JP6132668B2 - 誘電体磁器組成物および電子部品 - Google Patents

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Description

本発明は、誘電体磁器組成物および該誘電体磁器組成物が誘電体層に適用された電子部品に関する。詳しくは、種々の特性を良好に保ちつつ、高い交流破壊電圧を示す誘電体磁器組成物および該誘電体磁器組成物が適用された電子部品に関する。
セラミック電子部品の一例としてのセラミックコンデンサは、小型、高性能、高信頼性の電子部品として広く利用されており、電気機器および電子機器の中で使用される個数も多数にのぼる。近年、機器の小型かつ高性能化に伴い、セラミックコンデンサに対する更なる小型化、高性能化、高信頼性化への要求はますます厳しくなっている。
たとえば、高電圧で使用される高電圧用セラミックコンデンサは、主に、送配電設備やパルスエネルギーを処理する設備等で用いられている。
高電圧用セラミックコンデンサとしては、たとえば、貫通型セラミックコンデンサが例示される。貫通型セラミックコンデンサは、電子レンジに備えられたマグネトロンから漏れる高周波ノイズを遮断するために用いられる。コンデンサの素子本体は、高電圧により生じる電荷を受け続けるため、素子本体の誘電体層に絶縁破壊が生じる恐れがある。このような絶縁破壊が生じると、電子レンジが故障し、火事や感電の恐れがある。
したがって、誘電体層の絶縁破壊を防ぐためには、耐電圧性が良好な誘電体磁器組成物を誘電体層に適用する必要がある。また、コンデンサの発熱を抑えるためには、誘電損失が低い誘電体磁器組成物が求められる。さらには、高周波ノイズを遮断する効果を高めるため、あるいは、小型化のニーズに応えるため、誘電体磁器組成物には高い比誘電率が求められる。
このような要求に対し、たとえば、特許文献1には、組成式(Ba1−x Ca)(Ti1−y Zr)Oで表される主成分に、希土類元素と、Fe、NiおよびZnと、を添加したセラミックコンデンサが記載されている。特許文献1の実施例には、比誘電率が10000以上である試料が記載されている。しかしながら、実施例に記載された試料は、誘電損失が1%を超えるものが多く、交流破壊電圧も5kV/mm程度である。
また、特許文献2には、組成式(1−α)BaTiO−αBaZrOで表される主成分に、副成分として、希土類元素と、Mgと、Fe、NiおよびZnと、を添加したセラミックコンデンサが記載されている。特許文献2の実施例に記載された試料の比誘電率は3500程度である。また、多くの試料の誘電損失は1%を超えており、交流破壊電圧も6kV/mm程度である。
また、特許文献3には、BaTiOにBi、Sn、Zr、Al、SiおよびMnを添加した組成物を主成分とし、これにLi、Fe、Ni、Zn、Sr、LaおよびTaを添加した誘電体磁器組成物が記載されている。
しかしながら、より高い電圧で使用する場合には、特許文献1および2に記載されたコンデンサでは、交流破壊電圧が不十分であるという問題があった。また、特許文献3に記載された誘電体磁器組成物は高電圧用ではなく温度補償用であり、交流破壊電圧については何ら評価されていなかった。
特開2006−96576号公報 特開2005−67941号公報 特開昭52−92400号公報
本発明は、このような実状に鑑みてなされ、種々の特性を良好に保ちつつ、高い交流破壊電圧を示す誘電体磁器組成物を提供すること、および該誘電体磁器組成物が誘電体層に適用された電子部品を提供することを目的とする。
すなわち、上記課題を解決する本発明は、以下のとおりである。
(1)組成式Ba(Ti1−y Sn)Oで表される化合物と、Znの酸化物と、を含有する誘電体磁器組成物であって、
前記組成式中の前記xが0.970〜0.996であり、前記yが0.050〜0.130であり、
前記Znの酸化物の含有量が、前記化合物100重量部に対して、ZnO換算で1.5〜8.0重量部であることを特徴とする誘電体磁器組成物。
(2)前記誘電体磁器組成物が、さらにNbの酸化物を含有し、前記Nbの酸化物の含有量が、前記化合物100重量部に対して、Nb換算で、0.6重量部以下である前記(1)に記載の誘電体磁器組成物。
(3)前記誘電体磁器組成物が、さらにSiの酸化物を含有し、前記Siの酸化物の含有量が、前記化合物100重量部に対して、SiO換算で、2.0重量部以下である前記(2)に記載の誘電体磁器組成物。
(4)前記誘電体磁器組成物が、さらにAlの酸化物を含有し、前記Alの酸化物の含有量が、前記化合物100重量部に対して、Al換算で、0.8重量部以下である前記(2)に記載の誘電体磁器組成物。
(5)前記誘電体磁器組成物が、さらにGaの酸化物を含有し、前記化合物100重量部に対して、前記Gaの酸化物の含有量が、Ga換算で、0.4重量部以下である前記(2)に記載の誘電体磁器組成物。
(6)組成式Ba(Ti1−y Sn)Oで表される化合物と、ZnとSiの複合酸化物と、Nbの酸化物と、を含有する誘電体磁器組成物であって、
前記組成式中の前記xが0.970〜0.996であり、前記yが0.050〜0.130であり、
前記ZnとSiの複合酸化物の含有量が、前記化合物100重量部に対して、ZnSiO換算で0.5〜4.2重量部であり、
前記Nbの酸化物の含有量が、前記化合物100重量部に対して、Nb換算で、0.6重量部以下である誘電体磁器組成物。
(7)組成式Ba(Ti1−y Sn)Oで表される化合物と、ZnとBaとSiの複合酸化物と、Nbの酸化物と、を含有する誘電体磁器組成物であって、
前記組成式中の前記xが0.970〜0.996であり、前記yが0.050〜0.130であり、
前記ZnとBaとSiの複合酸化物の含有量が、前記化合物100重量部に対して、BaZnSiO換算で1.5〜9.8重量部であり、
前記Nbの酸化物の含有量が、前記化合物100重量部に対して、Nb換算で、0.6重量部以下である誘電体磁器組成物。
(8)組成式Ba(Ti1−y Sn)Oで表される化合物と、ZnとAlの複合酸化物と、Nbの酸化物と、を含有する誘電体磁器組成物であって、
前記組成式中の前記xが0.970〜0.996であり、前記yが0.050〜0.130であり、
前記ZnとAlの複合酸化物の含有量が、前記化合物100重量部に対して、ZnAl換算で1.5〜9.8重量部であり、
前記Nbの酸化物の含有量が、前記化合物100重量部に対して、Nb換算で、0.6重量部以下である誘電体磁器組成物。
(9)組成式Ba(Ti1−y Sn)Oで表される化合物と、ZnとGaの複合酸化物と、Nbの酸化物と、を含有する誘電体磁器組成物であって、
前記組成式中の前記xが0.970〜0.996であり、前記yが0.050〜0.130であり、
前記ZnとGaの複合酸化物の含有量が、前記化合物100重量部に対して、ZnGa換算で1.5〜9.8重量部であり、
前記Nbの酸化物の含有量が、前記化合物100重量部に対して、Nb換算で、0.6重量部以下である誘電体磁器組成物。
(10)前記(1)〜(9)のいずれかに記載の誘電体磁器組成物から構成される誘電体層を有する電子部品。
本発明では、上記組成式中のxおよびyを上記の範囲内とし、さらにZnの酸化物の含有量あるいは上記所定のZnの複合酸化物のいずれか1つを上記の範囲内とすることで、種々の特性が良好な誘電体磁器組成物を得ることができる。特に、高い交流破壊電圧を示す誘電体磁器組成物を得ることができる。
本発明に係る誘電体磁器組成物が、さらに上記の成分を含有することで、より特性を向上させることができる。
また、本発明に係る電子部品は、上記のいずれかに記載の誘電体磁器組成物から構成される誘電体層を有する。本発明に係る電子部品は、高電圧用の電子部品として好適である。具体的には、貫通型セラミックスコンデンサ、単板セラミックコンデンサ、積層セラミックコンデンサ等が例示される。
図1(A)は本発明の一実施形態に係るセラミックコンデンサの正面図、図1(B)は本発明の一実施形態に係るセラミックコンデンサの側面断面図である。
以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。
第1実施形態
(セラミックコンデンサ2)
図1(A)、図1(B)に示すように、本実施形態に係るセラミックコンデンサ2は、誘電体層10と、その対向表面に形成された一対の端子電極12,14と、この端子電極12,14に、それぞれ接続されたリード端子6,8とを有し、その上を保護樹脂4が覆っている。セラミックコンデンサ2の形状は、目的や用途に応じて適宜決定すればよい。本実施形態では、誘電体層10が円板形状である単板コンデンサを例示する。また、そのサイズも目的や用途に応じて適宜決定すればよい。
(誘電体層10)
誘電体層10は、本実施形態に係る誘電体磁器組成物から構成されている。該誘電体磁器組成物は、組成式Ba(Ti1−y Sn)Oで表される化合物と、Znの酸化物と、を有している。
該化合物は、ペロブスカイト型結晶構造を有している
上記式中、xは0.970〜0.996、好ましくは0.975〜0.988である。xは、Ba原子と、Ti原子およびSn原子と、のモル比を示すBa/(Ti+Sn)を表しており、xを上記範囲とすることにより、誘電損失をいっそう低くするという利点を有する。
上記式中、yは0.050〜0.130、好ましくは0.090〜0.100である。yはBサイト原子におけるSnの割合を表しており、yを上記範囲とすることにより、比誘電率をいっそう高くするという利点を有する。
Znの酸化物の含有量は、上記の化合物100重量部に対して、ZnO換算で、1.5〜8.0重量部、好ましくは3.5〜8.0重量部である。本実施形態では、化合物に対するZnの酸化物の含有量を比較的に多くしている。このようにすることで、比誘電率、誘電損失および容量温度特性を良好に維持しつつ、特に交流破壊電圧を向上させることができる。
本実施形態に係る誘電体磁器組成物は、Nbの酸化物をさらに含有することが好ましい。
Nbの酸化物の含有量は、上記の化合物100重量部に対して、Nb換算で、0.6重量部以下、好ましくは0.2〜0.5重量部である。Nbの酸化物を上記の範囲で含有させることで、比誘電率を高くし、さらには誘電損失を低減することができる。
本実施形態に係る誘電体磁器組成物は、Si、Al、あるいはGaのいずれかの酸化物をさらに含有することが好ましい。
Siの酸化物の含有量は、上記の化合物100重量部に対して、SiO換算で、2.0重量部以下、好ましくは0.5〜1.0重量部である。Siの酸化物を上記の範囲で含有させることで、比誘電率を高く維持しつつ、誘電損失を低減することができる。
Alの酸化物の含有量は、上記の化合物100重量部に対して、Al換算で、0.8重量部以下、好ましくは0〜0.1重量部、より好ましくは0重量部を超え、0.1重量部以下である。Alの酸化物を上記の範囲で含有させることで、比誘電率を高くすることができる。
Gaの酸化物の含有量は、上記の化合物100重量部に対して、Ga換算で、0.4重量部以下、好ましくは0〜0.1重量部、より好ましくは0重量部を超え、0.1重量部以下である。Gaの酸化物を上記の範囲で含有させることで、比誘電率を高くすることができる。
誘電体層10の厚みは、特に限定されず、用途等に応じて適宜決定すればよい。
(端子電極12,14)
端子電極12,14は導電材で構成される。端子電極12,14に用いられる導電材は、たとえば、Cu、Cu合金、Ag、Ag合金、In−Ga合金等を主成分として含む。これらの中では、Cu、Cu合金が好ましい。また、端子電極12,14は、これらの金属または合金からなる単層でもよいし、複数の導電材から構成されていてもよい。
(セラミックコンデンサの製造方法)
次に、本実施形態に係るセラミックコンデンサの製造方法について説明する。まず、焼成後に図1に示す誘電体層10を形成するために用いられる誘電体原料を準備する。
まず、上記の誘電体磁器組成物を構成する各成分の原料を準備する。用いる原料は特に限定されず、上記した各成分の酸化物や複合酸化物、または焼成によりこれら酸化物や複合酸化物となる化合物を用いることができる。化合物としては、たとえば炭酸塩、硝酸塩、水酸化物、有機金属化合物等が例示される。本実施形態では、BaCO等の炭酸化物や、SnO、TiO、ZnO、Nb、SiO、Al、Ga等の酸化物や、上記した各成分の複合酸化物を用いることができる。
次いで、組成式Ba(Ti1−y Sn)Oで表される化合物の原料を、上記した所定の組成となるように配合し、ボールミルなどを用いて湿式混合する。得られた混合物を造粒し、造粒物を成形して、成形物を得る。得られた成形物を空気中にて仮焼きすることにより、仮焼き粉を得る。次いで、得られた仮焼き粉を粗粉砕し、さらに、残りの原料を所定量添加し、湿式混合して、誘電体原料とする。仮焼き条件は、たとえば、仮焼き温度が好ましくは900〜1200℃であり、仮焼き時間が好ましくは0.5〜4時間である。
次いで、得られた誘電体原料にバインダなどを添加して造粒し、得られた造粒物を、所定の大きさを有する円板状に成形することにより、成形体を得る。そして、得られた成形体を、焼成することにより、焼結体としての誘電体磁器組成物を得る。なお、焼成条件としては、特に限定されないが、保持温度を1200〜1340℃とすることが好ましく、焼成時の雰囲気を空気中とすることが好ましい。
そして、得られた焼結体の主表面に、端子電極を印刷し、必要に応じて焼き付けすることにより、端子電極12,14を形成する。その後、端子電極12,14に、ハンダ付等により、リード端子6,8を接合し、最後に、素子本体を保護樹脂4で覆うことにより、図1(A)、図1(B)に示すような単板セラミックコンデンサを得る。
このようにして製造された本実施形態のセラミックコンデンサは、リード端子6,8を介してプリント基板上などに実装され、各種電子機器等に使用される。
第2実施形態
本実施形態に係る誘電体磁器組成物は、組成式Ba(Ti1−y Sn)Oで表される化合物と、ZnとSiの複合酸化物と、Nbの酸化物と、を有していること以外は、第1実施形態と同様であり、重複する説明は省略する。
上記式中、xは0.970〜0.996、好ましくは0.975〜0.988である。xは、Ba原子と、Ti原子およびSn原子と、のモル比を示すBa/(Ti+Sn)を表しており、xを上記範囲とすることにより、誘電損失をいっそう低くするという利点を有する。
上記式中、yは0.050〜0.130、好ましくは0.090〜0.100である。yはBサイト原子におけるSnの割合を表しており、yを上記範囲とすることにより、比誘電率をいっそう高くするという利点を有する。
ZnとSiの複合酸化物の含有量は、上記の化合物100重量部に対して、ZnSiO換算で、0.5〜4.2重量部、好ましくは0.5〜3.7重量部である。ZnとSiの複合酸化物の含有量を上記範囲とすることで、比誘電率、誘電損失および容量温度特性を良好に維持しつつ、特に交流破壊電圧を向上させることができる。
Nbの酸化物の含有量は、上記の化合物100重量部に対して、Nb換算で、0.6重量部以下、好ましくは0.2〜0.5重量部である。Nbの酸化物を上記の範囲で含有させることで、比誘電率を高くし、さらには誘電損失を低減することができる。
第3実施形態
本実施形態に係る誘電体磁器組成物は、組成式Ba(Ti1−y Sn)Oで表される化合物と、ZnとBaとSiの複合酸化物と、Nbの酸化物と、を有していること以外は、第1実施形態と同様であり、重複する説明は省略する。
上記式中、xは0.970〜0.996、好ましくは0.975〜0.988である。xは、Ba原子と、Ti原子およびSn原子と、のモル比を示すBa/(Ti+Sn)を表しており、xを上記範囲とすることにより、誘電損失をいっそう低くするという利点を有する。
上記式中、yは0.050〜0.130、好ましくは0.090〜0.100である。yはBサイト原子におけるSnの割合を表しており、yを上記範囲とすることにより、比誘電率をいっそう高くするという利点を有する。
ZnとBaとSiの複合酸化物の含有量は、上記の化合物100重量部に対して、BaZnSiO換算で、1.5〜9.8重量部、好ましくは4.9〜7.4重量部である。ZnとBaとSiの複合酸化物の含有量を上記範囲とすることで、比誘電率、誘電損失および容量温度特性を良好に維持しつつ、特に交流破壊電圧を向上させることができる。
Nbの酸化物の含有量は、上記の化合物100重量部に対して、Nb換算で、0.6重量部以下、好ましくは0.2〜0.5重量部である。Nbの酸化物を上記の範囲で含有させることで、比誘電率を高くし、さらには誘電損失を低減することができる。
第4実施形態
本実施形態に係る誘電体磁器組成物は、組成式Ba(Ti1−y Sn)Oで表される化合物と、ZnとAlの複合酸化物と、Nbの酸化物と、を有していること以外は、第1実施形態と同様であり、重複する説明は省略する。
上記式中、xは0.970〜0.996、好ましくは0.975〜0.988である。xは、Ba原子と、Ti原子およびSn原子と、のモル比を示すBa/(Ti+Sn)を表しており、xを上記範囲とすることにより、誘電損失をいっそう低くするという利点を有する。
上記式中、yは0.050〜0.130、好ましくは0.090〜0.100である。yはBサイト原子におけるSnの割合を表しており、yを上記範囲とすることにより、比誘電率をいっそう高くするという利点を有する。
ZnとAlの複合酸化物の含有量は、上記の化合物100重量部に対して、ZnAl換算で、1.5〜9.8重量部、好ましくは4.9〜7.4重量部である。ZnとAlの複合酸化物の含有量を上記範囲とすることで、比誘電率、誘電損失および容量温度特性を良好に維持しつつ、特に交流破壊電圧を向上させることができる。
Nbの酸化物の含有量は、上記の化合物100重量部に対して、Nb換算で、0.6重量部以下、好ましくは0.2〜0.5重量部である。Nbの酸化物を上記の範囲で含有させることで、比誘電率を高くし、さらには誘電損失を低減することができる。
第5実施形態
本実施形態に係る誘電体磁器組成物は、組成式Ba(Ti1−y Sn)Oで表される化合物と、ZnとGaの複合酸化物と、Nbの酸化物と、を有していること以外は、第1実施形態と同様であり、重複する説明は省略する。
上記式中、xは0.970〜0.996、好ましくは0.975〜0.988である。xは、Ba原子と、Ti原子およびSn原子と、のモル比を示すBa/(Ti+Sn)を表しており、xを上記範囲とすることにより、誘電損失をいっそう低くするという利点を有する。
上記式中、yは0.050〜0.130、好ましくは0.090〜0.100である。yはBサイト原子におけるSnの割合を表しており、yを上記範囲とすることにより、比誘電率をいっそう高くするという利点を有する。
ZnとGaの複合酸化物の含有量は、上記の化合物100重量部に対して、ZnGa換算で、1.5〜9.8重量部、好ましくは4.9〜7.4重量部である。ZnとGaの複合酸化物の含有量を上記範囲とすることで、比誘電率、誘電損失および容量温度特性を良好に維持しつつ、特に交流破壊電圧を向上させることができる。
Nbの酸化物の含有量は、上記の化合物100重量部に対して、Nb換算で、0.6重量部以下、好ましくは0.2〜0.5重量部である。Nbの酸化物を上記の範囲で含有させることで、比誘電率を高くし、さらには誘電損失を低減することができる。
以上、本発明の実施形態について説明してきたが、本発明はこうした実施形態に何等限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々異なる態様で実施し得ることは勿論である。
たとえば、上述した実施形態では、本発明に係る電子部品として単板セラミックコンデンサを例示したが、本発明に係る電子部品としては、単板セラミックコンデンサに限定されず、上記した誘電体原料を含む誘電体ペーストおよび電極ペーストを用いた通常の印刷法やシート法により作製される積層セラミックコンデンサであっても良い。
以下、本発明を、さらに詳細な実施例に基づき説明するが、本発明は、これら実施例に限定されない。
(実施例1)
まず、組成式Ba(Ti1−y Sn)Oで表される化合物の原料として、BaCO粉末、SnO粉末およびTiO粉末を準備した。また、Znの酸化物の原料としてZnO粉末を準備した。
次に、上記で準備した該化合物の原料粉末を秤量し、ジルコニア製ボールを用いたボールミルで8時間湿式混合・粉砕し、乾燥して、原料混合物を得た。得られた原料混合物に5重量%の水を加えて造粒して顆粒を作製し、この顆粒を成形した。そして、得られた成形物を、空気中において、1150℃で2時間の条件で仮焼した。仮焼後の粉体を、ライカイ機で粗粉砕し、メッシュパスを通した後、さらに、残りの原料であるZnO粉末を秤量・添加して、湿式粉砕を行った。これを乾燥することにより、誘電体原料を得た。
次いで、得られた誘電体原料100重量%に対して、ポリビニルアルコール水溶液を10重量%添加し、造粒して、メッシュパスを通した。その後、得られた造粒粉を396MPaの圧力で成形することにより、直径16.5mm、厚さ約1.2mmの円板状の成形体を得た。
次いで、得られた成形体を、空気中において、1200〜1350℃で2時間の条件で焼成し、円板状の焼結体を得た。そして、得られた焼結体の主表面にAg電極を塗布し、さらに空気中において、800℃で10分間の条件でAg電極の焼付け処理を行って、図1に示すような円板状のセラミックコンデンサの試料(試料番号1〜28)を得た。
得られた焼結体の組成については、蛍光X線分析装置(リガク(株)製、サイマルティックス12)を用いガラスビード法によって、表1に示す組成であることを確認した。また、得られたコンデンサ試料の誘電体層10の厚みは約1mmであり、電極の直径は12mmであった。そして、得られた各コンデンサ試料について、以下の方法により、比誘電率、誘電損失、交流破壊電界および容量温度特性をそれぞれ評価した。
(比誘電率ε)
比誘電率εは、コンデンサ試料に対し、基準温度25℃において、デジタルLCRメータ(Agilent Technologies社製4284A)を用いて、周波数1kHz,入力信号レベル(測定電圧)1.0Vrmsの条件下で測定された静電容量から算出した。比誘電率は高いほうが好ましく、本実施例では4000以上を良好とした。結果を表1に示す。
(誘電損失)
誘電損失(tanδ)は、コンデンサ試料に対し、基準温度25℃において、デジタルLCRメータ(Agilent Technologies社製4284A)を用いて、周波数1kHz,入力信号レベル(測定電圧)1.0Vrmsの条件下で測定した。誘電損失は低いほうが好ましく、本実施例では0.80%以下を良好とした。結果を表1に示す。
(静電容量の温度特性)
コンデンサ試料に対し、−25〜85℃の温度範囲における静電容量を測定し、20℃における静電容量に対する変化率ΔCを算出し、JIS規格のE特性を満足するか否かについて評価した。すなわち、上記温度範囲における変化率ΔCが、−55〜+20%以内であるか否かを評価した。結果を表1に示す。
(交流破壊電圧)
交流破壊電圧(ACVB)は、コンデンサ試料の両端面に対し、SM20051型交流耐圧測定機(多摩電測)を用いて、交流電界を約184V/sの速度で加え、流れるリーク電流が100mAになる時の電圧値を測定し、該測定値を交流破壊電圧とした。本実施例では、7.0kV/mm以上を良好とした。結果を表1に示す。
Figure 0006132668
表1より、誘電体磁器組成物(焼結体)において、組成式中の「x」と、組成式中の「y」と、Znの酸化物の含有量と、が上述した範囲内である場合には(試料番号2〜8、14〜17および22〜27)、比誘電率、誘電損失および容量温度特性を良好に維持しつつ、高い交流破壊電圧を示す誘電体磁器組成物が得られることが確認できた。
これに対し、組成式中の「x」が小さすぎる場合には(試料番号1)、誘電損失および容量温度特性が悪化することが確認できた。また、組成式中の「x」が大きすぎる場合には(試料番号9〜12)、誘電体磁器組成物が変形し、特性が評価できなかったり、比誘電率、誘電損失、交流破壊電圧および容量温度特性の少なくとも1つが悪化することが確認できた。
表1より、組成式中の「y」が小さすぎる場合には(試料番号13)、比誘電率および誘電損失が悪化することが確認できた。また、組成式中の「y」が大きすぎる場合には(試料番号18および19)、比誘電率および容量温度特性が悪化することが確認できた。
表1より、Znの酸化物の含有量が少なすぎる場合には(試料番号20および21)、比誘電率が悪化するとともに、交流破壊電圧が小さくなることが確認できた。また、Znの酸化物の含有量が多すぎる場合には(試料番号28)、比誘電率が悪化することが確認できた。
(実施例2)
Nbの酸化物の原料としてNb粉末を準備し、仮焼後の粉体に対して、ZnO粉末とともにNb粉末をそれぞれ秤量・添加して、湿式粉砕を行った以外は、実施例1と同様の方法でセラミックコンデンサの試料(試料番号30〜35)を得た。
なお、得られた焼結体の組成については、実施例1と同様の方法により、表2に示す組成であることを確認した。また、得られた各コンデンサ試料について、実施例1と同様の方法により、比誘電率、誘電損失、交流破壊電界および容量温度特性をそれぞれ評価した。結果を表2に示す。
Figure 0006132668
表2より、さらにNbの酸化物を含有させることで(試料番号30〜34)、交流破壊電圧および容量温度特性を維持しつつ、比誘電率および誘電損失を向上できることが確認できた。また、Nbの酸化物の含有量が多すぎる場合には(試料番号35)、比誘電率が悪化することが確認できた。
(実施例3)
Siの酸化物の原料としてSiO粉末、Alの酸化物の原料としてAl粉末、およびGaの酸化物の原料としてGa粉末をそれぞれ準備し、仮焼後の粉体に対して、ZnO粉末およびNb粉末とともに、SiO粉末、Al粉末またはGa粉末をそれぞれ秤量・添加して、湿式粉砕を行った以外は、実施例1と同様の方法でセラミックコンデンサの試料(試料番号40〜51)を得た。
なお、得られた焼結体の組成については、実施例1と同様の方法により、表3に示す組成であった。得られた各コンデンサ試料について、実施例1と同様の方法により、比誘電率、誘電損失、交流破壊電界および容量温度特性をそれぞれ評価した。結果を表3に示す。
Figure 0006132668
表3より、さらにSiの酸化物を含有させることで(試料番号40〜43)、交流破壊電圧、容量温度特性および比誘電率を維持しつつ、誘電損失を向上できることが確認できた。また、Siの酸化物の含有量が多すぎる場合には(試料番号44)、比誘電率が悪化することが確認できた。
表3より、さらにAlの酸化物を含有させることで(試料番号45〜47)、交流破壊電圧、容量温度特性および誘電損失を維持しつつ、比誘電率を向上できることが確認できた。また、Alの酸化物の含有量が多すぎる場合には(試料番号48)、誘電損失が悪化することが確認できた。
表3より、さらにGaの酸化物を含有させることで(試料番号49および50)、交流破壊電圧、容量温度特性および誘電損失を維持しつつ、比誘電率を向上できることが確認できた。また、Gaの酸化物の含有量が多すぎる場合には(試料番号51)、誘電損失が悪化することが確認できた。
(実施例4)
Znの酸化物の原料であるZnO粉末に代えて、ZnとSiの複合酸化物の原料としてZnSiO粉末、ZnとBaとSiの複合酸化物の原料としてBaZnSiO粉末、ZnとAlの複合酸化物の原料としてZnAl粉末、およびZnとGaの複合酸化物の原料としてZnGa粉末をそれぞれ準備し、仮焼後の粉体に対して、Nb粉末とともに、ZnSiO粉末、BaZnSiO粉末、ZnAl粉末、またはZnGa粉末のいずれかを、表4に示す組成となるようにそれぞれ秤量・添加して、湿式粉砕を行った以外は、実施例1と同様の方法でセラミックコンデンサの試料(試料番号60〜79)を得た。
なお、得られた焼結体の組成については、実施例1と同様の方法により、表4に示す組成と対応していることを確認した。また、得られた各コンデンサ試料について、実施例1と同様の方法により、比誘電率、誘電損失、交流破壊電界および容量温度特性をそれぞれ評価した。結果を表4に示す。
Figure 0006132668
表4より、Znの酸化物に代えて、ZnとSiの複合酸化物、ZnとBaとSiの複合酸化物、ZnとAlの複合酸化物、またはZnとGaの複合酸化物のいずれかを含有させた場合であっても、Znの酸化物を含有させた場合(試料22〜27)と同様に、比誘電率、誘電損失および容量温度特性を良好に維持しつつ、高い交流破壊電圧を示す誘電体磁器組成物が得られることが確認できた。
これに対し、ZnとSiの複合酸化物、ZnとBaとSiの複合酸化物、ZnとAlの複合酸化物およびZnとGaの複合酸化物の含有量が多すぎる場合には(試料番号63、64、69、74および79)、比誘電率が悪化することが確認できた。
(実施例5)
Znの酸化物(ZnO粉末)に代えて、ZnとSiの複合酸化物(ZnSiO粉末)、ZnとBaとSiの複合酸化物(BaZnSiO粉末)、ZnとAlの複合酸化物(ZnAl粉末)またはZnとGaの複合酸化物(ZnGa粉末)をそれぞれ用いた以外は、実施例1および2と同様の方法でセラミックコンデンサの試料を得、実施例1と同様の方法により、それぞれのコンデンサ試料について特性評価を行った。
その結果、Znの酸化物に代えて、ZnとSiの複合酸化物、ZnとBaとSiの複合酸化物、ZnとAlの複合酸化物およびZnとGaの複合酸化物を含有させた場合でも、組成式中の「x」および「y」、さらにNbの酸化物の含有量については、Znの酸化物を含有させた場合(表1の試料2〜8、14〜17、および表2の試料30〜34)と同様の範囲において、交流破壊電圧および容量温度特性を維持しつつ、比誘電率および誘電損失を向上できることが確認できた。
2… セラミックコンデンサ
4… 保護樹脂
6,8… リード端子
10… 誘電体層
12,14… 端子電極

Claims (11)

  1. 組成式Ba(Ti1−y Sn)Oで表される化合物と、Znの酸化物と、を含有する誘電体磁器組成物であって、
    前記組成式中の前記xが0.970〜0.996であり、前記yが0.050〜0.130であり、
    前記Znの酸化物の含有量が、前記化合物100重量部に対して、ZnO換算で1.5〜8.0重量部であることを特徴とする誘電体磁器組成物。
  2. 前記誘電体磁器組成物が、さらにNbの酸化物を含有し、前記Nbの酸化物の含有量が、前記化合物100重量部に対して、Nb換算で、0.6重量部以下である請求項1に記載の誘電体磁器組成物。
  3. 前記誘電体磁器組成物が、さらにSiの酸化物を含有し、前記Siの酸化物の含有量が、前記化合物100重量部に対して、SiO換算で、2.0重量部以下である請求項2に記載の誘電体磁器組成物。
  4. 前記誘電体磁器組成物が、さらにAlの酸化物を含有し、前記Alの酸化物の含有量が、前記化合物100重量部に対して、Al換算で、0.8重量部以下である請求項2に記載の誘電体磁器組成物。
  5. 前記誘電体磁器組成物が、さらにGaの酸化物を含有し、前記化合物100重量部に対して、前記Gaの酸化物の含有量が、Ga換算で、0.4重量部以下である請求項2に記載の誘電体磁器組成物。
  6. 組成式Ba(Ti1−y Sn)Oで表される化合物と、ZnとSiの複合酸化物と、Nbの酸化物と、を含有する誘電体磁器組成物であって、
    前記組成式中の前記xが0.970〜0.996であり、前記yが0.050〜0.130であり、
    前記ZnとSiの複合酸化物の含有量が、前記化合物100重量部に対して、ZnSiO換算で0.5〜4.2重量部であり、
    前記Nbの酸化物の含有量が、前記化合物100重量部に対して、Nb換算で、0.6重量部以下である誘電体磁器組成物。
  7. 組成式Ba(Ti1−y Sn)Oで表される化合物と、ZnとBaとSiの複合酸化物と、Nbの酸化物と、を含有する誘電体磁器組成物であって、
    前記組成式中の前記xが0.970〜0.996であり、前記yが0.050〜0.130であり、
    前記ZnとBaとSiの複合酸化物の含有量が、前記化合物100重量部に対して、BaZnSiO換算で1.5〜9.8重量部であり、
    前記Nbの酸化物の含有量が、前記化合物100重量部に対して、Nb換算で、0.6重量部以下である誘電体磁器組成物。
  8. 組成式Ba(Ti1−y Sn)Oで表される化合物と、ZnとAlの複合酸化物と、Nbの酸化物と、を含有する誘電体磁器組成物であって、
    前記組成式中の前記xが0.970〜0.996であり、前記yが0.050〜0.130であり、
    前記ZnとAlの複合酸化物の含有量が、前記化合物100重量部に対して、ZnAl換算で1.5〜9.8重量部であり、
    前記Nbの酸化物の含有量が、前記化合物100重量部に対して、Nb換算で、0.6重量部以下である誘電体磁器組成物。
  9. 組成式Ba(Ti1−y Sn)Oで表される化合物と、ZnとGaの複合酸化物と、Nbの酸化物と、を含有する誘電体磁器組成物であって、
    前記組成式中の前記xが0.970〜0.996であり、前記yが0.050〜0.130であり、
    前記ZnとGaの複合酸化物の含有量が、前記化合物100重量部に対して、ZnGa換算で1.5〜9.8重量部であり、
    前記Nbの酸化物の含有量が、前記化合物100重量部に対して、Nb換算で、0.6重量部以下である誘電体磁器組成物。
  10. 交流破壊電圧が7.0kV/mm以上である請求項1〜9のいずれかに記載の誘電体磁器組成物。
  11. 請求項1〜10のいずれかに記載の誘電体磁器組成物から構成される誘電体層を有する電子部品。
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