JP6121989B2 - 電解プロセス用の電極及びその製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、電解プロセス用の電極に関し、特に、工業的電解プロセスにおける水素の発生に好適な陰極、及びその製造方法に関する。
本発明は、電解プロセス用の電極に関し、特に、工業的電解プロセスにおける水素の発生に好適な陰極に関する。塩素及びアルカリを同時に生成するためのアルカリブラインの電気分解、並びに次亜塩素酸塩類及び塩素酸塩類の電気化学的製造方法は、陰極での水素発生を伴う工業的電解用途の最も典型的な例であるが、その電極はいかなる特定の用途に限定されるものではない。電解プロセスの産業においては、競争力はいくつかの要因と関連しており、その主要なものはプロセス電圧に直接関連するエネルギー消費の削減であり;後者の種々の構成要素の削減に向けての多くの労力が支持されており、その中で陰極過電圧を考慮する必要がある。触媒活性を有さない耐薬品性材料(例えば炭素鋼)の電極を用いて本来得ることができる陰極過電圧は、許容されると長い間見なされていた。にもかかわらず、市場では、特殊な場合では、ますます高い腐食性生成物濃度が要求されており、それによって、腐食の問題のために炭素鋼陰極が使用できなくなり;更に、エネルギー費の増加のため、陰極での水素の発生を促進するために触媒の使用が望ましくなっている。可能性のある解決法の1つは、炭素鋼よりも耐薬品性であるニッケル基材と、白金系触媒コーティングとの使用である。このような種類の陰極は、通常は、許容される陰極過電圧を特徴とするが、白金を使用するためコストが非常に高くなり、おそらくはコーティングの基材への接着が不十分となるために、動作寿命が制限される。ニッケル基材上への触媒コーティングの接着の部分的な改善は、任意選択により下にある白金系触媒層を保護する機能を有する多孔質外部層として、セリウムを触媒コーティング配合物に加えることによって得ることができるが、この種類の陰極は、故障の場合に工業用プラントで必然的に発生する場合による電流反転の後に、重大な損傷が生じやすい。
電流反転に対する耐性の部分的な改善は、貴金属系触媒を含む第1の相と、保護機能を有し任意選択的に銀と混合されるパラジウムを含む第2の相との2つの別個の相からなるコーティングによってニッケル陰極基材を活性化することで得ることができる。にもかかわらず、この種類の電極は、貴金属相が多量の白金を含有し、好ましくは多量のロジウムが添加された場合にのみ十分な触媒活性が得られ;例えば、触媒相中の白金をより安価なルテニウムで置換すると、はるかに高い陰極過電圧の開始を引き起こす。更に、2つの別個の相からなるコーティングの製造には、十分に再現性のある結果を得るために、非常に精密なプロセス制御が必要になる。
従って、従来技術と比較して、同等以上の触媒活性、全体的により低い原材料費、製造におけるより高い再現性、並びに通常の動作条件で偶発的な電流反転に対する同等以上の寿命及び耐性を特徴とする、工業電解プロセス用、特に陰極で水素の発生を伴う電解プロセス用の新規な陰極組成物の必要性が明らかとなってきている。
本発明の種々の態様は、添付の特許請求の範囲に記載されている。
一態様においては、電解プロセス用電極は、高秩序のルチル型構造を有し、即ちデバイ−ワラー(Debye−Waller)因子が2×10 -3 2 未満であることを特徴とするRu−Ru及びRu−O結合距離を有する結晶性酸化ルテニウムを4〜40g/m2含む外部触媒層でコーティングされた、ニッケル、銅、または炭素鋼でできた金属基材を含む。本発明者らは、このようなルチル型RuO2結晶の高い秩序度によって、驚くべき触媒活性及び電流反転耐性特性を付与できることを確認した。
一実施形態においては、外部触媒層は、1〜10g/m2の酸化物の形態の希土類、任意選択によりプラセオジムを更に含有する。これは、特定のルテニウム使用量で電流反転耐性を更に向上させるという利点を有することができる。
一実施形態においては、電極は、基材と外部触媒層との間に配置される内部触媒層を更に含み;内部触媒層は、中程度の量、例えば0.5〜2g/m2の間を構成する金属または酸化物の形態の白金を有する。これは、電流反転に対する電極の耐性を顕著に改善するという利点を有することができ、驚くべきことに、ルテニウムよりも堅牢であるがはるかに硬化である純白金を多量に使用して活性化した電極の特性に非常に近い値にすることができる。
一実施形態においては、金属基材は、ニッケルメッシュまたは穿孔シートからなる。
別の一態様においては、本明細書で前述した電極の製造方法は、ルテニウム硝酸塩、例えば式Ru(NO)(NO33、または場合によりRu(NO)(NO3x(ルテニウムの平均原子価状態が3から僅かに逸脱しうることを示している)で表される市販の化合物であるRu(III)ニトロシル硝酸塩から出発して得られるルテニウムの塩化物非含有酢酸溶液を金属基材に塗布するステップを含む。一実施形態では60〜200g/lの濃度で溶液中に存在するこの化学種は、電極の工業的製造に十分な量で容易に入手可能であるという利点を有する。一実施形態においては、この方法は、撹拌下でルテニウム硝酸塩を氷酢酸中に溶解させ、任意選択的に硝酸を加え、次に、5〜20重量%の間の濃度の酢酸水溶液で希釈することによってルテニウム溶液を調製するステップを含み;続いて得られた溶液を金属基材に複数回のコーティングで塗布し、各コーティング後には400〜600℃で2分以上の時間の熱分解を行う。溶液は、例えば、ニッケルメッシュあるいは発泡または穿孔シートに、静電吹付、はけ塗り、浸漬、またはその他の周知の技術によって、塗布することができる。溶液の各コーティングの堆積後、基材に対して、例えば80〜100℃で5〜15分間の乾燥段階を行い、続いて400〜600℃で2分以上、通常は5〜20分の間の時間で熱分解させることができる。上記濃度によって、4〜10回のコーティングで約10〜15g/m2のルテニウムを堆積することができる。
一実施形態においては、基材に塗布する前に、撹拌下で希土類硝酸塩を氷酢酸に溶解させ、任意選択により硝酸を加えることによって得られる希土類溶液、例えばプラセオジムの溶液とルテニウム溶液を混合する。任意選択的に、こうして得られたルテニウム溶液の濃度は、塗布の前に、5〜20重量%の酢酸溶液で適宜希釈することができる。
一実施形態においては、希土類を含有するまたは含有しないルテニウム溶液の塗布の前及び分解の後に、本発明の方法は、撹拌下で白金硝酸塩または亜硝酸塩(例えばPtジアミノジニトレートPt(NH32(NO32)を氷酢酸中に溶解させ、任意選択的に硝酸を加え、次に5〜20重量%の濃度の酢酸水溶液で希釈することによって得られる白金溶液を、複数回のコーティングで塗布するステップと、次に各コーティング後に400〜600℃で2分以上の時間熱分解させるステップとを含む。
驚くべきことに、本発明者らは、水素発生用陰極として使用されるルテニウム触媒電極の結晶秩序の程度、従って活性、寿命、及び電流反転耐性は、塩酸溶液中のRuCl3からなる従来技術の一般的な前駆体ではなく酢酸溶液中の実質的に塩化物を含有しない硝酸塩系前駆体を電極の作製に使用する場合に、はるかに高くなることを確認した。なんらかの特定の理論によって本発明を限定しようと望むものではないが、これは、塩化物との配位結合が存在せずに、ルテニウム原子に酢酸またはカルボン酸の配位子が配位する錯体種が最初に形成されることが原因かもしれない。電極を作製するための前駆体溶液中に場合により存在する塩化物は、熱分解ステップ中に除去する必要があり;形成中の結晶格子からこのような嵩高いイオンを除去すると、結晶のゆがみが発生して、その秩序度が低下することがある。
本発明者らが得た最も顕著な結果の一部を以下の実施例に示すが、これらの実施例は本発明の範囲の限定を意図するものではない。
実施例1
100gのRuに相当する量のRu(NO)(NO33を300mlの氷酢酸中に溶解させ、数mlの濃硝酸を加えた。50℃の温度を維持しながら溶液を3時間撹拌した。次に溶液の体積を10重量%の酢酸を加えて500mlにした(ルテニウム溶液)。
個別に、100gのPrに相当する量のPr(NO32を300mlの氷酢酸中に溶解させ、数mlの濃硝酸を加えた。50℃の温度を維持しながら溶液を3時間撹拌した。次に溶液の体積を10重量%の酢酸を加えて500mlにした(希土類溶液)。
480mlのルテニウム溶液を120mlの希土類溶液と混合し、5分間撹拌した。こうして得られた溶液に10重量%の酢酸を加えて1リットルにした(前駆体)。
100mm×100mm×0.89mmの大きさのニッケル200のメッシュを、コランダムでブラスト処理し、20%のHCl中85℃で2分間エッチングし、500℃で1時間熱アニールした。次に、11.8g/m2のRu及び2.95g/m2のPrが堆積されるまで、前駆体をはけ塗りによって6回のコーティングで塗布し、各コーティング後には80〜90℃で10分間の乾燥処理、及び500℃で10分間の熱分解を行った。
サンプルの性能試験を行うと、33%のNaOH中、90℃の温度における水素発生下で、3kA/m2で抵抗低下を補正した初期陰極電位が−924mV/NHEとなり、これは優れた触媒活性を示している。
続いて同じサンプルについて、サイクリックボルタンメトリーを−1〜+0.5V/NHEの範囲内で10mV/sの走査速度で行うと;25サイクル後、陰極電位は−961mV/NHEとなり、これは優れた電流反転耐性を示している。
実施例2
100gのRuに相当する量のRu(NO)(NO33を300mlの氷酢酸中に溶解させ、数mlの濃硝酸を加えた。50℃の温度を維持しながら溶液を3時間撹拌した。次に溶液の体積を10重量%の酢酸を加えて1リットルにした(前駆体)。
100mm×100mm×0.89mmの大きさのニッケル200のメッシュを、コランダムでブラスト処理し、20%のHCl中85℃で2分間エッチングし、500℃で1時間熱アニールした。次に、12g/m2のRuが堆積されるまで、先に得た前駆体をはけ塗りによって7回のコーティングで塗布し、各コーティング後には80〜90℃で10分間の乾燥処理、及び500℃で10分間の熱分解を行った。
サンプルの性能試験を行うと、33%のNaOH中、90℃の温度における水素発生下で、3kA/m2で抵抗低下を補正した初期陰極電位が−925mV/NHEとなり、これは優れた触媒活性を示している。
続いて同じサンプルについて、サイクリックボルタンメトリーを−1〜+0.5V/NHEの範囲内で10mV/sの走査速度で行うと;25サイクル後、陰極電位は−979mV/NHEとなり、これは優れた電流反転耐性を示している。
実施例3
50gのPtに相当するPtジアミノジニトレート、Pt(NH32(NO32を200mlの氷酢酸中に溶解させた。50℃の温度を維持しながら溶液を3時間撹拌し、次に溶液の体積を10重量%の酢酸を加えて500mlにした(白金溶液)。
100gのRuに相当する量のRu(NO)(NO33を300mlの氷酢酸中に溶解させ、数mlの濃硝酸を加えた。50℃の温度を維持しながら溶液を3時間撹拌した。次に溶液の体積を10重量%の酢酸を加えて500mlにした(ルテニウム溶液)。
別に、100gのPrに相当する量のPr(NO32を300mlの氷酢酸中に溶解させ、数mlの濃硝酸を加えた。50℃の温度を維持しながら溶液を3時間撹拌した。次に溶液の体積を10重量%の酢酸を加えて500mlにした(希土類溶液)。480mlのルテニウム溶液を120mlの希土類溶液と混合し、5分間撹拌した。こうして得られた溶液に10重量%の酢酸を加えて1リットルにした(前駆体)。
100mm×100mm×0.89mmの大きさのニッケル200のメッシュを、コランダムでブラスト処理し、20%のHCl中85℃で2分間エッチングし、500℃で1時間熱アニールした。
次に、白金溶液をはけ塗りで1回だけコーティングして、0.9g/m2のPtを得た。
次に、7.8g/m2のRu及び1.95g/m2のPrが堆積されるまで、ルテニウム及びプラセオジムの前駆体をはけ塗りによって5回のコーティングで塗布し、各コーティング後には80〜90℃で10分間の乾燥処理、及び500℃で10分間の熱分解を行った。
サンプルの性能試験を行うと、33%のNaOH中、90℃の温度における水素発生下で、3kA/m2で抵抗低下を補正した初期陰極電位が−922mV/NHEとなり、これは優れた触媒活性を示している。
続いて同じサンプルについて、サイクリックボルタンメトリーを−1〜+0.5V/NHEの範囲内で10mV/sの走査速度で行うと;25サイクル後、陰極電位は−940mV/NHEとなり、これは優れた電流反転耐性を示している。
比較例1
100mm×100mm×0.89mmの大きさのニッケル200のメッシュを、コランダムでブラスト処理し、20%のHCl中85℃で2分間エッチングし、500℃で1時間熱アニールした。次に、12.2g/m2のRuが堆積されるまで、硝酸溶液中のRuCl3を96g/lの濃度ではけ塗りすることによって塗布し、各コーティング後には80〜90℃で10分間の乾燥処理、及び500℃で10分間の熱分解を行うことによって、メッシュを活性化させた。
サンプルの性能試験を行うと、33%のNaOH中、90℃の温度における水素発生下で、3kA/m2で抵抗低下を補正した初期陰極電位が−942mV/NHEとなり、これはかなりの触媒活性を示している。
続いて同じサンプルについて、サイクリックボルタンメトリーを−1〜+0.5V/NHEの範囲内で10mV/sの走査速度で行うと;25サイクル後、陰極電位は−1100mV/NHEとなり、これは中程度の電流反転耐性を示している。
比較例2
100gのRuに相当する量のRuCl3を300mlの氷酢酸中に溶解させ、数mlの濃硝酸を加えた。50℃の温度を維持しながら溶液を3時間撹拌した。次に溶液の体積を10重量%の酢酸を加えて500mlにした(ルテニウム溶液)。
別に、100gのPrに相当する量のPr(NO32を300mlの氷酢酸に溶解させ、数mlの濃硝酸を加えた。50℃の温度を維持しながら溶液を3時間撹拌した。次に溶液の体積を10重量%の酢酸を加えて500mlにした(希土類溶液)。
480mlのルテニウム溶液を120mlの希土類溶液と混合し、5分間撹拌した。こうして得られた溶液に10重量%の酢酸を加えて1リットルにした(前駆体)。
100mm×100mm×0.89mmの大きさのニッケル200のメッシュを、コランダムでブラスト処理し、20%のHCl中85℃で2分間エッチングし、500℃で1時間熱アニールした。次に、12.6g/m2のRu及び1.49g/m2のPrが堆積されるまで、前駆体をはけ塗りによって7回のコーティングで塗布し、各コーティング後には80〜90℃で10分間の乾燥処理、及び500℃で10分間の熱分解を行った。
サンプルの性能試験を行うと、33%のNaOH中、90℃の温度における水素発生下で、3kA/m2で抵抗低下を補正した初期陰極電位が−932mV/NHEとなり、これは良好な触媒活性を示している。
続いて同じサンプルについて、サイクリックボルタンメトリーを−1〜+0.5V/NHEの範囲内で10mV/sの走査速度で行うと;25サイクル後、陰極電位は−1080mV/NHEとなり、これは中程度の電流反転耐性を示している。
比較例3
100gのRuに相当する量のRu(NO)(NO33を、37体積%の塩酸500ml中に溶解させ、数mlの濃硝酸を加えた。50℃の温度を維持しながら溶液を3時間撹拌した。次に溶液の体積を10重量%の酢酸を加えて500mlにした(ルテニウム溶液)。
別に、100gのPrに相当する量のPr(NO32を、37体積%の塩酸500ml中に溶解させ、数mlの濃硝酸を加えた。50℃の温度を維持しながら溶液を3時間撹拌した(希土類溶液)。
480mlのルテニウム溶液を120mlの希土類溶液と混合し、5分間撹拌した。こうして得られた溶液に1N塩酸を加えて1リットルにした(前駆体)。
100mm×100mm×0.89mmの大きさのニッケル200のメッシュを、コランダムでブラスト処理し、20%のHCl中85℃で2分間エッチングし、500℃で1時間熱アニールした。次に、13.5g/m2のRu及び1.60g/m2のPrが堆積されるまで、前駆体をはけ塗りによって7回のコーティングで塗布し、各コーティング後には80〜90℃で10分間の乾燥処理、及び500℃で10分間の熱分解を行った。
サンプルの性能試験を行うと、33%のNaOH中、90℃の温度における水素発生下で、3kA/m2で抵抗低下を補正した初期陰極電位が−930mV/NHEとなり、これは良好な触媒活性を示している。
続いて同じサンプルについて、サイクリックボルタンメトリーを−1〜+0.5V/NHEの範囲内で10mV/sの走査速度で行うと;25サイクル後、陰極電位は−1090mV/NHEとなり、これは中程度の電流反転耐性を示している。
実施例4
実施例1及び比較例1で得た電極について、X線吸収、XANES(X線吸収端近傍構造)、及びEXAFS(X線吸収広域微細構造)による分光学的特性決定を行った。2つのサンプルのXANESスペクトルは定性的には類似しているように見えたが同一ではなく、短範囲構造に違いが見られた。
対応するEXAFSスペクトルは、実際には、同じルチル型基本構造(即ち、ルテニウム原子は、八面体の頂点に位置する6個の酸素原子で取り囲まれ、酸素原子は、平面三角形の配位に従って配置される3個のルテニウム原子で取り囲まれる基本的な正方格子)が存在するが、ある程度の顕著な差が見られることを示している。
中心にルテニウム原子を有する八面体構造の内部の情報が得られる第一配位圏の補間から、実施例1のサンプルの配位数が理論値に非常に近いことが示されており、一方、比較例1は、2つの更なる酸素原子を示しており、格子の内側にH2Oが存在するために非晶質Ru−OHまたはRuOH2層が存在することを示している。対応するデバイ−ワラー因子は、実施例1のサンプルの秩序度がはるかに高いことを示しており、これは表1から推測することができる。
Figure 0006121989
第二圏の補間から、Ru−Ru(基本正方セルの2つの異なる辺に対応するa及びb)及びRu−O結合に関する情報が得られる。この場合、得られたデータは、Ru−Ru結合距離に関しては実施例と比較例のサンプルの差が小さく(相互に、及び理論モデルに対して)、一方、Ru−O結合は比較例のサンプルの方が有意に長いことを示している(表2)。これは、デバイ−ワラー因子によって顕著に示されるひずみの程度が、基本的に酸素原子の転位に起因することを示している。
Figure 0006121989
上記報告は、実施例(全体的に塩化物を含有しない環境で、種々の前駆体及び組成を有する)及び比較例(塩基反応物中、または反応環境中の塩酸として、塩化物が存在する)により調製した類似の構造に対応する、多数のサンプルに対して行った膨大なEXAFS試験期間での最も顕著なデータである。
すべての場合で、第二配位圏の補間から、デバイ−ワラー因子は、塩化物の非存在下では2×10 -3 2 を大きく下回り(Ru−Ru結合及びRu−O結合の両方の場合)、塩化物の存在下では3×10 -3 2 以上となった(特に、Ru−O結合の場合は常に4.8×10 -3 2 を超える)。更に、無秩序度(特にRu−O結合のデバイ−ワラー因子が参照される)と、電極性能、特に電流反転耐性に関する性能との間の良い相関を検証することができた。
以上の説明は、本発明を限定することを意図したものではなく、本発明の範囲から逸脱しない異なる実施形態により使用することができ、本発明の範囲の程度は、添付の特許請求の範囲のみによって定義される。
本出願の説明及び特許請求の範囲の全体にわたって、用語「含む」(comprise)、並びに「含むこと」(comprising)及び「含む」(comprises)などのその変形は、他の要素、成分、及び追加のプロセスステップの存在の排除を意図したものではない。

Claims (6)

  1. 電解プロセスにおいて陰極で水素を発生するための電極であって、デバイ−ワラー因子が2×10-32未満であることを特徴とするRu−Ru結合距離及びRu−O結合距離を有するルチル型構造を有する4〜40g/m2の結晶性酸化ルテニウムを含有する外部触媒層でコーティングされた金属基材を含み、前記金属基材と前記外部触媒層との間に配置される、酸化物または金属の形態の白金を0.5〜2g/m2含有する内部触媒層を更に含む、電極。
  2. 前記外部触媒層が1〜10g/m2の酸化物の形態の希土類を更に含有する、請求項1に記載の電極。
  3. 前記希土類が酸化プラセオジムを含む、請求項2に記載の電極。
  4. 前記金属基材がニッケルまたはニッケル合金でできている、請求項1〜3の何れか一項に記載の電極。
  5. 請求項1〜4の何れか一項に記載の電極の製造方法であって:
    −撹拌下でルテニウム硝酸塩を氷酢酸中に溶解させ、任意選択により硝酸を加え、続いて、5〜20重量%の濃度の酢酸水溶液で希釈することによってルテニウム溶液を調製するステップと;
    −前記溶液を金属基材上に複数回のコーティングで塗布するステップであって、各コーティング後には400〜600℃で2分以上の時間の熱分解を行うステップと、
    −撹拌下で白金の硝酸塩または亜硝酸塩を氷酢酸中に溶解させ、任意選択により硝酸を加え、続いて、5〜20重量%の間の濃度の酢酸水溶液で希釈することによって白金溶液を調製するステップと;
    −前記ルテニウム溶液を塗布する前に、前記白金溶液を前記金属基材上に複数回のコーティングで塗布するステップであって、各コーティング後には400〜600℃で2分以上の時間の熱分解を行うステップとを更に含む、方法。
  6. 前記ルテニウム溶液の塗布ステップの前に:
    −撹拌下で希土類の少なくとも1種類の硝酸塩を氷酢酸中に溶解させ、任意選択により硝酸を加えることによって希土類溶液を調製するステップと;
    −前記ルテニウム溶液を、任意選択により撹拌下で、前記希土類溶液と混合するステップと;
    −続いて、5〜20重量%の間の濃度の酢酸水溶液で希釈する任意選択のステップとを更に含む、請求項5に記載の方法。
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ITMI20100268A1 (it) * 2010-02-22 2011-08-23 Industrie De Nora Spa Elettrodo per processi elettrolitici e metodo per il suo ottenimento
ITMI20122030A1 (it) * 2012-11-29 2014-05-30 Industrie De Nora Spa Catodo per evoluzione elettrolitica di idrogeno
EP3239361B1 (en) * 2014-12-26 2020-12-16 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Electrolysis cathode and manufacturing method therefor, and electrolysis tank
US11390960B1 (en) * 2016-09-28 2022-07-19 Plasma Processes, Llc High temperature corrosion resistant composite structure consisting of ruthenium and its alloys
CN108070877B (zh) * 2017-11-09 2020-07-07 江苏安凯特科技股份有限公司 一种用于电解生产的阴极及其制备方法
US11668017B2 (en) 2018-07-30 2023-06-06 Water Star, Inc. Current reversal tolerant multilayer material, method of making the same, use as an electrode, and use in electrochemical processes
CN112941550B (zh) * 2019-11-25 2024-05-14 蓝星(北京)化工机械有限公司 零极距电解槽阴极用阴极底网及其制备方法
IT202000015250A1 (it) * 2020-06-25 2021-12-25 Industrie De Nora Spa Elettrodo per evoluzione elettrolitica di idrogeno
US20220195612A1 (en) * 2020-12-22 2022-06-23 De Nora Tech, Llc Electrolyser for electrochlorination processes and a self-cleaning electrochlorination system
IT202100020735A1 (it) * 2021-08-02 2023-02-02 Industrie De Nora Spa Elettrodo per evoluzione elettrolitica di idrogeno

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4157943A (en) * 1978-07-14 1979-06-12 The International Nickel Company, Inc. Composite electrode for electrolytic processes
IL67047A0 (en) * 1981-10-28 1983-02-23 Eltech Systems Corp Narrow gap electrolytic cells
EP0153356A1 (en) * 1983-08-18 1985-09-04 Eltech Systems Corporation Manufacture of oxygen evolving anodes with film-forming metal base and catalytic oxide coating comprising ruthenium
JPH0633492B2 (ja) * 1987-06-29 1994-05-02 ペルメレック電極株式会社 電解用陰極及びその製造方法
JP3212334B2 (ja) * 1991-11-28 2001-09-25 ペルメレック電極株式会社 電解用電極基体、電解用電極及びそれらの製造方法
US5358889A (en) * 1993-04-29 1994-10-25 Northern Telecom Limited Formation of ruthenium oxide for integrated circuits
TW200304503A (en) * 2002-03-20 2003-10-01 Asahi Chemical Ind Electrode for generation of hydrogen
JP2006097122A (ja) * 2004-08-31 2006-04-13 Sanyo Electric Co Ltd 電解用電極及び電解用電極の製造方法
JP4341838B2 (ja) * 2004-10-01 2009-10-14 ペルメレック電極株式会社 電解用陰極
WO2006136569A1 (de) * 2005-06-22 2006-12-28 Basf Aktiengesellschaft Ruthenium-heterogenkatalysator und verfahren zur hydrierung einer carbocyclischen aromatischen gruppe, insbesondere zur herstellung von kernhydrierten bisglycidylethern der bisphenole a und f
KR100684767B1 (ko) * 2005-07-29 2007-02-20 삼성에스디아이 주식회사 연료 전지 캐소드용 촉매, 이를 포함하는 막-전극 어셈블리및 연료 전지 시스템
ITMI20061947A1 (it) * 2006-10-11 2008-04-12 Industrie De Nora Spa Catodo per processi elettrolitici
JP4274489B2 (ja) * 2006-10-25 2009-06-10 クロリンエンジニアズ株式会社 水素発生用電極およびその製造方法
IT1391767B1 (it) * 2008-11-12 2012-01-27 Industrie De Nora Spa Elettrodo per cella elettrolitica
DE102009035546A1 (de) * 2009-07-31 2011-02-03 Bayer Materialscience Ag Elektrode und Elektrodenbeschichtung
ITMI20100268A1 (it) * 2010-02-22 2011-08-23 Industrie De Nora Spa Elettrodo per processi elettrolitici e metodo per il suo ottenimento
DE102013220979A1 (de) * 2013-04-26 2014-11-13 Continental Automotive Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Betrieb eines bürstenlosen Gleichstrommotors

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