WO2015046302A1

WO2015046302A1 - 機能性フィルムおよび機能性フィルムの製造方法

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Publication number: WO2015046302A1
Application number: PCT/JP2014/075378
Authority: WO
Inventors: 英二郎岩瀬
Original assignee: 富士フイルム株式会社
Priority date: 2013-09-30
Filing date: 2014-09-25
Publication date: 2015-04-02
Also published as: KR101730780B1; US20160207284A1; KR20160045824A; JP2015066810A; TW201514019A; TWI624378B; JP5944875B2

Abstract

　支持体（１２）の上に交互に形成された有機層（１６）および無機層（１４）と、支持体の裏面に接着剤層（２０）を介して粘着された支持体と熱的特性が異なる搬送支持体（２４）とを有し、かつ、接着剤層と支持体との粘着力が５～５０Ｎ／２５ｍｍで、接着剤層と搬送支持体との粘着力が０．０１～１Ｎ／２５ｍｍであること、および、この支持体と接着剤層と搬送支持体との長尺な積層体を長手方向に搬送しつつ、支持体の表面に有機層と無機層とを交互に形成する。これにより、有機層と無機層とを交互に積層した機能性フィルムにおいて、低コストで、無機層等の損傷が無く、目的とする性能を安定して発揮する、機能性フィルム、および、この機能性フィルムの製造方法を提供する。

Description

機能性フィルムおよび機能性フィルムの製造方法

　本発明は、有機層と無機層との積層構造を有する機能性フィルム、および、この機能性フィルムの製造方法に関する。詳しくは、無機層等の損傷が無い機能性フィルム、および、この機能性フィルムを低コストで製造できる機能性フィルムの製造方法に関する。

　光学素子、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイなどの表示装置、各種の半導体装置、太陽電池等の各種装置において防湿性が必要な部位や部品、食品や電子部品等を包装する包装材料などガスバリアフィルムが利用されている。
　ガスバリアフィルムは、一般的に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム等のプラスチックフィルムを支持体（基板）として、その上に、ガスバリア性を発現するガスバリア層（ガスバリア膜）を形成してなる構成を有する。また、ガスバリアフィルムに用いられるガスバリア層としては、例えば、窒化ケイ素、酸化珪素、酸化アルミニウム等の各種の無機化合物からなる層が知られている。

　このようなガスバリアフィルムにおいて、より高いガスバリア性能が得られる構成として、支持体の上に、有機化合物からなる有機層と、無機化合物からなる無機層とを交互に積層した積層構造を有する、有機／無機積層型のガスバリアフィルム（以下、積層型のガスバリアフィルムとも言う）が知られている。
　積層型のガスバリアフィルムにおいて、主にガスバリア性を発現するのは無機層である。積層型のガスバリアフィルムでは、下地となる有機層の上に無機層を形成することにより、有機層によって無機層の形成面を平滑化して、良好な平滑性を有する有機層の上に無機層を形成することにより、ヒビや割れ等のない均一な無機層を形成して、優れたガスバリア性能を得ている。また、この有機層と無機層との積層構造を、複数、繰り返し形成することにより、より優れたガスバリア性能を得ることができる。

　このような積層型のガスバリアフィルムの製造方法として、いわゆるロール・トゥ・ロール（以下、ＲｔｏＲとも言う）が知られている。ＲｔｏＲとは、長尺な支持体をロール状に巻回してなる支持体ロールから支持体を送り出し、支持体を長手方向に搬送しつつ、支持体に有機層や無機層を形成し、有機層や無機層を形成した支持体をロール状に巻回する製造方法である。
　ＲｔｏＲを利用することにより、長尺な支持体を搬送しつつ、連続的に有機層や無機層を形成できるので、非常に高い生産性で積層型のガスバリアフィルムを製造できる。

　ところで、前述のように、積層型のガスバリアフィルムにおいて、主にガスバリア性を発現するのは、無機層である。従って、無機層が損傷すると、ガスバリア性能が大幅に低下する。
　また、積層型のガスバリアフィルムにおいて、有機層は、無機層を適正に形成するための下地層として作用する。従って、有機層が損傷すると、適正な無機層が形成できず、同様に、ガスバリア性能が大幅に低下する。

　一方で、積層型のガスバリアフィルムでは、光学特性、重量、コスト等を考慮すると、支持体は薄い方が有利である。
　しかしながら、薄い支持体は、ＲｔｏＲによる搬送中に、折れ曲がってしまう等の不都合が生じ易い。有機層や無機層を形成した支持体が、搬送中に折れ曲がると、先に形成した有機層や無機層を損傷してしまう。

　また、ＲｔｏＲでは、搬送ローラ対やパスローラ（ガイドローラ）等が有機層や無機層に接触することが避けられない場合がある。しかしながら、このローラの接触によって、有機層や無機層が損傷してしまう場合が有る。
　このような不都合を解消するために、ＲｔｏＲを利用する積層型のガスバリアフィルムの製造では、端部の径が大きい、いわゆる段付きローラを用いて、支持体の端部のみを挟持搬送する、非接触搬送を利用することが知られている。
　しかしながら、支持体が薄く、折れ曲がり易い場合には、このような非接触搬送によって適正な搬送を行うのは、益々、困難になる。

　このような不都合を解消するために、特許文献１や特許文献２には、裏面に搬送支持体（ラミネートフィルム）を貼着してなる支持体を用いて、ＲｔｏＲによって有機層や無機層を形成するガスバリアフィルム（機能性フィルム）の製造方法が記載されている。なお、裏面とは、有機層や無機層の非形成面である。
　この方法によれば、支持体の裏面に搬送支持体を貼着することにより、支持体の自己支持性を確保することができ、薄い支持体を用いた場合や、非接触搬送を利用する場合でも、支持体の折れ曲がりを生じることなく、ＲｔｏＲによって適正に有機層や無機層を形成できる。

特開２０１１－１４９０５７号公報特開２０１１－１６７９６７号公報

　ところで、近年では、積層型のガスバリアフィルムを、携帯電話やディスプレイなどに利用される、トップエミッション方式の有機ＥＬデバイス等に利用することが考えられている。
　このような用途に利用される積層型のガスバリアフィルムでは、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）フィルムなど、低レタデーション値や高い光透過性を有する光学特性に優れた支持体を用いる必要が有る。また、ガスバリアフィルムの光学特性という点では、支持体は、薄い方が好ましい。

　しかしながら、本発明者の検討によれば、このようなＣＯＣフィルム等を支持体として用いる積層型のガスバリアフィルムでは、前述の搬送支持体を用いたＲｔｏＲによる製造を、安価かつ適正に行うことができない。

　すなわち、搬送支持体を利用する積層型のガスバリアフィルムの製造において、搬送支持体は、製品の一部とはならず、最終的には、剥離されて廃棄される。そのため、搬送支持体としては、安価なＰＥＴフィルム等が用いられる。

　一方、積層型のガスバリアフィルムでは、通常の無機層の形成にはプラズマＣＶＤ等の気相成膜法（気相成膜法）が利用される。また、有機層の形成には、有機層となる有機材料を含有する塗料を、塗布、乾燥して硬化する、塗布法が利用されている。
　すなわち、積層型のガスバリアフィルムの製造においては、支持体および搬送支持体は、無機層の形成では、プラズマＣＶＤ等の気相成膜法による熱に曝され、また、有機層の形成では、塗料の乾燥の際に熱に曝される。さらに、有機層の形成では、塗膜を硬化（架橋）する際に加熱を行う場合も有る。

　ところが、ＣＯＣフィルムのような光学特性に優れたフィルムと、ＰＥＴフィルムとでは、熱膨張／熱収縮や、Ｔｇなどの熱的特性が、全く異なる。そのため、加熱を伴うプロセスにおいては、両フィルムは異なる変形を示す。
　ＲｔｏＲによる積層型のガスバリアフィルムの製造において、このように支持体と搬送支持体とで熱的特性が異なるフィルムを用いた場合には、搬送によるストレスや搬送経路の変更による屈曲等も有るため、加熱を伴うプロセスにおける両フィルムの異なる変形によって、支持体と搬送支持体の剥離や、支持体のシワ等が生じ、これに起因して、無機層が損傷してしまう。

　この問題は、支持体と搬送支持体とで、同じ材料からなるものを用いれば生じない。
　しかしながら、ＣＯＣフィルムのような光学特性に優れたフィルムは、ＰＥＴフィルム等に比して、非常に高価である。また、前述のように、搬送支持体は、最終的には廃棄される材料である。そのため、支持体としてとＣＯＣフィルムのような光学特性に優れたフィルムを用いた場合には、同じ材料から搬送支持体を用いると、積層型のガスバリアフィルムのコストが、非常に高くなってしまう。

　本発明の目的は、このような従来技術の問題点を解決することにあり、有機層と無機層とを交互に形成してなる有機／無機積層型の機能性フィルムにおいて、低コストで、かつ、無機層の損傷が無い、目的とする性能を安定して発揮する機能性フィルム、および、この機能性フィルムの製造方法を提供することにある。

　この問題点を解決するために、本発明の機能性フィルムは、支持体と、支持体の上に交互に形成された有機層および無機層と、支持体の有機層および無機層の形成面と逆面に貼着される接着剤層と、この接着剤層に貼着される、支持体と異なる熱的特性を有する搬送支持体とを有し、かつ、
　接着剤層と支持体との粘着力が５～５０Ｎ／２５ｍｍで、接着剤層と搬送支持体との粘着力が０．０１～１Ｎ／２５ｍｍであることを特徴とする機能性フィルムを提供する。

　このような本発明の機能性フィルムにおいて、接着剤層の厚さが１５～２５０μｍであるのが好ましい。
　また、接着剤層は、全光線透過率が８５％以上で、リタデーション値が５ｎｍ以下であるのが好ましい。
　また、支持体は、リタデーション値が３００ｎｍ以下であるのが好ましい。
　さらに、支持体は、ガラス転移温度が１３０℃以上で、熱収縮率が０．５％以下で、厚さが２０～１２０μｍであり、搬送支持体は、ガラス転移温度が６０℃以上で、熱収縮率が０．５％超で２％以下、厚さが１２～１００μｍであるのが好ましい。

　また、本発明の機能性フィルムの製造方法は、５～５０Ｎ／２５ｍｍの粘着力で支持体と接着剤層とが貼着され、かつ、接着剤層の支持体と逆面に、０．０１～１Ｎ／２５ｍｍの粘着力で、支持体と熱的特性が異なる搬送支持体が貼着されてなる、長尺な積層体を作製し、
　この積層体を長手方向に搬送しつつ、支持体の接着剤層と逆面に、塗布法による有機層および気相成膜法による無機層を、交互に形成することを特徴とする機能性フィルムの製造方法を提供する。

　このような本発明の機能性フィルムの製造方法において、接着剤層の厚さが１５～２５０μｍであるのが好ましい。
　また、接着剤層は、全光線透過率が８５％以上で、リタデーション値が５ｎｍ以下であるのが好ましい。
　また、支持体は、リタデーション値が３００ｎｍ以下であるのが好ましい。
　また、支持体は、ガラス転移温度が１３０℃以上で、熱収縮率が０．５％以下で、厚さが２０～１２０μｍであり、搬送支持体は、ガラス転移温度が６０℃以上で、熱収縮率が０．５％超で２％以下、厚さが１２～１００μｍであるのが好ましい。

　このような本発明によれば、安価な搬送支持体を用いて、無機層等の損傷が無い、目的とする性能を有する機能性フィルムを、低コストで製造できる。
　しかも、本発明の機能性フィルムは、接着剤層を残して搬送支持体を剥離できるので、例えば、ガスバリアフィルムを貼着してなる偏光板の製造や、有機ＥＬディスプレイへのガスバリアフィルムの貼着など、その後のガスバリアフィルムの貼着を必要とする用途にも、好適に利用可能である。

図１（Ａ）～図１（Ｃ）は、本発明の機能性フィルムの一例を概念的に示す図である。図２（Ａ）は、本発明の機能性フィルムの製造方法を実施する無機層の成膜装置の一例を概念的に示す図、図２（Ｂ）は、本発明の機能性フィルムの製造方法を実施する有機層の成膜装置の一例を概念的に示す図である。

　以下、本発明の機能性フィルムおよび機能性フィルムの製造方法について、添付の図面に示される好適実施例を基に、詳細に説明する。

　図１（Ａ）に、本発明の機能性フィルムをガスバリアフィルムに利用した一例を、概念的に示す。

　なお、本発明の機能性フィルムは、ガスバリアフィルムに限定はされない。すなわち、本発明は、特定の波長の光を透過するフィルタや光反射防止フィルムなどの各種の光学フィルム等、公知の機能性フィルムに、各種、利用可能である。
　本発明の機能性フィルムのように、有機／無機の積層型の機能性フィルムにおいて、主に目的とする機能を発現するのは、無機層である。従って、特定波長の光透過性など、目的とする機能を発現する無機層を選択して、本発明の機能性フィルムを構成すればよい。

　しかしながら、本発明によれば、後述する接着剤層および搬送支持体を有することにより、ヒビや割れ等の欠陥の無い無機層を有する機能性フィルムを得ることができる。また、本発明の機能性フィルムは、搬送支持体を剥離することで、接着性を有する機能性フィルムとすることができる。しかも、支持体および接着剤層として、リタデーション値が低い等の光学特性に優れる材料からなる物を選択することで、光学特性に優れた機能性フィルムが得られる。
　従って、本発明は、高い光学特性を要求される場合が多く、かつ、無機層の損傷による性能劣化が大きく、さらに、他の光学部材と積層されて使用される場合が多いガスバリアフィルムには、より好適に利用される。

　本発明の機能性フィルムにかかるガスバリアフィルムは、支持体１２の一面に、無機層１４と有機層１６とを交互に積層してなる、前述の有機／無機積層型のガスバリアフィルムである。なお、図１（Ａ）～図１（Ｃ）においては、構成を明瞭にするために、無機層１４のみにハッチを付している。以下、支持体１２の無機層１４および有機層１６が形成される面を『表面』、逆側の面を『裏面』とも言う。
　図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａは、支持体１２の表面に無機層１４を有し、その上に有機層１６を有し、その上に２層目の無機層１４を有し、その上に、２層目の有機層１６を有する、支持体１２の無機層１４と有機層１６とを交互に２層ずつ形成した、合計４層を積層してなる構成を有する。
　また、支持体１２の裏面には、接着剤層２０が貼着され、接着剤層２０には、搬送支持体２４が貼着される。この支持体１２、接着剤層２０および搬送支持体２４によって、本発明における積層体２６が構成される。

　なお、本発明のガスバリアフィルム（機能性フィルム）は、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａのように、支持体１２の上に、無機層１４および有機層１６を、この順番で交互に２層ずつ合計４層積層した構成に限定はされない。
　例えば、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａにおいて、２層目の有機層１６の上に、さらに、３層目の無機層１４および３層目の有機層１６を積層した、３層ずつの無機層１４および有機層１６を有する、合計６層を有する構成でもよい。あるいは、さらに無機層１４および有機層１６を交互に積層した、８層以上を有する構成であってもよい。
　後述するが、有機層１６は、無機層１４を適正に形成するための下地層としてとして作用するものであり、下地の有機層１６と無機層１４との組み合わせの積層数が多いほど、優れたガスバリア性を有するガスバリアフィルムを得られる。

　あるいは、図１（Ｂ）に概念的に示すガスバリアフィルム１０ｂのように、支持体１２の表面に有機層１６を有し、その上に無機層１４を有し、以下、有機層１６と無機層１４とを交互に形成してなる構成でもよい。すなわち、本発明のガスバリアフィルムにおいては、無機層１４と有機層１６との数が異なってもよい。
　さらに、図１（Ｃ）に概念的に示すガスバリアフィルム１０ｃのように、最上層が無機層１４であってもよい。

　前述のように、本発明のガスバリアフィルム１０ａは、支持体１２の上に、無機層１４と有機層１６とを、交互に積層した構成を有する。

　本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいて、支持体１２は、ガスバリアフィルムの支持体として利用されている、公知のシート状物が、各種、利用可能である。
　支持体１２としては、具体的には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリアクリロニトリル、ポリイミド、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリカーボネート（ＰＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、透明ポリイミドなどの、各種のプラスチック（高分子材料）からなるプラスチックフィルムが、好適に例示される。
　なお、支持体１２は、このようなプラスチックフィルムの表面に、保護層、接着層、光反射層、反射防止層、遮光層、平坦化層、緩衝層、応力緩和層等の、各種の機能を得るための層（膜）が形成されているものであってもよい。

　ここで、本発明において、支持体１２は、リタデーション値(Retardation)が３００ｎｍ以下のシート状物が好適に利用される。以下、リタデーション値が３００ｎｍ以下のシート状物を、『低リタデーションフィルム』とも言う。
　支持体１２として、低リタデーションフィルムを用いることにより、ガスバリアフィルム１０ａから搬送支持体２４を剥離することで光学特性に優れたガスバリアフィルムを得ることができる。これにより、例えば、本発明のガスバリアフィルム１０ａから搬送支持体２４を剥離して有機ＥＬデバイス等の各種のデバイスに利用した際に、このデバイスにおける光のコントラスト低下、外光反射に起因する視認性の低下等を防止できる。
　この点を考慮すると、支持体１２のリタデーション値は、２００ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましい。
　さらに、本発明においては、同様の理由で、支持体１２は、全光線透過率が８５％以上であるのが好ましい。

　このような低レタデーションフィルムとしては、前述の各種のプラスチックフィルムのうち、ＰＣ、ＣＯＰ、ＣＯＣ、ＴＡＣおよび透明ポリイミド等からなるプラスチックフィルムが、好適に例示される。

　本発明において、支持体１２の厚さは、好ましくは２０～１２０μｍである。
　支持体１２の厚さを２０μｍ以上とすることにより、無機層１４および有機層１６を形成することによるカールが大きくなることを抑制でき、かつ、これによりロールとして巻き取ることが容易になる、ガスバリアフィルム１０ａから搬送支持体２４を剥離したガスバリアフィルムを用いるデバイスの得率低下を防止できる、ガスバリアフィルム１０ａに十分な機械的強度を付与できる等の点で好ましい。ガスバリアフィルムを用いるデバイスとしては、例えば、有機ＥＬデバイス等が例示される。
　また、支持体１２の厚さを１２０μｍ以下とすることにより、可撓性の良好なガスバリアフィルム１０ａが得られる、軽量なガスバリアフィルム１０ａが得られる、ガスバリアフィルム１０ａから搬送支持体２４を剥離したガスバリアフィルムを用いるデバイスを薄くできる等の点で好ましい。
　以上の点を考慮すると、支持体１２の厚さは、２５～１００μｍがより好ましい。
　なお、以下の説明では、便宜的に、『ガスバリアフィルム１０ａから搬送支持体２４を剥離したガスバリアフィルム』を、単に、『搬送支持体２４を剥離したガスバリアフィルム１０ａ』とも言う。

　また、支持体１２は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１３０℃以上であるのが好ましく、１４０℃以上であるのがより好ましい。
　前述のように、支持体１２の表面には、無機層１４および有機層１６が形成される。ここで、無機層１４は、通常、プラズマＣＶＤなどの気相成膜法で形成され、有機層１６は、有機層１６となる有機化合物を含有する塗料を塗布、乾燥および硬化する塗布法で形成される。すなわち、ガスバリアフィルム１０ａは、支持体１２の加熱を伴う方法で無機層１４および有機層１６を形成される。
　これに対し、支持体１２として、Ｔｇが１３０℃以上のもの（Ｔｇが１３０℃以上の材料からなるもの）を用いることにより、無機層１４および有機層１６の形成における加熱による支持体１２の熱損傷を防止できる。さらに、搬送支持体２４を剥離したガスバリアフィルム１０ａを用いるデバイスの製造での加熱工程におけるガスバリアフィルムの耐久性を向上できる、搬送支持体２４を剥離したガスバリアフィルム１０ａを用いるデバイスの高温や高湿での耐久性を向上できる等の点でも好ましい。

　さらに、支持体１２は、熱収縮率が０．５％以下であるのが好ましい。
　支持体１２の熱収縮率を０．５％以下とすることにより、前述の無機層１４および有機層１６の形成における加熱による支持体１２の変形を好適に防止できる。さらに、搬送支持体２４を剥離したガスバリアフィルム１０ａを用いるデバイスに、反り等が生じることを防止できる等の点でも好ましい。

　前述のように、本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいて、支持体１２の上には、無機層１４と有機層１６とが、交互に形成される。
　無機層１４は、無機化合物からなる層である。ガスバリアフィルム１０ａにおいて、無機層１４は、目的とするガスバリア性を、主に発現するものである。

　無機層１４の形成材料には、限定はなく、ガスバリア性を発現する無機化合物からなる層が、各種、利用可能である。
　具体的には、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの金属酸化物；　窒化アルミニウムなどの金属窒化物；　炭化アルミニウムなどの金属炭化物；　酸化珪素、酸化窒化珪素、酸炭化珪素、酸化窒化炭化珪素などの珪素酸化物；　窒化珪素、窒化炭化珪素などの珪素窒化物；　炭化珪素等の珪素炭化物；　これらの水素化物；　これら２種以上の混合物；　および、これらの水素含有物等の、無機化合物が、好適に例示される。
　特に、窒化珪素、酸化珪素、酸窒化珪素、酸化アルミニウムは、透明性が高く、かつ、優れたガスバリア性を発現できる点で、ガスバリアフィルムには、好適に利用される。中でも特に、窒化珪素は、優れたガスバリア性に加え、透明性も高く、好適に利用される。

　本発明において、無機層１４の厚さは、好ましくは１０～２００ｎｍである。
　無機層１４の厚さを１０ｎｍ以上とすることにより、十分なガスバリア性能を安定して発現する無機層１４が形成できる。また、無機層１４は、一般的に脆く、厚過ぎると、割れやヒビ、剥がれ等を生じる可能性が有るが、無機層１４の厚さを２００ｎｍ以下とすることにより、割れが発生することを防止できる。
　また、このような点を考慮すると、無機層１４の厚さは、１５～１００ｎｍにするのが好ましく、特に、２０～７５ｎｍとするのが好ましい。

　なお、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａのように、複数の無機層１４を有する場合には、各無機層１４の厚さは、同じでも、互いに異なってもよい。
　同様に、ガスバリアフィルム１０ａのように、複数の無機層１４を有する場合には、各無機層１４の形成材料も、同じでも異なってもよい。しかしながら、生産性や生産コスト等を考慮すれば、全ての無機層１４を同じ材料で形成するのが好ましい。

　本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいて、無機層１４は、形成材料に応じた公知の無機層の形成方法で形成すればよい。
　具体的には、ＣＣＰ－ＣＶＤやＩＣＰ－ＣＶＤ等のプラズマＣＶＤ、マグネトロンスパッタリングや反応性スパッタリング等のスパッタリング、真空蒸着などの気相成膜法（気相堆積法）が、好適に例示される。

　ここで、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａにおいては、支持体１２の表面に無機層１４が形成される。
　このような支持体１２の表面に形成される無機層１４は、ガスバリア性を発現するのみならず、支持体１２の保護層としても作用する。

　前述のように、有機層１６は、有機化合物を含有する塗料を用いる塗布法によって形成される。この塗料には、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）やメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）有機溶剤が含まれる。
　ところが、支持体１２となるプラスチックフィルムは、有機溶剤に対する耐性が低い場合が有り、プラスチックフィルムと有機溶剤との組み合わせによっては、プラスチックフィルムが溶解されてしまう場合が有る。特に、前述のような低レタデーションフィルムは、有機溶剤に対する耐性が低く、溶解されてしまう場合が多い。すなわち、支持体１２の表面に有機層１６を形成すると、支持体１２の形成材料と塗料が含有する有機溶剤との組み合わせによっては、支持体１２の表面が溶解してしまう場合が有る。
　このような支持体１２の溶解が生じると、支持体１２のリタデーション値が変化する、光透過率が下がる、ヘイズが上がる等の不都合が生じ、ガスバリアフィルムの光学的な特性が大幅に低減してしまう。

　これに対し、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａのように、支持体１２の表面に無機層１４を形成して、その上に、有機層１６と無機層１４とを交互に積層することにより、無機層１４が有機層１６を形成する塗料が含有する有機溶剤に対する支持体１２の保護層として作用する。
　そのため、支持体１２の有機溶剤に対する耐性が低い場合でも、塗料による支持体１２の溶解を防止して、支持体１２の光学特性を維持することができ、光学特性に優れるガスバリアフィルムを得ることができる。

　ここで、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａのように、支持体１２の表面に無機層１４を有する構成では、無機層１４と支持体１２との間に、支持体１２の形成成分と無機層１４の形成成分とが混合された、混合層のような領域を有してもよい。
　このような混合層を有することにより、無機層１４と支持体１２の密着性を向上して、ガスバリアフィルム１０ａの強度を向上できると共に、支持体１２からの無機層１４の剥離に起因するガスバリア性の低下も防止できる。

　前述のように、無機層１４は、プラズマＣＶＤ等の気相成膜法で形成するが、この成膜条件を調節することにより、混合層の形成の有無や混合層の厚さ等を調節できる。
　例えば、プラズマＣＶＤで無機層１４を形成する際には、投入電力等を調節して生成するプラズマ強度を調節する方法、無機層１４の形成時にかけるバイアスの調節する方法等で、混合層の形成の有無や混合層の厚さ等を調節できる。

　他方、前述のように、図１（Ｃ）に示すガスバリアフィルム１０ｃは、最上層が無機層１４である。
　このように、最上層を無機層１４とすることにより、その下の有機層１６に起因するアウトガスの排出を防止できる。従って、このように最上層が無機層１４である構成は、例えば、搬送支持体２４を剥離したガスバリアフィルム１０ａの有機層１６と無機層１４との積層構成側に、有機ＥＬデバイス等の不要なガス成分に悪影響を受けやすいデバイスを配置する必要が有る場合に、好適である。

　他方、有機層１６は、有機化合物からなる層で、基本的に、有機層１６となる有機化合物を、架橋（重合）したものである。
　前述のように、有機層１６は、ガスバリア性を発現する無機層１４を適正に形成するための、下地層として機能する。このような下地の有機層１６を有することにより、無機層１４の形成面の平坦化や均一化を図って、無機層１４の形成に適した状態にできる。
　下地の有機層１６および無機層１４を積層した積層型のガスバリアフィルムでは、これにより、フィルムの全面に、隙間無く、適正な無機層１４を形成することが可能になり、優れたガスバリア性を有するガスバリアフィルムを得ることができる。

　ガスバリアフィルム１０ａにおいて、有機層１６の形成材料には、限定はなく、公知の有機化合物（樹脂／高分子化合物）が、各種、利用可能である。
　具体的には、ポリエステル、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、メタクリル酸－マレイン酸共重合体、ポリスチレン、透明フッ素樹脂、ポリイミド、フッ素化ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、セルロースアシレート、ポリウレタン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、脂環式ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、フルオレン環変性ポリカーボネート、脂環変性ポリカーボネート、フルオレン環変性ポリエステル、アクリロイル化合物、などの熱可塑性樹脂、あるいはポリシロキサン、その他の有機珪素化合物の膜が好適に例示される。これらは、複数を併用してもよい。

　中でも、ガラス転移温度や強度に優れる等の点で、ラジカル重合性化合物および／またはエーテル基を官能基に有するカチオン重合性化合物の重合物から構成された有機層１６は、好適である。

　中でも特に、上記強度に加え、屈折率が低い、透明性が高く光学特性に優れる等の点で、アクリレートおよび/またはメタクリレートのモノマーやオリゴマの重合体を主成分とする、ガラス転移温度が１２０℃以上のアクリル樹脂やメタクリル樹脂は、有機層１６として好適に例示される。
　その中でも特に、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（ＤＰＧＤＡ）、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート（Ａ－ＮＯＤ－Ｎ）、１，６ヘキサンジオールジアクリレート（Ａ－ＨＤ－Ｎ）、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート（ＴＭＰＴＡ）、（変性）ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（ＤＰＨＡ）などの、２官能以上のアクリレートおよび/またはメタクリレートのモノマー等の重合体を主成分とする、アクリル樹脂やメタクリル樹脂は、好適に例示される。また、これらのアクリル樹脂やメタクリル樹脂を、複数、用いるのも好ましい。

　有機層１６を、アクリル樹脂やメタクリル樹脂、特に２官能以上のアクリル樹脂やメタクリル樹脂で形成することにより、骨格がしっかりした下地の上に無機層１４を形成できるので、より緻密でガスバリア性が高い無機層１４を形成できる。

　有機層１６の厚さは、０．５～５μｍが好ましい。
　有機層１６の厚さを０．５μｍ以上とすることにより、無機層１４の全面を確実に有機層１６で覆い、かつ、有機層１６の表面すなわち無機層１４の形成面を平坦化できる。
　また、有機層１６の厚さを５μｍ以下とすることにより、有機層１６が厚すぎることに起因する、有機層１６のクラックや、ガスバリアフィルム１０ａのカール等の問題の発生を、好適に抑制することができる。
　以上の点を考慮すると、有機層１６の厚さは、１～３μｍとするのが、より好ましい。

　なお、図１（Ａ）に示す各ガスバリアフィルム１０ａのように、複数の有機層１６を有する場合には、各有機層１６の厚さは、同じでも、互いに異なってもよい。
　同様に、ガスバリアフィルム１０ａのように、複数の有機層１６を有する場合には、各有機層１６の形成材料も、同じでも異なってもよい。しかしながら、生産性や生産コスト等を考慮すれば、全ての有機層１６を同じ材料で形成するのが好ましい。

　本発明において、有機層１６は、基本的に、無機層１４の下地層として形成されるが、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａや図１（Ｂ）に示されるガスバリアフィルム１０ｂは、最上層に有機層１６を有している。
　無機層１４は、緻密であるが故に、固く、脆い。そのため、外部から直接的に衝撃等を受けると、容易に損傷してしまう。前述のように、本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいて、主にガスバリア性を発現するのは、無機層１４である。そのため、無機層１４が損傷すると、ガスバリア性が低下する。
　これに対し、最上層に有機層１６を有することにより、この有機層１６が無機層１４の保護層として作用するので、無機層１４の損傷を防止できる。

　本発明において、有機層１６は、基本的に、塗布法で形成される。
　すなわち、有機層１６を形成する際には、まず、有機層１６となる有機化合物（モノマー、ダイマー、トリマー、オリゴマー等）、さらには、架橋剤（重合開始剤）、シランカップリング剤、界面活性剤、増加粘剤等を有機溶剤に溶解してなる塗料を調節する。次いで、この塗料を有機層１６の形成面に塗布し、乾燥する。乾燥後、紫外線照射や電子線照射、加熱等によって、有機化合物を重合して、有機層１６を形成する。

　本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいて、支持体１２の裏面には、接着剤層２０が貼着され、この接着剤層２０には、搬送支持体２４が貼着される。
　前述のように、この支持体１２、接着剤層２０および搬送支持体２４によって、本発明における積層体２６が構成される。

　搬送支持体２４は、前述の特許文献１や特許文献２に記載される例と同様、支持体１２が折れ曲がり易く、ロール・トゥ・ロール（ＲｔｏＲ）による各層の形成において、適正な搬送が困難な場合に、裏面側から支持体１２を支持して、自己支持性を確保し、折れ曲がりやシワの形成等の無い安定した搬送を可能にするためのものである。
　ここで、本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいては、搬送支持体２４は、支持体１２とは異なる熱的特性を有するものである。さらに、発明のガスバリアフィルム１０ａにおいては、接着剤層２０と支持体１２との粘着力が５～５０Ｎ／２５ｍｍで、接着剤層２０と搬送支持体２４との粘着力が０．０１～１Ｎ／２５ｍｍである。本発明は、これにより、ＣＯＣフィルム等の高価な支持体１２を用いた場合でも、コストを向上することなく、ヒビや割れ等の損傷（欠陥）のない無機層１４を有するガスバリアフィルム１０ａを実現している。

　前述のように、本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいては、優れた光学特性を実現するために、支持体１２として、ＰＣ、ＣＯＰ、ＣＯＣ、ＴＡＣおよび透明ポリイミド等からなるレタデーション値が３００ｎｍ以下の低レタデーションフィルムを用いるのが好ましい。さらに、支持体１２は、全光線透過率が８５％以上であるのが好ましいのも、前述のとおりである。
　また、搬送支持体２４は、最終的には剥離して廃棄するものであるので、ＰＥＴフィルム等の安価なフィルムを用いるのが好ましい。

　ところがＣＯＣフィルム等の低レタデーションフィルムと、ＰＥＴフィルム等とでは、例えば、Ｔｇに大きな差がある、一方が熱膨張して他方が熱収縮する、熱膨張率／熱収縮率が大きく異なるなど、互いの熱的特性が異なる。
　このように熱的特性が異なる支持体１２と搬送支持体２４とを有する積層体２６を用いて、支持体１２の表面にＲｔｏＲによって無機層１４や有機層１６を形成すると、無機層１４を形成する際のプラズマ等による熱や、有機層１６を形成する際の乾燥による熱によって、支持体１２と搬送支持体２４とが全く異なる変形を示し、搬送によるストレスや搬送経路の変更による屈曲等も有るため、これにより、支持体１２と搬送支持体２４の剥離や、支持体１２のシワ等が生じてしまう。また、この支持体１２と搬送支持体２４の剥離や支持体１２のシワ等に起因して、適正な無機層１４が形成できず、さらに、先に形成した無機層１４が損傷して、ガスバリア性が低下してしまう。

　搬送支持体２４として、支持体１２と同じ材料のフィルムを用いれば、このような問題は生じない。
　しかしながら、ＣＯＣフィルム等の低レタデーションフィルムなどの高い光学特性を有するフィルムは、高価であるため、最終的に廃棄する搬送支持体２４として、低レタデーションフィルム等を利用すると、ガスバリアフィルム１０ａのコストが、非常に高くなってしまう。

　これに対し、本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいては、接着剤層２０と支持体１２との粘着力が５～５０Ｎ／２５ｍｍで、接着剤層２０と搬送支持体２４との粘着力が０．０１～１Ｎ／２５ｍｍとする。すなわち、接着剤層２０は、支持体１２とは強固に貼着され、搬送支持体２４とは、非常に弱い力で貼着される。
　そのため、ＲｔｏＲによる無機層１４や有機層１６の形成の際の加熱によって、支持体１２と搬送支持体２４とが全く異なる変形を示すと、貼着力の弱い接着剤層２０と搬送支持体２４とが剥離して、次いで、張力によって、再度、貼着されることを繰り返す。
　この剥離および貼着の繰り返しによって、支持体１２と搬送支持体２４との互いに異なる変形が吸収される。その結果、両者の異なる変形に起因する、支持体１２と搬送支持体２４の剥離や、支持体１２のシワ等が生じることがなく、このシワ等に起因する不適正な無機層１４の形成（成膜）や先に形成した無機層１４の損傷を防止できる。

　本発明は、搬送支持体２４として支持体１２と熱的特性が異なるものを用い、かつ、支持体１２および搬送支持体２４と接着剤層２０との貼着力を上記範囲とすることにより、ＲｔｏＲによるガスバリアフィルムの製造において、搬送支持体２４による搬送の安定化を図り、かつ、優れた光学特性を有するガスバリアフィルム１０ａを得るために、ＣＯＣフィルムのような高価な低レタデーションフィルムを支持体１２として用いた際に、熱的特性が異なっても、ＰＥＴフィルムのような安価なプラスチックフィルムを搬送支持体２４として用いることを可能にしている。
　また、接着剤層２０は、支持体１２とは強固に貼着され、搬送支持体２４とは、非常に弱い力で貼着されるので、使用の際に搬送支持体２４を剥離しても、接着剤層２０が支持体１２に貼着した状態となる。そのため、本発明のガスバリアフィルム１０ａは、使用の際に搬送支持体２４を剥離することで、接着性（粘着性）を有するガスバリアフィルムとすることができ、別途、接着剤の塗布や接着テープを用いることなく、目的とする用途に利用可能である。
　特に、低レタデーションフィルムを支持体１２として用い、さらに、接着剤層２０として、光学透明接着剤（Optical Clear Adhesive　ＯＣＡ）のような優れた光学特性を有する接着剤を用いることにより、搬送支持体２４を剥離したガスバリアフィルム１０ａを、接着性を有し、かつ、光学特性に優れたガスバリアフィルムとすることができる。これにより、搬送支持体２４を剥離したガスバリアフィルム１０ａは、携帯電話やディスプレイなどに利用される、トップエミッション方式の有機ＥＬデバイスなどの各種のデバイスに用いられるガスバリアフィルムとして、好適に利用可能となる。

　本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいて、接着剤層２０と支持体１２との粘着力が５Ｎ／２５ｍｍ未満では、十分な接着剤層２０と支持体１２の粘着力が得られない、接着剤層２０と支持体１２等とが不要に剥離してしまう等の不都合が生じる。
　接着剤層２０と支持体１２との粘着力が５０Ｎ／２５ｍｍを超えると、支持体１２の変形が生じた際の緩和が難しい程の剛体に近付いてしまい、支持体１２の変形抑制の効果が十分に得られない等の不都合を生じる。
　以上の点を考慮すると、接着剤層２０と支持体１２との粘着力は、８～３０Ｎ／２５ｍｍが好ましい。

　また、本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいて、接着剤層２０と搬送支持体２４との粘着力が０．０１Ｎ／２５ｍｍ未満では、接着剤層２０と搬送支持体２４との貼り合わせが安定しない、接着剤層２０と搬送支持体２４とが不要に剥離してしまう等の不都合が生じる。
　接着剤層２０と搬送支持体２４との粘着力が１Ｎ／２５ｍｍを超えると、使用に際して搬送支持体２４が適正に剥離できない場合が生じる、不均一な糊残りが生じる等の不都合を生じる。
　以上の点を考慮すると、接着剤層２０と搬送支持体２４の粘着力は、０．０２～０．６Ｎ／２５ｍが好ましい。

　本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいて、接着剤層２０と支持体１２との粘着力を５～５０Ｎ／２５ｍｍとし、接着剤層２０と搬送支持体２４との粘着力を０．０１～１Ｎ／２５ｍｍとする方法は、各種の接着剤や接着テープで行われている、公知の方法が利用可能である。以下、粘着力が５～５０Ｎ／２５ｍｍの場合を『強粘着』とも言う。また、粘着力が０．０１～１Ｎ／２５ｍｍの場合を『微粘着』とも言う。
　一例として、支持体１２と強粘着となる接着剤層２０を用いて、搬送支持体２４の表面をシリコン処理やフッ素処理等の離型処理を施して、搬送支持体２４と接着剤層２０との粘着力を低下させる方法が例示される。あるいは、支持体１２にプラズマ処理やコロナ処理等の粘着性を向上する処理を施し、搬送支持体２４の表面に同様の離型処理を施して、接着剤層２０と支持体１２とを強粘着とし、接着剤層２０と搬送支持体２４とを微粘着とする方法も利用可能である。
　これらの方法によれば、搬送支持体２４を剥離した際の接着剤層２０の粘着力は、接着剤層２０自身の接着力となるので、ガスバリアフィルム１０ａから搬送支持体２４を剥離することで、良好な粘着性を有するガスバリアフィルムが得られる。

　本発明において、接着剤層２０は、支持体１２および搬送支持体２４に応じて、前述の粘着力が得られる各種の接着剤からなるものが利用可能である。中でも、前述のＯＣＡなど、光学特性に優れた接着剤層２０が形成可能な接着剤は、好適に利用される。
　具体的には、ウレタン系の接着剤、アクリル系の接着剤、アクリル系の接着剤等をハーフキュア状に硬化（半硬化）させたもの等が例示される。なお、アクリル系の接着剤は、ＯＣＡが好ましい。
　ハーフキュア状に硬化した接着剤層２０とは、例えば、アクリル系の接着剤を接着剤層２０として支持体１２に塗布あるいは貼着し、この接着剤に搬送支持体２４を貼着した後、この接着剤の完全な硬化に必要なＵＶ照射量の１０～５０％程度のＵＶ照射を行ってハーフキュア状態にした接着剤層２０である。また、ハーフキュア状態にする以外にも、重合度の低い接着剤を用いることも可能である。

　また、接着剤層２０は、全光線透過率が８５％以上で、かつ、リタデーション値が５ｎｍ以下であるのが好ましい。
　接着剤層２０の全光線透過率を８５％以上とし、かつ、リタデーション値を５ｎｍ以下とすることにより、ガスバリアフィルム１０ａから搬送支持体２４を剥離した際に、光学特性に優れたガスバリアフィルムを得ることができる。
　また、この点を考慮すると、接着剤層２０は、全光線透過率が９０％以上であるのがより好ましい。

　接着剤層２０の厚さは、１５～２５０μｍが好ましい。
　接着剤層２０の厚さを１５μｍ以上とすることにより、前述の接着剤層２０と搬送支持体２４との剥離および貼着の繰り返しによる、支持体１２と搬送支持体２４との異なる変形を十分に吸収することができ、より好適に、支持体１２と搬送支持体２４の剥離、支持体１２のシワ、これに起因する無機層１４の損傷を防止できる等の点でも好ましい。
　他方、接着剤層２０の厚さを２５０μｍ以下とすることにより、後述する無機層１４の形成の際の裏面からの冷却に対して熱伝導性が低下することを防止できる、より光学特性に優れるガスバリアフィルムが得られる、搬送支持体２４を剥離したガスバリアフィルム１０ａを用いるデバイスを薄くできる等の点で好ましい。
　以上の点を考慮すると、接着剤層２０の厚さは、２０～１５０μｍがより好ましい。

　このような接着剤層２０は、利用する接着剤等に応じた公知の方法で形成すればよい。　一例として、接着剤の塗布によって形成する方法、接着テープ（粘着テープ）を利用して形成する方法が例示される。接着剤の塗布によって接着剤層２０を形成する場合には、塗布した接着剤を、さらに、乾燥および硬化（半硬化）してもよい。

　一方、搬送支持体２４は、支持体１２と熱的な特性が異なれば、各種の材料からなるシート状物が利用可能であり、特に、各種のプラスチックフィルムが利用できる。
　なお、本発明において、支持体１２と搬送支持体２４との熱的特性が異なるとは、一方が熱膨張して他方が熱収縮する場合、両者の形成材料の熱膨張率もしくは熱収縮率の差が０．１％以上である場合、および、両者の形成材料のＴｇの差が３０℃以上である場合の１以上を満たす場合を言う。
　本発明のガスバリアフィルム１０ａは、このように、支持体１２と搬送支持体２４とが異なる熱的特性を有することにより、前述のように、支持体１２としてＣＯＣフィルムなどの高価な低レタデーションフィルムを用いた際にも、搬送支持体２４によってＲｔｏＲにおける搬送の安定化を図ると共に、搬送支持体２４として安価なＰＥＴフィルムを用いることを可能にして、安価で、無機層１４の損傷が無いガスバリアフィルム１０ａを実現している。

　前述のように、搬送支持体２４は、最終的には剥離して廃棄されるものである。従って、低コストな材料を利用するのが好ましい。
　具体的には、ＰＥＴ、ＰＰ、および、ＰＥ等からなるプラスチックフィルムが好適に例示される。中でも、後述するＴｇの関係から、ＰＥＴからなるプラスチックフィルムは、好適に利用される。

　本発明において、搬送支持体２４の厚さは、１２～１００μｍが好ましい。
　搬送支持体２４の厚さを１２μｍ以上とすることにより、搬送支持体２４を設けることの効果を十分に発揮して、ＲｔｏＲによる無機層１４等の形成の際に支持体１２（積層体２６）の安定した搬送が可能になる等の点で好ましい。
　また、搬送支持体２４の厚さを１００μｍ以下とすることにより、無機層１４等の形成の際における搬送支持体２４の熱変形量を低減できる、後述する無機層１４の形成の際の裏面からの冷却に対して熱伝導性が低下することを防止できる、軽量なガスバリアフィルム１０ａが得られる等の点で好ましい。
　以上の点を考慮すると、搬送支持体２４の厚さは、２０～７５μｍがより好ましい。

　本発明において、支持体１２と搬送支持体２４との厚さの比は、『搬送支持体２４／支持体１２』の比で０．１～４とするのが好ましい。
　支持体１２と搬送支持体２４との厚さの比を、この範囲とすることにより、支持体１２と搬送支持体２４との熱的特性の違いに起因して、無機層１４や有機層１６等の形成時に搬送支持体２４が無機層１４等に与えるストレスを低減でき、より高いガスバリア性が得られる等の点で好ましい。

　また、搬送支持体２４は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が６０℃以上であるのが好ましく、７０℃以上であるのがより好ましく、８０℃以上であるのが特に好ましい。
　前述の支持体と同様、搬送支持体２４のＴｇを６０℃以上（Ｔｇが６０℃以上の材料からなるもの）とすることにより、無機層１４および有機層１６の形成の際における加熱による搬送支持体２４の熱損傷を防止できる。さらに、搬送支持体２４が溶融して、貼り付いてしまうブロッキング現象が防止できる等の点でも好ましい。

　さらに、搬送支持体２４は、熱収縮率が０．５％超で２％以下であるのが好ましい。
　搬送支持体２４の熱収縮率を０．５％超で２％以下とすることにより、加熱時における搬送支持体２４の変形自身が抑制され、接着剤層２０による変形緩和の効果と合せて、支持体１２の変形を最大限抑制できる等の点で好ましい。これにより、適正な無機層１４の形成が可能になり、かつ、形成済の無機層１４の損傷を防止でき、より高いガスバリア性が得られる。

　図２（Ａ）および図２（Ｂ）に、本発明のガスバリアフィルム１０ａ（機能性フィルム）を製造する製造装置の一例を、概念的に示す。
　この製造装置は、無機層１４を形成する無機成膜装置３２と、有機層１６を形成する有機成膜装置３０とを有して構成される。
　図２（Ａ）は無機成膜装置３２であり、図２（Ｂ）は有機成膜装置３０である。

　図２（Ａ）に示す有機成膜装置３０および図２（Ｂ）に示す無機成膜装置３２は、共に、長尺な被形成材料（ウエブ状の被形成材料）を巻回してなるロールから、被形成材料を送り出し、被形成材料を長手方向に搬送しつつ各層の形成（成膜）を行い、各層を形成した被形成材料を、再度、ロール状に巻回する、前述のＲｔｏＲ（ロール・ツー・ロール(Roll to Roll）を利用する装置である。
　このようなＲｔｏＲは、高い生産性で、効率の良いガスバリアフィルム１０ａ（機能性フィルム）の製造が可能である。

　ここで、図２（Ａ）および図２（Ｂ）に示す製造装置は、図１（Ａ）に示すような、長尺な支持体１２の裏面に、接着剤層２０を貼着し、この接着剤層２０に搬送支持体２４を貼着してなる積層体２６の支持体１２の表面（接着剤層２０と逆面）に、無機層１４と有機層１６とを交互に形成して、ガスバリアフィルム１０ａ等を製造するものである。
　従って、図２（Ａ）に示す無機成膜装置３２において被成膜材料Ｚａとなるのは、長尺な積層体２６、および、積層体２６の表面に１以上の層が形成された、表面が有機層１６の材料である。
　他方、図２（Ｂ）に示す有機成膜装置において、被成膜材料Ｚｂとなるのは、長尺な積層体２６、および、積層体２６の表面に１以上の層が形成された、表面が無機層１４の材料である。

　無機成膜装置３２は、被成膜材料Ｚａの表面に、気相堆積法によって無機層１４を形成する装置で、供給室５６と、成膜室５８と、巻取り室６０とを有する。
　なお、無機成膜装置３２は、図示した部材以外にも、搬送ローラ対や、被成膜材料Ｚａの幅方向の位置を規制するガイド部材、各種のセンサなど、長尺な被形成材料を搬送しつつ気相堆積法による成膜を行なう公知の装置に設けられる各種の部材を有してもよい。幅方向とは、搬送方向と直交する方向である。

　供給室５６は、回転軸６４と、ガイドローラ６８と、真空排気手段７０とを有する。
　供給室５６において、積層体２６や有機層１６等を形成された積層体２６である、長尺な被成膜材料Ｚａを巻回した材料ロール６１は、回転軸６４に装填される。
　回転軸６４に材料ロール６１が装填されると、被成膜材料Ｚａは、供給室５６から、成膜室５８を通って、巻取り室６０の巻取り軸９２に至る、所定の搬送経路を通される。ＲｔｏＲを利用する無機成膜装置３２は、材料ロール６１からの被成膜材料Ｚａの送り出しと、巻取り軸９２での無機層形成済の被成膜材料Ｚａの巻き取りとを同期して行なって、被成膜材料Ｚａを長手方向に搬送しつつ、成膜室５８において、被成膜材料Ｚａに連続的に無機層を形成する。

　供給室５６においては、図示しない駆動源によって回転軸６４を図中時計方向に回転して、材料ロール６１から被成膜材料Ｚａを送り出し、ガイドローラ６８によって所定の経路を案内して、隔壁７２に形成されたスリット７２ａから、成膜室５８に送る。

　なお、図示例の無機成膜装置３２には、好ましい態様として、供給室５６に真空排気手段７４を、巻取り室６０に真空排気手段７６を、それぞれ設けている。無機成膜装置３２においては、成膜中は、それぞれの真空排気手段によって、供給室５６および巻取り室６０の圧力を、後述する成膜室５８の圧力に応じた、所定の圧力に保つ。これにより、隣接する室の圧力が、成膜室５８の圧力すなわち成膜に影響を与えることを防止している。
　真空排気手段７０には、特に限定はなく、ターボポンプ、メカニカルブースターポンプ、ドライポンプ、ロータリーポンプなどの真空ポンプ等、真空での成膜装置に用いられている公知の排気手段が、各種、利用可能である。この点に関しては、後述する他の真空排気手段７４および７６も同様である。

　成膜室５８は、被成膜材料Ｚａ（積層体２６あるいは有機層１６）の表面に、気相堆積法によって、無機層を形成するものである。図示例において、成膜室５８は、ドラム８０と、成膜手段８２と、前述の真空排気手段７４とを有する。

　成膜室５８に搬送された被成膜材料Ｚａは、ガイドローラ８４ａによって所定の経路に案内され、ドラム８０の所定位置に巻き掛けられる。被成膜材料Ｚａは、ドラム８０によって所定位置に位置されつつ長手方向に搬送されて、連続的に無機層１４を形成される。

　真空排気手段７４は、成膜室５８内を真空排気して、無機層１４の形成に応じた真空度とするものである。

　ドラム８０は、中心線を中心に図中反時計方向に回転する円筒状の部材である。
　供給室５６から供給され、ガイドローラ８４ａによって所定の経路に案内され、ドラム８０の所定位置に巻き掛けられた被成膜材料Ｚａは、ドラム８０の周面の所定領域に掛け回されて、ドラム８０に支持／案内されつつ、所定の搬送経路を搬送され、成膜手段８２によって、表面に無機層を形成される。
　なお、ドラム８０に温度調節手段を内包して、無機層１４の成膜中に積層体２６を例えば冷却してもよい。

　成膜手段８２は、気相堆積法によって、被成膜材料Ｚａの表面に無機層１４を形成するものである。
　本発明の製造方法において、無機層１４は、前述の特許文献に記載される形成方法等、公知の気相堆積法（気相成膜法）で形成すればよい。従って、成膜手段８２での成膜方法にも、特に限定は無く、ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、スパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティング等、公知の成膜方法が、全て、利用可能である。

　従って、成膜手段８２は、実施する気相堆積法に応じた、各種の部材で構成される。
　例えば、成膜室５８がＩＣＰ－ＣＶＤ法（誘導結合型プラズマＣＶＤ）によって無機層１４の成膜を行なうものであれば、成膜手段８２は、誘導磁場を形成するための誘導コイルや、成膜領域に反応ガスを供給するためのガス供給手段等を有して構成される。
　成膜室５８が、ＣＣＰ－ＣＶＤ法（容量結合型プラズマＣＶＤ）によって無機層１４の成膜を行なうものであれば、成膜手段８２は、中空状でドラム６２に対向する面に多数の小孔を有し反応ガスの供給源に連結される、高周波電極および反応ガス供給手段として作用するシャワー電極等を有して構成される。
　成膜室５８が真空蒸着によって無機層１４の成膜を行なうものであれば、成膜手段８２は、成膜材料を充填するルツボ（蒸発源）、ルツボを遮蔽するシャッタ、ルツボ内の成膜材料を加熱する加熱手段等を有して構成される。
　さらに、成膜室５８が、スパッタリングによって無機層１４の成膜を行なうものであれば、成膜手段８２は、ターゲットの保持手段や高周波電極、ガスの供給手段等を有して構成される。

　なお、無機層１４の形成条件は、成膜手段８２の種類、目的とする膜厚や成膜レート等に応じて、適宜、設定すればよい。

　ドラム８０に支持／搬送されつつ、無機層１４を形成された被成膜材料Ｚａは、ガイドローラ８４ｂによって所定経路に案内されて、隔壁７５に形成されたスリット７５ａから、巻取り室６０に搬送される。

　図示例において、巻取り室６０は、ガイドローラ９０と、巻取り軸９２と、前述の真空排気手段７６とを有する。
　巻取り室６０に搬送された成膜済の被成膜材料Ｚａは、巻取り軸９２によってロール状に巻回され、無機層１４を形成された被成膜材料Ｚａを巻回してなる材料ロール９３として有機成膜装置３０に供給され、あるいは、ガスバリアフィルム１０ｃ等を巻回してなる材料ロール９３として次工程に供給される。

　図２（Ｂ）に示す有機成膜装置３０は、長尺な被成膜材料Ｚｂを長手方向に搬送しつつ、有機層１６となる塗料を塗布し、乾燥した後、光照射によって塗膜に含まれる有機化合物を架橋して硬化し、有機層１６を形成する装置である。
　図示例において、有機成膜装置３０は、一例として、塗布手段３６と、乾燥手段３８と、光照射手段４０と、回転軸４２と、巻取り軸４６と、搬送ローラ対４８および５０とを有する。
　なお、有機成膜装置３０は、図示した部材以外にも、搬送ローラ対、被成膜材料Ｚｂのガイド部材、各種のセンサなど、長尺な被形成材料を搬送しつつ塗布による成膜を行なう公知の装置に設けられる各種の部材を有してもよい。

　有機成膜装置３０において、積層体２６や、無機層１４等を形成された積層体２６である長尺な被成膜材料Ｚｂを巻回してなる材料ロール９３は、回転軸４２に装填される。
　回転軸４２に材料ロール９３が装填されると、被成膜材料Ｚｂは、材料ロール９３から引き出され、搬送ローラ対４８を経て、塗布手段３６、乾燥手段３８および光照射手段４０の下部を通過して、搬送ローラ対５０を経て、巻取り軸４６に至る、所定の搬送経路を通される。

　ＲｔｏＲを利用する有機成膜装置３０では、材料ロール９３からの被成膜材料Ｚｂの送り出しと、巻取り軸４６における有機層を形成した被成膜材料Ｚｂの巻き取りとを同期して行なう。これにより、長尺な被成膜材料Ｚｂを所定の搬送経路で長手方向に搬送しつつ、塗布手段３６によって有機層となる塗料を塗布し、乾燥手段３８によって塗料を乾燥し、光照射手段４０によって硬化することによって、有機層を形成する。

　塗布手段３６は、被成膜材料Ｚｂの表面に、予め調製した、有機層１６を形成する塗料を塗布するものである。
　この塗料は、有機溶剤に、架橋して重合することによって有機層１６となる有機化合物を、有機溶剤に溶解してなるものである。また、好ましくは、この塗料は、有機層１６の密着性を向上するために、シランカップリング剤を含有する。さらに、この塗料には、界面活性剤（表面調節剤）、架橋剤（重合開始剤）、増加粘剤等の必要な成分を、適宜、添加してもよい。

　塗布手段３６において、被成膜材料Ｚｂへの塗料の塗布方法には、特に限定は無い。
　従って、塗料の塗布は、ダイコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スライドコート法等の公知の塗料の塗布方法が、全て利用可能である。
　中でも、非接触で塗料を塗布できるので被成膜材料Ｚｂ（無機層１４）の表面を損傷しない、ビードの形成により被成膜材料Ｚｂの表面の凹凸等の包埋性に優れる、等の理由で、ダイコート法は、好適に利用される。ビートとは、液溜まりのことである。

　前述のように、被成膜材料Ｚｂは、次いで、乾燥手段３８に搬送され、塗布手段３６が塗布した塗料を乾燥される。
　乾燥手段３８により塗料の乾燥方法には、限定はなく、被成膜材料Ｚｂが光照射手段４０に至る前に、塗料を乾燥して、架橋が可能な状態にできるものであれば、公知の乾燥手段が全て利用可能である。公知の方法が、各種利用可能である。一例として、ヒータによる加熱乾燥、温風による加熱乾燥等が例示される。

　被成膜材料Ｚｂは、次いで、光照射手段４０に搬送される。光照射手段４０は、塗布手段３６が塗布し乾燥手段３８が乾燥した塗料に、紫外線や可視光などを照射して、塗料に含まれる有機化合物を架橋して硬化し、有機層１６とするものである。
　光照射手段４０による塗膜の硬化時には、必要に応じて、被成膜材料Ｚｂにおける光照射手段４０による光照射領域を、窒素置換等による不活性雰囲気（無酸素雰囲気）とするようにしてもよい。また、必要に応じて、裏面に当接するバックアップローラ等を用いて、硬化時に被成膜材料Ｚｂすなわち塗膜の温度を調節するようにしてもよい。

　なお、本発明において、有機層となる有機化合物の架橋は、光重合に限定はされない。すなわち、有機化合物の架橋は、加熱重合、電子ビーム重合、プラズマ重合等、有機層１６となる有機化合物に応じた、各種の方法が利用可能である。
　本発明においては、前述のように、有機層１６としてアクリル樹脂やメタクリル樹脂などのアクリル系樹脂が好適に利用されるので、光重合が好適に利用される。

　このようにして有機層１６を形成された被成膜材料Ｚｂは、搬送ローラ対５０に挟持搬送されて巻取り軸４６に至り、巻取り軸４６によって、再度、ロール状に巻き取られ、有機層１６を形成された被成膜材料Ｚｂを巻回してなる材料ロール６１とされる。
　この材料ロール６１は、有機層１６を形成した被成膜材料Ｚｂを巻回してなる材料ロール６１として無機成膜装置３２に供給され、もしくは、ガスバリアフィルム１０ａや１０ｂを巻回してなる材料ロール６１として次工程に供給される。

　以下、図２に示す製造装置において、図１（Ａ）に示す、無機層１４を２層、有機層１６を２層形成したガスバリアフィルム１０ａを作製する際の作用を説明する。
　なお、図１（Ｂ）に示すガスバリアフィルム１０ｂ、および、図１（Ｃ）に示すガスバリアフィルム１０ｃ等や、その他の層構成を有するガスバリアフィルムを作製する際にも、形成する無機層１４の数および有機層１６の数や、層構成に応じて、同様の無機層１４および有機層１６の形成を繰り返し行えばよい。

　まず、長尺な支持体１２に接着剤層２０を形成し、この接着剤層２０に搬送支持体２４を貼着してなる、長尺な積層体２６を作製する。
　この積層体２６は、例えば、図２（Ｂ）に示すような公知の有機層の成膜装置に、材料ロールからの長尺なシート状物の送りだし手段や、積層ローラ（積層ローラ対）などの長尺なシート状物に長尺なシート状物を積層する手段を組み込んだ装置等を用いるなど、２つのシート状物を接着剤（粘着剤）で貼着してなる長尺な積層体シートを作製する、ＲｔｏＲによる公知の方法で製造すればよい。
　なお、積層体２６の作製において、接着剤層２０となる塗料の乾燥および硬化が不要な場合には、乾燥部および硬化部は不要である。また、接着剤層２０は、接着剤層２０となる長尺な粘着シートを支持体１２に貼着することで形成してもよい。

　なお、積層体２６は、搬送支持体２４に接着剤層２０を貼着した積層体を形成し、この積層体の接着剤層２０に支持体１２を貼着して作製してもよく、あるいは、支持体１２に接着剤層２０を貼着した積層体を形成し、この積層体の接着剤層２０に搬送支持体２４を貼着して作製してもよい。ここで、本発明においては、好ましくは支持体１２として低レタデーションフィルムを用いるので、搬送支持体２４に接着剤層２０を形成した積層体を作製し、これに支持体１２を積層する方法が、好適に利用される。
　また、この積層体２６の作製の際に、前述のように搬送支持体２４の離型処理等を施して、支持体１２と接着剤層２０とを強粘着とし、搬送支持体２４と接着剤層２０とを微粘着とする。

　このような積層体２６を巻回してなるロールを作製したら、このロールを材料ロール６１として、無機成膜装置３２の供給室５６の回転軸６４に装填する。
　材料ロール６１が回転軸６４に装填されると、被成膜材料Ｚｂ（積層体２６）が引き出され、供給室５６から、成膜室５８を経て巻取り室６０の巻取り軸９２に至る所定の経路を通される。

　材料ロール６１から送り出された被成膜材料Ｚａは、ガイドローラ６８によって案内されて成膜室５８に搬送される。
　成膜室５８に搬送された、被成膜材料Ｚａは、ガイドローラ８４ａに案内されてドラム８０に巻き掛けられ、ドラム８０に支持されて所定の経路を搬送されつつ、成膜手段８２によって、例えば、ＣＣＰ－ＣＶＤによって、１層目の無機層１４を形成される。
　なお、無機層１４の形成は、形成する無機層１４に応じて、公知の気相堆積法による成膜方法で行えばよい。従って、使用するプロセスガスや成膜条件等は、形成する無機層１４や膜厚等に応じて、適宜、設定／選択すればよい。

　無機層１４を形成された被成膜材料Ｚａは、ガイドローラ８４ｂに案内されて、巻取り室６０に搬送される。
　巻取り室６０に搬送された被成膜材料Ｚａは、ガイドローラ９０によって巻取り軸９２に案内され、巻取り軸９２によってロール状に巻回され、材料ロール９３とされる。

　１層目の無機層１４を形成された積層体２６を巻回してなる材料ロール９３は、有機成膜装置３０の回転軸４２に装填される。
　回転軸４２に材料ロール９３が装填されると、被成膜材料Ｚｂ（１層目の無機層１４を形成された積層体２６）は、材料ロール９３から引き出され、搬送ローラ対４８を経て、塗布手段３６、乾燥手段３８および光照射手段４０を通過して、搬送ローラ対５０を経て、巻取り軸４６に至る、所定の搬送経路を通される。

　材料ロール９３から引き出された被成膜材料Ｚｂは、搬送ローラ対４８によって塗布手段３６に搬送され、表面に、有機層１６となる塗料が塗布される。前述のように、有機層１６となる塗料は、形成する有機層１６に応じたモノマー等の有機化合物、シランッカップリング剤、重合開始剤等を有機溶剤に溶解してなるものである。
　有機層１６となる塗料が塗布された被成膜材料Ｚｂは、次いで、乾燥手段３８によって加熱されて、有機溶剤を除去され塗料が乾燥される。

　塗料が乾燥された被成膜材料Ｚｂは、次いで、光照射部によって紫外線等を照射され、有機化合物が架橋して硬化され、１層目の有機層１６が形成される。なお、必要に応じて、有機層１６となる有機化合物の硬化は、窒素雰囲気等の不活性雰囲気で行うようにしてもよい。また、有機層１６となる有機化合物の硬化の際に、積層体２６を加熱してもよい。

　１層目の有機層１６が形成された被成膜材料Ｚｂは、搬送ローラ対５０によって搬送されて、巻取り軸４６によってロール状に巻回され、無機層１４および有機層１６が１層ずつ形成された積層体２６を巻回してなる材料ロール６１として、再度、図２（Ａ）に示す無機成膜装置３２に供給される。

　無機層１４および有機層１６が１層ずつ形成された積層体２６を巻回してなる材料ロール６１は、先と同様、無機成膜装置３２の回転軸６４に装填され、材料ロール６１から、無機層１４および有機層１６が１層ずつ形成された積層体２６が被成膜材料Ｚａとして引き出されて巻取り軸９２まで通紙され、１層目の有機層１６の上に２層目の無機層１４が形成されて、無機層１４、有機層１６および無機層１４が形成された積層体２６を巻回してなる材料ロール９３とされ、再度、図２（Ｂ）に示す有機成膜装置３０に供給される。

　無機層１４、有機層１６および無機層１４が形成された積層体２６を巻回してなる材料ロール９３は、先と同様に、回転軸４２に装填され、無機層１４、有機層１６および無機層１４が形成された積層体２６が被成膜材料Ｚｂとして引き出されて巻取り軸４６まで通紙され、２層目の無機層１４の上に、有機層１６となる塗料が塗布、乾燥され、さらに、硬化されて、２層の無機層１４と２層の有機層１６とが形成された、図１（Ａ）に示されるガスバリアフィルム１０ａとされる。
　このガスバリアフィルム１０ａは、巻取り軸４６にロール状に巻回され、ガスバリアフィルム１０ａが巻回された材料ロール６１として、製品として出荷あるいは保管され、もしくは、次工程等に供給される。

　ここで、本発明においては、前述のように、搬送支持体２４を有するので、支持体１２が薄手で折れ曲がり易くても、ＲｔｏＲによる無機層１４や有機層１６の形成において、安定した被成膜材料ＺａおよびＺｂの搬送が可能である。
　また、前述のように、積層体２６は、接着剤層２０と支持体１２との粘着力が５～５０Ｎ／２５ｍｍで、接着剤層２０を搬送支持体２４との粘着力が０．０１～１Ｎ／２５ｍｍである。そのため、無機層１４の形成によって加熱され、また、有機層１６の形成において塗料を乾燥するために加熱され、支持体１２と搬送支持体２４とが異なる変形をしても、接着剤層２０と搬送支持体２４とが剥離および貼着を繰り返すことで、この互いに異なる変形を吸収するので、支持体１２と搬送支持体２４の剥離や支持体１２のシワ等が生じることがなく、これに起因する無機層１４の損傷を防止できる。

　以上、本発明の機能性フィルムおよび機能性フィルムの製造方法について詳細に説明したが、本発明は、上記実施例に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行なってもよいのは、もちろんである。

　以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明を、より詳細に説明する。
　［実施例１］
　支持体１２として、幅１０００ｍｍで厚さが５０μｍの長尺なＣＯＣフィルム（グンゼ社製、Ｆ１フィルム）を用意した。この支持体１２の熱収縮は、ＭＤ方向が０．０５％、ＴＤ方向が０．０２％である。
　また、搬送支持体２４として、幅が１０００ｍｍで厚さが５０μｍの長尺なＰＥＴフィルム（東レ社製、ルミラー）を用意した。このＰＥＴフィルムの熱収縮は、ＭＤ方向が１％、ＴＤ方向が０．５％である。また、この搬送支持体２４の表面に、フッ素コートによる離型処理を施した。

　搬送支持体２４の離型処理を施した面に、接着剤層２０として、アクリル系ＯＣＡ（パナック社製、ＰＤＳ１）を塗布した。なお、アクリル系ＯＣＡは、硬化後の接着剤層２０の厚さが２５μｍとなるように塗布した。
　次いで、接着剤層２０に支持体１２（ＣＯＣフィルム）を貼着して、支持体１２、接着剤層２０および搬送支持体２４からなる積層体２６を作製した。
　なお、以上の処理は、接着剤の塗布手段や、長尺なシート状物の積層手段を有する、ＲｔｏＲによる公知の装置を用いて行った。
　この積層体２６の支持体１２および搬送支持体２４と接着剤層２０との粘着力を、ＪＩＳ　Ｚ　０２３７にならった剥離試験方法で測定したところ、支持体１２と接着剤層２０との粘着力が２０Ｎ／２５ｍｍ、搬送支持体２４と接着剤層２０との粘着力が０．５Ｎ／２５ｍｍであった。

　この積層体２６として巻回してなる材料ロール６１を、図２（Ａ）に示す無機成膜装置３２の回転軸６４に装填して、支持体１２の表面（接着剤層２０と逆側の面）に、厚さ２５ｎｍの無機層１４を形成した。すなわち、積層体２６が被成膜材料Ｚａである。

　成膜ガスは、シランガス(ＳｉＨ₄）、アンモニアガス(ＮＨ₃）、窒素ガス(Ｎ₂）および水素ガス(Ｈ₂）を用いた。供給量は、シランガスが１００sccm、アンモニアガスが２００sccm、窒素ガスが５００sccm、水素ガスが５００sccmとした。また、成膜圧力は５０Ｐａとした。
　シャワー成膜電極には、高周波電源から、周波数１３．５ＭＨｚで３０００Ｗのプラズマ励起電力を供給した。さらに、ドラム６２には、バイアス電源から、５００Ｗのバイアス電力を供給した。また、成膜中は、ドラム６２の温度を－２０℃に調整した。

　無機層１４の形成を終了したら、供給室５６、成膜室５８および巻取り室６０に清浄化した乾燥空気を導入して大気開放した。
　次いで、無機層１４を形成した積層体２６を巻回してなる材料ロール９３を、巻取り室６０から取り出した。

　無機層１４を形成した積層体２６を巻回してなる材料ロール９３を、図２（Ｂ）に示す有機成膜装置３０の回転軸４２に装填して、無機層１４の表面に、厚さ３μｍの有機層１６を形成した。すなわち、無機層１４を形成した積層体２６が被成膜材料Ｚｂである。
　有機層１６を形成する塗料は、ＭＥＫに、ＴＭＰＴＡ（ダイセル・サイテック社製）、光重合開始剤（チバケミカルズ社製　Ｉｒｇ１８９）、シランカップリング剤（信越シリコーン社製　ＫＢＭ５１０３）、および、増加粘剤（大成ファインケミカル社製　アクリット８ＢＲ５００）を添加して、調製した。すなわち、有機層１６は、ＴＭＰＴＡを重合してなる層である。
　光重合開始剤の添加量は、有機溶剤を除いた濃度で２質量％、シランカップリング剤の添加量は、有機溶剤を除いた濃度で１０質量％、増加粘剤の添加量は、有機溶剤を除いた濃度で１質量％とした。すなわち、この塗料において、固形分における有機化合物の量は８７質量％である。
　また、これらの比率で配合した成分をＭＥＫに希釈した塗料の固形分濃度は、１５質量％とした。すなわち、この塗料において、ＭＥＫの量は８５質量％である。

　塗布手段３６はダイコータを用いた。乾燥手段３８は、ノズルからの乾燥風を吹き出す装置を用い、乾燥は８０℃で行った。さらに、光照射手段４０からは紫外線を照射して、重合を行った。なお、紫外線による硬化は、紫外線の照射量が積算照射量で約５００ｍＪ／ｃｍ²となるようにして、支持体１２を裏面側から８０℃に加熱しながら行った。

　次いで、無機層１４の上に有機層１６を形成した積層体２６を巻回してなる材料ロール６１を、再度、図２（Ａ）に示す無機成膜装置３２に装填し、先と同様にして、厚さ５０ｎｍの無機層１４を形成して、無機層１４、有機層１６および無機層１４を形成してなる積層体２６を巻回してなる材料ロール９３を得た。

　さらに、この材料ロール９３を、再度、図２（Ｂ）に示す有機成膜装置３０に装填し、先と同様にして、厚さ０．５μｍの有機層１６を形成して、支持体１２、接着剤層２０および搬送支持体２４からなる積層体２６の表面に、無機層１４、有機層１６、無機層１４および有機層１６を形成してなる、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。

　［実施例２～３］
　支持体１２の厚さを２５μｍとした以外（実施例２）；　および、
　支持体１２の厚さを１００μｍとした以外（実施例３）；
は、実施例１と同様にして、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。
　支持体１２はＣＯＣフィルムである。

　［実施例４～７］
　搬送支持体２４の厚さを１２μｍにした以外（実施例４）；
　搬送支持体２４の厚さを７５μｍにした以外（実施例５）；
　支持体１２の厚さを２５μｍとし、搬送支持体２４の厚さを１２μｍにした以外（実施例６）；　および、
　支持体１２の厚さを２５μｍとし、搬送支持体２４の厚さを１００μｍにした以外（実施例７）；
は、実施例１と同様にして図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。
　搬送支持体２４はＰＥＴフィルム、支持体１２はＣＯＣフィルムである。

　［実施例８～１１］
　接着剤層２０の厚さを５μｍにした以外（実施例８）；
　接着剤層２０の厚さを１０μｍにした以外（実施例９）；
　接着剤層２０の厚さを１００μｍにした以外（実施例１０）；　および、
　接着剤層２０の厚さを２００μｍにした以外（実施例１１）；
は、実施例１と同様にして、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。
　接着剤層２０はアクリル系ＯＣＡである。

　［実施例１２～１３］
　支持体１２の裏面にフッ素コートを施した以外（実施例１２）；　および、
　支持体１２の裏面にコロナ処理を施した以外（実施例１３）；
は、実施例１と同様にして、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。
　実施例１と同様に支持体１２と接着剤層２０との粘着力を測定したところ、実施例１２が５Ｎ／２５ｍｍ、実施例１３が３０Ｎ／２５ｍｍであった。
　支持体１２はＣＯＣフィルム、接着剤層２０はアクリル系ＯＣＡ、支持体１２の裏面とは接着剤層２０の形成面である。

　［実施例１４～１６］
　支持体１２を厚さ５０μｍのＰＣフィルム（帝人社製　Ｔ１３８）に変更した以外（実施例１４）；
　支持体１２を厚さ２５μｍのＰＣフィルムに変更した以外（実施例１５）；　および、
　支持体を１２を厚さ１００μｍのＰＣフィルムに変更した以外（実施例１６）；
は、実施例１と同様にして、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。
　なお、この支持体１２の熱収縮は、ＭＤ方向が０．３％、ＴＤ方向が０．３％である。
　また、実施例１と同様に支持体１２と接着剤層２０との粘着力を測定したところ、いずれも２０Ｎ／２５ｍｍであった。
　接着剤層２０はアクリル系ＯＣＡである。

　［実施例１７～１８］
　搬送支持体２４の表面に実施例１とは異なるフッ素コートによる離型処理を施した以外（実施例１７）；　および、
　搬送支持体２４の表面に実施例１とは異なるフッ素コートによる離型処理を施した以外（実施例１８）；
は、実施例１と同様にして、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。なお、実施例１８のフッ素コートは、実施例１７とも異なるフッ素コートとした。
　実施例１と同様に、搬送支持体２４と接着剤層２０との粘着力を測定したところ、実施例１７は、０．０１Ｎ／２５ｍｍ、実施例１８は、１Ｎ／２５ｍｍであった。
　搬送支持体２４はＰＥＴフィルム、接着剤層２０はアクリル系ＯＣＡである。

　［実施例１９］
　接着剤層２０として、２液硬化型のウレタン接着剤（三井化学社製　タケネート）を用いた以外は、実施例１と同様にして、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。
　実施例１と同様に支持体１２および搬送支持体２４と接着剤層２０との粘着力を測定したところ、支持体１２と接着剤層２０との粘着力は２０Ｎ／２５ｍｍ、搬送支持体２４と接着剤層２０との粘着力は０．５Ｎ／２５ｍｍであった。
　支持体１２ははＣＯＣフィルム、搬送支持体２４はＰＥＴフィルムである。

　［比較例１］
　搬送支持体２４の表面の離型処理を行わない以外は、実施例１と同様にして、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。
　実施例１と同様に支持体１２および搬送支持体２４と接着剤層２０との粘着力を測定したところ、支持体１２と接着剤層２０および搬送支持体２４と接着剤層２０共に、２０Ｎ／２５ｍｍであった。
　支持体１２はＣＯＣフィルム、搬送支持体２４はＰＥＴフィルム、接着剤層２０はアクリル系ＯＣＡである。

　［比較例２］
　搬送支持体２４の表面の離型処理を行わず、支持体１２の接着剤層２０との貼着面に同様の離型処理を施した以外は、実施例１と同様にして、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。
　実施例１と同様に支持体１２および搬送支持体２４と接着剤層２０との粘着力を測定したところ、支持体１２と接着剤層２０との粘着力は０．５Ｎ／２５ｍｍ、搬送支持体２４と接着剤層２０との粘着力は２０Ｎ／２５ｍｍであった。
　支持体１２はＣＯＣフィルム、搬送支持体２４はＰＥＴフィルム、接着剤層２０はアクリル系ＯＣＡである。

　［比較例３］
　支持体１２の裏面にコロナ処理を施した以外は、実施例１と同様にして、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。なお、このコロナ処理の条件は、先の実施例１３とは異なる条件とした。
　実施例１と同様に、搬送支持体２４と接着剤層２０との粘着力を測定した結果、支持体１２と接着剤層２０との粘着力は５５Ｎ／２５ｍｍであった。
　支持体１２はＣＯＣフィルム、接着剤層２０はアクリル系ＯＣＡ、支持体１２の裏面とは接着剤層２０の形成面である。

　［比較例４］
　搬送支持体２４の表面に実施例１とは異なるフッ素コートによる離型処理を施した以外は、実施例１と同様にして、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。なお、このフッ素コートは、先の実施例１７および実施例１８とも異なるものとした。
　実施例１と同様に、搬送支持体２４と接着剤層２０との粘着力を測定した結果、０．００５Ｎ／２５ｍｍであった。
　搬送支持体２４はＰＥＴフィルム、接着剤層２０はアクリル系ＯＣＡである。

　［比較例５］
　支持体１２の裏面に、搬送支持体２４と同じフッ素コートによる離型処理を施した以外は、実施例１と同様にして、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。
　実施例１と同様に、支持体１２と接着剤層２０との粘着力を測定した結果、０．５Ｎ／２５ｍｍであった。
　支持体１２はＣＯＣフィルム、搬送支持体２４はＰＥＴフィルム、接着剤層２０はアクリル系ＯＣＡ、支持体１２の裏面とは接着剤層２０の形成面である。

　［評価］
　このようにして作製した実施例１～１９および比較例１～２のガスバリアフィルム１０ａについて、搬送支持体２４を剥離した後、接着剤層２０に外光反射防止用のλ／４フィルム（帝人社製のＰＣフィルム）を貼着して、ガスバリア性および全光線透過率を評価した。

　＜ガスバリア性＞
　λ／４フィルムを貼着したガスバリアフィルムの水蒸気透過率[g/(m²・day)]を、カルシウム腐食法（特開２００５－２８３５６１号公報に記載される方法）によって、測定した。なお、恒温恒湿処理の条件は、温度４０℃、湿度９０％ＲＨとした。
　７×１０^-6[g/(m²・day)]未満のものを『ＡＡＡ』；
　７×１０^-6[g/(m²・day)]以上、９×１０^-6[g/(m²・day)]未満のものを『ＡＡ』；
　９×１０^-6[g/(m²・day)]以上、２．５×１０^-5[g/(m²・day)]未満のものを『Ａ』；
　２．５×１０^-5[g/(m²・day)]以上、４．５×１０^-5[g/(m²・day)]未満のものを『Ｂ』；
　４．５×１０^-5[g/(m²・day)]以上、９×１０^-5[g/(m²・day)]未満のものを『Ｃ』；
　９×１０^-5[g/(m²・day)]以上、２×１０^-4[g/(m²・day)]未満のものを『Ｄ』；
　２×１０^-4[g/(m²・day)]以上のものを『Ｅ』；　と、評価した。

　＜全光線透過率＞
　λ／４フィルムを貼着したガスバリアフィルムの全光線透過率を、日本電色工業社製のＮＤＨ５０００を用いて、ＪＩＳ　Ｋ　７３６１に準拠して測定した。
　結果を下記の表に示す。

上記表に示されるように、本発明のガスバリアフィルムは、いずれも、９×１０^-5[g/(m²・day)]未満という優れたガスバリア性を有する。また、支持体１２として、光学特性に優れるＣＯＣフィルムやＰＣフィルムを用い、かつ、接着剤層２０としてＯＣＡを用いることにより、全光線透過率も９０％と、良好な光学特性を有している。なお、実施例１７は、接着剤層２０として２液性硬化型のウレタン接着剤を用いたため、全光線透過率が他の物よりも低い。

　これに対し、支持体１２および搬送支持体２４と、接着剤層２０との粘着力が共に２０Ｎ／２５ｍｍである比較例１は、無機層１４および有機層１６の形成時に、接着剤層２０と支持体１２との剥離が生じ、これに起因して、無機層１４が損傷して、ガスバリア性が低下したと考えられる。
　また、支持体１２と接着剤層２０との粘着力が０．５Ｎ／２５ｍｍで、搬送支持体２４と接着剤層２０との粘着力が２０Ｎ／２５ｍｍである比較例２は、搬送支持体２４と接着剤層２０との粘着力が大きい。そのため、熱収縮率が大きい搬送支持体２４の変形が支持体１２に伝播され、支持体１２にシワが発生し、この支持体１２のシワに起因して無機層１４に割れやヒビ等が生じてしまい、ガスバリア性が低下したと考えられる。
　また、支持体１２と接着剤層２０との粘着力が５５Ｎ／２５ｍｍで、搬送支持体２４と接着剤層２０との粘着力が０．５Ｎ／２５ｍｍである比較例３は、支持体１２と接着剤層２０との接着力が強すぎて剛性が高い状態となってしまった。そのため、支持体１２の変形を抑制できず、この支持体１２の変形に起因して無機層１４に割れやヒビ等が生じてしまい、ガスバリア性が低下したと考えられる。
　また、支持体１２と接着剤層２０との粘着力が２０Ｎ／２５ｍｍで、搬送支持体２４と接着剤層２０との粘着力が０．００５Ｎ／２５ｍｍである比較例４は、搬送支持体２４の剥離が生じて、無機層１４の形成時等に搬送が不安定になってしまい、これに起因して無機層１４に割れやヒビ等が生じてしまい、ガスバリア性が低下したと考えられる。
　さらに、支持体１２と接着剤層２０との粘着力および搬送支持体２４と接着剤層２０との粘着力が共に０．５Ｎ／２５ｍｍである比較例５は、支持体１２と接着剤層２０との粘着力が弱すぎる。そのため、支持体１２が変形してシワが発生し、この支持体１２のシワに起因して無機層１４に割れやヒビ等が生じてしまい、ガスバリア性が低下したと考えられる。
　以上の結果より、本発明の効果は明らかである。

　有機ＥＬデバイスの保護フィルム等として、好適に利用可能である。

　１０ａ，１０ｂ，１０ｃ　ガスバリアフィルム
　１２　支持体
　１４　無機層
　１６　有機層
　２０　接着剤層
　２４　搬送支持体
　２６　積層体
　３０　有機成膜装置
　３２　無機成膜装置
　３６　塗布手段
　３８　乾燥手段
　４０　光照射手段
　４２，６４　回転軸
　４６，９２　巻取り軸
　４８，５０　搬送ローラ対
　５６　供給室
　５８　成膜室
　６０　巻取り室
　６１，９３　材料ロール
　６８，８４ａ，８４ｂ，９０　ガイドローラ
　７０，７４，７６　真空排気手段
　７２，７５　隔壁
　８０　ドラム

Claims

　支持体と、前記支持体の上に交互に形成された有機層および無機層と、前記支持体の有機層および無機層の形成面と逆面に貼着される接着剤層と、この接着剤層に貼着される、前記支持体と異なる熱的特性を有する搬送支持体とを有し、かつ、
　前記接着剤層と支持体との粘着力が５～５０Ｎ／２５ｍｍで、前記接着剤層と搬送支持体との粘着力が０．０１～１Ｎ／２５ｍｍであることを特徴とする機能性フィルム。
　前記接着剤層の厚さが１５～２５０μｍである請求項１に記載の機能性フィルム。
　前記接着剤層は、全光線透過率が８５％以上で、リタデーション値が５ｎｍ以下である請求項１または２に記載の機能性フィルム。
　前記支持体は、リタデーション値が３００ｎｍ以下である請求項１～３のいずれか１項に記載の機能性フィルム。
　前記支持体は、ガラス転移温度が１３０℃以上で、熱収縮率が０．５％以下で、厚さが２０～１２０μｍであり、
　前記搬送支持体は、ガラス転移温度が６０℃以上で、熱収縮率が０．５％超で２％以下、厚さが１２～１００μｍである請求項１～４のいずれか１項に記載の機能性フィルム。
　５～５０Ｎ／２５ｍｍの粘着力で支持体と接着剤層とが貼着され、かつ、前記接着剤層の支持体と逆面に、０．０１～１Ｎ／２５ｍｍの粘着力で、前記支持体と熱的特性が異なる搬送支持体が貼着されてなる、長尺な積層体を作製し、
　この積層体を長手方向に搬送しつつ、前記支持体の接着剤層と逆面に、塗布法による有機層および気相成膜法による無機層を、交互に形成することを特徴とする機能性フィルムの製造方法。
　前記接着剤層の厚さが１５～２５０μｍである請求項６に記載の機能性フィルムの製造方法。
　前記接着剤層は、全光線透過率が８５％以上で、リタデーション値が５ｎｍ以下である請求項６または７に記載の機能性フィルムの製造方法。
　前記支持体は、リタデーション値が３００ｎｍ以下である請求項６～８のいずれか１項に記載の機能性フィルムの製造方法。
　前記支持体は、ガラス転移温度が１３０℃以上で、熱収縮率が０．５％以下で、厚さが２０～１２０μｍであり、
　前記搬送支持体は、ガラス転移温度が６０℃以上で、熱収縮率が０．５％超で２％以下、厚さが１２～１００μｍである請求項６～９のいずれか１項に記載の機能性フィルムの製造方法。