に識別マークを形成することを特徴とするガスバリアフィルムの製造方法。
- 前記支持体に、前記識別マークおよび前記有機層を形成する請求項7に記載のガスバリアフィルムの製造方法。
- 前記有機層を、重合性化合物を含む組成物を用いる塗布法で形成する請求項7または8に記載のガスバリアフィルムの製造方法。
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